JP2000233947A5 - - Google Patents
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Description
【特許請求の範囲】
【請求項１】 誘電体に基づく２つのコーティングの間に配置されており、赤外線を反射する性質を持つ少なくとも１つの金属層を有する薄膜の積層体を具備した透明基材であって、
前記金属層の上に配置された前記誘電体に基づくコーティングが、
（ａ）屈折率ｎi-2が最大で２．２の１又は複数の材料の１又は複数の層、
（ｂ）屈折率ｎi-1 が後記最後の層の屈折率ｎiよりも０．３以上小さい１又は複数の材料の１又は複数の層、
（ｃ）屈折率ｎiが実質的にｎi-2に等しい１又は複数の材料の１又は複数の最後の層、
の順序で堆積した一連の層を有することを特徴とする、薄膜の積層体を具備した透明基材。
【請求項２】 赤外線を反射する性質を持つ前記金属層が、銀Ａｇに基づく層であることを特徴とする請求項１に記載の基材。
【請求項３】 赤外線を反射する性質を持つ前記金属層が、下側の誘電体に基づくコーティングに直接に接触していることを特徴とする請求項１又は２に記載の基材。
【請求項４】 赤外線を反射する性質を持つ前記金属層の幾何学的な厚さが７〜２０ｎｍであって低放射率の性質を基材に与え、又は２０〜２５ｎｍで太陽光防護の性質を基材に与えることを特徴とする請求項１〜３のうちの１項に記載の基材。
【請求項５】 保護金属層が、赤外線を反射する性質を持つ前記金属層のすぐ上に接触して配置されたことを特徴とする請求項１〜４のうちの１項に記載の基材。
【請求項６】 前記保護金属層が、ニオブＮｂ、チタンＴｉ、クロムＣｒ、又はニッケルＮｉから選択される単一の金属、又はこれらの金属のうちの少なくとも２つのものの合金に基づいていることを特徴とする請求項５に記載の基材。
【請求項７】 赤外線を反射する性質を持つ前記金属層の下側に配置された誘電体に基づく前記コーティングが、少なくとも２つの層の重なりであることを特徴とする請求項１〜６のうちのいずれか１項に記載の基材。
【請求項８】 赤外線を反射する性質を持つ前記金属層の下の誘電体に基づくコーティングが、赤外線を反射する性質を持つ前記金属層と接触している酸化亜鉛ＺｎＯに基づく濡れ層を持つことを特徴とする請求項７に記載の基材。
【請求項９】 前記濡れ層の幾何学的な厚さが、５〜４０ｎｍであることを特徴とする請求項８に記載の基材。
【請求項１０】 前記濡れ層が、少なくとも部分的に結晶化した酸化亜鉛に基づいていることを特徴とする請求項８及び９のいずれか１項に記載の基材。
【請求項１１】 前記積層体の最後の層が、窒化ケイ素Ｓｉ3Ｎ4 、窒化アルミニウムＡｌＮ、酸化スズＳｎＯ2、スズと亜鉛の混合酸化物ＳｎＺｎＯx、及びＳｉＣ、ＴｉＣ、ＣｒＣ、ＴａＣを包含する炭化物のうちのいずれか１つから選択される材料の層であることを特徴とする請求項１〜１０のうちのいずれか１項に記載の基材。
【請求項１２】 前記積層体の最後の層の幾何学的な厚さが、５〜２０ｎｍであることを特徴とする請求項１〜１１のうちのいずれか１項に記載の基材。
【請求項１３】 前記積層体の最後の層のうちの１つに接触してすぐ下側に配置された層の屈折率ｎi-1が、１．７５未満であることを特徴とする請求項１〜１２のうちのいずれか１項に記載の基材。
【請求項１４】 前記最後の層のうちの１つに接触してすぐ下側に配置された層が、酸化ケイ素ＳｉＯ2、酸化アルミニウムＡｌ2Ｏ3、又はこれら２つの酸化物の混合物Ａｌ2Ｏ3：ＳｉＯ2に基づくことを特徴とする請求項１〜１３のうちのいずれか１項に記載の基材。
【請求項１５】 前記積層体の前記最後の層のうちの１つに接触してすぐ下側に配置された前記層の下の層の屈折率ｎi-2が、前記積層体の前記最後の層の屈折率ｎiに近いことを特徴とする請求項１〜１４のうちのいずれか１項に記載の基材。
【請求項１６】 前記積層体が、
ガラス／ＳｎＯ2又はＳｉ3Ｎ4：Ａｌ又はＡｌＮ／ＺｎＯ又はＺｎＯ：Ａｌ／Ａｇ／Ｔｉ又はＮｉＣｒ／ＺｎＯ又はＳｎＯ2／ＳｉＯ2又はＡｌ2Ｏ3又はＳｉＯ2：Ａｌ2Ｏ3／ＳｎＯ2又はＺｎＯ又はＳｎＺｎＯX又はＡｌＮ又はＳｉ3Ｎ4：Ａｌ又は（ＡｌＮ／Ｓｉ3Ｎ4：Ａｌ）又は（Ｓｉ3Ｎ4：Ａｌ／ＡｌＮ）又は（ＳｎＯ2／ＳｎＺｎＯX）
であることを特徴とする請求項１〜１５のうちのいずれか１項に記載の基材。
【請求項１７】 放射率εが最大で０．０５であることを特徴とする請求項１〜１６のうちのいずれか１項に記載の基材。
【請求項１８】 請求項１〜１７のうちのいずれか１項に記載の基材を有し、前記薄膜の積層体が面２及び／又は面３にされている低放射率又は太陽光防護の多重ガラス。
【請求項１９】 光透過率ＴLが少なくとも７２％であることを特徴とする請求項１〜１７のうちのいずれか１項に記載の基材を少なくとも１つ有する低放射率２重ガラス。
【請求項２０】 ２枚のガラス板を空気の層によって隔てたときは係数Ｋが１．４Ｗ／Ｋ・ｍ2以下であり、２枚のガラス板をアルゴンの層によって隔てたときはこの係数Ｋが１．１Ｗ／Ｋ・ｍ2以下である請求項１９に記載の２重ガラス。
【請求項１】 誘電体に基づく２つのコーティングの間に配置されており、赤外線を反射する性質を持つ少なくとも１つの金属層を有する薄膜の積層体を具備した透明基材であって、
前記金属層の上に配置された前記誘電体に基づくコーティングが、
（ａ）屈折率ｎi-2が最大で２．２の１又は複数の材料の１又は複数の層、
（ｂ）屈折率ｎi-1 が後記最後の層の屈折率ｎiよりも０．３以上小さい１又は複数の材料の１又は複数の層、
（ｃ）屈折率ｎiが実質的にｎi-2に等しい１又は複数の材料の１又は複数の最後の層、
の順序で堆積した一連の層を有することを特徴とする、薄膜の積層体を具備した透明基材。
【請求項２】 赤外線を反射する性質を持つ前記金属層が、銀Ａｇに基づく層であることを特徴とする請求項１に記載の基材。
【請求項３】 赤外線を反射する性質を持つ前記金属層が、下側の誘電体に基づくコーティングに直接に接触していることを特徴とする請求項１又は２に記載の基材。
【請求項４】 赤外線を反射する性質を持つ前記金属層の幾何学的な厚さが７〜２０ｎｍであって低放射率の性質を基材に与え、又は２０〜２５ｎｍで太陽光防護の性質を基材に与えることを特徴とする請求項１〜３のうちの１項に記載の基材。
【請求項５】 保護金属層が、赤外線を反射する性質を持つ前記金属層のすぐ上に接触して配置されたことを特徴とする請求項１〜４のうちの１項に記載の基材。
【請求項６】 前記保護金属層が、ニオブＮｂ、チタンＴｉ、クロムＣｒ、又はニッケルＮｉから選択される単一の金属、又はこれらの金属のうちの少なくとも２つのものの合金に基づいていることを特徴とする請求項５に記載の基材。
【請求項７】 赤外線を反射する性質を持つ前記金属層の下側に配置された誘電体に基づく前記コーティングが、少なくとも２つの層の重なりであることを特徴とする請求項１〜６のうちのいずれか１項に記載の基材。
【請求項８】 赤外線を反射する性質を持つ前記金属層の下の誘電体に基づくコーティングが、赤外線を反射する性質を持つ前記金属層と接触している酸化亜鉛ＺｎＯに基づく濡れ層を持つことを特徴とする請求項７に記載の基材。
【請求項９】 前記濡れ層の幾何学的な厚さが、５〜４０ｎｍであることを特徴とする請求項８に記載の基材。
【請求項１０】 前記濡れ層が、少なくとも部分的に結晶化した酸化亜鉛に基づいていることを特徴とする請求項８及び９のいずれか１項に記載の基材。
【請求項１１】 前記積層体の最後の層が、窒化ケイ素Ｓｉ3Ｎ4 、窒化アルミニウムＡｌＮ、酸化スズＳｎＯ2、スズと亜鉛の混合酸化物ＳｎＺｎＯx、及びＳｉＣ、ＴｉＣ、ＣｒＣ、ＴａＣを包含する炭化物のうちのいずれか１つから選択される材料の層であることを特徴とする請求項１〜１０のうちのいずれか１項に記載の基材。
【請求項１２】 前記積層体の最後の層の幾何学的な厚さが、５〜２０ｎｍであることを特徴とする請求項１〜１１のうちのいずれか１項に記載の基材。
【請求項１３】 前記積層体の最後の層のうちの１つに接触してすぐ下側に配置された層の屈折率ｎi-1が、１．７５未満であることを特徴とする請求項１〜１２のうちのいずれか１項に記載の基材。
【請求項１４】 前記最後の層のうちの１つに接触してすぐ下側に配置された層が、酸化ケイ素ＳｉＯ2、酸化アルミニウムＡｌ2Ｏ3、又はこれら２つの酸化物の混合物Ａｌ2Ｏ3：ＳｉＯ2に基づくことを特徴とする請求項１〜１３のうちのいずれか１項に記載の基材。
【請求項１５】 前記積層体の前記最後の層のうちの１つに接触してすぐ下側に配置された前記層の下の層の屈折率ｎi-2が、前記積層体の前記最後の層の屈折率ｎiに近いことを特徴とする請求項１〜１４のうちのいずれか１項に記載の基材。
【請求項１６】 前記積層体が、
ガラス／ＳｎＯ2又はＳｉ3Ｎ4：Ａｌ又はＡｌＮ／ＺｎＯ又はＺｎＯ：Ａｌ／Ａｇ／Ｔｉ又はＮｉＣｒ／ＺｎＯ又はＳｎＯ2／ＳｉＯ2又はＡｌ2Ｏ3又はＳｉＯ2：Ａｌ2Ｏ3／ＳｎＯ2又はＺｎＯ又はＳｎＺｎＯX又はＡｌＮ又はＳｉ3Ｎ4：Ａｌ又は（ＡｌＮ／Ｓｉ3Ｎ4：Ａｌ）又は（Ｓｉ3Ｎ4：Ａｌ／ＡｌＮ）又は（ＳｎＯ2／ＳｎＺｎＯX）
であることを特徴とする請求項１〜１５のうちのいずれか１項に記載の基材。
【請求項１７】 放射率εが最大で０．０５であることを特徴とする請求項１〜１６のうちのいずれか１項に記載の基材。
【請求項１８】 請求項１〜１７のうちのいずれか１項に記載の基材を有し、前記薄膜の積層体が面２及び／又は面３にされている低放射率又は太陽光防護の多重ガラス。
【請求項１９】 光透過率ＴLが少なくとも７２％であることを特徴とする請求項１〜１７のうちのいずれか１項に記載の基材を少なくとも１つ有する低放射率２重ガラス。
【請求項２０】 ２枚のガラス板を空気の層によって隔てたときは係数Ｋが１．４Ｗ／Ｋ・ｍ2以下であり、２枚のガラス板をアルゴンの層によって隔てたときはこの係数Ｋが１．１Ｗ／Ｋ・ｍ2以下である請求項１９に記載の２重ガラス。
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、誘電体に基づく２つのコーティングの間に配置され、赤外線を反射する性質を持ち、特に低放射率である少なくとも１つの金属層を有する薄膜の積層体を具備した透明基材、特にガラスで作られた透明基材に関する。
【発明の属する技術分野】
本発明は、誘電体に基づく２つのコーティングの間に配置され、赤外線を反射する性質を持ち、特に低放射率である少なくとも１つの金属層を有する薄膜の積層体を具備した透明基材、特にガラスで作られた透明基材に関する。
透明基材に熱的な性質、特に低放射率の性質を与えるために、あるタイプの薄膜の積層体がよく知られている。これは上述の必要とされる用途にふさわしく、また金属層、特に銀層で作られており、金属酸化物又は金属窒化物タイプの誘電体に基づく２つのコーティングの間に配置された金属層を有している。この積層体は通常、真空技術、例えばカソードスパッタリングを使用する一連の堆積によって製造する。また、これは磁場によって補助することができる。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
従って、本発明は、誘電体に基づく２つのコーティングの間に配置され、赤外線を反射する性質を持ち、特に低放射率の少なくとも１つの金属層を有する薄膜の積層体を具備した透明基材、特にガラスで作られた透明基材に関する。本発明によれば、この金属層の上のこの誘電体に基づくコーティングは、
（ａ）屈折率ｎi-2が最大で２．２の１又は複数の材料を伴う１又は複数の層、
（ｂ）屈折率ｎi-1 が後記最後の層の屈折率ｎiよりも０．３以上小さい１又は複数の材料を伴う１又は複数の層、
（ｃ）屈折率ｎiが実質的にｎi-2に等しい１又は複数の材料を伴う１又は複数の最後の層、
の順序で配置された一連の層を有する。
【課題を解決するための手段】
従って、本発明は、誘電体に基づく２つのコーティングの間に配置され、赤外線を反射する性質を持ち、特に低放射率の少なくとも１つの金属層を有する薄膜の積層体を具備した透明基材、特にガラスで作られた透明基材に関する。本発明によれば、この金属層の上のこの誘電体に基づくコーティングは、
（ａ）屈折率ｎi-2が最大で２．２の１又は複数の材料を伴う１又は複数の層、
（ｂ）屈折率ｎi-1 が後記最後の層の屈折率ｎiよりも０．３以上小さい１又は複数の材料を伴う１又は複数の層、
（ｃ）屈折率ｎiが実質的にｎi-2に等しい１又は複数の材料を伴う１又は複数の最後の層、
の順序で配置された一連の層を有する。
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