JP2018536177A - 高光線透過性かつ耐擦傷性反射防止物品 - Google Patents

Abstract

光学コーティングを有する物品の実施形態を、本明細書において説明する。一実施形態によると、物品は、大表面を有する基板と、上記大表面上に配置されて反射防止表面を形成する、光学コーティングであって、上記光学コーティングは反射防止コーティングを備える、光学コーティングとを備えてよい。上記物品は、約１００ｎｍ以上の押込み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験によって上記反射防止表面上で測定した場合に、約１２ＧＰａ以上の最大硬度を呈してよい。上記物品は、約４００ｎｍ〜約８００ｎｍの光波長領域に亘って約８％以下の、上記反射防止表面において測定される単一側面平均光反射率を呈してよい。上記物品は、約４００ｎｍ〜約８００ｎｍの光波長領域に亘って約９０％以上の平均光透過率を呈してよい。

Description

関連出願の相互参照

本出願は、米国特許法第１１９条の下で、２０１５年９月１４日出願の米国仮特許出願第６２／２１８２４１号の優先権の利益を主張するものであり、上記仮特許出願の内容は信頼できるものであり、参照によりその全体が本出願に援用される。

本開示は、高耐久性かつ耐擦傷性の反射防止物品、及びその作製方法に関し、より詳細には、耐摩耗性、耐擦傷性、低反射率、並びに無色透過率及び／又は反射率を呈する多層反射防止コーティングを備える物品に関する。

カバー物品は、入力及び／又は表示及び／又は多数の他の機能のためのユーザインタフェースを提供するための、電子製品内の重要なデバイスを保護するために、使用されることが多い。このような製品としては、スマートフォン、ｍｐ３プレイヤー及びコンピュータタブレットといった移動体デバイスが挙げられる。カバー物品は、建築用物品、輸送用物品（例えば自動車用途、鉄道、航空機、海洋船舶等で使用される物品）、家電物品、又はある程度の透明性、耐擦傷性、耐摩耗性若しくはこれらの組み合わせが必要ないずれの物品も含む。これらの用途は、耐擦傷性、並びに最大光線透過率及び最小反射率に関する優れた光学的性能特性を必要とする場合がある。更に一部のカバー用途は、反射及び／又は透過時に呈する又は感知される色が、視野角の変化に従って明らかには変化しないことを必要とする。ディスプレイ用途では、これは、反射又は透過時の色が視野角と共に明らかな程度まで変化すると、該製品のユーザがディスプレイの色又は明度の変化を知覚することになり、知覚されるディスプレイの品質が低下し得るためである。他の用途では、色の変化は、審美的要件又は他の機能的要件に悪影響を及ぼし得る。

カバー物品の光学的性能は、様々な反射防止コーティングを用いて改善できる；しかしながら公知の反射防止コーティングは、摩滅又は摩耗を受け易い。このような摩耗は、反射防止コーティングによって達成されるいずれの光学的性能の改善を損ない得る。例えば光学フィルタは、光学的に透明な誘電性材料（例えば酸化物、窒化物及びフッ化物）からなる、異なる屈折率を有する多層コーティングからなる場合が多い。このような光学フィルタのために使用される典型的な酸化物の大半は、バンドギャップが広い材料であり、これは、移動体デバイス、建築用物品、輸送用物品又は家電物品における使用のために必要な硬度等の機械的特性を有しない。窒化物及びダイヤモンド様コーティングは、高い硬度値を呈し得るものの、このような材料はこのような用途に必要な透過率を呈さない。

摩耗損傷は、対面する物体（例えば指）からの、反復して摺動する接触を含む場合がある。更に、摩耗損傷は熱を生成する場合があり、これはフィルムの材料の化学的結合を劣化させて、カバーガラスに剥離及び他のタイプの損傷を引き起こし得る。摩耗損傷は、擦傷を引き起こす単一のイベントよりも長期間に亘って発生することが多いため、摩耗損傷を受ける配置されたコーティング材料は酸化する場合もあり、これによりコーティングの耐久性は更に劣化する。

公知の反射防止コーティングは擦傷損傷も受け易く、また多くの場合、上にこのようなコーティングが配置された下層の基板よりも更に擦傷損傷を受け易い。いくつかの例では、このような擦傷損傷の大部分は、微小展延性（ｍｉｃｒｏｄｕｃｔｉｌｅ）擦傷を含み、これは典型的には、長さが長く深さが約１００ｎｍ〜約５００ｎｍである、材料中の単一の溝を含む。微小展延性擦傷は、表面下割れ、摩擦による割れ、欠け及び／又は摩滅といった、他のタイプの視認可能な損傷を伴う場合もある。このような擦傷及び他の視認可能な損傷の大半は、単一の接触イベント中に発生する鋭い接触によって引き起こされることが、エビデンスによって示唆されている。カバー基板上に相当な擦傷が現れると、この擦傷が光散乱の増加を引き起こし、ディスプレイ上の画像の明度、鮮明度及びコントラストの有意な低下を引き起こし得るため、物品の外見は劣化する。有意な擦傷はまた、タッチ感受性ディスプレイを含む物品の精度及び信頼性にも影響を及ぼし得る。単一イベントの擦傷損傷は、摩耗損傷と対比できる。単一イベントの擦傷損傷は、硬質の対面する物体（例えば砂、砂利及びサンドペーパー）からの、反復して摺動する接触といった、複数の接触イベントによって引き起こされることはなく、また典型的には、フィルムの材料の化学的結合を劣化させて剥離及び他のタイプの損傷を引き起こし得る熱を生成することはない。更に、単一イベントの擦傷は典型的には酸化を引き起こさず、又は摩耗損傷を引き起こす条件と同一の条件を伴わず、従って、摩耗損傷を防止するために利用されることがある解決策は、擦傷も防止することはできない。更に、公知の擦傷及び摩耗損傷の解決策は、光学的特性を損なうことが多い。

従って、耐摩耗性であり、耐擦傷性であり、光学的性能が改善された、新規のカバー物品及びその製造方法が必要とされている。

高耐久性かつ耐擦傷性の反射防止物品の実施形態について説明する。１つ以上の実施形態では、上記物品は、基板と、反射防止表面を形成する、大表面上に配置された光学コーティングとを含む。１つ以上の実施形態では、上記光学コーティングは反射防止コーティングを含む。

上記物品は、本明細書で説明される、上記反射防止表面上での約５０ｎｍ以上（例えば約１００ｎｍ以上、約５０ｎｍ〜約３００ｎｍ、約５０ｎｍ〜約４００ｎｍ、約５０ｎｍ〜約５００ｎｍ、約５０ｎｍ〜約６００ｎｍ、約５０ｎｍ〜約１０００ｎｍ又は約５０ｎｍ〜約２０００ｎｍ）の押込み深さに沿ったバーコビッチ圧子硬度試験で測定した場合に約１２ＧＰａ以上の最大硬度を呈することにより、耐擦傷性を呈する。

上記物品は、本明細書で説明されるテーバー試験を用いた５００サイクルの摩耗後に上記反射防止表面上で測定される耐摩耗性を呈する。１つ以上の実施形態では、上記物品は、アパーチャを有するヘイズメータを用いて測定した場合に約１％以下のヘイズを含む（上記反射防止表面上で測定される）耐摩耗性を呈し、ここで上記アパーチャは直径約８ｍｍである。１つ以上の実施形態では、上記物品は、原子間力顕微鏡によって測定した場合に約１２ｎｍ以下の平均粗度Ｒａを含む（上記反射防止表面上で測定される）耐摩耗性を呈する。１つ以上の実施形態では、上記物品は、波長６００ｎｍで２ｍｍのアパーチャを用いた散乱測定のための撮像用球体（ｉｍａｇｉｎｇ ｓｐｈｅｒｅ）を用いた透過において垂直入射で測定した場合に、約４０°以下の極散乱角（ｐｏｌａｒ ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ ａｎｇｌｅ）において約０．０５（単位は１／ステラジアン）以下の散乱光強度を含む（上記反射防止表面上で測定される）耐摩耗性を呈する。いくつかの例では、上記物品は、波長６００ｎｍで２ｍｍのアパーチャを用いた散乱測定のための撮像用球体を用いた透過において垂直入射で測定した場合に、約２０°以下の極散乱角において約０．１（単位は１／ステラジアン）以下の散乱光強度を含む（上記反射防止表面上で測定される）耐摩耗性を呈する。

１つ以上の実施形態の上記物品は、光線透過率及び／又は光線反射率に関して優れた光学的性能を呈する。１つ以上の実施形態では、上記物品は、（例えば約４００ｎｍ〜約８００ｎｍ又は約４５０ｎｍ〜約６５０ｎｍの範囲の）ある光波長領域に亘って約９２％以上（例えば約９８％以上）の（上記反射防止表面上のみで測定される）平均光線透過率を呈する。いくつかの実施形態では、上記物品は、上記光波長領域に亘って、約２％以下（例えば約１％以下）の（上記反射防止表面上のみで測定される）平均光線反射率を呈する。上記物品は、上記光波長領域に亘って約１％ポイント以下の平均発振振幅を有する平均光線透過率又は平均光線反射率を呈し得る。１つ以上の実施形態では、上記物品は、上記反射防止表面上のみで測定した場合に、垂直入射で約１％以下の平均明所視反射率を呈する。いくつかの実施形態では、上記物品は、上記反射防止表面上のみで垂直入射又は垂直に近い入射（例えば０〜１０°）で測定される、約１０％未満の片側平均明所視反射率を呈する。いくつかの実施形態では、上記片側平均明所視反射率は約９％以下、約８％以下、約７％以下、約６％以下、約５％以下、約４％以下、約３％以下又は約２％以下である。

いくつかの例では、上記物品は、光源を用いて上記反射防止表面において検視した場合に、基準照明角度から入射照明角度までに約１０未満（例えば５以下、４以下、３以下、２以下又は約１以下）の（本明細書で説明される）角度色シフトを呈し、上記入射照明角度は約２°〜約６０°である。例示的な光源としては、ＣＩＥ Ｆ２、ＣＩＥ Ｆ１０、ＣＩＥ Ｆ１１、ＣＩＥ Ｆ１２及びＣＩＥ Ｄ６５のうちのいずれが挙げられる。１つ以上の実施形態では、上記物品は、約０〜約６０°の全ての入射照明角度で、ＣＩＥ Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊測色システムにおいて約２未満のａｂ＊値を呈し得る。あるいは、又は更に、いくつかの実施形態の上記物品は、本明細書中で定義される基準点から約２未満の基準点色シフトを有する、垂直入射で上記反射防止表面において測定された透過色（若しくは透過色座標）及び／又は反射色（若しくは反射色座標）を呈する。１つ以上の実施形態では、上記基準点は、Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間の原点（０，０）（即ち色座標ａ＊＝０、ｂ＊＝０若しくはａ＊＝‐２、ｂ＊＝‐２）、又は上記基板の透過若しくは反射色座標の原点（０，０）であってよい。本明細書に記載の上記角度色シフト、上記基準点色シフト、並びに上記色座標（ａ＊及び／又はｂ＊）は、Ｄ６５及び／又はＦ２光源の下で観察される。いくつかの実施形態では、本明細書に記載の光学的性能は、Ｆ２光源の下で観察され、これは、Ｆ２光源の鋭いスペクトル特性により、比較的困難であることが知られている。

１つ以上の実施形態では、上記反射防止コーティングは、複数の層を含んでよい。例えば、いくつかの実施形態では、上記反射防止コーティングは、第１の低ＲＩ層及び第２の高ＲＩ層を備える区間を含む。上記区間は、第１の低ＲＩ層、及び上記第１の低ＲＩ層上に配置された第２の高ＲＩ層を含んでよく、又はその逆であってもよい。いくつかの実施形態では、上記区間は第３の層を含んでよい。上記反射防止コーティングは、上記第１の低ＲＩ層及び上記第２の高ＲＩ層が交互になるように、複数の区間を含んでよい。上記反射防止コーティングは、最大約１０又は２０個の区間を含むことができる。

いくつかの実施形態では、上記光学コーティングは耐擦傷性層を含む。耐擦傷性層が含まれている場合、このような層は、上記反射防止コーティング上に配置してよい。他の実施形態では、上記耐擦傷性コーティングは、上記反射防止コーティングと上記基板との間に配置してよい。例示的な耐擦傷性層は、本明細書中で定義されるバーコビッチ圧子硬度試験で測定した場合に、約８ＧＰａ〜約５０ＧＰａの最大硬度を呈してよい。

上記耐擦傷性層は、上記基板と上記反射防止コーティングとの間に配置してよい。いくつかの実施形態では、上記反射防止コーティングは、第１の部分及び第２の部分を、上記耐擦傷性層が第１の部分と上記第２の部分との間に配置されるように含んでよい。上記耐擦傷性層の厚さは、約２００ナノメートル〜約３マイクロメートルであってよい。

いくつかの実施形態では、上記物品は、約１．８超の屈折率を有する層を含んでよい。この層に利用できる材料としては、ＳｉＮ_ｘ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ、ＡｌＮ_ｘ、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ又はこれらの組み合わせが挙げられる。

いくつかの例では、上記物品は、清掃が容易な（ｅａｓｙ‐ｔｏ‐ｃｌｅａｎ）コーティング、ダイヤモンド様炭素（「ＤＬＣ」）コーティング、耐擦傷性コーティング又はこれらの組み合わせといった追加の層を含んでよい。このようなコーティングは、上記反射防止コーティング上、又は上記反射防止コーティングの層の間に配置してよい。

上記物品の１つ以上の実施形態において利用される上記基板は、非晶質基板又は結晶質基板を含むことができる。非晶質基板は、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラス、及びアルカリアルミノホウケイ酸ガラスからなる群から選択され得るガラスを含む。いくつかの実施形態では、上記ガラスは強化されていてよく、また上記強化ガラス内において上記化学強化ガラスの表面から少なくとも約１０μｍの層深さ（ＤＯＬ）まで延在する、少なくとも２５０ＭＰａの表面ＣＳを有する圧縮応力（ＣＳ）層を含んでよい。

更なる特徴及び利点は、以下の「発明を実施するための形態」に記載され、またその一部は、当業者には「発明を実施するための形態」から容易に明らかとなるか、又は以下の「発明を実施するための形態」、特許請求の範囲及び添付の図面を含む本明細書に記載された実施形態を実施することによって認識されるだろう。

以上の「発明の概要」及び以下の「発明を実施するための形態」はいずれの単なる例示であり、特許請求の範囲の性質及び特徴を理解するための概観又は枠組みを提供することを意図したものであることを理解されたい。添付の図面は更なる理解を提供するために含まれており、本明細書に組み込まれて本明細書の一部を構成する。これらの図面は１つ以上の実施形態を図示し、本説明と併せて、様々な実施形態の原理及び動作を説明する役割を果たす。

１つ以上の実施形態による物品の側面図 １つ以上の特定の実施形態による物品の側面図 １つ以上の実施形態による物品の側面図 １つ以上の実施形態による物品の側面図 １つ以上の実施形態による物品の側面図 １つ以上の実施形態による物品の側面図 １つ以上の実施形態による物品の側面図 １つ以上の実施形態による物品の側面図 押込み深さ及びコーティング厚さの関数として硬度測定を示すグラフ 異なる複数の視野角において反射防止表面のみから算出された、モデル化実施例１の反射率スペクトル 実施例１の物品の反射色であり、０°〜６０°の異なる複数の視野角における、異なる複数の光源下での反射色を示す 異なる複数の視野角において反射防止表面のみから算出された、モデル化実施例２の反射率スペクトル 実施例２の物品の反射色であり、０°〜６０°の異なる複数の視野角における、異なる複数の光源下での反射色を示す 異なる複数の視野角において反射防止表面のみから算出された、モデル化実施例３の反射率スペクトル 実施例３の物品の反射色であり、０°〜６０°の異なる複数の視野角における、異なる複数の光源下での反射色を示す 異なる複数の視野角において反射防止表面のみから算出された、モデル化実施例４の反射率スペクトル モデル化実施例４の物品の反射色であり、０°〜６０°の異なる複数の視野角における、異なる複数の光源下での反射色を示す 異なる複数の視野角において反射防止表面のみから算出された、モデル化実施例５の反射率スペクトル 実施例５の物品の反射色であり、０°〜６０°の異なる複数の視野角における、異なる複数の光源下での反射色を示す 異なる複数の視野角において反射防止表面のみから算出された、モデル化実施例６の反射率スペクトル 実施例６の物品の反射色であり、０°〜６０°の異なる複数の視野角における、異なる複数の光源下での反射色を示す 異なる複数の視野角において反射防止表面のみから算出された、モデル化実施例７の反射率スペクトル 実施例７の物品の反射色であり、０°〜６０°の異なる複数の視野角における、異なる複数の光源下での反射色を示す 異なる複数の視野角において反射防止表面のみから算出された、モデル化実施例８の反射率スペクトル 実施例８の物品の反射色であり、０°〜６０°の異なる複数の視野角における、異なる複数の光源下での反射色を示す 異なる複数の視野角において反射防止表面のみから算出された、モデル化実施例９の反射率スペクトル 実施例９の物品の反射色であり、０°〜６０°の異なる複数の視野角における、異なる複数の光源下での反射色を示す 異なる複数の視野角において反射防止表面のみから算出された、モデル化実施例１０の反射率スペクトル 実施例１０の物品の反射色であり、０°〜６０°の異なる複数の視野角における、異なる複数の光源下での反射色を示す 異なる複数の視野角において反射防止表面のみから算出された、モデル化実施例１１の反射率スペクトル 実施例１１の物品の反射色であり、０°〜６０°の異なる複数の視野角における、異なる複数の光源下での反射色を示す 異なる複数の視野角において反射防止表面のみから算出された、モデル化実施例１２の反射率スペクトル 実施例１２の物品の反射色であり、０°〜６０°の異なる複数の視野角における、異なる複数の光源下での反射色を示す 本明細書に記載の１つ以上のコーティング済みガラス物品の硬度 本明細書に記載の１つ以上のコーティング済み物品の光透過率 本明細書に記載の１つ以上のコーティング済み物品の光線反射率 本明細書に記載の１つ以上のコーティング済み物品の光透過率 本明細書に記載の１つ以上のコーティング済み物品の光透過率 本明細書に記載の１つ以上のコーティング済み物品の光線反射率 本明細書に記載の１つ以上のコーティング済み物品の反射色 本明細書に記載の１つ以上のコーティング済み物品の反射色 本明細書に記載の１つ以上のコーティング済み物品の光線反射率 本明細書に記載の１つ以上のコーティング済み物品の光線反射率 本明細書に記載の１つ以上のコーティング済み物品の光線反射率 本明細書に記載の１つ以上のコーティング済み物品の光線反射率 本明細書に記載の１つ以上のコーティング済み物品の光線反射率 本明細書に記載の１つ以上のコーティング済み物品の光線反射率 本明細書に記載の１つ以上のコーティング済み物品の硬度 本明細書に記載の１つ以上のコーティング済み物品の光線反射率 本明細書に記載の１つ以上のコーティング済み物品の光線透過率 本明細書に記載の１つ以上のコーティング済み物品の光線透過率 本明細書に記載の１つ以上のコーティング済み物品の反射色 本明細書に記載の１つ以上のコーティング済み物品の透過色 本明細書で開示されている物品のうちのいずれを組み込んだ例示的な電子デバイスの平面図 図５４Ａの例示的な電子デバイスの斜視図

これより様々な実施形態を詳細に参照する。これらの実施形態の例は、添付の図面に図示されている。

図１を参照すると、１つ以上の実施形態による物品１００は、基板１１０及びこの基板上に配置された光学コーティング１２０を含んでよい。基板１１０は、対向する大表面１１２、１１４及び対向する小表面１１６、１１８を含む。光学コーティング１２０は図１において、第１の対向する大表面１１２上に配置されているものとして示されている；しかしながら、光学コーティング１２０は、第１の対向する大表面１１２上に配置するのに加えて、又はこれに代えて、第２の対向する大表面１１４、及び／又は上記対向する小表面のうちの一方若しくは両方の上に配置してよい。光学コーティング１２０は、反射防止表面１２２を形成する。

光学コーティング１２０は、少なくとも１つの材料の少なくとも１つの層を含む。用語「層（ｌａｙｅｒ）」は、単一の層を含んでよく、又は１つ以上の副層を含んでよい。このような副層は、互いに直接接触していてよい。上記副層は、同一の材料、又は２つ以上の異なる材料から形成してよい。１つ以上の代替実施形態では、このような副層は、間に配置された異なる材料の介在層を有してよい。１つ以上の実施形態では、層は、１つ以上の連続する断絶していない層及び／又は１つ以上の不連続な断絶した層（即ち互いに隣接して形成された異なる複数の材料を有する層）を含んでよい。層又は副層は、個別堆積又は連続堆積プロセスを含む、当該技術分野において公知のいずれの方法で形成してよい。１つ以上の実施形態では、層は、連続堆積プロセスのみ、あるいは個別堆積プロセスのみを用いて形成してよい。

光学コーティング１２０の厚さは約１μｍ以上であってよいが、それでも依然として、本明細書に記載の光学的特性を呈する物品を提供する。いくつかの例では、光学コーティング１２０の厚さは、約１μｍ〜約２０μｍ（例えば約１μｍ〜約１０μｍ又は約１μｍ〜約５μｍ）であってよい。

本明細書中で使用される場合、用語「配置する（ｄｉｓｐｏｓｅ）」は、当該技術分野において公知のいずれの方法を用いて、材料を表面上にコーティング、堆積及び／又は形成することを含む。配置された材料は、本明細書において定義されているような層を構成し得る。句「…上に配置された（ｄｉｓｐｏｓｅｄ ｏｎ）」は、材料を表面上に、上記材料が上記表面に直接接触するように形成する例を含み、また、上記材料が表面上に、堆積される上記材料と上記表面との間に１つ以上の介在材料を伴って形成される例も含む。上記１つ以上の介在材料は、本明細書において定義されているような層を構成し得る。

図２に示すように、光学コーティング１２０は反射防止コーティング１３０を含み、これは複数の層（１３０Ａ、１３０Ｂ）を含んでよい。１つ以上の実施形態では、反射防止コーティング１３０は、２つ以上の層を含む区間１３２を含んでよい。１つ以上の実施形態では、上記２つ以上の層は、互いに異なる屈折率を有することを特徴としてよい。一実施形態では、区間１３２は、及び第１の低ＲＩ層１３０Ａ及び第２の高ＲＩ層１３０Ｂを含む。上記第１の低ＲＩ層と上記第２の高ＲＩ層との屈折率の差は、約０．０１以上、０．０５以上、０．１以上、又は更に０．２以上であってよい。

図２に示すように、反射防止コーティング１３０は、複数の区間（１３２）を含んでよい。単一の区間は、複数の区間が設けられる場合に第１の低ＲＩ層１３０Ａ（例示として「Ｌ」で表す）及び第２の高ＲＩ層１３０Ｂ（例示として「Ｈ」で表す）が、以下のような層のシーケンス：Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ又はＨ／Ｌ／Ｈ／Ｌで交互になるように、１つの第１の低ＲＩ層１３０Ａ及び１つの第２の高ＲＩ層１３０Ｂを含み、これにより、上記第１の低ＲＩ層及び上記第２の高ＲＩ層が、反射防止コーティング１２０の物理的厚さに沿って交互に現れる。図２の例では、反射防止コーティング１３０は３つの区間を含む。いくつかの実施形態では、反射防止コーティング１３０は最大２５個の区間を含んでよい。例えば反射防止コーティング１３０は、約２〜約２０個の区間、約２〜約１５個の区間、約２〜約１０個の区間、約２〜約１２個の区間、約３〜約８個の区間、約３〜約６個の区間を含んでよい。

図３に示す例では、反射防止コーティング１３０は追加のキャッピング層１３１を含んでよく、これは、第２の高ＲＩ層１３０Ｂより低屈折率の材料を含んでよい。いくつかの実施形態では、図３に示すように、区間１３２は、１つ以上の第３の層１３０Ｃを含んでよい。１つ以上の第３の層１３０Ｃは、低いＲＩ、高いＲＩ又は中程度のＲＩを有してよい。いくつかの実施形態では、１つ以上の第３の層１３０Ｃは、第１の低ＲＩ層１３０Ａ又は第２の高ＲＩ層１３０Ｂと同一のＲＩを有してよい。他の実施形態では、１つ以上の第３の層１３０Ｃは、第１の低ＲＩ層１３０ＡのＲＩと第２の高ＲＩ層１３０ＢのＲＩとの間の中程度のＲＩを有してよい。あるいは１つ以上の第３の層１３０Ｃは、第２の高ＲＩ層１３０Ｂを超える屈折率を有してよい。上記第３の層は、反射防止コーティング１２０中に、以下の例示的構成：Ｌ_第３の層／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ；Ｈ_第３の層／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ；Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ_第３の層；Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ_第３の層；Ｌ_第３の層／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ_第３の層；Ｈ_第３の層／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ_第３の層；Ｌ_第３の層／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ；Ｈ_第３の層／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ；Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｌ_第３の層；Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｈ_第３の層；Ｌ_第３の層／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｈ_第３の層；Ｈ_第３の層／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｌ_第３の層；Ｌ／Ｍ_第３の層／Ｈ／Ｌ／Ｍ／Ｈ；Ｈ／Ｍ／Ｌ／Ｈ／Ｍ／Ｌ；Ｍ／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｍ；及び他の組み合わせで設けてよい。これらの構成において、いずれの添字を有しない「Ｌ」は第１の低ＲＩ層を指し、いずれの添字を有しない「Ｈ」は第２の高ＲＩ層を指す。「Ｌ_{第３の副層}」という言及は、低いＲＩを有する第３の層を指し、「Ｈ_{第３の副層}」という言及は、高いＲＩを有する第３の層を指し、「Ｍ」は、中程度のＲＩを有する第３の層を指し、これらは全て上記第１の層及び上記第２の層に対してのものである。

本明細書中で使用される場合、用語「低ＲＩ、低いＲＩ（ｌｏｗ ＲＩ）」、「高ＲＩ、高いＲＩ（ｈｉｇｈ ＲＩ）」及び「中ＲＩ、中程度のＲＩ（ｍｅｄｉｕｍ ＲＩ）」は、別の１項に対するＲＩの相対値を指す（例えば低ＲＩ＜中ＲＩ＜高ＲＩ）。１つ以上の実施形態では、第１の低ＲＩ層又は第３の層と共に使用される用語「低ＲＩ」は、約１．３〜約１．７又は１．７５を含む。１つ以上の実施形態では、第２の高ＲＩ層又は第３の層と共に使用される用語「高ＲＩ」は、約１．７〜約２．５（例えば約１．８５以上）を含む。いくつかの実施形態では、第３の層と共に使用される用語「中ＲＩ」は、約１．５５〜約１．８を含む。いくつかの例では、低ＲＩ、高ＲＩ及び中ＲＩに関する範囲は重なり合う場合がある；しかしながらほとんどの場合、反射防止コーティング１３０の層は、ＲＩに関する一般的な関係：低ＲＩ＜中ＲＩ＜高ＲＩを有する。

１つ以上の第３の層１３０Ｃは、区間１３２とは別個の層として設けてよく、図４に示すように、１つ以上の上記区間とキャッピング層１３１との間に配置してよい。上記１つ以上の第３の層もまた、区間１３２とは別個の層として設けてよく、図５に示すように、基板１１０と複数の区間１３２との間に配置してよい。１つ以上の第３の層１３０Ｃは、図６に示すように、追加のコーティング１４０に加えて、キャッピング層１３１の代わりに、又は上記キャッピング層に加えて、使用してよい。

反射防止コーティング１３０中での使用に好適な例示的材料としては：ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＧｅＯ_２、ＳｉＯ、ＡｌＯｘＮｙ、ＡｌＮ、ＳｉＮｘ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＴｉＮ、ＭｇＯ、ＭｇＦ_２、ＢａＦ_２，ＣａＦ_２、ＳｎＯ_２、ＨｆＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、ＭｏＯ_３、ＤｙＦ_３、ＹｂＦ_３、ＹＦ_３、ＣｅＦ_３、ポリマー、フルオロポリマー、プラズマ重合ポリマー、シロキサンポリマー、シルセスキオキサン、ポリイミド、フッ化ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリフェニルスルホン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリルポリマー、ウレタンポリマー、ポリメチルメタクリレート、耐擦傷性層中での使用に好適なものとして以下に挙げられている材料、及び当該技術分野において公知の他の材料が挙げられる。第１の低ＲＩ層中での使用に好適な材料のいくつかの例としては：ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＧｅＯ_２、ＳｉＯ、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ、ＭｇＯ、ＭｇＡｌ_２Ｏ_４、ＭｇＦ_２、ＢａＦ_２、ＣａＦ_２、ＤｙＦ_３、ＹｂＦ_３、ＹＦ_３、及びＣｅＦ_３が挙げられる。第１の低ＲＩ層中での使用のための上記材料の窒素含有量は、（例えばＡｌ_２Ｏ_３及びＭｇＡｌ_２Ｏ_４等の材料において）最小化できる。第２の高ＲＩ層中での使用に好適な材料のいくつかの例としては：Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＡｌＮ、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＮ_ｘ、ＳｉＮ_ｘ：Ｈ_ｙ、ＨｆＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、Ａｌ_２Ｏ_３、ＭｏＯ_３及びダイヤモンド様炭素が挙げられる。複数の例では、高ＲＩ層は、高硬度層又は耐擦傷性層であってもよく、また上に列挙した高ＲＩ材料は、高い硬度又は耐擦傷性を備えてもよい。第２の高ＲＩ層及び／又は耐擦傷性層のための材料の酸素含有量は、特にＳｉＮｘ又はＡｌＮｘ材料において最小化できる。ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ材料は、酸素ドープＡｌＮｘであると見做すことができ、即ちこれらは、ＡｌＮｘ結晶構造を有してよく（例えばウルツ鉱）、ＡｌＯＮ結晶構造を有する必要はない。例示的な好ましいＡｌＯ_ｘＮ_ｙ高ＲＩ材料は、約０原子％〜約２０原子％の酸素、又は約５原子％〜約１５原子％の酸素を含んでよく、その一方で３０原子％〜約５０原子％の窒素を含む。例示的な好ましいＳｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ高ＲＩ材料は、約１０原子％〜約３０原子％又は約１５原子％〜約２５原子％のケイ素、約２０原子％〜約４０原子％又は約２５原子％〜約３５原子％のアルミニウム、約０原子％〜約２０原子％又は約１原子％〜約２０原子％の酸素、及び約３０原子％〜約５０原子％の窒素を含んでよい。上述の材料は、最大約３０重量％まで水素化され得る。中程度の屈折率を有する材料が望ましい場合、いくつかの実施形態はＡｌＮ及び／又はＳｉＯ_ｘＮ_ｙを利用してよい。第２の高ＲＩ層及び／又は耐擦傷性層の硬度は、具体的に特性決定できる。いくつかの実施形態では、バーコビッチ圧子硬度試験で測定した場合の、第２の高ＲＩ層及び／又は耐擦傷性層の最大硬度は、約８ＧＰａ以上、約１０ＧＰａ以上、約１２ＧＰａ以上、約１５ＧＰａ以上、約１８ＧＰａ以上、又は約２０ＧＰａ以上であってよい。場合によっては、第２の高ＲＩ層材料は、単一の層として堆積させてよく、また耐擦傷性層であることを特徴としてよく、この単一の層は、反復可能な硬度決定のために、約５００〜２０００ｎｍの厚さを有してよい。

１つ以上の実施形態では、反射防止コーティング１３０の１つ以上の層のうちの少なくとも１つは、ある特定の光学的厚さ範囲を含んでよい。本明細書中で使用される場合、用語「光学的厚さ（ｏｐｔｉｃａｌ ｔｈｉｃｋｎｅｓｓ）」は（ｎ＊ｄ）によって決定され、ここで「ｎ」は副層のＲＩを指し、「ｄ」はこの層の物理的厚さを指す。１つ以上の実施形態では、反射防止コーティング１３０の複数の層のうちの少なくとも１つは、約２ｎｍ〜約２００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約１００ｎｍ、約１５ｎｍ〜約１００ｎｍ、約１５〜約５００ｎｍ又は約１５〜約５０００ｎｍの光学的厚さを含んでよい。いくつかの実施形態では、反射防止コーティング１３０の全ての層はそれぞれ、約２ｎｍ〜約２００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約１００ｎｍ、約１５ｎｍ〜約１００ｎｍ、約１５〜約５００ｎｍ又は約１５〜約５０００ｎｍの光学的厚さを有してよい。場合によっては、反射防止コーティング１３０の少なくとも１つの層は、約５０ｎｍ以上の光学的厚さを有する。場合によっては、第１の低ＲＩ層はそれぞれ約２ｎｍ〜約２００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約１００ｎｍ、約１５ｎｍ〜約１００ｎｍ、約１５〜約５００ｎｍ又は約１５〜約５０００ｎｍの光学的厚さを有する。他の場合には、第２の高ＲＩ層はそれぞれ、約２ｎｍ〜約２００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約１００ｎｍ、約１５ｎｍ〜約１００ｎｍ、約１５〜約５００ｎｍ又は約１５〜約５０００ｎｍの光学的厚さを有する。更に他の場合には、第３の層はそれぞれ、約２ｎｍ〜約２００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約１００ｎｍ、約１５ｎｍ〜約１００ｎｍ、約１５〜約５００ｎｍ又は約１５〜約５０００ｎｍの光学的厚さを有する。

いくつかの実施形態では、光学コーティング１３０の複数の層のうちの１つ以上の層の厚さを最小化してよい。１つ以上の実施形態では、１つ以上の高ＲＩ層及び／又は１つ以上の中ＲＩ層の厚さを、約５００ｎｍ未満となるように最小化する。１つ以上の実施形態では、１つ以上の高ＲＩ層、１つ以上の中ＲＩ（層）及び／又は高ＲＩ層と中ＲＩ層との組み合わせの、複合厚さは、約５００ｎｍ未満である。

いくつかの実施形態では、上記光学コーティング中の低ＲＩ材料の量を最小化してよい。理論によって束縛されるものではないが、低ＲＩ材料は典型的には、屈折率及び硬度に同時に影響を及ぼす原子結合及び電子密度の性質により、より低高度の材料であり、よってこのような材料を最小化すると、本明細書に記載の反射率及び色性能を維持しながら、硬度を最大化できる。上記光学コーティングの物理的厚さの画分として表現した場合、低ＲＩ材料は、光学コーティングの物理的厚さの約６０％未満、約５０％未満、約４０％未満、約３０％未満、約２０％未満、約１０％又は約５％未満を構成してよい。あるいは、又は更に、低ＲＩ材料の量は、光学コーティング中で最も厚い高ＲＩ層の上（即ち基板とは反対側、ユーザ側又は空気側）に配置された低ＲＩ材料の全ての層の物理的厚さの合計として定量化できる。理論によって束縛されるものではないが、硬度が高いこの厚い高ＲＩ層は、下側にある（又はこの厚いＲＩ層と基板との間にある）層を、多くの又は大半の擦傷から効果的にシールドする。従ってこの最も厚い高ＲＩ層の上に配置された層は、物品全体の耐擦傷性に対して大きな影響を有し得る。これは、最も厚い高ＲＩ層が約４００ｎｍ超の物理的厚さを有し、かつバーコビッチ圧子硬度試験で測定した場合に約１２ＧＰａ超の硬度を有する場合に、特に当てはまる。この最も厚い高ＲＩ層上（即ち基板とは反対側、ユーザ側又は空気側）に配置される低ＲＩ材料の量は、約１５０ｎｍ以下、約１２０ｎｍ以下、約１１０ｎｍ以下、１００ｎｍ、９０ｎｍ、８０ｎｍ、７０ｎｍ、６０ｎｍ、５０ｎｍ、４０ｎｍ、３０ｎｍ、２５ｎｍ、２０ｎｍ、１５ｎｍ以下、又は約１２ｎｍ以下の厚さを有してよい。

いくつかの実施形態では、最上部の空気側層は、モデル化実施例８〜９に示すように、これもまた高い硬度を呈する高ＲＩ層を備えてよい。いくつかの実施形態では、追加のコーティング１４０を、この最上部の空気側高ＲＩ層の上に配置してよい（例えばこの追加のコーティングは、低摩擦コーティング、疎油性コーティング、又は清掃が容易なコーティングを含んでよい）。更に、モデル化実施例１０によって示されているように、厚さが極めて薄い（例えば約１０ｎｍ以下、約５ｎｍ以下又は約２ｎｍ以下）の低ＲＩ層の追加は、高ＲＩ層を含む最上部の空気側層に追加される場合、光学的性能に対して最小の影響しか有しない。厚さが極めて薄いこの低ＲＩ層は、ＳｉＯ_２、疎油性若しくは低摩擦層、又はＳｉＯ_２と疎油性材料との組み合わせを含んでよい。例示的な低摩擦層は、ダイヤモンド様炭素を含んでよく、このような材料（又は光学コーティングの１つ以上の層）は、０．４未満、０．３未満、０．２未満又は更には０．１未満の摩擦係数を呈してよい。

１つ以上の実施形態では、反射防止コーティング１３０は、約８００ｎｍ以下の物理的厚さを有する。反射防止コーティング１３０は、約１０ｎｍ〜約８００ｎｍ、約５０ｎｍ〜約８００ｎｍ、約１００ｎｍ〜約８００ｎｍ、約１５０ｎｍ〜約８００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約８００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約７５０ｎｍ、約１０ｎｍ〜約７００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約６５０ｎｍ、約１０ｎｍ〜約６００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約５５０ｎｍ、約１０ｎｍ〜約５００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約４５０ｎｍ、約１０ｎｍ〜約４００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約３５０ｎｍ、約１０ｎｍ〜約３００ｎｍ、約５０〜約３００、並びにこれらの間の全ての範囲及び部分範囲の、物理的厚さを有してよい。

１つ以上の実施形態では、１つ以上の第２の高ＲＩ層の複合物理的厚さを特性決定できる。例えば、いくつかの実施形態では、１つ以上の第２の高ＲＩ層の複合厚さは、約１００ｎｍ以上、約１５０ｎｍ以上、約２００ｎｍ以上、約５００ｎｍ以上であってよい。上記複合厚さは、１つ以上の低ＲＩ層又は１つ以上の他の層が存在する場合であっても、反射防止コーティング１３０中の複数の高ＲＩ層それぞれの厚さの、算出された合計である。いくつかの実施形態では、高硬度材料（例えば窒化物又は酸窒化物）も含んでよい１つ以上の第２の高ＲＩ層の複合物理的厚さは、上記反射防止コーティング全体の物理的厚さの３０％超であってよい。例えば、１つ以上の第２の高ＲＩ層の複合物理的厚さは、上記反射防止コーティング全体の物理的厚さの約４０％以上、約５０％以上、約６０％以上、約７０％以上、約７５％以上又は約８０％以上でさえあってよい。更に、又はあるいは、光学コーティング中に含まれる、高硬度材料でもあり得る高屈折率材料の量は物品又は光学コーティング１２０の最上部（即ちユーザ側、又は光学コーティングの、基板と反対側）の物理的厚さ５００ｎｍの百分率として特性決定できる。物品又は光学コーティングの最上部５００ｎｍの百分率として表現した場合、１つ以上の第２の高ＲＩ層の複合物理的厚さ（又は高屈折率材料の厚さ）は、約５０％以上、約６０％以上、約７０％以上、約８０％以上、又は約９０％以上でさえあってよい。いくつかの実施形態では、上記反射防止コーティング内の、比較的高い比率の硬質かつ高屈折率材料を同時に作製することによって、本明細書中の他の箇所で更に説明されるような低い反射率、弱い色及び高い耐摩耗性を呈することもできる。１つ以上の実施形態では、第２の高ＲＩ層は、約１．８５超の屈折率を有する材料を含んでよく、第１の低ＲＩ層は、約１．７５未満の屈折率を有する材料を含んでよい。いくつかの実施形態では、第２の高ＲＩ層は、窒化物又は酸窒化物材料を含んでよい。いくつかの例では、光学コーティング中の（又は光学コーティングの最も厚い第２の高ＲＩ層上に配置された層中の）全ての第１の低ＲＩ層の複合厚さは、約２００ｎｍ以下（例えば約１５０ｎｍ以下、約１００ｎｍ以下、約７５ｎｍ以下又は約５０ｎｍ以下）であってよい。

いくつかの実施形態では、反射防止コーティング１３０は、反射防止表面１２２のみにおいて測定した場合に（例えば、物品のコーティングされていない裏面（例えば図１の１１４）からの反射を、吸収材と結合させた上記裏面上に屈折率適合用オイルを用いることによって、又は他の公知の方法によって、除去した場合に）、上記光波長領域に亘って約９％以下、約８％以下、約７％以下、約６％以下、約５％以下、約４％以下、約３％以下又は約２％以下の平均光線反射率を呈する。平均反射率（これは明視野平均であってよい）は、約０．４％〜約９％、約０．４％〜約８％、約０．４％〜約７％、約０．４％〜約６％又は約０．４％〜約５％、及びこれらの間の全範囲であってよい。いくつかの例では、反射防止コーティング１２０は、約４５０ｎｍ〜約６５０ｎｍ、約４２０ｎｍ〜約６８０ｎｍ、約４２０ｎｍ〜約７００ｎｍ、約４２０ｎｍ〜約７４０ｎｍ、約４２０ｎｍ〜約８５０ｎｍ又は約４２０ｎｍ〜約９５０ｎｍといった他の波長範囲に亘って、このような平均光線反射率を呈してよい。いくつかの実施形態では、反射防止表面１２２は、上記光波長領域に亘って、約９０％以上、９２％以上、９４％以上、９６％以上又は９８％以上の平均光透過率を呈する。そうでないことが明記されていない限り、上記平均反射率又は透過率は、約０°〜約１０°の入射照明角度において測定される（しかしながらこのような測定は、４５°又は６０°の入射照明角度において提供される場合もある）。

図６に示すように、物品１００は、上記反射防止コーティング上に配置された１つ以上の追加のコーティング１４０を含んでよい。１つ以上の実施形態では、この追加のコーティングは、清掃が容易なコーティングを含んでよい。好適な清掃が容易なコーティングの例は、２０１２年１１月３０日出願の米国特許出願第１３／６９０，９０４号明細書「ＰＲＯＣＥＳＳ ＦＯＲ ＭＡＫＩＮＧ ＯＦ ＧＬＡＳＳ ＡＲＴＩＣＬＥＳ ＷＩＴＨ ＯＰＴＩＣＡＬ ＡＮＤ ＥＡＳＹ‐ＴＯ‐ＣＬＥＡＮ ＣＯＡＴＩＮＧＳ」に記載されており、この特許出願は参照によりその全体が本出願に援用される。上記清掃が容易なコーティングは、厚さ約５ｎｍ〜約５０ｎｍであってよく、またフルオロシラン等の公知の材料を含んでよい。あるいは、又は更に、上記清掃が容易なコーティングは、低摩擦コーティング又は表面処理を含んでよい。例示的な低摩擦コーティング材料としては、ダイヤモンド様炭素、シラン（例えばフルオロシラン）、ホスホネート、アルケン及びアルキンが挙げられる。いくつかの実施形態では、上記清掃が容易なコーティングは、約１ｎｍ〜約４０ｎｍ、約１ｎｍ〜約３０ｎｍ、約１ｎｍ〜約２５ｎｍ、約１ｎｍ〜約２０ｎｍ、約１ｎｍ〜約１５ｎｍ、約１ｎｍ〜約１０ｎｍ、約５ｎｍ〜約５０ｎｍ、約１０ｎｍ〜約５０ｎｍ、約１５ｎｍ〜約５０ｎｍ、約７ｎｍ〜約２０ｎｍ、約７ｎｍ〜約１５ｎｍ、約７ｎｍ〜約１２ｎｍ又は約７ｎｍ〜約１０ｎｍ、並びにこれらの間の全ての範囲及び部分範囲の厚さを有する。

追加のコーティング１４０は、１つ以上の耐擦傷性層を含んでよい。いくつかの実施形態では、追加のコーティング１４０は、清掃が容易な材料と耐擦傷性材料との組み合わせを含む。一例では、この組み合わせは、清掃が容易な材料、及びダイヤモンド様炭素を含む。このような追加のコーティング１４０は、厚さ約５ｎｍ〜約２０ｎｍであってよい。追加のコーティング１４０の成分は、別個の層において提供してよい。例えばダイヤモンド様炭素は第１の層として配置してよく、清掃が容易な層は、ダイヤモンド様炭素の第１の層の上に、第２の層として配置できる。第１の層及び第２の層の厚さは、上記追加のコーティングに関して上で提示した範囲であってよい。例えば、ダイヤモンド様炭素の第１の層は、厚さ約１ｎｍ〜約２０ｎｍ又は約４ｎｍ〜約１５ｎｍ（又はより具体的には約１０ｎｍ）であってよく、また清掃が容易な層の第２の層は、厚さ約１ｎｍ〜約１０ｎｍ（又はより具体的には約６ｎｍ）とすることができる。ダイヤモンド様コーティングは、四面体非晶質炭素（Ｔａ‐Ｃ）、Ｔａ‐Ｃ：Ｈ、及び／又はａ‐Ｃ‐Ｈを含んでよい。

本明細書に記載されているように、光学コーティング１２０は、耐擦傷性層１５０又は（複数の耐擦傷性層を利用する場合には）コーティングを含んでよく、これは、反射防止コーティング１３０と基板１１０との間に配置してよい。いくつかの実施形態では、耐擦傷性層１５０又はコーティングは、（図７に示されている１５０のように）反射防止コーティング１３０の層の間に配置される。反射防止コーティングの２つのセクション（即ち耐擦傷性層１５０と基板１１０との間に配置される第１のセクション、及び上記耐擦傷性層上に配置される第２のセクション）は、互いに異なる厚さを有してよく、又は互いに本質的に同一の厚さを有してよい。反射防止コーティングの上記２つのセクションの層は、組成、順序、厚さ及び構成において互いに同一であってよく、又は互いに異なっていてよい。

耐擦傷性層１５０又はコーティング（又は追加のコーティング１４０として使用される耐擦傷性／コーティング）に使用される例示的な材料は、無機カーバイド、窒化物、酸化物、ダイヤモンド様材料、又はこれらの組み合わせを含んでよい。耐擦傷性層又はコーティングのために好適な材料の例としては、酸化金属、窒化金属、酸窒化金属、炭化金属、酸炭化金属及び／又はこれらの組み合わせが挙げられる。例示的な金属としては、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｓｎ、Ｈｆ、Ｔａ及びＷが挙げられる。耐擦傷性層又はコーティングに利用できる材料の具体例としては、Ａｌ_２Ｏ_３、ＡｌＮ、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ、ダイヤモンド、ダイヤモンド様炭素、Ｓｉ_ｘＣ_ｙ、Ｓｉ_ｘＯ_ｙＣ_ｚ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_ｘＮ_ｙ及びこれらの組み合わせが挙げられる。耐擦傷性層又はコーティングはまた、硬度、靭性又は耐摩耗／摩滅性を改善するために、ナノ複合材料、又は制御された微小構造を有する材料も含んでよい。例えば耐擦傷性層又はコーティングは、約５ｎｍ〜約３０ｎｍのサイズのナノ微結晶を含んでよい。実施形態では、耐擦傷性層又はコーティングは、変態強化ジルコニア、部分安定化ジルコニア、又はジルコニア‐強化アルミナを含んでよい。実施形態では、耐擦傷性層又はコーティングは、約１ＭＰａ√ｍ超の破壊靭性を呈し、また同時に約８Ｇａ超の硬度値を呈する。

耐擦傷性層は、（図７に示すような）単一の層１５０、又は複数の副層、又は屈折率勾配を呈する複層又は単一の層を含んでよい。複数の層が使用される場合、このような層は耐擦傷性コーティングを形成する。例えば耐擦傷性コーティングは、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙの組成勾配を含んでよく、ここでは、Ｓｉ、Ａｌ、Ｏ及びＮのうちのいずれの１つ以上の濃度が変化することによって、屈折率が増大又は低下する。この屈折率勾配は、多孔性を用いて形成してもよい。このような勾配は、２０１４年４月２８日出願の米国特許出願第１４／２６２２２４号明細書「Ｓｃｒａｔｃｈ‐Ｒｅｓｉｓｔａｎｔ Ａｒｔｉｃｌｅｓ ｗｉｔｈ ａ Ｇｒａｄｉｅｎｔ Ｌａｙｅｒ」に更に十分に記載されており、この特許出願は、参照によりその全体が本出願に援用される。

図８に示されている一実施形態では、光学コーティング１２０は、高ＲＩ層として組み込まれた耐擦傷性層１５０を含んでよく、１つ以上の低ＲＩ層１３０Ａ及び高ＲＩ層１３０Ｂは、耐擦傷性層１５０を覆うように位置決めしてよく、任意のキャッピング層１３１が低ＲＩ層１３０Ａ及び高ＲＩ層１３０Ｂを覆うように位置決めされ、ここでキャッピング層１３１は、低ＲＩ材料を含む。あるいは耐擦傷性層は、光学コーティング全体の中で、又は物品全体の中で、最も厚い硬質層又は最も厚い高ＲＩ層として定義できる。理論によって束縛されるものではないが、比較的少量の材料が耐擦傷性層１５０を覆うように堆積される場合に、物品１００は押込み深さとして増大した硬度を呈し得ると考えられる。しかしながら、耐擦傷性層１５０の上に低ＲＩ及び高ＲＩ層を含むことにより、物品１００の光学的特性を増強できる。いくつかの実施形態では、比較的少数の層（例えば１、２、３、４又は５層のみ）を、耐擦傷性層１５０を覆うように位置決めしてよく、これらの各層は比較的薄くてよい（例えば１００ｎｍ未満、７５ｎｍ未満、５０ｎｍ未満、又は２５ｎｍ未満でさえある）。

実施形態では、耐擦傷性層１５０を覆うように（即ち耐擦傷性層１５０の空気側の上に）堆積した層は、約１０００ｎｍ以下、約５００ｎｍ以下、約４５０ｎｍ以下、約４００ｎｍ以下、約３５０ｎｍ以下、約３００ｎｍ以下、約２５０ｎｍ以下、約２２５ｎｍ以下、約２００ｎｍ以下、約１７５ｎｍ以下、約１５０ｎｍ以下、約１２５ｎｍ以下、約１００ｎｍ以下、約９０ｎｍ以下、約８０ｎｍ以下、約７０ｎｍ以下、約６０ｎｍ以下、又は約５０ｎｍ以下でさえある合計厚さを有してよい。

実施形態では、耐擦傷性層１５０を覆うように（即ち耐擦傷性層１５０の空気側の上に）位置決めされた１つ以上の低ＲＩ層の合計厚さ（低ＲＩ層が接していない場合であっても、全ての低ＲＩ層の厚さの合計）は、約５００ｎｍ以下、約４５０ｎｍ以下、約４００ｎｍ以下、約３５０ｎｍ以下、約３００ｎｍ以下、約２５０ｎｍ以下、約２２５ｎｍ以下、約２００ｎｍ以下、約１７５ｎｍ以下、約１５０ｎｍ以下、約１２５ｎｍ以下、約１００ｎｍ以下、約９０ｎｍ以下、約８０ｎｍ以下、約７０ｎｍ以下、約６０ｎｍ以下、約５０ｎｍ以下、約４０ｎｍ以下、約３０ｎｍ以下、約２０ｎｍ以下、又は約１０ｎｍ以下でさえあってよい。

実施形態では、光学コーティング１２０は、材料の最上部５００ｎｍの厚さ百分率又は体積百分率として算出した場合に、厚さの最上部５００ｎｍ中（即ち光学コーティング１２０の空気側上において）、高ＲＩ（高硬度）材料の少なくとも約５０％、少なくとも約５５％、少なくとも約６０％、少なくとも約６５％、少なくとも約７０％、少なくとも約７５％、少なくとも約８０％、少なくとも約８５％、少なくとも約９０％、又は更に少なくとも約９５％を構成してよい。例えば、耐擦傷性層１５０を覆うように位置決めされた層が比較的薄い場合、硬質材料製であってよい耐擦傷性層１５０は、光学コーティング１２０の最上部５００ｎｍの大半を構成してよい。実施形態では、光学コーティング１２０は、厚さの最上部５００ｎｍ中（即ち光学コーティング１２０の空気側上において）、低ＲＩ（低硬度）材料の約５０％未満、約４５％未満、約４０％未満、約３５％未満、約３０％未満、約２５％未満、約２０％未満、約１５％未満、約１０％未満、又は更に約５％未満を構成してよい。

耐擦傷性層又はコーティングの組成を修正することにより、特定の特性（例えば硬度）を提供できる。１つ以上の実施形態では、耐擦傷性層又はコーティングは、バーコビッチ圧子硬度試験によって耐擦傷性層又はコーティングの大表面上で測定した場合に、約５ＧＰａ〜約３０ＧＰａの最大硬度を呈する。１つ以上の実施形態では、耐擦傷性層又はコーティングは、約６ＧＰａ〜約３０ＧＰａ、約７ＧＰａ〜約３０ＧＰａ、約８ＧＰａ〜約３０ＧＰａ、約９ＧＰａ〜約３０ＧＰａ、約１０ＧＰａ〜約３０ＧＰａ、約１２ＧＰａ〜約３０ＧＰａ、約５ＧＰａ〜約２８ＧＰａ、約５ＧＰａ〜約２６ＧＰａ、約５ＧＰａ〜約２４ＧＰａ、約５ＧＰａ〜約２２ＧＰａ、約５ＧＰａ〜約２０ＧＰａ、約１２ＧＰａ〜約２５ＧＰａ、約１５ＧＰａ〜約２５ＧＰａ、約１６ＧＰａ〜約２４ＧＰａ、約１８ＧＰａ〜約２２ＧＰａ並びにこれらの間の全ての範囲及び部分範囲である最大硬度を呈する。１つ以上の実施形態では、耐擦傷性コーティングは、１５ＧＰａ超、２０ＧＰａ超又は２５ＧＰａ超の最大硬度を呈してよい。１つ以上の実施形態では、耐擦傷性層は、約１５ＧＰａ〜約１５０ＧＰａ、約１５ＧＰａ〜約１００ＧＰａ又は約１８ＧＰａ〜約１００ＧＰａの最大硬度を呈する。最大硬度は、ある範囲の押込み深さに亘って測定した最高の硬度値である。このような最大硬度値は、約５０ｎｍ以上又は１００ｎｍ以上（例えば約１００ｎｍ〜約３００ｎｍ、約１００ｎｍ〜約４００ｎｍ、約１００ｎｍ〜約５００ｎｍ、約１００ｎｍ〜約６００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約３００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約４００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約５００ｎｍ又は約２００ｎｍ〜約６００ｎｍ）の押込み深さに沿って呈される。

実施形態では、物品１００はある硬度プロファイルを備え、これは、複数の押込み深さの組み合わせにおける物品のナノ硬度によって定義できる。例えば上記物品は、物品１００が、約１００ｎｍの押込み深さにおいて指定された値より大きなナノ硬度、及び／又は約３００ｎｍの押込み深さにおいて指定された別の値より大きなナノ硬度、及び／又は約５００ｎｍの押込み深さにおいて指定された別の値より大きなナノ硬度、及び／又は約７００ｎｍの押込み深さにおいて指定された別の値より大きなナノ硬度を有する場合に、ある硬度プロファイルを呈し得る。例えば２つ以上の押込み深さを選択することによって、硬度プロファイルを確立してよい。より深い押し込み深さまで延在する高い硬度を有することによって、比較的目立つ擦傷をもたらす比較的過酷な擦傷イベントに対する保護が補助される。比較的浅い押し込み深さにおいて比較的高い硬度を維持することによって、比較的過酷でない擦傷イベントに対する保護が補助される。従って、浅い押し込み深さ（例えば表面から最大１００ｎｍ）において硬度が急速に増大して、可能な限りの深さまで、例えば表面から測定した場合に１００ｎｍから最大約７００又は８００ｎｍまで維持される、硬度プロファイルを有することが望ましい。実施形態では、物品１００は、押込み深さ１００ｎｍにおいて、少なくとも約５ＧＰａ、少なくとも約６ＧＰａ、少なくとも約７ＧＰａ、少なくとも約８ＧＰａ、少なくとも約９ＧＰａ、少なくとも約１０ＧＰａ、少なくとも約１１ＧＰａ、少なくとも約１２ＧＰａ、少なくとも約１３ＧＰａ、少なくとも約１４ＧＰａ、少なくとも約１５ＧＰａ、少なくとも約１６ＧＰａ、少なくとも約１７ＧＰａ、少なくとも約１８ＧＰａ、少なくとも約１９ＧＰａ、少なくとも約２０ＧＰａ、少なくとも約２２ＧＰａ、又は少なくとも約２５ＧＰａでさえある硬度を備えてよく；また押込み深さ３００ｎｍにおいて、少なくとも約５ＧＰａ、少なくとも約６ＧＰａ、少なくとも約７ＧＰａ、少なくとも約８ＧＰａ、少なくとも約９ＧＰａ、少なくとも約１０ＧＰａ、少なくとも約１１ＧＰａ、少なくとも約１２ＧＰａ、少なくとも約１３ＧＰａ、少なくとも約１４ＧＰａ、少なくとも約１５ＧＰａ、少なくとも約１６ＧＰａ、少なくとも約１７ＧＰａ、少なくとも約１８ＧＰａ、少なくとも約１９ＧＰａ、少なくとも約２０ＧＰａ、少なくとも約２２ＧＰａ、又は少なくとも約２５ＧＰａでさえある硬度を備えてよく；押込み深さ５００ｎｍにおいて、少なくとも約５ＧＰａ、少なくとも約６ＧＰａ、少なくとも約７ＧＰａ、少なくとも約８ＧＰａ、少なくとも約９ＧＰａ、少なくとも約１０ＧＰａ、少なくとも約１１ＧＰａ、少なくとも約１２ＧＰａ、少なくとも約１３ＧＰａ、少なくとも約１４ＧＰａ、少なくとも約１５ＧＰａ、少なくとも約１６ＧＰａ、少なくとも約１７ＧＰａ、少なくとも約１８ＧＰａ、少なくとも約１９ＧＰａ、少なくとも約２０ＧＰａ、少なくとも約２２ＧＰａ、又は少なくとも約２５ＧＰａでさえある硬度を備えてよく；及び／又は押込み深さ７００ｎｍにおいて、少なくとも約５ＧＰａ、少なくとも約６ＧＰａ、少なくとも約７ＧＰａ、少なくとも約８ＧＰａ、少なくとも約９ＧＰａ、少なくとも約１０ＧＰａ、少なくとも約１１ＧＰａ、少なくとも約１２ＧＰａ、少なくとも約１３ＧＰａ、少なくとも約１４ＧＰａ、少なくとも約１５ＧＰａ、少なくとも約１６ＧＰａ、少なくとも約１７ＧＰａ、少なくとも約１８ＧＰａ、少なくとも約１９ＧＰａ、少なくとも約２０ＧＰａ、少なくとも約２２ＧＰａ、又は少なくとも約２５ＧＰａでさえある硬度を備えてよい。例えば本明細書に記載の実施形態は、押込み深さ１００ｎｍにおいて少なくとも約１２ＧＰａの硬度、押込み深さ３００ｎｍにおいて少なくとも約１５ＧＰａの硬度、押込み深さ５００ｎｍにおいて少なくとも約１５ＧＰａの硬度、及び押込み深さ７００ｎｍにおいて少なくとも約１５ＧＰａの硬度を有してよい。

耐擦傷性コーティング又は層の物理的厚さは、約１ｎｍ〜約５μｍであってよい。いくつかの実施形態では、耐擦傷性コーティングの物理的厚さは、約１ｎｍ〜約３μｍ、約１ｎｍ〜約２．５μｍ、約１ｎｍ〜約２μｍ、約１ｎｍ〜約１．５μｍ、約１ｎｍ〜約１μｍ、約１ｎｍ〜約０．５μｍ、約１ｎｍ〜約０．２μｍ、約１ｎｍ〜約０．１μｍ、約１ｎｍ〜約０．０５μｍ、約５ｎｍ〜約０．０５μｍ、約１０ｎｍ〜約０．０５μｍ、約１５ｎｍ〜約０．０５μｍ、約２０ｎｍ〜約０．０５μｍ、約５ｎｍ〜約０．０５μｍ、約２００ｎｍ〜約３μｍ、約４００ｎｍ〜約３μｍ、約８００ｎｍ〜約３μｍ、並びにこれらの間の全ての範囲及び部分範囲であってよい。いくつかの実施形態では、耐擦傷性コーティングの物理的厚さは、約１ｎｍ〜約２５ｎｍであってよい。いくつかの例では、耐擦傷性層は、窒化物又は酸窒化物材料を含んでよく、約２００ｎｍ以上、５００ｎｍ以上又は約１０００ｎｍ以上の厚さを有してよい。

１つ以上の実施形態の物品は、テーバー試験に従って反射防止表面１２２に対して少なくとも約５００サイクルの研磨を行った後、様々な方法で測定した場合に、耐摩耗性であるものとして説明され得る。Ｔａｂｅｒ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓによって供給される摩耗媒体を用いる、ＡＳＴＭ Ｄ１０４４‐９９に明記された試験方法等、様々な形態の摩耗試験が当該技術分野において公知である。反復可能かつ測定可能な摩耗又は摩擦痕跡を提供することによって異なる複数の試料の耐摩耗性を有意に識別するために、異なる複数のタイプの摩耗媒体、研磨材ジオメトリ及び運動、圧力等を用いて、ＡＳＴＭ Ｄ１０４４‐９９に関連する修正された研磨方法を生成できる。例えば、軟質プラスチックと硬質無機試験試料とには、通常、異なる試験条件が適切となる。本明細書に記載の実施形態を、本明細書において定義されるようなテーバー試験に供した。これは、ＡＳＴＭ Ｄ１０４４‐９９の特定の修正バージョンであり、酸化物ガラス及び酸化物又は窒化物コーティングといった硬質無機材料を主に含む異なる試料間における耐久性の明確かつ反復可能な区別を提供する。本明細書中で使用される場合、句「テーバー試験（Ｔａｂｅｒ Ｔｅｓｔ）」は、温度約２２℃±３℃及び相対湿度最大約７０％を含む環境において、Ｔａｂｅｒ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓによって供給されるＴａｂｅｒ Ｌｉｎｅａｒ Ａｂｒａｓｅｒ ５７５０（ＴＬＡ ５７５０）及びアクセサリを用いる試験方法を指す。ＴＬＡ ５７５０は、６．７ｍｍ径の研磨装置ヘッドを有するＣＳ‐１７研磨装置材料を含む。各試料を、テーバー試験に従って研磨し、摩耗損傷を、複数の方法の中で特に、ヘイズ及び双方向透過率分布関数（ＣＣＢＴＤＦ）測定を用いて評価した。テーバー試験では、各試料を研磨するための手順は、ＴＬＡ ５７５０及び平坦な試料支持体を、剛性の平坦な表面上に配置するステップ、並びにＴＬＡ ５７５０及び試料支持体を上記表面に固定するステップを含む。テーバー試験下で各試料を研磨する前に、ガラスに取り付けられた新しいＳ‐１４リフェース用ストリップを用いて、研磨装置をリフェースする。サイクル速度２５サイクル／分、及びストローク長さ１インチ（２．５４ｃｍ）を用い、追加のおもりを加えずに（即ちリフェース中、研磨装置を保持するスピンドル及びコレットを併せた重量である約３５０ｇの合計重量が使用される）、研磨装置を１０回のリフェースサイクルに供する。次にこの手順は、２５サイクル／分のサイクル速度及び１インチ（２．５４ｃｍ）のストローク長さ、並びに試料に印加される合計重量が８５０ｇとなる（即ちスピンドル及びコレットの複合重量３５０ｇに加えて５００ｇの補助おもりが適用される）ようなおもりを用いて、ＴＬＡ ５７５０を操作して試料を研磨するステップを含み、ここで試料は、研磨装置ヘッドに接触して研磨装置に印加されるおもりを支持する上記試料支持体に配置される。この手順は、反復性のために、各試料に対して２つの摩滅痕跡を形成するステップ、及び各試料上の２つの摩滅痕跡それぞれにおいて５００サイクルカウントに亘り、各試料を研磨するステップを含む。

１つ以上の実施形態では、物品１００の反射防止表面１２２は、上述のテーバー試験に従って研磨され、上記物品は、研磨される側において、ＢＹＫ ＧａｒｄｎｅｒによってＨａｚｅ‐Ｇａｒｄ ｐｌｕｓ（登録商標）の商標名で提供されるヘイズメータを用いて測定した場合に、約１０％以下のヘイズを呈し、上記ヘイズメータはソースポート上のアパーチャを使用し、このアパーチャは直径８ｍｍである。

１つ以上の実施形態の物品１００は、（本明細書中で後に説明される追加のコーティング１４０を含む）いずれの追加のコーティングを用いて又は用いずに、上述のような耐摩耗性を呈する。いくつかの実施形態では、上記ヘイズは、約９％以下、約８％以下、約７％以下、約６％以下、約５％以下、約４％以下、約３％以下、約２％以下、約１％以下、約０．５％以下又は約０．３％以下であってよい。いくつかの具体的な実施形態では、物品１００は、約０．１％〜約１０％、約０．１％〜約９％、約０．１％〜約８％、約０．１％〜約７％、約０．１％〜約６％、約０．１％〜約５％、約０．１％〜約４％、約０．１％〜約３％、約０．１％〜約２％、約０．１％〜約１％、０．３％〜約１０％、約０．５％〜約１０％、約１％〜約１０％、約２％〜約１０％、約３％〜約１０％、約４％〜約１０％、約５％〜約１０％、約６％〜約１０％、約７％〜約１０％、約１％〜約８％、約２％〜約６％、約３％〜約５％、並びにこれらの間の全ての範囲及び部分範囲であるヘイズを呈する。

ここでは、耐摩耗性を定量化するための代替的な方法も考える。１つ以上の実施形態では、テーバー試験によって反射防止表面１２２上を研磨した物品１００は、（研磨された領域の大部分をサンプリングするために）反射防止表面１２２の１つの８０×８０マイクロメートル領域又は複数の８０×８０マイクロメートル領域に対して実施され得る原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）表面プロファイリングによって測定されるものとしての、ある耐摩耗性を呈し得る。これらのＡＦＭ表面走査から、ＲＭＳ粗度、Ｒａ粗度及び最高点‐最低点間表面高さといった表面粗度統計を評価できる。１つ以上の実施形態では、物品１００（又は具体的には反射防止表面１２２）は、上述のテーバー試験によって研磨した後、約５０ｎｍ以下、約２５ｎｍ以下、約１２ｎｍ以下、約１０ｎｍ以下又は約５ｎｍ以下の平均表面粗度（Ｒａ）値を呈してよい。

１つ以上の実施形態では、物品１００は、反射防止表面１２２をテーバー試験によって研磨した後に、光散乱測定によって測定されるものとしての、ある耐摩耗性を呈し得る。１つ以上の実施形態では、光散乱測定は、Ｒａｄｉａｎｔ Ｚｅｍａｘ ＩＳ‐ＳＡ（商標）機器を用いて実施される。双方向反射率分布関数（ＢＲＤＦ）又は双方向透過率分布関数（ＢＴＤＦ）測定を含む。この機器は、反射において垂直〜約８５°の入射、及び透過において垂直〜約８５％の入射という入力角度を用いて光散乱を測定しながら、反射又は透過において全ての散乱光出力を２＊Ｐｉステラジアン（反射又は透過において完全な半球）へと捕捉する、柔軟性を有する。一実施形態では、物品１００は、ＢＴＤＦを用いて垂直な入射において測定し、かつ選択された角度範囲、例えば極角度として約１０°〜約８０°及びこの範囲内のいずれの角度範囲において透過した散乱光を分析した場合に、ある耐摩耗性を呈する。全方位の角度範囲を分析して統合でき、又は特定の方位の角度区域、例えば方位角的に約０°〜９０°を選択できる。直線的な摩耗の場合、光散乱測定のＳＮ比を増大させるために、摩耗方向に略垂直な方位角を選択することが望ましい場合がある。１つ以上の実施形態では、物品１００は、反射防止コーティング１２０において測定した場合に、透過における垂直な入射において、２ｍｍのアパーチャと、６００ｎｍの波長に設定されたモノクロメータセットとを備えるＲａｄｉａｎｔ Ｚｅｍａｘ ＩＳ‐ＳＡツールをＣＣＢＴＤＦモードで用い、また約１５°〜約６０°（例えば具体的には約２０°又は約４０°）の極散乱角において評価すると、約０．１未満、約０．０５以下、約０．０３以下、約０．０２以下、約０．０１以下、約０．００５以下又は約０．００３以下（単位は１／ステラジアン）の散乱光強度を呈してよい。透過における垂直な入射は、透過においてゼロ度であることが分かっている場合があり、これは機器ソフトウェアでは１８０°の入射として表すことができる。１つ以上の実施形態では、散乱光強度は、テーバー試験によって研磨された試料の研磨方向に対して略垂直な方位角に沿って測定してよい。一例では、テーバー試験は、約１０サイクル〜約１０００サイクル、及びその間の全ての値を使用してよい。これらの光強度値はまた、約５°超、約１０°超、約３０°超又は約４５°超の極散乱角へと散乱する入力光強度の約１％未満、約０．５％未満、約０．２％未満又は約０．１％未満に対応し得る。

一般に、本明細書に記載されているように、垂直な入射におけるＢＴＤＦ試験と、透過ヘイズ測定とは、これらがいずれも、試料（又はこの場合は反射防止コーティング１２０を研磨した後の物品１００）を通る透過において散乱する光の量を測定するという点で、密接に関連する。ＢＴＤＦ測定は、ヘイズ測定に比べて、より高い感度及びより詳細な角度情報を提供する。ＢＴＤＦにより、異なる複数の極及び方位角への散乱の測定が可能となり、例えば直線的なテーバー試験にける研磨方向に対して略垂直な方位角への散乱を選択的に評価できる（上記方位角は、直線的な研磨からの光の散乱が最大になる角度である）。透過ヘイズは本質的に、垂直入射ＢＴＤＦによって測定された全ての散乱光を、約＋／‐２．５°を超える極角度の完全な半球に組み込んだものである。

光学コーティング１２０及び物品１００について、バーコビッチ圧子硬度試験で測定された硬度に関して説明できる。本明細書中で使用される場合、「バーコビッチ圧子硬度試験（Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ Ｉｎｄｅｎｔｅｒ Ｈａｒｄｎｅｓｓ Ｔｅｓｔ）」は、材料の硬度をその表面において、上記表面をダイヤモンドバーコビッチ圧子で押し込むことによって測定するステップを含む。バーコビッチ圧子硬度試験は、物品の反射防止表面１２２、又は光学コーティング１２０の表面（若しくは反射防止コーティング中の複数の層のうちのいずれの１つ以上の表面）を、ダイヤモンドバーコビッチ圧子で、約５０ｎｍ〜約１０００ｎｍの押込み深さ（又は反射防止コーティング若しくは層のうち薄い方の全体の厚さ）まで押し込むステップと、押込み深さ範囲全体又はこの押込み深さの（例えば約１００ｎｍ〜約６００ｎｍの範囲の）あるセグメントに沿ったこの押込みから、一般にはＯｌｉｖｅｒ， Ｗ．Ｃ．； Ｐｈａｒｒ， Ｇ． Ｍ． Ａｎ ｉｍｐｒｏｖｅｄ ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ ｆｏｒ ｄｅｔｅｒｍｉｎｉｎｇ ｈａｒｄｎｅｓｓ ａｎｄ ｅｌａｓｔｉｃ ｍｏｄｕｌｕｓ ｕｓｉｎｇ ｌｏａｄ ａｎｄ ｄｉｓｐｌａｃｅｍｅｎｔ ｓｅｎｓｉｎｇ ｉｎｄｅｎｔａｔｉｏｎ ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔｓ． Ｊ． Ｍａｔｅｒ． Ｒｅｓ．， Ｖｏｌ． ７， Ｎｏ． ６， １９９２， １５６４‐１５８３；及び Ｏｌｉｖｅｒ， Ｗ．Ｃ．； Ｐｈａｒｒ， Ｇ．Ｍ． Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ ｏｆ Ｈａｒｄｎｅｓｓ ａｎｄ Ｅｌａｓｔｉｃ Ｍｏｄｕｌｕｓ ｂｙ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ Ｉｎｄｅｎｔａｔｉｏｎ： Ａｄｖａｎｃｅｓ ｉｎ Ｕｎｄｅｒｓｔａｎｄｉｎｇ ａｎｄ Ｒｅｆｉｎｅｍｅｎｔｓ ｔｏ Ｍｅｔｈｏｄｏｌｏｇｙ． Ｊ． Ｍａｔｅｒ． Ｒｅｓ．， Ｖｏｌ． １９， Ｎｏ． １， ２００４， ３‐２０に記載の方法を用いて、最大硬度を測定するステップを含む。本明細書中で使用される場合、硬度は平均硬度ではなく最大硬度を指す。

典型的には、下層の基板より高い硬度を有するコーティングの（バーコビッチ圧子を用いるもの等の）ナノ押込み測定方法では、測定される硬度は、浅い押込み深さにおける可塑性ゾーンの発生により、初めは増大するように見える場合があり、その後増大して、より深い押込み深さにおいて最大値又は平坦域に達する。その後硬度は、下層の基板の影響により、更に深い押込み深さにおいて低下し始める。コーティングより硬度が高い基板を利用している場合、同一の影響を観察できる。しかしながら、硬度は、下層の基板の影響により、更に深い押込み深さにおいて増大する。

押込み深さ範囲、及び１つ以上の特定の押込み深さ範囲における硬度値は、下層の基板の影響なしに、本明細書に記載の光学フィルム構造及びその層の特定の硬度応答を識別できるように選択できる。（光学フィルム構造が基板上に配置されているときに）バーコビッチ圧子で光学フィルム構造の硬度を測定する場合、材料の恒久的変形領域（可塑性ゾーン）は、上記材料の硬度に関連する。押込み中、弾性応力場は、この恒久的変形領域をはるかに超えて延在する。押込み深さが増大するにつれて、見かけの硬度及び弾性率は、下層の基板との応力場の相互作用によって影響を受ける。硬度に対する基板の影響は、比較的深い押込み深さにおいて（即ち典型的には、光学フィルム構造又は層の厚さの約１０％超の深さにおいて）発生する。更に、押込みプロセス中に完全な可塑性を発生させるために、硬度応答がある一定の最小負荷を必要とすることが、更なる問題となる。このある一定の最小負荷の前、上記硬度は概ね増大する傾向を示す。

小さい押込み深さ（これは小さい負荷として特性決定することもできる）（例えば最大約５０ｎｍ）では、材料の見かけの硬度は、押込み深さに対して劇的に増大するように見える。この小さい押込み深さの領域は、硬度の本当の尺度を表すわけではないが、その代わりに上述の可塑性ゾーンの発生を反映しており、これは圧子の有限曲率半径に関係する。中程度の押込み深さでは、見かけの硬度は最大レベルに近づく。より深い押込み深さでは、押込み深さが増大するにつれて基板の影響がより甚大になる。押込み深さが、光学フィルム構造の厚さ又は層の厚さの約３０％を超えると、硬度は劇的に低下し始める場合がある。

図９は、押込み深さ及びコーティングの厚さの関数としての、測定された硬度値の変化を示す。図９に示すように、中程度の押込み深さ（硬度が最大レベルに近づいて維持される）、及びより深い押込み深さで測定された硬度は、材料又は層の厚さに左右される。図９は、様々な厚さを有するＡｌＯ_ｘＮ_ｙの異なる４つの層の硬度応答を示す。各層の硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験を用いて測定した。５００ｎｍ厚の層は、押込み深さ約１００ｎｍ〜１８０ｎｍにおいてその最大硬度を呈し、これに続いて押込み深さ約１８０ｎｍ〜約２００ｎｍにおいて硬度が劇的に低下し、これは基板の硬度が硬度測定に影響を及ぼしていることを示した。１０００ｎｍ厚の層は、押込み深さ約１００ｎｍ〜約３００ｎｍにおいて最大硬度を呈し、これに続いて押込み深さ約３００ｎｍ超において硬度が劇的に低下した。１５００ｎｍ厚の層は、押込み深さ約１００ｎｍ〜約５５０ｎｍにおいて最大硬度を呈し、２０００ｎｍ厚の層は、押込み深さ約１００ｎｍ〜約６００ｎｍにおいて最大硬度を呈した。図９は厚い単一の層を示しているが、より薄いコーティング、及び本明細書に記載の実施形態の反射防止コーティング１２０等の複数の層を含むものにおいても、同一の挙動が観察される。

いくつかの実施形態では、光学コーティング１２０は、約８ＧＰａ以上、約１０ＧＰａ以上又は約１２ＧＰａ以上（例えば１４ＧＰａ以上、１６ＧＰａ以上、１８ＧＰａ以上、２０ＧＰａ以上）の硬度を呈してよい。光学コーティング１２０の硬度は、最高約２０ＧＰａ又は３０ＧＰａであってよい。本明細書に記載の反射防止コーティング１２０及びいずれの追加のコーティングを含む物品１００は、反射防止表面１２２上でバーコビッチ圧子硬度試験によって測定した場合に、約５ＧＰａ以上、約８ＧＰａ以上、約１０ＧＰａ以上又は約１２ＧＰａ以上（例えば１４ＧＰａ以上、１６ＧＰａ以上、１８ＧＰａ以上、２０ＧＰａ以上）の硬度を呈する。光学コーティング１２０の硬度は、最大約２０ＧＰａ又は３０ＧＰａであってよい。このような測定された硬度値は、約５０ｎｍ以上又は約１００ｎｍ以上（例えば約１００ｎｍ〜約３００ｎｍ、約１００ｎｍ〜約４００ｎｍ、約１００ｎｍ〜約５００ｎｍ、約１００ｎｍ〜約６００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約３００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約４００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約５００ｎｍ又は約２００ｎｍ〜約６００ｎｍ）の押込み深さに沿って、光学コーティング１２０及び／又は物品１００が呈し得る。１つ以上の実施形態では、上記物品は、（反射防止表面の反対側の表面において測定できる）上記基板の硬度より高い硬度を呈する。

光学コーティング１２０は、バーコビッチ圧子硬度試験で測定した場合に約１２ＧＰａ以上、約１３ＧＰａ以上、約１４ＧＰａ以上、約１５ＧＰａ以上、約１６ＧＰａ以上、約１７ＧＰａ以上、約１８ＧＰａ以上、約１９ＧＰａ以上、約２０ＧＰａ以上、約２２ＧＰａ以上、約２３ＧＰａ以上、約２４ＧＰａ以上、約２５ＧＰａ以上、約２６ＧＰａ以上、又は約２７ＧＰａ以上（最大約５０ＧＰａ）の硬度を有する、（このような層の表面、例えば図２の第２の高ＲＩ層１３０Ｂの表面又は耐擦傷性層の表面で測定される）少なくとも１つの層を有してよい。このような層の硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験で測定した場合に、約１８ＧＰａ〜約２１ＧＰａであってよい。このような測定された硬度値は、約５０ｎｍ以上又は１００ｎｍ以上（例えば約１００ｎｍ〜約３００ｎｍ、約１００ｎｍ〜約４００ｎｍ、約１００ｎｍ〜約５００ｎｍ、約１００ｎｍ〜約６００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約３００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約４００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約５００ｎｍ又は約２００ｎｍ〜約６００ｎｍ）の押込み深さに沿って、上記少なくとも１つの層が呈し得る。

１つ以上の実施形態では、光学コーティング１２０、又は上記光学コーティング内の個々の層は、反射防止表面１２２上において、バーコビッチ圧子を用いて当該表面を押し込むことによって測定した場合に、約７５ＧＰａ以上、約８０ＧＰａ以上又は約８５ＧＰａ以上の弾性率を呈してよい。これらの弾性率の値は、反射防止表面の極めて近傍で、例えば押込み深さ０ｎｍ〜約５０ｎｍにおいて測定された弾性率を表してよく、又はより深い押込み深さ、例えば約５０ｎｍ〜約１０００ｎｍで測定された弾性率を表してよい。

耐擦傷性層（反射防止コーティング、例えば図７の１５０の一部として使用する場合）又は耐擦傷性コーティング（追加のコーティング１４０として使用する場合）を含む物品の実施形態では、上記物品は、反射防止表面１２２、又は耐擦傷性コーティングの表面においてバーコビッチ圧子硬度試験で測定した場合に、約１２ＧＰａ〜約２５ＧＰａの最大硬度を呈してよい。このような測定された硬度値は、５０ｎｍ以上又は１００ｎｍ以上（例えば約１００ｎｍ〜約３００ｎｍ、約１００ｎｍ〜約４００ｎｍ、約１００ｎｍ〜約５００ｎｍ、約１００ｎｍ〜約６００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約３００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約４００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約５００ｎｍ又は約２００ｎｍ〜約６００ｎｍ）の押込み深さに沿って呈され得る。この硬度は、（例えば図７及び８に示すように）耐擦傷性層が反射防止表面１２２に又は反射防止表面１２２の付近に配置されていない場合でも、呈され得る。

光学コーティング１２０／空気界面からの反射波と光学コーティング１２０／基板１１０界面からの反射波との間の光学的干渉により、スペクトル反射率及び／又は透過率振動がもたらされる場合があり、これは物品１００の見かけの色を生成する。本明細書中で使用される場合、用語「透過率（ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ）」は、材料（例えば物品、基板又は光学フィルム若しくはその一部）を通過する所与の波長範囲内の入射光強度の百分率として定義される。用語「反射率（ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ）」は同様に、材料（例えば物品、基板又は光学フィルム若しくはその一部）から反射される所与の波長範囲内の入射光強度の百分率として定義される。透過率及び反射率は、ある特定の線幅を用いて測定される。１つ以上の実施形態では、透過率及び反射率の特性決定のスペクトル解像度は、５ｎｍ又は０．０２ｅＶ未満である。色は、反射においてより強くなり得る。角度色は、反射において、入射照明角度によるスペクトル反射率振動のシフトにより、視野角と共にシフトする。視野角による透過における角度色シフトもまた、入射照明角度によるスペクトル透過率振動の同一のシフトによるものである。入射照明角度による観察される色及び角度色シフトは、特に蛍光照明及び一部のＬＥＤ照明等の鋭いスペクトル特徴を有する照明下において、デバイスのユーザにとって、気が散る原因となる、又は不快なものとなることが多い。透過における角度色シフトはまた、反射における色シフトの因子としても作用する場合があり、その逆もあり得る。透過及び／又は反射における角度色シフトの因子としては、視野角による角度色シフト、又は特定の光源又は試験システムによって定義される（角度とはある程度独立した）材料の吸収によって引き起こされ得る特定の白色点から離れる角度色シフトも挙げられる。

上記振動は、振幅に関して説明できる。本明細書中で使用される場合、「振幅（ａｍｐｌｉｔｕｄｅ）」は、反射率又は透過率の最大値‐最小値間変化を含む。句「平均振幅（ａｖｅｒａｇｅ ａｍｐｌｉｔｕｄｅ）」は、複数の振動サイクル、又は光波長領域の波長部分範囲に亘って平均された、反射率又は透過率の最大値‐最小値間変化を含む。本明細書中で使用される場合、「光波長領域（ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ ｒａｎｇｅ）」は、約４００ｎｍ〜約８００ｎｍ（及び更に具体的には約４５０ｎｍ〜約６５０ｎｍ）の波長範囲を含む。

本開示の実施形態は、異なる複数の光源下で垂直入射からの入射照明角度を変化させて観察した場合に、無色性及び／又はより小さい角度色シフトという点で、光学的特性の改善を提供するための、反射防止コーティングを含む。

本開示の一態様は、ある光源下で異なる複数の入射照明角度において観察した場合であっても、反射率及び／又は透過率の無色性を呈する物品に関係する。１つ以上の実施形態では、上記物品は、基準照明角度と、本明細書で提供される範囲内のいずれの入射照明角度との間で、約５以下又は約２以下の反射率及び／又は透過率の角度色シフトを呈する。本明細書中で使用される場合、句「色シフト（ｃｏｌｏｒ ｓｈｉｆｔ）」（角度又は基準点）は、反射率及び／又は透過率の、ＣＩＥ Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊測色におけるａ＊及びｂ＊両方の変化を指す。なお、そうでないことが注記されていない限り、本明細書に記載の物品のＬ＊座標は、いずれの角度又は基準点において同一であり、色シフトに影響を及ぼさない。例えば角度色シフトは、以下の式（１）：
（１） √（（ａ＊_２‐ａ＊_１）^２＋（ｂ＊_２‐ｂ＊_１）^２）、
を用いて決定でき、ここでａ＊_１及びｂ＊_１は、入射基準照明角度（垂直入射を含んでよい）において観察した場合の上記物品のａ＊及びｂ＊座標を表し、ａ＊_２及びｂ＊_２は、ある入射照明角度において観察した場合の上記物品のａ＊及びｂ＊座標を表し、上記入射照明角度は上記基準照明角度とは異なるものとし、場合によっては上記基準照明角度と少なくとも約１°、２°又は約５°だけ異なるものとする。いくつかの例では、ある光源下において基準照明角度からの様々な入射照明角度で観察した場合、上記物品は、約１０以下（例えば５以下、４以下、３以下又は２以下）の、反射率及び／又は透過率の角度色シフトを呈する。いくつかの例では、反射率及び／又は透過率の角度色シフトは、約１．９以下、１．８以下、１．７以下、１．６以下、１．５以下、１．４以下、１．３以下、１．２以下、１．１以下、１以下、０．９以下、０．８以下、０．７以下、０．６以下、０．５以下、０．４以下、０．３以下、０．２以下又は０．１以下である。いくつかの実施形態では、角度色シフトは約０であってよい。光源は、ＣＩＥによって決定される標準的な光源を含むことができ、これはＡ光源（タングステンフィラメント照明を表す）、Ｂ光源（日光シミュレート光源）、Ｃ光源（日光シミュレート光源）、Ｄシリーズ光源（自然日光を表す）、及びＦシリーズ光源（様々なタイプの蛍光照明を表す）を含む。具体例では、上記物品は、ＣＩＥ Ｆ２、Ｆ１０、Ｆ１１、Ｆ１２若しくはＤ６５光源下、又は更に具体的にはＣＩＥ Ｆ２光源下において、基準照明角度からの入射照明角度で観察した場合に、約２以下の反射率及び／又は透過率の角度色シフトを呈する。

基準照明角度は、垂直入射（即ち約０°〜約１０°）、又は垂直入射から５°、垂直入射から１０°、垂直入射から１５°、垂直入射から２０°、垂直入射から２５°、垂直入射から３０°、垂直入射から３５°、垂直入射から４０°、垂直入射から５０°、垂直入射から５５°、垂直入射から６０°を含んでよく、ここで入射照明角度と基準照明角度との間の差は、少なくとも約１°、２°又は約５°であるものとする。入射照明角度は、基準照明角度に対して、基準照明角度から約５°〜約８０°、約５°〜約７０°、約５°〜約６５°、約５°〜約６０°、約５°〜約５５°、約５°〜約５０°、約５°〜約４５°、約５°〜約４０°、約５°〜約３５°、約５°〜約３０°、約５°〜約２５°、約５°〜約２０°、約５°〜約１５°、並びにこれらの間の全ての範囲及び部分範囲だけ離れてよい。上記物品は、基準照明角度が垂直入射である場合、約２°〜約８０°（又は約１０°〜約８０°若しくは約２０°〜約８０°）の範囲内の全ての入射照明角度において及びこれに沿って、本明細書に記載の反射率及び／又は透過率の角度色シフトを呈し得る。いくつかの実施形態では、上記物品は、入射照明角度と基準照明角度との差が少なくとも約１°、２°又は約５°である場合、約２°〜約８０°（又は約１０°〜約８０°若しくは約２０°〜約８０°）の範囲内の全ての入射照明角度において及びこれに沿って、本明細書に記載の反射率及び／又は透過率の角度色シフトを呈し得る。一例では、上記物品は、垂直入射に等しい基準照明角度から約２°〜約６０°、約５°〜約６０°、又は約１０°〜約６０°だけ離れるいずれの入射照明角度において、５以下（例えば４以下、３以下又は約２以下）の反射率及び／又は透過率の角度色シフトを呈し得る。他の例では、上記物品は、基準照明角度が１０°であり、入射照明角度が基準照明角度から約１２°〜約６０°、約１５°〜約６０°又は約２０°〜約６０°だけ離れるいずれの角度である場合に、５以下（例えば４以下、３以下又は約２以下）の反射率及び／又は透過率の角度色シフトを呈し得る。

いくつかの実施形態では、角度色シフトは、基準照明角度（例えば垂直入射）と、約２０°〜約８０°である入射照明角度との間のあらゆる角度において測定してよい。換言すれば、角度色シフトは、約０°〜２０°、約０°〜約３０°、約０°〜約４０°、約０°〜約５０°、約０°〜約６０°又は約０°〜約８０°の範囲内のあらゆる角度において測定でき、約５未満又は約２未満となり得る。

１つ以上の実施形態では、上記物品は、ある光源（これはＣＩＥによって決定される標準的な光源を含むことができ、これはＡ光源（タングステンフィラメント照明を表す）、Ｂ光源（日光シミュレート光源）、Ｃ光源（日光シミュレート光源）、Ｄシリーズ光源（自然日光を表す）、及びＦシリーズ光源（様々なタイプの蛍光照明を表す）を含む）下で、基準点からの透過色又は反射率座標の間の距離又は基準点色シフトが約５未満又は約２未満となるように、反射率及び／又は透過率において、ＣＩＥ Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊測色系における色シフトを呈する。具体例では、上記物品は、ＣＩＥ Ｆ２、Ｆ１０、Ｆ１１、Ｆ１２若しくはＤ６５光源下において、又は更に具体的にはＣＩＥ Ｆ２光源下において、基準照明角度からの入射照明角度において観察した場合に、約２以下の反射率及び／又は透過率における色シフトを呈する。換言すれば、上記物品は、本明細書中で定義される基準点から約２未満の基準点色シフトを有する、反射防止表面１２２において測定された透過色（若しくは透過色座標）及び／又は反射色（若しくは反射色座標）を呈し得る。そうでないことが注記されていない限り、透過色又は透過色座標は、反射防止表面１２２と、反対側の剥き出しの表面（即ち１１４）とを含む物品の２つの表面上で測定される。そうでないことが注記されていない限り、反射色又は反射色座標は、物品の反射防止表面１２２のみにおいて測定される。しかしながら、本明細書に記載の反射色又は反射色座標は、２表面測定（物品の２つの側面からの反射をいずれも含む）又は１表面測定（物品の反射防止表面１２２からの反射のみを測定する）を用いて、物品の反射防止表面１２２及び物品の反対側（即ち図１の大表面１１４）の両方で測定できる。これらのうち、１表面反射率測定は典型的には、反射防止コーティングに関して弱い色又は低い色シフト値を達成するためのより魅力的な計量であり、これは物品の裏面を黒色インク等の光吸収媒体又はＬＣＤ若しくはＯＬＥＤデバイスに結合させる用途（スマートフォン等）に対して妥当である。

１つ以上の実施形態では、上記基準点は、ＣＩＥ Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊測色系の原点（０，０）（若しくは色座標ａ＊＝０、ｂ＊＝０）、座標（ａ＊＝‐２，ｂ＊＝‐２）、又は基板の透過率若しくは反射色座標であってよい。なお、そうでないことが注記されていない限り、本明細書に記載の物品のＬ＊座標は、上記基準点と同一であり、色シフトに影響を及ぼさない。物品の基準点色シフトが基板に対して定義されている場合、物品の透過色座標を基板の透過色座標と比較し、物品の反射色座標を基板の反射色座標と比較する。

１つ以上の具体的な実施形態では、透過色及び／又は反射色の基準点色シフトは、１未満、又は０．５未満でさえあってよい。１つ以上の具体例な実施形態では、透過色及び／又は反射色に関する基準点色シフトは、１．８、１．６、１．４、１．２、０．８、０．６、０．４、０．２、０並びにこれらの間の全ての範囲及び部分範囲であってよい。基準点が色座標ａ＊＝０、ｂ＊＝０である場合、基準点色シフトは式（２）：
（２） 基準点色シフト＝√（（ａ＊_物品）^２＋（ｂ＊_物品）^２）
によって算出される。

基準点が色座標ａ＊＝‐２、ｂ＊＝‐２である場合、基準点色シフトは式（３）：
（３） 基準点色シフト＝√（（ａ＊_物品＋２）^２＋（ｂ＊_物品＋２）^２）
によって算出される。基準点が基板の色座標である場合、基準点色シフトは式（４）：
（４） 基準点色シフト＝√（（ａ＊_物品‐ａ＊_基板）^２＋（ｂ＊_物品‐ｂ＊_基板）^２）
によって算出される。

いくつかの実施形態では、物品は、基準点が基板の色座標、色座標ａ＊＝０、ｂ＊＝０及び座標ａ＊＝‐２、ｂ＊＝‐２のうちのいずれか１つである場合に基準点色シフトが２未満となるような、透過色（又は透過色座標）及び反射色（又は反射色座標）を呈してよい。

１つ以上の実施形態では、物品は、約０〜約６０°（又は約０°〜約４０°若しくは約０°〜約３０°）の範囲内のあらゆる入射照明角度で、ＣＩＥ Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊測色系において、（反射防止表面のみにおいて測定された）約‐５〜約１、約‐５〜約０、約‐４〜約１又は約‐４〜約０の反射におけるａｂ＊値を呈してよい。

１つ以上の実施形態では、物品は、物品は、約０〜約６０°（又は約０°〜約４０°若しくは約０°〜約３０°）の範囲内のあらゆる入射照明角度で、ＣＩＥ Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊測色系において、（物品の反射防止表面及び反対側の剥き出しの表面において測定された）約２未満（又は約１．８以下、約１．６以下、１．５以下、１．４以下、１．２以下若しくは約１以下）の透過におけるａｂ＊値を呈してよい。透過におけるｂ＊値の下限は約‐５であってよい。

いくつかの実施形態では、物品は、光源Ｄ６５、Ａ及びＦ２下において、約０°〜約６０°の入射照明角度で、約‐１．５〜約１．５（例えば‐１．５〜‐１．２、‐１．５〜‐１、‐１．２〜１．２、‐１〜１、‐１〜０．５又は‐１〜０）の、（反射防止表面及び反対側の剥き出しの表面における）透過におけるａ＊値を呈する。いくつかの実施形態では、物品は、光源Ｄ６５、Ａ及びＦ２下において、約０°〜約６０°の入射照明角度で、約‐１．５〜約１．５（例えば‐１．５〜‐１．２、‐１．５〜‐１、‐１．２〜１．２、‐１〜１、‐１〜０．５又は‐１〜０）の、（反射防止表面及び反対側の剥き出しの表面における）透過におけるａｂ＊値を呈する。

いくつかの実施形態では、物品は、光源Ｄ６５、Ａ及びＦ２下において、約０°〜約６０°の入射照明角度で、約‐５〜約２（例えば‐４．５〜１．５、‐３〜０、‐２．５〜０．２５）の、（反射防止表面のみにおける）反射におけるａ＊値を呈する。いくつかの実施形態では、物品は、光源Ｄ６５、Ａ及びＦ２下において、約０°〜約６０°の入射照明角度で、約‐７〜約０の、（反射防止表面のみにおける）透過におけるａｂ＊値を呈する。

１つ以上の実施形態の物品、又は１つ以上の物品の反射防止表面１２２は、約４００ｎｍ〜約８００ｎｍの光波長領域に亘って、約９５％以上（例えば約９．５％以上、約９６％以上、約９６．５％以上、約９７％以上、約９７．５％以上、約９８％以上、約９８．５％以上又は約９９％以上）の平均光線透過率を呈してよい。いくつかの実施形態では、物品、又は１つ以上の物品の反射防止表面１２２は、約４００ｎｍ〜約８００ｎｍの光波長領域に亘って、約２％以下（例えば約１．５％以下、約１％以下、約０．７５％以下、約０．５％以下又は約０．２５％以下）の平均光線反射率を呈してよい。これらの光線透過率及び光線反射率値は、光波長領域全体に亘って、又は光波長領域の選択された範囲（例えば上記光波長領域内の１００ｎｍ波長範囲、１５０ｎｍ波長範囲、２００ｎｍ波長範囲、２５０ｎｍ波長範囲、２８０ｎｍ波長範囲若しくは３００ｎｍ波長範囲）に亘って、観察され得る。いくつかの実施形態では、これらの光線反射率及び透過率値は、（反射防止表面１２２及び反対側の大表面１１４両方における反射率若しくは透過率を考慮した）合計反射率若しくは合計透過率であってよく、又は（反対側の表面を考慮せずに）反射防止表面１２２のみにおいて測定されるものとして、物品の単一側面において観察されてよい。そうでないことが明記されていない限り、平均反射率又は透過率は、約０°〜約１０°の入射照明角度で測定される（しかしながら、このような測定を、４５°又は６０°の入射照明角度において提供してよい）。

いくつかの実施形態では、１つ以上の実施形態の物品、又は１つ以上の物品の反射防止表面１２２は、光波長領域に亘って、約１％以下、約０．７％以下、約０．５％以下又は約０．４５％以下の平均可視明所視反射率を呈してよい。これらの明所視反射率値は、約０°〜約２０°、約０°〜約４０°又は約０°〜約６０°の入射照明角度で呈され得る。本明細書中で使用される場合、「明所視反射率（ｐｈｏｔｏｐｉｃ ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ）」は、ヒトの眼の感度に従って波長スペクトルに対して反射率を重み付けすることにより、ヒトの眼の応答を模倣する。明所視反射率はまた、ＣＩＥ色空間の慣習等の公知の慣習に従って、反射光の輝度値又は三刺激Ｙ値として定義してもよい。平均明所視反射率は、眼のスペクトル応答に関連して、式（５）においてスペクトル反射率Ｒ（λ）×光源スペクトルＩ（λ）×ＣＩＥ色適合関数

として定義される：

いくつかの実施形態では、物品は、反射防止表面のみにおいて垂直の入射又は垂直付近の入射（例えば０〜１０°）で測定された、約１０％未満の単一側面平均明所視反射率を呈する。いくつかの実施形態では、単一側面平均明所視反射率は、約９％以下、約８％以下、約７％以下、約６％以下、約５％以下、約４％以下、約３％、又は約２％以下である。ある具体的な実施形態では、１つ以上の物品の反射防止表面１２２は（即ち単一側面測定によって反射防止表面のみを測定する場合）、上述の平均明所視反射率値を呈してよく、その一方で同時に、Ｄ６５光源及び／又はＦ２光源を用いて、約５°〜約６０°の入射照明角度全体に亘って、約５．０未満、約４．０未満、約３．０未満、約２．０未満、約１．５未満又は約１．２５未満の最大反射色シフトを呈する（基準照明角度は垂直入射である）。これらの最大反射色シフト値は、垂直入射から約５°〜約６０°のいずれの角度で測定した最低色点値を、同一範囲のいずれの角度で測定した最高色点値から減算したものを表す。この値は、ａ＊値の最大変化（ａ＊_最高‐ａ＊_最低）、ｂ＊値の最大変化（ｂ＊_最高‐ｂ＊_最低）、ａ＊及びｂ＊値の最大変化、又は量√（（ａ＊_最高‐ａ＊_最低）^２＋（ｂ＊_最高‐ｂ＊_最低）^２）の最大変化を表し得る。

基板
基板１１０は、無機材料を含んでよく、また非晶質基板、結晶質基板又はこれらの組み合わせを含んでよい。基板１１０は、人工材料並びに／又は天然材料（例えば石英及びポリマー）から形成してよい。例えば、いくつかの例では、基板１１０は、無機質であることを特徴としてよく、また具体的にはポリマー性であることを特徴としてよい。好適なポリマーの実施例としては、限定するものではないが：ポリスチレン（ＰＳ）（スチレンコポリマー及び混合物を含む）、ポリカーボネート（ＰＣ）（コポリマー及び混合物を含む）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンテレフタレートコポリマーといったコポリマー及び混合物を含む）、ポリオレフィン（ＰＯ）、並びにシクロポリオレフィン（環状ＰＯ）を含む、熱可塑性プラスチック；ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）；ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）（コポリマー及び混合物を含む）を含むアクリルポリマー；熱可塑性ウレタン（ＴＰＵ）；ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）；並びにこれらのポリマーの混合物が挙げられる。他の例示的なポリマーとしては、エポキシ、スチレン、フェノール、メラミン及びシリコーン樹脂が挙げられる。

いくつかの具体的な実施形態では、基板１１０は、特にポリマー、プラスチック及び／又は金属基板を含まなくてよい。上記基板は、アルカリ含有基板であることを特徴としてよい（即ち上記基板は１つ以上のアルカリを含む）。１つ以上の実施形態では、上記基板は、約１．４５〜約１．５５の屈折率を呈する。具体的な実施形態では、基板１１０は、少なくとも５、少なくとも１０、少なくとも１５又は少なくとも２０個の試料を用いたボール・オン・リング試験を用いて測定した場合に、０．５％以上、０．６％以上、０．７％以上、０．８％以上、０．９％以上、１％以上、１．１％以上、１．２％以上、１．３％以上、１．４％以上１．５％以上又は２％以上でさえある、１つ以上の対向する大表面上のある表面における平均破損歪みを呈してよい。具体的な実施形態では、基板１１０は、約１．２％、約１．４％、約１．６％、約１．８％、約２．２％、約２．４％、約２．６％、約２．８％又は約３％以上の、１つ以上の対向する大表面上のその表面における平均破損歪みを呈してよい。

好適な基板１１０は、約３０ＧＰａ〜約１２０ＧＰａの弾性率（又はヤング率）を呈してよい。いくつかの例では、基板の弾性率は、約３０ＧＰａ〜約１１０ＧＰａ、約３０ＧＰａ〜約１００ＧＰａ、約３０ＧＰａ〜約９０ＧＰａ、約３０ＧＰａ〜約８０ＧＰａ、約３０ＧＰａ〜約７０ＧＰａ、約４０ＧＰａ〜約１２０ＧＰａ、約５０ＧＰａ〜約１２０ＧＰａ、約６０ＧＰａ〜約１２０ＧＰａ、約７０ＧＰａ〜約１２０ＧＰａ、並びにこれらの間の全ての範囲及び部分範囲であってよい。

１つ以上の実施形態では、非晶質基板はガラスを含んでよく、これは強化されていてもいなくてもよい。好適なガラスの例としては、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラス、及びアルカリアルミノホウケイ酸ガラスが挙げられる。いくつかの変形例では、ガラスは酸化リチウムを含まなくてよい。１つ以上の代替実施形態では、基板１１０は、（強化されていてもいなくてもよい）ガラスセラミック基板といった結晶質基板を含んでよく、又はサファイアといった単結晶構造を含んでよい。１つ以上の具体的な実施形態では、基板１１０は、非晶質基材（例えばガラス）並びに結晶質クラッド（例えばサファイア層、多結晶アルミナ層及び／又はスピネル（ＭｇＡｌ_２Ｏ_４）層）を含む。

１つ以上の実施形態の基板１１０は、（本明細書に記載のバーコビッチ圧子硬度試験で測定した場合に）物品の硬度より低い硬度を有してよい。基板の硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験又はビッカース硬度試験を含むがこれらに限定されない、当該技術分野において公知の方法を用いて測定してよい。

基板１１０は、略平坦であるか又はシート状であってよいが、他の実施形態は、湾曲した、又は他の形状に成形若しくは彫刻された基板を利用してよい。基板１１０は実質的に、光学的に透明であり、透過性であり、光散乱を発生させないものであってよい。このような実施形態では、基板は、約８５％以上、約８６％以上、約８７％以上、約８８％以上、約８９％以上、約９０％以上、約９１％以上又は約９２％以上の、光波長領域に亘る平均光透過率を呈してよい。１つ以上の代替実施形態では、基板１１０は不透明であってよく、又は約１０％未満、約９％未満、約８％未満、約７％未満、約６％未満、約５％未満、約４％未満、約３％未満、約２％未満、約１％未満若しくは約０％未満の、光波長領域に亘る平均光透過率を呈してよい。いくつかの実施形態では、これらの光線反射率及び透過率値は、（基板の両方の大表面における反射率若しくは透過率を考慮した）合計反射率若しくは合計透過率であってよく、又は基板の単一側面において（即ち反対側の表面を考慮せず、反射防止表面１２２のみにおいて）観察されるものであってよい。そうでないことが明記されていない限り、平均反射率又は透過率は、０°の入射照明角度において測定される（しかしながら、このような測定を４５°又は６０°の入射照明角度において提供してもよい）。基板１１０は任意に、白色、黒色、赤色、青色、緑色、黄色、橙色等といった色を呈してよい。

更に、又はあるいは、基板１１０の物理的厚さは、審美的及び／又は機能的な理由により、その寸法のうちの１つ以上に沿って変化してよい。例えば、基板１１０の縁部は、基板１１０の比較的中央の領域に比べて厚くてよい。基板１１０の長さ、幅及び物理的厚さ寸法もまた、物品１００の用途又は使用に応じて変化させてよい。

基板１１０は、多様な異なる複数のプロセスを用いて提供できる。例えば基板１１０がガラス等の非晶質基板を含む場合、様々な形成方法として、フロートガラスプロセス、並びにフュージョンドロー及びスロットドロー等のダウンドロープロセスが挙げられる。

形成後、基板１１０を強化して、強化基板を形成してよい。本明細書中で使用される場合、用語「強化基板（ｓｔｒｅｎｇｔｈｅｎｅｄ ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）」は、例えば基板の表面の比較的小さなイオンを比較的大きなイオンでイオン交換することによって、化学強化された基板を指してよい。しかしながら、熱強化、又は基板の複数の部分間の熱膨張係数の不一致を利用して圧縮応力領域及び中央張力領域を生成するステップといった、当該技術分野において公知の他の強化方法を利用して、強化基板を形成してもよい。

イオン交換プロセスで基板を化学強化する場合、基板の表面層のイオンは、同一価又は酸化状態の、より大きなイオンで置換（即ち交換）される。イオン交換プロセスは典型的には、基板中の比較的小さなイオンと交換されることになる比較的大きなイオンを含有する溶融塩浴に基板を浸漬することによって実行される。浴の組成及び温度；浸漬時間；塩浴（又は複数の塩浴）中の基板の浸漬数；複数の塩浴の使用；アニーリングや洗浄といった追加のステップを含むがこれらに限定されない、イオン交換プロセスに関するパラメータは、一般に、
基板の組成及び所望の圧縮応力（ＣＳ）、強化作業によって得られる基板の圧縮応力層の深さ（又は層深さ）によって決定されることは、当業者には理解されるだろう。例えばアルカリ金属含有ガラス基板のイオン交換は、限定するものではないが、比較的大きなアルカリ金属イオンの硝酸塩、硫酸塩及び塩化物といった塩を含有する、少なくとも１つの溶融浴中での浸漬によって達成できる。溶融塩浴の温度は典型的には約３８０℃〜最大約４５０℃であり、その一方で浸漬時間は約１５分〜最大約４０時間である。しかしながら、上述のものとは異なる温度及び浸漬時間も使用してよい。

更に、ガラス基板を、浸漬と浸漬の間に洗浄及び／又はアニーリングステップを伴って、複数のイオン交換浴に浸漬させるイオン交換プロセスの非限定的な例は：２００８年７月１１日出願の米国仮特許出願第６１／０７９，９９５号明細書からの優先権を主張する、Ｄｏｕｇｌａｓ Ｃ． Ａｌｌａｎ ｅｔ ａｌ．による２００９年７月１０日出願の米国特許出願第１２／５００，６５０号明細書「Ｇｌａｓｓ ｗｉｔｈ Ｃｏｍｐｒｅｓｓｉｖｅ Ｓｕｒｆａｃｅ ｆｏｒ Ｃｏｎｓｕｍｅｒ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ」（ここではガラス基板は、濃度が異なる複数の塩浴中での複数回の連続したイオン交換処理における浸漬によって強化される）；及び２００８年７月２９日出願の米国仮特許出願第６１／０８４，３９８号明細書からの優先権を主張する、Ｃｈｒｉｓｔｏｐｈｅｒ Ｍ． Ｌｅｅ ｅｔ ａｌ．による２０１２年１１月２０日出願の米国特許第８，３１２，７３９号明細書「Ｄｕａｌ Ｓｔａｇｅ Ｉｏｎ Ｅｘｃｈａｎｇｅ ｆｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｔｒｅｎｇｔｈｅｎｉｎｇ ｏｆ Ｇｌａｓｓ」（ここではガラス基板は、流出イオンで希釈された第１の浴中でのイオン交換と、それに続く、第１の浴より低濃度の流出イオンを含む第２の浴中での浸漬とによって強化される）に記載されている。米国特許出願第１２／５００，６５０号明細書、及び米国特許第８，３１２，７３９号明細書の内容は、参照によりその全体が本出願に援用される。

イオン交換によって達成される化学強化の程度は、中央張力（ＣＴ）、表面ＣＳ及び層深さ（ＤＯＬ）のパラメータに基づいて定量化できる。表面ＣＳは、表面付近、又は強化ガラス内の様々な深さにおいて測定してよい。最大ＣＳ値は、強化基板の表面において測定されるＣＳ（ＣＳ_ｓ）を含んでよい。ＣＴ（これはガラス基板内の圧縮応力層に隣接する内部領域に関して計算される）は、ＣＳ、物理的厚さｔ及びＤＯＬから算出できる。ＣＳ及びＤＯＬは、当該技術分野において公知の手段を用いて測定される。このような手段としては、株式会社ルケオ（東京、日本）製のＦＳＭ‐６０００といった市販の機器を用いた表面応力の測定（ＦＳＭ）が挙げられるが、これらに限定されず、またＣＳ及びＤＯＬの測定方法は、ＡＳＴＭ １４２２Ｃ‐９９「Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｓｐｅｃｉｆｉｃａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌｌｙ Ｓｔｒｅｎｇｔｈｅｎｅｄ Ｆｌａｔ Ｇｌａｓｓ」及びＡＳＴＭ １２７９．１９７７９ 「Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｔｅｓｔ Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｎｏｎ‐Ｄｅｓｔｒｕｃｔｉｖｅ Ｐｈｏｔｏｅｌａｓｔｉｃ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ ｏｆ Ｅｄｇｅ ａｎｄ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｓｔｒｅｓｓｅｓ ｉｎ Ａｎｎｅａｌｅｄ、Ｈｅａｔ‐Ｓｔｒｅｎｇｔｈｅｎｅｄ、ａｎｄ Ｆｕｌｌｙ‐Ｔｅｍｐｅｒｅｄ Ｆｌａｔ Ｇｌａｓｓ」（これらの内容は参照によりその全体が本出願に援用される）に記載されている。表面応力測定は、応力光計数 （ＳＯＣ）の正確な測定に依存し、これはガラス基板の複屈折に関連する。ＳＯＣは、ファイバ及び４点屈曲法（これらは共にＡＳＴＭ規格Ｃ７７０‐９８（２００８）、「Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｔｅｓｔ Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ ｏｆ Ｇｌａｓｓ Ｓｔｒｅｓｓ‐Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔ」に記載されており、その内容は参照により本出願に援用される）、並びにバルクシリンダ法といった、当該技術分野において公知の方法で測定される。ＣＳとＣＴとの間の関係は、以下の式（１）：
ＣＴ＝（ＣＳ・ＤＯＬ）／（ｔ‐２ＤＯＬ） （１）
によって与えられ、ここでｔは、ガラス物品の物理的厚さ（μｍ）である。本開示の様々なセクションにおいて、ＣＴ及びＣＳはメガパスカル（ＭＰａ）で表され、物理的厚さｔは、マイクロメートル（μｍ）又はミリメートル（ｍｍ）で表され、ＤＯＬはマイクロメートル（μｍ）で表される。

一実施形態では、強化基板１１０は、２５０ＭＰａ以上、３００ＭＰａ以上、例えば４００ＭＰａ以上、４５０ＭＰａ以上、５００ＭＰａ以上、５５０ＭＰａ以上、６００ＭＰａ以上、６５０ＭＰａ以上、７００ＭＰａ以上、７５０ＭＰａ以上又は８００ＭＰａ以上の表面ＣＳを有することができる。強化基板は、１０μｍ以上、１５μｍ以上、２０μｍ以上（例えば２５μｍ、３０μｍ、３５μｍ、４０μｍ、４５μｍ、５０μｍ以上）のＤＯＬ、及び／又は１０ＭＰａ以上、２０ＭＰａ以上、３０ＭＰａ以上、４０ＭＰａ以上（例えば４２ＭＰａ、４５ＭＰａ若しくは５０ＭＰａ以上）、ただし１００ＭＰａ未満（例えば９５、９０、８５、８０、７５、７０、６５、６０、５５ＭＰａ以下）のＣＴを有してよい。１つ以上の具体的な実施形態では、強化基板は以下のうちの１つ以上を有する：５００ＭＰａ超の表面ＣＳ、１５μｍ超のＤＯＬ及び１８ＭＰａ超のＣＴ。

基板に使用してよい例示的なガラスは、アルカリアルミノケイ酸ガラス組成物又はアルカリホウケイ酸ガラス組成物を含んでよいが、他のガラス組成物も考えられる。このようなガラス組成物は、イオン交換プロセスによって化学強化できる。ある例示的なガラス組成物は、ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３及びＮａ_２Ｏを含み、（ＳｉＯ_２＋Ｂ_２Ｏ_３）≧６６モル％及びＮａ_２Ｏ≧９モル％である。ある実施形態では、このガラス組成物は、少なくとも６重量％の酸化アルミニウムを含む。更なる実施形態では、基板は、１つ以上のアルカリ土類酸化物を、このアルカリ土類酸化物の含有量が少なくとも５重量％となるように有する、ガラス組成物を含む。いくつかの実施形態では、好適なガラス組成物は更に、Ｋ_２Ｏ、ＭｇＯ及びＣａＯのうちの少なくとも１つを含む。ある特定の実施形態では、基板に使用されるガラス組成物は、６１〜７５モル％のＳｉＯ２；７〜１５モル％のＡｌ_２Ｏ_３；０〜１２モル％のＢ_２Ｏ_３；９〜２１モル％のＮａ_２Ｏ；０〜４モル％のＫ_２Ｏ；０〜７モル％のＭｇＯ；及び０〜３モル％のＣａＯを含むことができる。

基板に好適な更なる例示的なガラス組成物は：６０〜７０モル％のＳｉＯ_２；６〜１４モル％のＡｌ_２Ｏ_３；０〜１５モル％のＢ_２Ｏ_３；０〜１５モル％のＬｉ_２Ｏ；０〜２０モル％のＮａ_２Ｏ；０〜１０モル％のＫ_２Ｏ；０〜８モル％のＭｇＯ；０〜１０モル％のＣａＯ；０〜５モル％のＺｒＯ_２；０〜１モル％のＳｎＯ_２；０〜１モル％のＣｅＯ_２；５０ｐｐｍ未満のＡｓ_２Ｏ_３；及び５０ｐｐｍ未満のＳｂ_２Ｏ_３を含み、１２モル％≦（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）≦２０モル％、及び０モル％≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）≦１０モル％である。

基板に好適な、また更なる例示的なガラス組成物は：６３．５〜６６．５モル％のＳｉＯ_２；８〜１２モル％のＡｌ_２Ｏ_３；０〜３モル％のＢ_２Ｏ_３；０〜５モル％のＬｉ_２Ｏ；８〜１８モル％のＮａ_２Ｏ；０〜５モル％のＫ_２Ｏ；１〜７モル％のＭｇＯ；０〜２．５モル％のＣａＯ；０〜３モル％のＺｒＯ_２；０．０５〜０．２５モル％のＳｎＯ_２；０．０５〜０．５モル％のＣｅＯ_２；５０ｐｐｍ未満のＡｓ_２Ｏ_３；及び５０ｐｐｍ未満のＳｂ_２Ｏ_３を含み、１４モル％≦（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）≦１８モル％、及び２モル％の≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）≦７モル％である。

ある特定の実施形態では、基板に好適なアルカリアルミノケイ酸ガラス組成物は、アルミナ、少なくとも１つのアルカリ金属、並びにいくつかの実施形態では、５０モル％超のＳｉＯ_２、他の実施形態では少なくとも５８モル％のＳｉＯ_２、及び更に他の実施形態少なくとも６０モル％のＳｉＯ_２を含み、比（Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３）／Σ改質剤（即ち改質剤の合計）は１超であり、この比において、組成物はモル％で表され、改質剤はアルカリ金属酸化物である。特定の実施形態では、このガラス組成物は：５８〜７２モル％のＳｉＯ_２；９〜１７モル％のＡｌ_２Ｏ_３；２〜１２モル％のＢ_２Ｏ_３；８〜１６モル％のＮａ_２Ｏ；及び０〜４モル％のＫ_２Ｏを含み、（Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３）／Σ改質剤（即ち改質剤の合計）の比は１超である。

更に別の実施形態では、基板は：６４〜６８モル％のＳｉＯ_２；１２〜１６モル％のＮａ_２Ｏ；８〜１２モル％のＡｌ_２Ｏ_３；０〜３モル％のＢ_２Ｏ_３；２〜５モル％のＫ_２Ｏ；４〜６モル％のＭｇＯ；及び０〜５モル％のＣａＯを含むアルカリアルミノケイ酸ガラス組成物を含んでよく、ここで：６６モル％≦ＳｉＯ_２＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＣａＯ≦６９モル％；Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＞１０モル％；５モル％≦ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ≦８モル％；（Ｎａ_２Ｏ＋Ｂ_２Ｏ_３）‐Ａｌ_２Ｏ_３≦２モル％；２モル％≦Ｎａ_２Ｏ‐Ａｌ_２Ｏ_３≦６モル％；及び４モル％≦（Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）‐Ａｌ_２Ｏ_３≦１０モル％である。

ある代替実施形態では、基板は：２モル％以上のＡｌ_２Ｏ_３及び／若しくはＺｒＯ_２、又は４モル％以上のＡｌ_２Ｏ_３及び／若しくはＺｒＯ_２を含む、アルカリアルミノケイ酸ガラス組成物を含んでよい。

基板１１０が結晶質基板を含む場合、この基板は単結晶を含んでよく、上記単結晶はＡｌ_２Ｏ_３を含んでよい。この単結晶基板はサファイアと呼ばれる。結晶質基板のための他の好適な材料は、多結晶質アルミナ層及び／又はスピネル（ＭｇＡｌ_２Ｏ_４）を含む。

任意に、結晶質基板１１０はガラスセラミック基板を含んでよく、これは強化されていてもいなくてもよい。好適なガラスセラミックの例としては、Ｌｉ_２Ｏ‐Ａｌ_２Ｏ_３‐ＳｉＯ_２系（即ちＬＡＳ系）ガラスセラミック、ＭｇＯ‐Ａｌ_２Ｏ_３‐ＳｉＯ_２系（即ちＭＡＳ系）ガラスセラミック、並びに／又はβ石英固溶体、βスポジュメンｓｓ、コーディエライト及び二ケイ酸リチウムを含む主要な結晶相を含むガラスセラミックが挙げられる。ガラスセラミック基板は、本明細書で開示されている化学強化プロセスを用いて強化してよい。１つ以上の実施形態では、ＭＡＳ系ガラスセラミック基板は、Ｌｉ_２ＳＯ_４溶融塩中で強化してよく、これにより２Ｌｉ^＋によるＭｇ^２＋の交換を発生させることができる。

１つ以上の実施形態による基板１１０は、約１００μｍ〜約５ｍｍの物理的厚さを有することができる。例示的な基板１１０の物理的厚さは、約１００μｍ〜約５００μｍ（例えば１００、２００、３００、４００又は５００μｍ）である。更なる例示的な基板１１０の物理的厚さは、約５００μｍ〜約１０００μｍ（例えば５００、６００、７００、８００、９００又は１０００μｍ）である。基板１１０は、約１ｍｍ超（例えば約２、３、４又は５ｍｍ）の物理的厚さを有してよい。１つ以上の具体的な実施形態では、基板１１０は、２ｍｍ以下又は１ｍｍ未満の物理的厚さを有してよい。基板１１０は、酸研磨又は他の方法で処置してよく、これにより表面のきずの影響を除去又は低減できる。

反射防止コーティング
図１に示すように、反射防止コーティング１３０は、複数の層を、１つ以上の層が基板１１０の反射防止コーティング１３０とは反対側の側面上（即ち大表面１１４上）に配置できる（図１に示されている）ように、含んでよい。

大表面１１４上に配置された反射防止コーティング１３０の物理的厚さは、約０．１μｍ〜約５μｍであってよい。いくつかの例では、大表面１１４上に配置された反射防止コーティング１３０の物理的厚さは、約０．０１μｍ〜約０．９μｍ、約０．０１μｍ〜約０．８μｍ、約０．０１μｍ〜約０．７μｍ、約０．０１μｍ〜約０．６μｍ、約０．０１μｍ〜約０．５μｍ、約０．０１μｍ〜約０．４μｍ、約０．０１μｍ〜約０．３μｍ、約０．０１μｍ〜約０．２μｍ、約０．０１μｍ〜約０．１μｍ、約０．０２μｍ〜約１μｍ、約０．０３μｍ〜約１μｍ、約０．０４μｍ〜約１μｍ、約０．０５μｍ〜約１μｍ、約０．０６μｍ〜約１μｍ、約０．０７μｍ〜約１μｍ、約０．０８μｍ〜約１μｍ、約０．０９μｍ〜約１μｍ、約０．２μｍ〜約１μｍ、約０．３μｍ〜約５μｍ、約０．４μｍ〜約３μｍ、約０．５μｍ〜約３μｍ、約０．６μｍ〜約２μｍ、約０．７μｍ〜約１μｍ、約０．８μｍ〜約１μｍ、又は約０．９μｍ〜約１μｍ、並びにこれらの間の全ての範囲及び部分範囲であってよい。

本明細書で開示されている物品１００は、ディスプレイを備えた物品（即ちディスプレイ物品）（例えば携帯電話、タブレット、コンピュータ、ナビゲーションシステム等を含む消費者向け電子機器）、建築用物品、輸送用物品（例えば自動車、鉄道、航空機、船舶等）、家電物品、又はある程度の透明性、耐擦傷性、耐摩擦性若しくはこれらの組み合わせを必要とするいずれの物品といった、別の物品に組み込むことができる。物品１００のいずれの１つを組み込んだ例示的な物品を、図５４Ａ及び５４Ｂに示す。具体的には、図５４Ａ及び５４Ｂは：前面５１０４、背面５１０６及び側面５１０８を有するハウジング５１０２；少なくとも部分的に又は全体的に上記ハウジング内にある、少なくともコントローラ、メモリ及びディスプレイ５１１０を上記ハウジングの前面に又は前面に隣接して含む、電子構成部品（図示せず）；並びに上記ハウジングの前面に又は前面全体に亘り、上記ディスプレイを覆うように配置されたカバー基板５１１２を含む、消費者向け電子デバイス５１００を示す。いくつかの実施形態では、カバー基板５１１２は、本明細書で開示されている物品１００のいずれの１つを含んでよい。

本開示の第２の態様は、本明細書に記載の物品を形成するための方法に関係する。一実施形態では、この方法は：コーティングチャンバ内で大表面を有する基板を準備するステップ；上記コーティングチャンバ内に真空を形成するステップ；上記大表面上に、本明細書に記載の耐久性光学コーティングを形成するステップ；任意に、清掃が容易なコーティング及び耐擦傷性コーティングのうちの少なくとも１つを含む追加のコーティングを、光学コーティング上に形成するステップ；及び上記基板を上記コーティングチャンバから取り出すステップを含む。１つ以上の実施形態では、上記光学コーティング及び上記追加のコーティングは、同一のコーティングチャンバ内で、又は別個のコーティングチャンバ内で真空を乱すことなく、形成される。

１つ以上の実施形態では、本方法は、後で上記基板を、上記基板の移動時に真空が保存されるような負荷ロック条件下において異なる複数のコーティングチャンバ内に出入りさせるために使用されるキャリア上に、上記基板を装填するステップを含んでよい。

光学コーティング１２０及び／又は追加のコーティング１４０は、例えば化学蒸着（例えばプラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）、低圧化学蒸着、大気圧化学蒸着及びプラズマ強化大気圧化学蒸着）、物理蒸着（例えば反応性若しくは非反応性スパッタリング、若しくはレーザアブレーション）、熱若しくは電子ビーム蒸発、及び／又は原子層堆積といった真空堆積技法等の様々な堆積方法を用いて形成してよい。噴霧、浸漬、スピンコート又は（例えばゾル‐ゲル材料を用いた）スロットコートといった、液体ベースの方法も使用してよい。真空堆積を利用する場合、１回の堆積の試行において光学コーティング１２０及び／又は追加のコーティング１４０を形成するために、インラインプロセスを用いてよい。いくつかの例では、真空堆積は、直線状ＰＥＣＶＤソースによって行うことができる。

いくつかの実施形態では、本方法は、光学コーティング１２０及び／又は追加のコーティング１４０の厚さを、反射防止表面１２２の面積の少なくとも約８０％に沿って、又は基板の面積に沿ったいずれの地点における各層に関する標的厚さから、約４％を超えて変動しないように制御するステップを含んでよい。いくつかの実施形態では、光学コーティング１２０及び／又は追加のコーティング１４０の厚さは、反射防止表面１２２の面積の少なくとも約９５％に沿って、約４％を超えて変動しないように制御される。

以下の実施例により、様々な実施形態を更に明らかにする。実施例では、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ及びＳｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙが、提供された標的屈折率分散値及び層厚さ設計を再生成するためにわずかなプロセス調節（これは当業者には明らかなものである）しか必要とせずに、モデル化実施例における高屈折率材料として実質的に相互交換可能であることが分かっていることに留意されたい。更に各実施例に関して、任意のキャッピング層を追加でき、好ましいキャッピング層は、ダイヤモンド様炭素、シラン（例えばフルオロシラン）、リン酸塩、アルケン又はアルキンといった、低摩擦性、疎水性、又は清掃が容易なコーティング又は表面処理である。いくつかの実施形態では、これらのコーティング又は表面処理は、以下で列挙する実施例の上面上に直接追加できる。いくつかの実施形態では、以下に記載の実施例の最上部の（空気側）層を切削する、又は厚さを削減することにより、キャッピング層の光学的影響を解決でき、キャッピング層の最終的な厚さは約０．５〜３０ｎｍ、有効屈折率は１．３〜１．７となる。実施例では、最も厚い（耐擦傷性）層の厚さは、範囲として列挙されることがある。コーティングは、最も厚い層の厚さの変化に対して光学的にロバストとなるように設計され、上記厚さは、コスト、コーティング時間及び硬度又は耐擦傷性といった様々なパラメータ間のトレードオフを最適化するために調整できる。

モデル化実施例１〜１２
モデル化実施例１〜１２は、本明細書に記載の耐久性かつ耐擦傷性光学コーティングの実施形態を含む物品の反射率スペクトルを実証するために、モデル化を使用した。モデル化実施例１〜１２では、光学コーティングは、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ及びＳｉＯ_２層、並びに表１〜１２に示すように、約５８モル％のＳｉＯ_２、１７モル％のＡｌ_２Ｏ_３、１７モル％のＮａ_２Ｏ、３モル％のＭｇＯ、０．１モル％のＳｎＯ、及び６．５モル％のＰ_２Ｏ_５という公称組成を有する強化アルミノケイ酸ガラス基板を含んでいた。

コーティング材料に関する屈折率分散曲線を決定するために、イオンアシストを用い、約５０℃の温度で、ケイ素、アルミニウム、組み合わせた若しくは同時スパッタリングしたケイ素及びアルミニウム、又はフッ化マグネシウム標的（それぞれ）から、ＤＣ、ＲＦ、又はＲＦ重畳ＤＣ反応性スパッタリングによって、各コーティング材料の層を、ケイ素ウェハ上に形成した。いくつかの層の堆積中、ウェハを２００℃まで加熱し、また直径３インチ（７．６２ｃｍ）の標的を使用した。使用した反応性ガスは、窒素、フッ素及び酸素を含み、アルゴンを不活性ガスとして使用した。ＲＦ電力をケイ素標的に１３．５６ＭＨｚで供給し、またＤＣ電力をＳｉ標的、Ａｌ標的及び他の標的に供給した。

形成された層及びガラス基板それぞれの（波長の関数としての）屈折率を、分光エリプソメトリーを用いて測定した。このようにして測定した屈折率を用いて、モデル化実施例２〜５に関する反射率スペクトルを算出した。これらのモデル化実施例は、これらを説明する表において、利便性のために単一の屈折率値を使用する。これは、約５５０ｎｍの波長における分散曲線から選択される１点に対応するものである。

図１０〜３３は、Ｄ６５及びＦ２光源に関する、入射視野角８°、２０°、４０°及び６０°に関する反射スペクトル、並びに０°〜６０°の角度に関する反射色を示す。図１０〜１１は、モデル化実施例１の反射防止表面のみに関する、算出された反射率スペクトル及び算出された反射色をそれぞれ示す。図１２〜１３は、モデル化実施例２の反射防止表面のみに関する、算出された反射率スペクトル及び算出された反射色をそれぞれ示す。図１４〜１５は、モデル化実施例３の反射防止表面のみに関する、算出された反射率スペクトル及び算出された反射色をそれぞれ示す。図１６〜１７は、モデル化実施例４の反射防止表面のみに関する、算出された反射率スペクトル及び算出された反射色をそれぞれ示す。図１８〜１９は、モデル化実施例５の反射防止表面のみに関する、算出された反射率スペクトル及び算出された反射色をそれぞれ示す。図２０〜２１は、モデル化実施例６の反射防止表面のみに関する、算出された反射率スペクトル及び算出された反射色をそれぞれ示す。図２２〜２３は、モデル化実施例７の反射防止表面のみに関する、算出された反射率スペクトル及び算出された反射色をそれぞれ示す。図２４〜２５は、モデル化実施例８の反射防止表面のみに関する、算出された反射率スペクトル及び算出された反射色をそれぞれ示す。図２６〜２７は、モデル化実施例９の反射防止表面のみに関する、算出された反射率スペクトル及び算出された反射色をそれぞれ示す。図２８〜２９は、モデル化実施例１０の反射防止表面のみに関する、算出された反射率スペクトル及び算出された反射色をそれぞれ示す。図３０〜３１は、モデル化実施例１１の反射防止表面のみに関する、算出された反射率スペクトル及び算出された反射色をそれぞれ示す。図３２〜３３は、モデル化実施例１２の反射防止表面のみに関する、算出された反射率スペクトル及び算出された反射色をそれぞれ示す。

モデル化実施例１〜１２の光学的性能を表１３にまとめる。

図１０、１２、１４、１６、１８、２０、２２、２４、２６、２８、３０及び３２に示すように、モデル化実施例１〜１２は、上記光波長領域に亘って、視野角８°、２０°及び４０°に関して低い反射率（即ち約１０％未満及び約８％未満の値）を呈し、視野角６０°に関する反射率はわずかに高い。モデル化実施例１０は、視野角８°、２０°、４０°及び６０°に関して極めて低い反射率（例えば最大平均反射率約７％以下）を呈した。視野角８°、２０°及び４０°では、平均反射率は更に低い（即ち約２％未満）。

図１１及び２９に示すように、モデル化実施例１及び１０は、Ｄ６５及びＦ２光源の両方に関して、垂直入射〜６０°の視野角において、約２未満の反射色の範囲を呈した。図１９及び２１に示すように、モデル化実施例５及び６は、Ｄ６５及びＦ２光源の両方に関して、垂直入射〜６０°の視野角において、約３未満の反射色の範囲を呈した。

モデル化実施例５及び１２（表５及び１２）の光学コーティングは、光学的特性と機械的特性とのバランスを有する。即ちこれらの実施例は、耐擦傷性と、反射色及び／又は色シフトに関する良好な光学的性能とをバランスさせる。より具体的には、これらの実施例は、（８°〜約４０°の入射角において、上記光波長領域に亘って）約４％〜約６％（及びいくつかの例では約１０％又は約１２％未満‐入射角約６０°）の反射率を有し、かつ良好な耐擦傷性を維持する。（より高い、即ち約１０％の反射率というトレードオフを有する）耐擦傷性に関して最適化された光学コーティングと比べて、これらの実施例のコーティングは、反射率を（約４％〜約６％の範囲、及びいくつかの例では約１０％未満まで）望ましい程度に低減するために、わずかな量の耐擦傷性しか犠牲にしない。低い（即ち約１％の）反射率のために最適化された光学コーティング（これはこの低い反射率のために耐擦傷性を犠牲にすることになる）に比べて、これらの実施形態のコーティングは、耐擦傷性を望ましい程度に増大させるために、わずかな量の反射率しか犠牲にしない（即ち、低い反射率のために最適化されたコーティングに関する約１％の反射率に対して、約４％〜約６％、及びいくつかの例では約１０％未満の反射率）。これらの実施例はまた、透過／反射色座標に関する良好な光学特性（即ち弱い色）、及び小さい色シフトを維持する。

モデル化実施例１〜１２はまた、バーコビッチ圧子硬度試験で測定した場合に、本明細書に記載の硬度値（及び特に約１４ＧＰａ〜約２１ＧＰａの硬度）を呈すると考えられる。

実施例１３及びモデル化実施例１４
実施例１３及びモデル化実施例１４は、本明細書に記載の耐久性かつ耐擦傷性光学コーティングの実施形態を含む物品の反射率スペクトルを実証するために、モデル化を使用した。また、実施例１３の光学コーティングを製作して試験した。実施例１３及びモデル化実施例１４では、光学コーティングは、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ及びＳｉＯ_２層、並びに表１３及び１４に示すように、Ｋ_２Ｏ浴を用いたイオン交換の前には、約５８モル％のＳｉＯ_２、１７モル％のＡｌ_２Ｏ_３、１７モル％のＮａ_２Ｏ、３モル％のＭｇＯ、０．１モル％のＳｎＯ、及び６．５モル％のＰ_２Ｏ_５という公称組成を有する強化アルミノケイ酸ガラス基板を含んでいた。実施例１３及びモデル化実施例１４に使用したコーティング材料及び基材に関する屈折率分散曲線を、モデル化実施例１〜１２と同様の方法で得た。

実施例１３の光学コーティングは、ａ＊＝約０．０５及びｂ＊＝約‐１．７の、反射Ｄ６５色を有し、またａ＊＝約‐０．０５及びｂ＊＝約０．８の透過Ｄ６５色を有していた。更に実施例１３の光学コーティングを製作して、実験により分析した。２つの試料を、実施例１３の光学コーティングに関して製作した（試料１及び試料２）。試料１を、様々な入射角において、可視光波長領域に亘って、反射率に関して試験した。これを図４９に示す。試料１の光学コーティングの光線透過率を図５０及び５１に示し、図５０は、図５１より広範囲の光波長に亘る光線透過率を示す。図５２及び５３はそれぞれ、指定された入射角における試料１及び２に関する反射色及び透過色を示す。

図３４は、４つの光学コーティングに関する硬度プロファイル（押込み深さ約０ｎｍ〜約１０００ｎｍに関するバーコビッチ硬度）を示し、表１３の光学コーティングは８０３として示されており、表１４の光学コーティングは８０２として示されている。

実施例１５
ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ及びＳｉＯ_２層を含む光学コーティングを調製し、この調製物をプラズマ処理に供した後、６ｎｍのＳｉＯ_２層と、６．４ｎｍのフルオロシラン材料を含む清掃が容易なコーティングとでキャッピングした。調製した光学コーティングを表１５に示す。最上部のＳｉＯ_２層は、電子ビームＰＶＤを用いて堆積させた（対になった実験ではスパッタリングを行った）。

表１５の光学コーティングに関して、光学データをシミュレートし、また実験によって収集した。また、最上部のＳｉＯ_２層を４ｎｍ及び８ｎｍに変化させて、コーティングの工業的応用において存在し得るＳｉＯ_２層の厚さのわずかな変動を実験によって試験した。図３５は、６ｎｍの最上部のＳｉＯ_２層のシミュレーションモデルを示す、実施例１５（表１６）の光学コーティングの透過率を示し、また他のデータ点は、４ｎｍ、６ｎｍ及び８ｎｍのＳｉＯ_２コーティングをプラズマ処理後に堆積させた場合の、実施例１５（表１６）の光学コーティングの測定された透過率を表す。図３６は、６ｎｍの最上部のＳｉＯ_２層のシミュレーションモデルを示す、実施例１５（表１６）の光学コーティングの２側面反射率を示し、また他のデータ点は、０ｎｍ（追加のコーティング無し）、４ｎｍ、６ｎｍ及び８ｎｍのＳｉＯ_２コーティングをプラズマ処理後に堆積させた場合の、表１６の光学コーティングの測定された反射率を表す。表１７は、実施例１５の光学コーティングの透過色（図３５に示されている透過色）を示し、表１８は、実施例１５の光学コーティングの反射色（図３６に示されている反射色）を示す。

図３７は、実施例１５の光学コーティングに関するモデル化された透過率データ及び観察された透過率データを示す。図３７では、８１１は、８°の視野角においてシミュレートした透過率に対応し、８１２は、８°の視野角において観察した透過率に対応する。表１９は、実施例１５の光学コーティングに関する反射色データを示す。

実施例１５（表１６）の光学コーティングは、光学的特性と機械的特性とのバランスを有する。即ちこれらの実施例は、耐擦傷性と、反射色及び／又は色シフトに関する良好な光学的性能とをバランスさせる。より具体的には、この実施例は、（上記光波長領域に亘って）約６％〜約１０％（及びいくつかの例では約８％未満）の反射率を有し、かつ良好な耐擦傷性を維持する。（より高い、即ち約１０％の反射率というトレードオフを有する）耐擦傷性に関して最適化された光学コーティングと比べて、この実施例のコーティングは、反射率を（約６％〜約１０％未満の範囲、及びいくつかの例では約８％未満まで）望ましい程度に低減するために、わずかな量の耐擦傷性しか犠牲にしない。低い（即ち約１％の）反射率のために最適化された光学コーティング（これはこの低い反射率のために耐擦傷性を犠牲にすることになる）に比べて、この実施形態のコーティングは、耐擦傷性を望ましい程度に増大させるために、わずかな量の反射率（即ち、低い反射率のために最適化されたコーティングに関する約１％に対して、約６％〜約１０％、及びいくつかの例では約８％未満）しか犠牲にしない。これらの実施例はまた、透過／反射色座標に関する良好な光学特性（即ち弱い色）、及び小さい色シフトを維持する。

実施例１５’〜１７
実施例１５’〜１７は、本明細書に記載の耐久性かつ耐擦傷性光学コーティングの実施形態を含む物品の光学特性を実証するために、モデル化及び試験を使用した。また、実施例１５’〜１７の光学コーティングを製作して試験した。実施例１５’〜１７では、光学コーティングは、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ及びＳｉＯ_２層、並びに表２０、２１及び２２に示すように、Ｋ_２Ｏ浴を用いたイオン交換の前には、約５８モル％のＳｉＯ_２、１７モル％のＡｌ_２Ｏ_３、１７モル％のＮａ_２Ｏ、３モル％のＭｇＯ、０．１モル％のＳｎＯ、及び６．５モル％のＰ_２Ｏ_５という公称組成を有する強化アルミノケイ酸ガラス基板を含んでいた。実施例１５’〜１７に使用したコーティング材料及び基材に関する屈折率分散曲線を、モデル化実施例１〜１２と同様の方法で得た。

図３８は、モデル化された結果及び観察された結果に基づく、表２０〜２２の光学コーティングに関する透過率を示し、８１５は、測定された表２０のコーティングに対応し、８１６は、モデル化された表２０のコーティングに対応し、８１７は、測定された表２１のコーティングに対応し、８１８は、モデル化された表２１のコーティングに対応し、８１９は、測定された表２２のコーティングに対応し、８２０は、モデル化された表２２のコーティングに対応する。図３９は、モデル化された結果及び観察された結果に基づく、表２０〜２２の光学コーティングに関する反射率を示す。図４０は反射色を示し、図４１は、測定された及びモデル化された、表２０〜２２の光学コーティングに関する透過色を示す。図４２は、表２０の光学コーティングに関する、モデル化された反射率を示す。図４３は、表２１の光学コーティングに関する、モデル化された反射率を示し、図４４は、表２２の光学コーティングに関する、モデル化された反射率を示す。図４５は、表２０の光学コーティングに関する、測定された反射率を示し、図４６は、表２１の光学コーティングに関する、測定された反射率を示し、図４７は、表２２の光学コーティングに関する、測定された反射率を示す。モデル化された反射率と、測定された反射率とは、同様であった。図４８は、表２０〜２２の光学コーティングに関するナノ硬度測定値を示し、８７０は、表２０の光学コーティングに対応し、８７１は、表２１の光学コーティングに対応し、８７２は、表２２の光学コーティングに対応する。図４８から分かるように、望ましいことに、硬度は、表面から最初の１００ｎｍ以内において（約１７〜２０ＧＰａの値まで）迅速に増大し、表面から測定された深さが１００ｎｍから約７００ｎｍ又は約８００ｎｍに増大しても、およそ同一の値（約１７〜２０ＧＰａ）に維持される。このような硬度プロファイルは、比較的目立つ擦傷をもたらす比較的過酷な擦傷イベント、及び光学コーティングの表面特性に何らかの影響を及ぼし得る比較的過酷でない擦傷イベントの両方における、擦傷による損傷を低減するにあたって望ましい。

実施例１５’〜１７（表２０〜２２）の光学コーティングは、光学的特性と機械的特性とのバランスを有する。即ちこれらの実施例は、耐擦傷性と、反射色及び／又は色シフトに関する良好な光学的性能とをバランスさせる。より具体的には、これらの実施例は、（約８°〜約４０°に亘る、及びいくつかの例では最大約６０°の入射角において測定した場合に）（上記光波長領域に亘って）約１％〜約６％の反射率を有し、かつ良好な耐擦傷性を維持する。（より高い、即ち約１０％の反射率というトレードオフを有する）耐擦傷性に関して最適化された光学コーティングと比べて、これらの実施例のコーティングは、反射率を（約１％超〜約６％の範囲の値まで）望ましい程度に低減するために、わずかな量の耐擦傷性しか犠牲にしない。低い反射率（即ち約１％の反射率）のために最適化された光学コーティング（これはこの低い反射率のために耐擦傷性を犠牲にすることになる）に比べて、これらの実施形態のコーティングは、耐擦傷性を望ましい程度に増大させるために、わずかな量の反射率（即ち、低い反射率のために最適化されたコーティングに関する約１％に対して、約１％超〜約６％の値まで）しか犠牲にしない。

本発明の精神又は範囲から逸脱することなく、様々な修正及び変形を行うことができることは、当業者には明らかであろう。

以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。

実施形態１
大表面を有する基板；及び
前記大表面上に配置されて反射防止表面を形成する、光学コーティングであって、前記光学コーティングは反射防止コーティングを備える、光学コーティング
を備える、物品であって：
前記物品は、約１００ｎｍ以上の押込み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験によって前記反射防止表面上で測定した場合に、約１２ＧＰａ以上の最大硬度を呈し；
前記物品は、約４００ｎｍ〜約８００ｎｍの光波長領域に亘って約８％以下の、前記反射防止表面において測定される単一側面平均光反射率を呈し；
前記物品は、約４００ｎｍ〜約８００ｎｍの光波長領域に亘って約９０％以上の平均光透過率を呈する、物品。

実施形態２
大表面を有する基板；及び
前記大表面上に配置されて反射防止表面を形成する、光学コーティングであって、前記光学コーティングは反射防止コーティングを備える、光学コーティング
を備える、物品であって、
前記物品は、約０．５マイクロメートル〜約３マイクロメートルの厚さを有する耐擦傷性層と、前記耐擦傷性層を覆うように位置決めされた１つ以上の追加の層とを備え、前記耐擦傷性層を覆うように位置決めされた前記層は、約２００ｎｍ以下の合計厚さを有する、物品。

実施形態３
前記物品は、約０．５マイクロメートル〜約３マイクロメートルの厚さを有する耐擦傷性層と、前記耐擦傷性層を覆うように位置決めされた１つ以上の追加の層とを備える、実施形態１に記載の物品。

実施形態４
前記耐擦傷性層を覆うように位置決めされた前記層は、約２００ｎｍ以下の合計厚さを有する、実施形態３に記載の物品。

実施形態５
前記耐擦傷性層は、高ＲＩ材料を含み、
前記耐擦傷性層を覆うように位置決めされた前記層のうちの１つ以上は、前記高ＲＩ材料を含み、
前記耐擦傷性層を覆うように位置決めされた前記層のうちの１つ以上は、低ＲＩ材料を含む、実施形態２〜４のいずれか１つに記載の物品。

実施形態６
前記光学コーティングの、前記反射防止表面から測定した最上部５００ｎｍは：
約３０％未満の低ＲＩ材料；及び
少なくとも約７０％の高ＲＩ材料
のうちの少なくとも１つを含む、実施形態１〜５のいずれか１つに記載の物品。

実施形態７
前記物品は、バーコビッチ圧子硬度試験によって前記反射防止表面上で測定した場合に、押込み深さ約１００ｎｍにおいて約１０ＧＰａ以上の硬度、及び押込み深さ約５００ｎｍにおいて約１６ＧＰａ以上の硬度を呈する、実施形態１〜６のいずれか１つに記載の物品。

実施形態８
国際照明委員会の光源下での垂直入射における、（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）測色系での物品透過色座標であって、前記反射防止表面において測定した場合に基準点から約２未満の基準点色シフトを呈し、前記基準点は、色座標（ａ＊＝０，ｂ＊＝０）及び前記基板の透過色座標のうちの少なくとも１つを含む、物品透過色座標；
国際照明委員会の光源下での垂直入射における、（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）測色系での物品反射色座標であって、前記反射防止表面において測定した場合に基準点から約５未満の基準点色シフトを呈し、前記基準点は、前記色座標（ａ＊＝０，ｂ＊＝０）、色座標（ａ＊＝‐２，ｂ＊＝‐２）及び前記基板の反射色座標のうちの少なくとも１つを含む、物品反射色座標；
のうちの少なくとも１つを有し、
前記基準点が前記色座標（ａ＊＝０，ｂ＊＝０）である場合、前記色シフトは、√（（ａ＊_物品）^２＋（ｂ＊_物品）^２）によって定義され、
前記基準点が前記色座標（ａ＊＝‐２，ｂ＊＝‐２）である場合、前記色シフトは、√（（ａ＊_物品＋２）^２＋（ｂ＊_物品＋２）^２）によって定義され、
前記基準点が前記基板の前記色座標である場合、前記色シフトは、√（（ａ＊_物品‐ａ＊_基板）^２＋（ｂ＊_物品‐ｂ＊_基板）^２）によって定義される、実施形態１〜７のいずれか１つに記載の物品。

実施形態９
前記物品は、Ａシリーズ光源、Ｂシリーズ光源、Ｃシリーズ光源、Ｄシリーズ光源及びＦシリーズ光源から選択された国際照明委員会の光源下で、垂直入射を基準として２０°以上である入射照明角度において、約５以下の角度色シフトを呈し、
前記角度色シフトは、式√（（ａ＊_２-ａ＊_１）^２＋（ｂ＊_２-ｂ＊_１）^２）を用いて算出され、ａ＊_１及びｂ＊_１は、垂直入射において観察した場合の前記物品の座標を表し、ａ＊_２及びｂ＊_２は、前記入射照明角度において観察した場合の前記物品の座標を表す、実施形態１〜８のいずれか１つに記載の物品。

実施形態１０
前記物品は、約２０°〜約６０°の範囲内のあらゆる入射照明角度において、約５以下の角度色シフトを呈する、実施形態９に記載の物品。
実施形態１１
前記物品は、前記反射防止表面上において、テーバー試験を用いた５００サイクルの摩耗後に：
アパーチャを有するヘイズメータを用いて測定される約１％以下のヘイズであって、前記アパーチャは直径約８ｍｍである、ヘイズ；
原子間力顕微鏡によって測定される約１２ｎｍ以下の平均粗度Ｒａ；
波長６００ｎｍで２ｍｍのアパーチャを用いた散乱測定のための撮像用球体を用いた透過において垂直入射で測定される、約４０°以下の極散乱角における約０．０５（単位は１／ステラジアン）以下の散乱光強度；及び
波長６００ｎｍで２ｍｍのアパーチャを用いた散乱測定のための撮像用球体を用いた透過において垂直入射で測定される、約２０°以下の極散乱角における約０．１（単位は１／ステラジアン）以下の散乱光強度
のうちのいずれの１つ以上を含む、耐摩耗性を呈する、実施形態１〜１０のいずれか１つに記載の物品。

実施形態１２
前記反射防止コーティングは複数の層を備え、
前記複数の層は、第１の低ＲＩ層、第２の高ＲＩ層、及び任意の第３の層を含み、
更に前記反射防止コーティングは、前記第１の低ＲＩ層と前記第２の高ＲＩ層が交互になるような、複数の区間を備える、実施形態１〜１１のいずれか１つに記載の物品。

実施形態１３
前記反射防止コーティングは、第１の部分及び第２の部分を備え、
前記耐擦傷性層は、前記第１の部分と前記第２の部分との間に配置される、実施形態１〜１２のいずれか１項に記載の物品。

実施形態１４
平均可視明所視反射率は、前記光透過領域に亘って約５％以下である、実施形態１〜１３のいずれか１つに記載の物品。

実施形態１５
前記光学コーティングは、ある厚さと、窒化物又は酸窒化物材料を含む複数の層とを備え、
窒化物又は酸窒化物材料を含む前記層の複合厚さは、前記光学コーティングの前記厚さの５０％以上である、実施形態１〜１４のいずれか１つに記載の物品。

実施形態１６
前記物品は、約１００ｎｍ以上の押込み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験によって前記反射防止表面上で測定した場合に、約１２ＧＰａ以上の最大硬度を呈する、実施形態２に記載の物品。

実施形態１７
前記物品は：
約４００ｎｍ〜約８００ｎｍの光波長領域に亘って約８％以下の、前記反射防止表面において測定される単一側面平均光反射率；及び
約４００ｎｍ〜約８００ｎｍの光波長領域に亘って約９０％以上の平均光透過率
のうちの少なくとも１つを呈する、実施形態２又は１６に記載の物品。

実施形態１８
前面、背面及び側面を有するハウジング；
少なくとも部分的に前記ハウジング内にある、電子構成部品；
前記ハウジングの前記前面の、又は前記前面に隣接する、ディスプレイ；並びに
前記ディスプレイを覆うように配置された、カバー基板
を備え、
前記カバー基板は、実施形態１〜１７のいずれか１項に記載の物品を含む、デバイス。

１００ 物品
１１０ 基板
１１２ 大表面、第１の対向する大表面
１１４ 大表面、第２の対向する大表面
１１６ 小表面
１１８ 小表面
１２０ 光学コーティング
１２２ 反射防止表面
１３０ 反射防止コーティング
１３０Ａ 第１の低ＲＩ層
１３０Ｂ 第２の高ＲＩ層
１３０Ｃ 第３の層
１３１ キャッピング層
１３２ 区間
１４０ 追加のコーティング
１５０ 耐擦傷性層
５１００ 消費者向け電子デバイス
５１０２ ハウジング
５１０４ 前面
５１０６ 背面
５１０８ 側面
５１１０ ディスプレイ
５１１２ カバー基板

Claims (18)

1. 大表面を有する基板；及び
   前記大表面上に配置されて反射防止表面を形成する、光学コーティングであって、前記光学コーティングは反射防止コーティングを備える、光学コーティング
   を備える、物品であって：
   前記物品は、約１００ｎｍ以上の押込み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験によって前記反射防止表面上で測定した場合に、約１２ＧＰａ以上の最大硬度を呈し；
   前記物品は、約４００ｎｍ〜約８００ｎｍの光波長領域に亘って約８％以下の、前記反射防止表面において測定される単一側面平均光反射率を呈し；
   前記物品は、約４００ｎｍ〜約８００ｎｍの光波長領域に亘って約９０％以上の平均光透過率を呈する、物品。
2. 大表面を有する基板；及び
   前記大表面上に配置されて反射防止表面を形成する、光学コーティングであって、前記光学コーティングは反射防止コーティングを備える、光学コーティング
   を備える、物品であって、
   前記物品は、約０．５マイクロメートル〜約３マイクロメートルの厚さを有する耐擦傷性層と、前記耐擦傷性層を覆うように位置決めされた１つ以上の追加の層とを備え、前記耐擦傷性層を覆うように位置決めされた前記層は、約２００ｎｍ以下の合計厚さを有する、物品。
3. 前記物品は、約０．５マイクロメートル〜約３マイクロメートルの厚さを有する耐擦傷性層と、前記耐擦傷性層を覆うように位置決めされた１つ以上の追加の層とを備える、請求項１に記載の物品。
4. 前記耐擦傷性層を覆うように位置決めされた前記層は、約２００ｎｍ以下の合計厚さを有する、請求項３に記載の物品。
5. 前記耐擦傷性層は、高ＲＩ材料を含み、
   前記耐擦傷性層を覆うように位置決めされた前記層のうちの１つ以上は、前記高ＲＩ材料を含み、
   前記耐擦傷性層を覆うように位置決めされた前記層のうちの１つ以上は、低ＲＩ材料を含む、請求項２〜４のいずれか１項に記載の物品。
6. 前記光学コーティングの、前記反射防止表面から測定した最上部５００ｎｍは：
   約３０％未満の低ＲＩ材料；及び
   少なくとも約７０％の高ＲＩ材料
   のうちの少なくとも１つを含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の物品。
7. 前記物品は、バーコビッチ圧子硬度試験によって前記反射防止表面上で測定した場合に、押込み深さ約１００ｎｍにおいて約１０ＧＰａ以上の硬度、及び押込み深さ約５００ｎｍにおいて約１６ＧＰａ以上の硬度を呈する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の物品。
8. 国際照明委員会の光源下での垂直入射における、（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）測色系での物品透過色座標であって、前記反射防止表面において測定した場合に基準点から約２未満の基準点色シフトを呈し、前記基準点は、色座標（ａ＊＝０，ｂ＊＝０）及び前記基板の透過色座標のうちの少なくとも１つを含む、物品透過色座標；
   国際照明委員会の光源下での垂直入射における、（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）測色系での物品反射色座標であって、前記反射防止表面において測定した場合に基準点から約５未満の基準点色シフトを呈し、前記基準点は、前記色座標（ａ＊＝０，ｂ＊＝０）、色座標（ａ＊＝‐２，ｂ＊＝‐２）及び前記基板の反射色座標のうちの少なくとも１つを含む、物品反射色座標；
   のうちの少なくとも１つを有し、
   前記基準点が前記色座標（ａ＊＝０，ｂ＊＝０）である場合、前記色シフトは、√（（ａ＊_物品）^２＋（ｂ＊_物品）^２）によって定義され、
   前記基準点が前記色座標（ａ＊＝‐２，ｂ＊＝‐２）である場合、前記色シフトは、√（（ａ＊_物品＋２）^２＋（ｂ＊_物品＋２）^２）によって定義され、
   前記基準点が前記基板の前記色座標である場合、前記色シフトは、√（（ａ＊_物品‐ａ＊_基板）^２＋（ｂ＊_物品‐ｂ＊_基板）^２）によって定義される、請求項１〜７のいずれか１項に記載の物品。
9. 前記物品は、Ａシリーズ光源、Ｂシリーズ光源、Ｃシリーズ光源、Ｄシリーズ光源及びＦシリーズ光源から選択された国際照明委員会の光源下で、垂直入射を基準として２０°以上である入射照明角度において、約５以下の角度色シフトを呈し、
   前記角度色シフトは、式√（（ａ＊_２-ａ＊_１）^２＋（ｂ＊_２-ｂ＊_１）^２）を用いて算出され、ａ＊_１及びｂ＊_１は、垂直入射において観察した場合の前記物品の座標を表し、ａ＊_２及びｂ＊_２は、前記入射照明角度において観察した場合の前記物品の座標を表す、請求項１〜８のいずれか１項に記載の物品。
10. 前記物品は、約２０°〜約６０°の範囲内のあらゆる入射照明角度において、約５以下の角度色シフトを呈する、請求項９に記載の物品。
11. 前記物品は、前記反射防止表面上において、テーバー試験を用いた５００サイクルの摩耗後に：
    アパーチャを有するヘイズメータを用いて測定される約１％以下のヘイズであって、前記アパーチャは直径約８ｍｍである、ヘイズ；
    原子間力顕微鏡によって測定される約１２ｎｍ以下の平均粗度Ｒａ；
    波長６００ｎｍで２ｍｍのアパーチャを用いた散乱測定のための撮像用球体を用いた透過において垂直入射で測定される、約４０°以下の極散乱角における約０．０５（単位は１／ステラジアン）以下の散乱光強度；及び
    波長６００ｎｍで２ｍｍのアパーチャを用いた散乱測定のための撮像用球体を用いた透過において垂直入射で測定される、約２０°以下の極散乱角における約０．１（単位は１／ステラジアン）以下の散乱光強度
    のうちのいずれの１つ以上を含む、耐摩耗性を呈する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の物品。
12. 前記反射防止コーティングは複数の層を備え、
    前記複数の層は、第１の低ＲＩ層、第２の高ＲＩ層、及び任意の第３の層を含み、
    更に前記反射防止コーティングは、前記第１の低ＲＩ層と前記第２の高ＲＩ層が交互になるような、複数の区間を備える、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の物品。
13. 前記反射防止コーティングは、第１の部分及び第２の部分を備え、
    前記耐擦傷性層は、前記第１の部分と前記第２の部分との間に配置される、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の物品。
14. 平均可視明所視反射率は、前記光透過領域に亘って約５％以下である、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の物品。
15. 前記光学コーティングは、ある厚さと、窒化物又は酸窒化物材料を含む複数の層とを備え、
    窒化物又は酸窒化物材料を含む前記層の複合厚さは、前記光学コーティングの前記厚さの５０％以上である、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の物品。
16. 前記物品は、約１００ｎｍ以上の押込み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験によって前記反射防止表面上で測定した場合に、約１２ＧＰａ以上の最大硬度を呈する、請求項２に記載の物品。
17. 前記物品は：
    約４００ｎｍ〜約８００ｎｍの光波長領域に亘って約８％以下の、前記反射防止表面において測定される単一側面平均光反射率；及び
    約４００ｎｍ〜約８００ｎｍの光波長領域に亘って約９０％以上の平均光透過率
    のうちの少なくとも１つを呈する、請求項２又は１６に記載の物品。
18. 前面、背面及び側面を有するハウジング；
    少なくとも部分的に前記ハウジング内にある、電子構成部品；
    前記ハウジングの前記前面の、又は前記前面に隣接する、ディスプレイ；並びに
    前記ディスプレイを覆うように配置された、カバー基板
    を備え、
    前記カバー基板は、請求項１〜１７のいずれか１項に記載の物品を含む、デバイス。