JP2002116303A

JP2002116303A - 反射防止膜付き基体とその製造方法

Info

Publication number: JP2002116303A
Application number: JP2001222694A
Authority: JP
Inventors: Yoshihito Katayama; 佳人片山; Yukio Kimura; 幸雄木村; Mikako Maekawa; 三佳子前川; Eiji Shidouji; 栄治志堂寺; Kazuyoshi Noda; 和良野田
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2000-07-27
Filing date: 2001-07-24
Publication date: 2002-04-19

Abstract

(57)【要約】【課題】膜面側の斜め方向からの入射光に対する反射防
止性能に優れ、透過率が高く、反射色調が青みがかから
ない反射防止膜付き基体の提供。【解決手段】透明基体と、該透明基体の一方の側に積層
してなる２層以上の反射防止膜とを備える反射防止膜付
き基体であって、入射角５度で膜面側から入射した光の
膜面での反射率が４００〜４８０ｎｍの波長領域の全域
で６％以下であることを特徴とする反射防止膜付き基
体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止膜付き基
体とその製造方法に関し、詳しくは、入射角が小さい場
合にも反射色調が青みがからないため、自動車用フロン
トガラス等の輸送機器窓に好適に用いられる反射防止膜
付き基体とその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】以前より、自動車のフロントガラスの膜
面側（室内側）からの可視光反射率（以下、単に「反射
率」ともいう。）が高いため、ダッシュボード周りの映
り込みを抑制し、運転者の視認性を上げるために、内装
等は濃色系の色（例えば、黒）を基調とする色調しか許
されないという制限があった。このため、車内の内装色
に大きな制約となり、自動車のデザインを大きく制限し
ていた。また、自動車のリアガラスにおいても、運転者
の視認性の問題はないものの、やはり映り込みを抑制す
ることが望まれていた。近年は、外観デザインの観点か
ら、フロントガラスやリアガラスの取り付け角度がより
低角度になる傾向があり、室内面反射の問題はますます
顕著となっている。このため、フロントガラス等の室内
面反射率を低減し、内装デザインの許容幅を大きくした
いという要求がある。

【０００３】これらの要求に応えるための方法として、
フロントガラス等の表面に反射防止膜を形成することが
知られている。例えば、以下の１）透明な多層反射防止
膜を形成する方法（特開平４−３５７１３４号公報、特
開平４−３５７１３５号公報、特開平６−３０５７７５
号公報、特開平８−１５２５０１号公報等）や、２）透
明な単層反射防止膜を形成する方法が提案されている。

【０００４】一方、自動車用のサイドガラスやリアガラ
スには、車内の温度環境の観点から、できるだけ直達日
射光を遮蔽することが望まれており、現在では主にグリ
ーン系の熱線吸収ガラスが使用されている。したがっ
て、自動車の外観デザインの観点から、フロントガラス
も無彩色またはグリーン系であることが望まれる。しか
し、上記１）および２）の透明膜は、可視光の入射角が
小さい場合、例えば、０〜３０度の場合に、反射色調が
青みがかったものとなり、上記要求に応えたものとはな
っていない。また、１）の方法は、公知の多層反射防止
膜をウェット法で形成するものであるが、３層系につい
ては、総膜厚が約２５０ｎｍ以上と厚いため、製造に要
するコストが高い。２）の方法は、真空蒸着であればＭ
ｇＦ₂をコートすればよいが、ＭｇＦ₂に十分な強度を
持たせるためには、高温基板上に成膜する必要があり、
また、蒸着に特有な膜厚分布の安定性が十分でなく、生
産性の問題がある。

【０００５】一方、光吸収膜を構成要素とした、新しい
タイプの多層反射防止膜が提案されているが（特開昭６
４−７０７０１号公報、米国特許第５０９１２４４号明
細書）、この多層反射防止膜をそのまま自動車用のフロ
ントガラスに適用すると、入射角が大きい場合における
反射防止性能が十分に得られないか、または、反射色調
が黄色み、または赤みがかる問題がある。

【０００６】また、上記のような光吸収膜を用いた反射
防止膜は、光を吸収するため、透過率が低くなる。現
在、自動車用のガラスに汎用されているグリーン系の熱
線吸収ガラスは、可視光領域での透過率も若干低下させ
る性質がある。よって、光吸収膜と熱線吸収ガラスとを
組み合わせて用いようとすると、透過率がかなり低くな
ってしまい、各国の自動車用フロントガラスの透過率の
法規制によって、組み合わせを制限されてしまうという
問題がある。

【０００７】自動車用フロントガラスとしては、製造
上、平板ガラス基板ヘコーティングした後、切断、曲
げ、合わせ、という工程で進むのがもっとも有利であ
る。しかし、従来の反射防止膜には、自動車用フロント
ガラス製造時の曲げ工程における５６０〜７００℃とい
う高い温度に対する耐高温加工性を有するものはなかっ
た。例えば、中屈折率材料として酸化スズを反射防止膜
に用いると、高温下で結晶化し、屈折率その他の光学性
能が変化し、また、体積変化により膜に亀裂または剥離
が発生する。特に、前記１）の透明な多層反射防止膜を
形成したガラスのうち３層以上からなる反射防止膜を有
するガラスは、総膜厚が約２５０ｎｍ以上と厚いため、
高温曲げ加工時に膜に亀裂が入る等の問題があり、上記
工程での製造は不可能であった。また、従来の反射防止
膜は、強化加工のための熱処理に耐えることができるも
のではなかった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、膜面側の斜
め方向からの入射光に対する反射防止性能に優れ、透過
率が高く、非膜面側から入射する可視光の入射角が大き
い場合だけでなく小さい場合においても反射色調が青み
がからない反射防止膜付き基体を提供することを目的と
する。本発明は、また、膜面側の斜め方向からの入射光
に対する反射防止性能に優れ、透過率が高く、非膜面側
から入射する可視光の入射角が大きい場合だけでなく小
さい場合においても反射色調が青みがからず、さらに、
耐熱性にも優れた反射防止膜付き基体を提供することを
目的とする。本発明は、また、膜面側の斜め方向からの
入射光に対する反射防止性能に優れ、透過率が高く、非
膜面側から入射する可視光の入射角が大きい場合だけで
なく小さい場合においても反射色調が青みがからない性
能を有し、曲げ加工または強化加工された反射防止膜付
き基体を容易に製造できる方法を提供することを目的と
する。本発明は、さらに、膜面側の斜め方向からの入射
光に対する反射防止性能に優れ、透過率が高く、非膜面
側から入射する可視光の入射角が大きい場合だけでなく
小さい場合においても反射色調が青みがからない性能を
有する自動車用ガラスを提供する。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、（１）透明基
体と、該透明基体の一方の側に積層してなる２層以上の
反射防止膜とを備える反射防止膜付き基体であって、入
射角５度で膜面側から入射した光の膜面での反射率が４
００〜４８０ｎｍの波長領域の全域で６％以下であるこ
とを特徴とする反射防止膜付き基体を提供する。

【００１０】また、本発明は、（２）透明基体と、該透
明基体の一方の側に第１層と第２層とをこの順に積層し
てなる２層の反射防止膜とを備える反射防止膜付き基体
であって、該第１層が、屈折率が１．６〜２．６であ
り、幾何学的膜厚（以下、単に「膜厚」ともいう。）が
下記式で求められる反射防止条件の膜厚の１．１〜１．
９倍である薄膜であり、該第２層が、屈折率が１．４〜
１．５６であり、膜厚が下記式で求められる反射防止条
件の膜厚の０．５〜１．１倍である薄膜であることを特
徴とする反射防止膜付き基体を提供する。ｄ＝λ／ [４ｎ｛１−（ｓｉｎθ／ｎ)²｝^1/2] ただし、ｄは各層の反射防止条件の膜厚、ｎは各層の屈
折率であり、λ＝５５０ｎｍ、θ＝６０゜である。

【００１１】また、本発明は、（３）透明基体と、該透
明基体の一方の側に第１層と第２層とをこの順に積層し
てなる２層の反射防止膜とを備える上記（１）または
（２）に記載の反射防止膜付き基体であって、該第１層
が、屈折率が１．６〜２．６であり、膜厚が６０〜２０
０ｎｍである薄膜であり、該第２層が、屈折率が１．４
〜１．５６であり、膜厚が５０〜１４０ｎｍである薄膜
であることを特徴とする反射防止膜付き基体を提供す
る。

【００１２】また、本発明は、（４）透明基体と、該透
明基体の一方の側に第１層と第２層とをこの順に積層し
てなる２層の反射防止膜とを備える上記（１）〜（３）
のいずれかに記載の反射防止膜付き基体であって、該第
１層が、チタン、ケイ素、亜鉛、アルミニウム、スズ、
ジルコニウム、タンタル、タングステン、ビスマスおよ
びニオブからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素
の酸化物、酸窒化物もしくは酸炭化物、または、ケイ
素、アルミニウムおよびホウ素からなる群から選ばれる
少なくとも１種の元素の窒化物もしくは窒炭化物を含有
する薄膜であることを特徴とする反射防止膜付き基体を
提供する。

【００１３】また、本発明は、（５）透明基体と、該透
明基体の一方の側に第１層と第２層とをこの順に積層し
てなる２層の反射防止膜とを備える上記（１）〜（４）
のいずれかに記載の反射防止膜付き基体であって、該第
２層が、ケイ素の酸化物を含有する薄膜であることを特
徴とする反射防止膜付き基体を提供する。

【００１４】また、本発明は、（６）透明基体と、該透
明基体の一方の側に第１層と第２層とをこの順に積層し
てなる２層の反射防止膜とを備える反射防止膜付き基体
であって、該第１層が、膜厚が１０４〜１２４ｎｍであ
る酸窒化スズ膜であり、該第２層が、膜厚が８５〜１０
５ｎｍである酸化ケイ素膜であることを特徴とする反射
防止膜付き基体を提供する。

【００１５】また、本発明は、（７）透明基体と、該透
明基体の一方の側に第１層と第２層と第３層とをこの順
に積層してなる３層の反射防止膜とを備える反射防止膜
付き基体であって、該第１層および該第２層が、互いに
異なる組成を持ち、それぞれ屈折率が１．６〜２．５で
あり、第１層および第２層のうち少なくとも１層の膜厚
が下記式で求められる反射防止条件の膜厚の０．０４〜
０．９倍である薄膜であり、該第３層が、屈折率が１．
４〜１．５であり、膜厚が下記式で求められる反射防止
条件の０. ４〜１．１倍である薄膜であることを特徴と
する反射防止膜付き基体を提供する。ｄ＝λ／ [４ｎ｛１−（ｓｉｎθ／ｎ)²｝^1/2] ただし、ｄは各層の反射防止条件の膜厚、ｎは各層の屈
折率であり、λ＝５５０ｎｍ、θ＝６０゜である。

【００１６】また、本発明は、（８）透明基体と、該透
明基体の一方の側に第１層と第２層と第３層とをこの順
に積層してなる上記（１）または（７）に記載の３層の
反射防止膜とを備える反射防止膜付き基体であって、該
第１層および該第２層が、互いに異なる組成を持ち、そ
れぞれ屈折率が１．６〜２．５であり、第１層および第
２層のうち少なくとも１層の膜厚が２〜９５ｎｍである
薄膜であり、該第３層が、屈折率が１．４〜１．５であ
り、膜厚が４４〜１３８ｎｍである薄膜であることを特
徴とする反射防止膜付き基体を提供する。

【００１７】また、本発明は、（９）透明基体と、透明
基体と、該透明基体の一方の側に第１層と第２層と第３
層とをこの順に積層してなる３層の反射防止膜とを備え
る上記（１）、（７）または（８）に記載の反射防止膜
付き基体であって、該第１層および該第２層が、互いに
異なる組成を持ち、それぞれチタン、ケイ素、亜鉛、ア
ルミニウム、スズ、ジルコニウム、タンタル、タングス
テン、ビスマスおよびニオブからなる群から選ばれる少
なくとも１種の元素の酸化物、酸窒化物もしくは酸炭化
物、または、ケイ素、アルミニウムおよびホウ素からな
る群から選ばれる少なくとも１種の元素の窒化物もしく
は窒炭化物を含有する薄膜であることを特徴とする反射
防止膜付き基体を提供する。

【００１８】また、本発明は、（１０）透明基体と、該
透明基体の一方の側に第１層と第２層と第３層とをこの
順に積層してなる３層の反射防止膜とを備える上記
（１）、（７）、（８）または（９）に記載の反射防止
膜付き基体であって、該第３層が、ケイ素の酸化物を含
有する薄膜であることを特徴とする反射防止膜付き基体
を提供する。

【００１９】また、本発明は、（１１）透明基体と、該
透明基体の一方の側に第１層と第２層と第３層とをこの
順に積層してなる３層の反射防止膜とを備える反射防止
膜付き基体であって、該第１層が、膜厚が７０〜１３０
ｎｍである酸窒化スズ膜であり、該第２層が、膜厚が１
〜２５ｎｍである酸化チタン膜であり、該第３層が、膜
厚が８０〜１３０ｎｍである酸化ケイ素膜であることを
特徴とする反射防止膜付き基体を提供する。

【００２０】また、本発明は、（１２）透明基体と、該
透明基体の一方の側に第１層と第２層と第３層とをこの
順に積層してなる３層の反射防止膜とを備える反射防止
膜付き基体であって、該第１層が、膜厚が１〜２５ｎｍ
である酸化チタン膜であり、該第２層が、膜厚が７０〜
１３０ｎｍである酸窒化スズ膜であり、該第３層が、膜
厚が８０〜１３０ｎｍである酸化ケイ素膜であることを
特徴とする反射防止膜付き基体を提供する。

【００２１】また、本発明は、（１３）透明基体と、該
透明基体の一方の側に第１層と第２層と第３層とをこの
順に積層してなる３層の反射防止膜とを備える上記
（１）、（７）〜（１２）のいずれかに記載の反射防止
膜付き基体であって、該３層の反射防止膜の総膜厚（第
１層、第２層および第３層の膜厚の和）が、２５０ｎｍ
未満であることを特徴とする反射防止膜付き基体を提供
する。

【００２２】また、本発明は、（１４）各層の可視光領
域の消衰係数がいずれも０．０５以下である上記（１）
〜（１３）のいずれかに記載の反射防止膜付き基体を提
供する。

【００２３】また、本発明は、（１５）上記（１）〜
（１４）のいずれかに記載の反射防止膜付き基体を熱処
理することにより、曲げ加工または強化加工をされた反
射防止膜付き基体を製造することを特徴とする反射防止
膜付き基体の製造方法を提供する。

【００２４】更に、本発明は、（１６）透明基体がガラ
スである上記（１）〜（１４）のいずれかに記載の反射
防止膜付き基体を熱処理により、３次元曲面形状に曲げ
加工をした後、前記曲げ加工をされた反射防止膜付きガ
ラス基板と、略同形状の別のガラス基板とを中間膜を介
して積層することを特徴とする合わせガラスの製造方法
を提供する。

【００２５】更に、本発明は、（１７）上記（１）〜
（１４）のいずれかに記載の反射防止膜付き基体が用い
られてなる自動車用窓ガラスを提供する。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳細に説明す
る。初めに、本発明のいずれの態様においても共通に用
いられる透明基体について説明する。本発明に用いられ
る透明基体は、無色透明の材料に限られず、透過率が本
発明の目的を損なわない範囲で、着色している材料も用
いることができる。例えば、ガラス、プラスチックが挙
げられる。ガラスは、特に限定されず、例えば、透明な
または着色のフロートガラス（フロート法で製造された
ガラス）、着色させた熱線吸収ガラスが挙げられる。特
に、本発明を自動車用ガラスとして用いる場合、直達の
日射エネルギ低減の観点から、熱線吸収ガラスを用いる
のが好ましい。また、強化ガラスを用いることもでき
る。プラスチックは、例えば、透明なまたは着色のポリ
カーボネート、ポリメチルメタクリレートが挙げられ
る。

【００２７】本発明に用いられる透明基体は、第１の透
明基体と中間膜と第２の透明基体との積層体であっても
よい。第１および第２の透明基体としては、透明基体と
して上述したものをそれぞれ任意に組み合わせて用いる
ことができる。中間膜は、例えば、透明なまたは着色の
ポリビニルブチラール、エチレンビニルアセテートが挙
げられる。本発明に用いられる積層体は、これらを任意
に組み合わせることができる。例えば、第１および第２
の透明基体としてガラスを用い、中間膜としてポリビニ
ルブチラールを用いた合わせガラスが挙げられる。積層
体の好適な具体例としては、第１および第２の透明基体
として、それぞれ熱線吸収ガラス、高熱線吸収ガラス、
紫外線吸収ガラスのいずれかを用い、中間膜としてポリ
ビニルブチラールを用いた合わせガラスが挙げられる。
中でも、第１および第２の透明基体として、それぞれ高
熱線吸収ガラスを用い、中間膜としてポリビニルブチラ
ールを用いた合わせガラスが好ましい。このような透過
率の低いガラスを用いると、膜面から入射する光の非膜
面側での反射率が低下する。これらは、輸送機器用窓
（例えば、車輌用窓）、メータ機器のカバーとして好適
に用いられる。特に、自動車用の窓ガラス（特に、フロ
ントガラス、リアガラス）に好適である。本発明の反射
防止膜付き基体においては、反射防止膜が形成された面
とは反対側の基体面上に反射防止膜等の機能膜を設ける
ことができる。

【００２８】本発明の第１の態様の反射防止膜付き基体
は、透明基体と、該透明基体の一方の側に積層してなる
２層以上の反射防止膜とを備える反射防止膜付き基体で
あって、入射角５度で膜面側から入射した光の膜面での
反射率が４００〜４８０ｎｍの波長領域の全域で６％以
下であることを特徴とする反射防止膜付き基体である。
反射防止膜は、２層以上であれば、その層の数を特に限
定されないが、２層または３層であるのが好ましい。本
発明において、膜面側から入射した光の膜面での反射率
とは、光が反射防止膜付き基体の膜面側から入射した場
合における、入射光に対する膜面で反射する反射光の比
をいう。したがって、膜面での反射率は、反射光のう
ち、非膜面（膜がない面）で反射する反射光を除いて膜
面での反射光を得ることにより求められる。具体的に
は、反射防止膜面側のみの反射を測定するため、例え
ば、反対側の非膜面に黒色ペイントを塗布して、各波長
における反射率を測定する。本発明においては、図１に
示すように、入射角５度で入射した光の反射光を反射角
５度の位置で受光した場合の反射率を用いる。図１にお
いて、光源１１０から放射された光は、反射防止膜付き
基体１００の法線１３０に対して５度の角度で入射し、
反射防止膜付き基体１００の膜面で法線１３０に対して
５度の角度で反射して受光部１２０に至り、反射率が測
定される。

【００２９】本発明の反射防止膜付き基体は、入射角５
度の光を用いて上記のようにして求められる膜面での反
射率が、４００〜４８０ｎｍの波長領域の全域で６％以
下となる。これにより、反射防止膜付き基体の非膜面側
から見た反射色調が、入射角が大きい場合だけでなく小
さい場合においても青みがからず、所望によりニュート
ラルとすることもできる。本発明の反射防止膜付き基体
を自動車用のフロントガラスとして用いる場合には、通
常、膜面を室内（車内）側に、非膜面を室外（車外）側
とする。したがって、外観デザインの観点から問題とな
る反射色調とは、非膜面側から入射した光の非膜面およ
び膜面での反射光の色調である。即ち、本発明は、問題
となる非膜面側から入射した光の反射色調が、入射角が
大きい場合だけでなく小さい場合においても青みがから
ず、所望によりニュートラルとすることもできるよう
に、膜面側から特定の入射角で入射した光の特定の波長
領域における反射率を規定したものである。

【００３０】本発明においては、入射角５度で膜面側か
ら入射した光の膜面での反射率が４００〜４８０ｎｍの
波長領域の全域で４％以下であると、非膜面側から見た
反射色調の青みが低くなるので好ましい。また、本発明
においては、基準となる波長領域は４００〜４８０ｎｍ
であるが、入射角５度で膜面側から入射した光の膜面で
の反射率が４００〜７００ｎｍの波長領域の全域で６％
以下、好ましくは４％以下であると、非膜面側から見た
反射色調がニュートラルになるので好ましい。また、本
発明においては、入射光の入射角を５度としているが、
入射角が０〜１０度のいずれの場合においても、上記反
射率が上記条件を満たすのが好ましい。

【００３１】本発明の第２の態様の反射防止膜付き基体
は、透明基体と、該透明基体の一方の側に第１層と第２
層とをこの順に積層してなる２層の反射防止膜とを備え
る反射防止膜付き基体であって、該第１層が、屈折率が
１．６〜２．６であり、膜厚が下記式で求められる反射
防止条件の膜厚の１．１〜１．９倍である薄膜であり、
該第２層が、屈折率が１．４〜１．５６であり、膜厚が
下記式で求められる反射防止条件の膜厚の０．５〜１．
１倍である薄膜であることを特徴とする反射防止膜付き
基体である。ｄ＝λ／ [４ｎ｛１−（ｓｉｎθ／ｎ)²｝^1/2] ただし、ｄは各層の反射防止条件の膜厚、ｎは各層の屈
折率であり、λ＝５５０ｎｍ、θ＝６０゜である。これ
により、反射防止膜付き基体の非膜面側から見た反射色
調が、入射角が大きい場合だけでなく小さい場合におい
ても青みがからず、所望によりニュートラルとすること
もできる。本発明の第２の態様の反射防止膜付き基体
は、２層からなる反射防止膜を備え、第１層および第２
層の屈折率を特定の範囲にし、該屈折率に応じて、それ
ぞれの膜厚を特定の範囲にすることにより、所望の反射
色調を得るものである。θ＝６０°は、斜め方向からの
入射光であることを想定したものである。

【００３２】図１１は本発明における斜め方向からの入
射光に関する説明図である。輸送機器へのガラス板の取
り付け角度をα度とし、観察者（運転者）の視線を水平
方向（無限遠方を見る）とすると、観察者の視線とガラ
ス板とはＡ点で交差し、Ａ点でのガラス板の接線に垂直
な線と観察者の視線とのなす角はおよそ（９０−α）度
（θ度）となる。一方、スネルの反射の法則により、Ａ
点におよそθ度で入射する室内光（例えば、ダッシュボ
ード２０付近の光）が、観察者に届く。一般に、光の入
射角とは、反射面に垂直な方向と光の入射方向とのなす
角度を指し、ガラス板の取り付け角度がα度である場合
には、およそθ度で表される角度が膜面側（室内側）か
らの光の入射角となる。例えば、取り付け角度αが３０
度の場合は膜面側からの入射光は６０度の入射光とな
る。以下において、単に「入射角」という場合は膜面側
からの光の入射角を表すものとする。

【００３３】屈折率は、波長５５０ｎｍにおける屈折率
である。第１層および第２層は、屈折率が上記範囲にあ
れば、その材料は特に限定されない。第１層および第２
層の膜厚は、反射防止条件の膜厚との関係で特定され
る。ここで、反射防止条件の膜厚は、一般に、下記式に
より求められる。ｄ＝λ／ [４ｎ｛１−（ｓｉｎθ／ｎ)²｝^1/2] ただし、ｄは反射防止条件の膜厚、ｎは屈折率である。
本発明においては、λ＝５５０ｎｍ、θ＝６０゜の条件
で、各層の屈折率から各層の反射防止条件の膜厚を求め
る。第１層の膜厚は、上記式により求められる第１層の
反射防止条件の膜厚の１．１〜１．９倍である。第２層
の膜厚は、上記式により求められる第２層の反射防止条
件の膜厚の０．５〜１．１倍である。

【００３４】即ち、本発明の第２の態様においては、波
長５５０ｎｍ、入射角６０度の場合に反射防止条件とな
る膜厚を基に、第１層においてはそれより厚くなるよう
に、第２層においてはそれより薄くなるように、膜厚を
設計する。自動車用のフロントガラス等においては、通
常、入射角６０度の場合の反射光が反射防止されるよう
に、膜厚を上記式により求められる反射防止条件の膜厚
の値に設計する。これに対し、本発明においては膜厚を
上記反射防止条件の膜厚の値からずらして、即ち、入射
角６０度の場合の反射率をわずかに犠牲にして、非膜面
側から見た反射色調を、入射角が大きい場合だけでなく
小さい場合においても所望のものとするのである。

【００３５】本発明の第２の態様において、第１層およ
び第２層のそれぞれの屈折率および、反射防止条件の膜
厚に対する膜厚の比（倍率）の特に好ましい組み合わせ
を第１表に示す。

【００３６】

【表１】

【００３７】中でも、好ましい組み合わせを第２表に示
す。

【００３８】

【表２】

【００３９】

【表３】

【００４０】本発明の第３の態様の反射防止膜付き基体
は、透明基体と、該透明基体の一方の側に第１層と第２
層とをこの順に積層してなる２層の反射防止膜とを備え
る本発明の第１および／または第２の態様の反射防止膜
付き基体であって、該第１層が、屈折率が１．６〜２．
６であり、膜厚が６０〜２００ｎｍである薄膜であり、
該第２層が、屈折率が１．４〜１．５６であり、膜厚が
５０〜１４０ｎｍである薄膜であることを特徴とする反
射防止膜付き基体である。これにより、反射防止膜付き
基体の非膜面側から見た反射色調が、入射角が大きい場
合だけでなく小さい場合においても青みがからず、所望
によりニュートラルとすることもできる。屈折率は、波
長５５０ｎｍにおける屈折率である。第１層および第２
層は、屈折率が上記範囲にあれば、その材料を特に限定
されない。本発明の第３の態様の反射防止膜付き基体
は、２層の反射防止膜を備え、第１層および第２層の屈
折率および膜厚を特定の範囲にすることにより、所望の
反射色調を得るものである。

【００４１】本発明の第３の態様において、第１層およ
び第２層のそれぞれの屈折率および膜厚の特に好ましい
組み合わせを第３表に示す。

【００４２】

【表４】

【００４３】中でも、好ましい組み合わせを第４表に示
す。

【００４４】

【表５】

【００４５】

【表６】

【００４６】反射防止膜が２層である場合の本発明の第
１の態様の反射防止膜付き基体、ならびに、本発明の第
２および第３の態様の反射防止膜付き基体においては、
反射防止膜の材料は特に限定されないが、第１層は、チ
タン、ケイ素、亜鉛、アルミニウム、スズ、ジルコニウ
ム、タンタル、タングステン、ビスマスおよびニオブか
らなる群から選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物、
酸窒化物もしくは酸炭化物、または、ケイ素、アルミニ
ウムおよびホウ素からなる群から選ばれる少なくとも１
種の元素の窒化物もしくは窒炭化物を含有する薄膜であ
るのが好ましく、また、第２層は、屈折率の観点からケ
イ素の酸化物を含有する薄膜であるのが好ましい。これ
らの材料を用いると、透過率が高いうえ、本発明の第
１、第２および第３の態様のそれぞれの条件を満足させ
ることが容易となる。中でも、第１層は、（１）スズの
酸窒化物、（２）ジルコニウムおよびケイ素の混合酸化
物、（３）チタンの酸化物、（４）チタンおよびケイ素
の混合酸化物、（５）ケイ素の酸炭化物、（６）ケイ素
の酸窒化物、（７）アルミニウムの酸窒化物、ならび
に、（８）アルミニウムの窒化物のいずれかからなる薄
膜であるのが好ましい。また、第２層は、熱処理後も光
学特性が実質的に変化せず、熱処理後の機械的特性も良
好なことから、（１）ケイ素の酸化物、（２）ケイ素お
よびアルミニウムの混合酸化物、ならびに、（３）ケイ
素の酸窒化物のいずれかからなる薄膜であるのが好まし
い。特に、後述する熱処理時の耐熱性の観点から、第１
層は、スズの酸窒化物またはチタンの酸化物からなる薄
膜であるのが好ましい。

【００４７】本発明の第４の態様の反射防止膜付き基体
は、透明基体と、該透明基体の一方の側に第１層と第２
層とをこの順に積層してなる２層の反射防止膜とを備え
る反射防止膜付き基体であって、該第１層が、膜厚が１
０４〜１２４ｎｍである酸窒化スズ膜であり、該第２層
が、膜厚が８５〜１０５ｎｍである酸化ケイ素膜である
ことを特徴とする反射防止膜付き基体である。これによ
り、反射防止膜付き基体の非膜面側から見た反射色調
が、入射角が大きい場合だけでなく小さい場合において
も青みがからず、所望によりニュートラルとすることも
できる。また、前記のような構成とすると、熱処理を施
しても膜の体積変化が少なく、亀裂、剥離が発生せず、
光学特性も維持される。なお、第１層は、実質的に酸窒
化スズ膜であればよく、不純物として他の元素を含んで
いてもよい。また、第２層は、実質的に酸化ケイ素膜で
あればよく、不純物として他の元素を含んでいてもよ
い。第１層の膜厚は、１０９〜１２１ｎｍであるのが好
ましい。第２層の膜厚は、９０〜１００ｎｍであるのが
好ましい。

【００４８】本発明の第５の態様の反射防止膜付き基体
は、透明基体と、該透明基体の一方の側に第１層と第２
層と第３層とをこの順に積層してなる３層の反射防止膜
とを備える反射防止膜付き基体であって、該第１層およ
び該第２層が、互いに異なる組成を持ち、それぞれ屈折
率が１．６〜２．５であり、第１層および第２層のうち
少なくとも１層の膜厚が下記式で求められる反射防止条
件の膜厚の０．０４〜０．９倍である薄膜であり、該第
３層が、屈折率が１．４〜１．５であり、膜厚が下記式
で求められる反射防止条件の０. ４〜１．１倍である薄
膜であることを特徴とする反射防止膜付き基体である。ｄ＝λ／ [４ｎ｛１−（ｓｉｎθ／ｎ)²｝^1/2] ただし、ｄは各層の反射防止条件の膜厚、ｎは各層の屈
折率であり、λ＝５５０ｎｍ、θ＝６０゜である。これ
により、反射防止膜付き基体の非膜面側から見た反射色
調が、入射角が大きい場合だけでなく小さい場合におい
ても青みがからず、所望によりニュートラルとすること
もできる。本発明の第５の態様の反射防止膜付き基体
は、３層の反射防止膜を備え、第１層、第２層および第
３層の屈折率を特定の範囲にし、該屈折率に応じて、そ
れぞれの膜厚を特定の範囲にすることにより、所望の反
射色調を得るものである。

【００４９】屈折率は、波長５５０ｎｍにおける屈折率
である。第１層、第２層および第３層は、屈折率が上記
範囲にあれば、その材料を特に限定されない。ただし、
第１層および第２層は、互いに異なる組成を持つ。第１
層、第２層および第３層の膜厚は、上述の反射防止条件
の膜厚との関係で特定される。反射防止条件の膜厚を求
める条件は、本発明の第２の態様の場合と同様である。
第１層および第２層の膜厚は、少なくとも一方が上記式
で求められる各層の反射防止条件の膜厚の０．０４〜
０．９倍であることを要するが、両方がこの要件を満た
す必要はない。第３層の膜厚は、上記式で求められる第
３層の反射防止条件の０. ４〜１．１倍である。

【００５０】即ち、本発明の第５の態様においては、波
長５５０ｎｍ、入射角６０度の場合に、反射防止条件と
なる膜厚を基に、第１層、第２層および第３層の膜厚を
設計する。本発明の第５の態様において、総膜厚（第１
層、第２層および第３層の膜厚の和）は、２５０ｎｍ未
満であるのが好ましい。総膜厚が２５０ｎｍ未満である
と、後述する熱処理性に優れる。

【００５１】本発明の第５の態様において、第１層、第
２層および第３層のそれぞれの屈折率および、反射防止
条件の膜厚に対する膜厚の比（倍率）の特に好ましい組
み合わせを第５表に示す。中でも、表７のＮｏ．１およ
びＮｏ．４は、本発明の目的を達成する膜構成のバリエ
ーションに富み、特にＮｏ．１が好ましい。Ｎｏ．２お
よびＮｏ．３では、反射色調と６０°の入射光に対する
反射率の観点から第１層と第２層の屈折率の差が０．３
未満であることが好ましい。

【００５２】

【表７】

【００５３】中でも、好ましい組み合わせを第６表に示
す。

【００５４】

【表８】

【００５５】

【表９】

【００５６】

【表１０】

【００５７】

【表１１】

【００５８】なお、第５の態様においては、第１層と第
２層の屈折率の差が０．３以上である場合、第１層と第
２層のいずれか一方の反射防止条件の膜厚に対する幾何
学的膜厚の比（倍率）が０．５より小さいことが好まし
い。

【００５９】本発明の第６の態様の反射防止膜付き基体
は、透明基体と、該透明基体の一方の側に第１層と第２
層と第３層とをこの順に積層してなる３層の反射防止膜
とを備える反射防止膜付き基体であって、該第１層およ
び該第２層が、互いに異なる組成を持ち、それぞれ屈折
率が１．６〜２．５であり、第１層および第２層のうち
少なくとも１層の膜厚が２〜９５ｎｍである薄膜であ
り、該第３層が、屈折率が１．４〜１．５であり、膜厚
が４４〜１３８ｎｍである薄膜であることを特徴とする
反射防止膜付き基体である。これにより、反射防止膜付
き基体の非膜面側から見た反射色調が、入射角が大きい
場合だけでなく小さい場合においても青みがからず、所
望によりニュートラルとすることもできる。

【００６０】屈折率は、波長５５０ｎｍにおける屈折率
である。第１層、第２層および第３層は、屈折率が上記
範囲にあれば、その材料を特に限定されない。ただし、
第１層および第２層は、互いに異なる組成を持つ。本発
明の第６の態様の反射防止膜付き基体は、３層の反射防
止膜を備え、第１層、第２層および第３層の屈折率およ
び膜厚を特定の範囲にすることにより、所望の反射色調
を得るものである。また、本発明の第６の態様におい
て、総膜厚（第１層、第２層および第３層の膜厚の和）
は、２５０ｎｍ未満であるのが好ましい。総膜厚が２５
０ｎｍ未満であると、後述する熱処理性に優れる。

【００６１】本発明の第６の態様において、第１層、第
２層および第３層のそれぞれの屈折率および膜厚の特に
好ましい組み合わせを第７表に示す。中でも、表７のＮ
ｏ．１およびＮｏ．４は、本発明の目的を達成する膜構
成のバリエーションに富み、特にＮｏ．１が好ましい。
Ｎｏ．２およびＮｏ．３では、反射色調と６０°の入射
光に対する反射率の観点から第１層と第２層の屈折率の
差が０．３未満であることが好ましい。

【００６２】

【表１２】

【００６３】中でも、好ましい組み合わせを第８表に示
す。

【００６４】

【表１３】

【００６５】

【表１４】

【００６６】

【表１５】

【００６７】

【表１６】

【００６８】反射防止膜が３層である場合の本発明の第
１の態様の反射防止膜付き基体、ならびに、本発明の第
５および第６の態様の反射防止膜付き基体においては、
反射防止膜の材料は特に限定されないが、第１層および
第２層は、互いに異なる組成を持ち、それぞれチタン、
ケイ素、亜鉛、アルミニウム、スズ、ジルコニウム、タ
ンタル、タングステン、ビスマスおよびニオブからなる
群から選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物、酸窒化
物もしくは酸炭化物、または、ケイ素、アルミニウムお
よびホウ素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元
素の窒化物もしくは窒炭化物を含有する薄膜であるのが
好ましく、また、第３層は、屈折率の観点からケイ素の
酸化物を含有する薄膜であるのが好ましい。なお、本発
明の第５および第６の態様において、第１層および第２
層は、含有する化合物の種類、該化合物の組成および該
化合物の含有量のすべてが同一であることはないが、含
有する化合物の種類が同一であり該化合物の組成が異な
ることや、含有する化合物の種類および該化合物の組成
が同一であり該化合物の含有量が異なることがある。

【００６９】これらの材料を用いると、透過率が高いう
え、本発明の第１、第５および第６の態様のそれぞれの
条件を満足させることが容易となる。中でも、第１層お
よび第２層は、熱処理後の光学特性が実質的に変化せ
ず、熱処理後の機械特性も良好なことから、それぞれ、
（１）スズの酸窒化物、（２）亜鉛およびスズの混合酸
化物、（３）チタンおよびケイ素の混合酸化物、（４）
ケイ素の酸炭化物、（５）ケイ素の酸窒化物、（６）ア
ルミニウムの酸窒化物、（７）アルミニウムの窒化物、
（８）チタンの酸化物、（９）タンタルの酸化物、なら
びに、（１０）ニオブの酸化物のいずれかからなる薄膜
であるのが好ましく、また、第３層は、前記と同様の理
由から、（１）ケイ素の酸化物、（２）ケイ素およびア
ルミニウムの混合酸化物、ならびに、（３）ケイ素の酸
窒化物のいずれかからなる薄膜であるのが好ましい。特
に、後述する熱処理の耐熱性の観点から、第１層および
第２層は、それぞれ、スズの酸窒化物またはチタンの酸
化物であることが好ましい。

【００７０】本発明の第７の態様の反射防止膜付き基体
は、透明基体と、該透明基体の一方の側に第１層と第２
層と第３層とをこの順に積層してなる３層の反射防止膜
とを備える反射防止膜付き基体であって、該第１層が、
膜厚が７０〜１３０ｎｍである酸窒化スズ膜であり、該
第２層が、膜厚が１〜２５ｎｍである酸化チタン膜であ
り、該第３層が、膜厚が８０〜１３０ｎｍである酸化ケ
イ素膜であることを特徴とする反射防止膜付き基体であ
る。また、本発明の第８の態様の反射防止膜付き基体
は、透明基体と、該透明基体の一方の側に第１層と第２
層と第３層とをこの順に積層してなる３層の反射防止膜
とを備える反射防止膜付き基体であって、該第１層が、
膜厚が１〜２５ｎｍである酸化チタン膜であり、該第２
層が、膜厚が７０〜１３０ｎｍである酸窒化スズ膜であ
り、該第３層が、膜厚が８０〜１３０ｎｍである酸化ケ
イ素膜であることを特徴とする反射防止膜付き基体であ
る。

【００７１】これらにより、反射防止膜付き基体の非膜
面側から見た反射色調が、入射角が大きい場合だけでな
く小さい場合においても青みがからず、所望によりニュ
ートラルとすることもできる。また、前記のような構成
とすると、熱処理を施しても膜の体積変化が少なく、亀
裂、剥離が発生せず、光学特性も維持される。なお、本
発明の第７および第８の態様において、本発明の第４の
態様と同様に、各層は不純物として他の元素を含んでい
てもよい。本発明の第７の態様において、第１層の膜厚
は、８０〜１２０ｎｍであるのが好ましい。第２層の膜
厚は、１〜２０ｎｍであるのが好ましい。第３層の膜厚
は、９０〜１２０ｎｍであるのが好ましい。本発明の第
８の態様において、第１層の膜厚は、１〜２０ｎｍであ
るのが好ましい。第２層の膜厚は、８０〜１２０ｎｍで
あるのが好ましい。第３層の膜厚は、９０〜１２０ｎｍ
であるのが好ましい。本発明の第７および第８の態様に
おいて、総膜厚（第１層、第２層および第３層の膜厚の
和）は、２５０ｎｍ未満であるのが好ましい。総膜厚が
２５０ｎｍ未満であると、後述する熱処理性に優れる。

【００７２】本発明の各態様において用いる酸窒化スズ
膜中の窒素の含有割合は、耐熱性の観点から、０原子％
超、４．０原子％未満（特に０原子％超、０．９原子％
未満）であることが好ましい。熱処理後の酸窒化スズ膜
中の窒素の含有割合は、０原子％超、４．０原子％未満
（特に０原子％超、０．９原子％未満）であることが好
ましい。酸窒化スズ膜中の窒素の含有割合はＸＰＳ測定
装置（ＰＨＩ社製Ｑｕａｎｔｕｍ２０００）を用いて
測定した。Ｘ線源、帯電補正は以下の条件のものを用い
た。Ｘ線源：石英クリスタルを用いて単色化したＡｌＫα
線、ビーム径１００μｍ、出力１５ｋＶ、２０Ｗ帯電補正：電子シャワー３０ｅＶ、Ａｒ⁺イオンシャワ
ー６ｅＶまた、具体的な測定方法は以下のとおりである。以下の
明細書に記載される酸窒化スズ膜中の窒素の含有割合も
同様にして測定した。Ａｒ⁺イオンビーム（１ｋｅＶ、
６．２５ｍＡ／ｃｍ²）を用いて、サンプル面上の２ｍ
ｍ×２ｍｍの領域をラスタースキャンし、表面層をスパ
ッタエッチングした面を測定した。（ただし、光電子の
検出角度は４５°、光電子分析器のパスエネルギーの幅
は１１７．４ｅＶとした。）Ｎ_1s、Ｏ_1s、Ｓｎ_3d5/2の
ピークを測定し、ピーク面積を求め、相対感度係数を用
いて、表面原子数比を算出し、窒素の含有割合（原子
％）を求めた。相対感度係数はそれぞれ、Ｎ_1sは０．４
９９、Ｏ_1sは０．７３３、Ｓｎ_3d5/2は４．８９０であ
る。

【００７３】本発明においては、第１の態様の反射防止
膜付き基体が、その反射防止膜が２層である場合には、
同時に、第２、第３および第４の態様のうち一つ以上に
該当するのが好ましい。中でも、第１、第２、第３およ
び第４のいずれの態様にも該当する反射防止膜付き基体
が好ましい。また、第１の態様の反射防止膜付き基体
が、その反射防止膜が３層である場合には、同時に、第
５、第６、第７および第８の態様のうち一つ以上に該当
するのが好ましい。中でも、第１、第５、第６および第
７のいずれの態様にも該当する反射防止膜付き基体、第
１、第５、第６および第８のいずれの態様にも該当する
反射防止膜付き基体が好ましい。

【００７４】本発明の第１から第８までの態様の反射防
止膜付き基体は、各層の可視光領域の消衰係数がいずれ
も０．０５以下であるのが好ましい。ここで、消衰係数
は、一般に、下記式により求められる。ｋ＝（α×λ₀）／４π ただし、ｋは消衰係数、λ₀は入射光の真空中での波
長、αは吸収係数である。各層の消衰係数がいずれも
０．０５以下であることにより、可視光透過率（Ｔｖ）
が７０％以上の基体（特にガラス基体）を用いた反射防
止膜付き基体に対して入射角０度で入射したＴｖを７０
％以上とすることができる。反射防止膜の構成を選択
し、Ｔｖが７３％以上の基体を用いることで、Ｔｖが７
５％以上の反射防止膜付き基体を得ることができ、直達
日射光を遮断する熱線吸収ガラスを基体として用いても
各国が定める自動車用フロントガラスの透過率を満足す
る。各層の可視光領域の消衰係数は、それぞれ０．０１
以下であるのがより好ましい。

【００７５】本発明の第９の態様は、本発明の第１から
第８までの態様の反射防止膜付き基体を熱処理すること
により、曲げ加工または強化加工をされた反射防止膜付
き基体を製造することを特徴とする反射防止膜付き基体
の製造方法である。本発明の第９の態様によれば、熱処
理により曲げ加工または強化加工をすることができるの
で、曲げ加工または強化加工をした後に反射防止膜を形
成する必要がなく、生産工程上、有利である。

【００７６】したがって、本発明の第１から第８までの
態様の反射防止膜付き基体は、熱処理によって、曲げ加
工または強化加工をすることができる反射防止膜付き基
体であるのが好ましい。曲げ加工は、例えば、自動車の
フロントガラス等に本発明の反射防止膜付き基体を用い
る場合に、平面状の反射防止膜付き基体を３次元曲面形
状に変形して反射防止膜が室内側になるように、熱処理
しつつ行うまたは熱処理の直後に行う加工である。強化
加工は、例えば、自動車のリアガラス、ドアガラス等に
本発明の反射防止膜付き基体を用いる場合に、平面状の
反射防止膜付き基体を反射防止膜が室内側になるよう
に、熱処理した直後に急冷し、ガラス表面に圧縮応力層
を施す加工である。曲げ加工および強化加工において、
熱処理の温度は５６０〜７００℃であり、熱処理の雰囲
気は大気雰囲気である。熱処理の時間は、約３〜１０分
である。

【００７７】従来の３層以上からなる反射防止膜を有す
るガラスは、総膜厚が約２５０ｎｍ以上と厚いために、
熱処理により膜に亀裂が入りやすく、曲げ加工および強
化加工はいずれも不可能であった。また、２層膜であっ
ても、酸化スズ膜を含むものは、熱処理によって、光学
性能が劣化し、亀裂または剥離が発生するため、曲げ加
工および強化加工はいずれも不可能であった。これに対
し、本発明の反射防止膜付き基体は、熱処理で光学性能
変化や体積変化を生じにくい材料を用い、かつ、必要に
応じて総膜厚を２５０ｎｍ未満とすることができるた
め、熱処理によって、曲げ加工または強化加工をするこ
とができる。

【００７８】本発明の反射防止膜付き基体の製造方法
は、特に限定されないが、スパッタリング法で反射防止
膜を基体上に成膜するのが好ましい。スパッタリング法
は、例えば、ＤＣ（直流）スパッタリング方式、ＡＣ
（交流）スパッタリング方式が挙げられる。中でも、プ
ロセスが安定しており、大面積への成膜が容易であると
いう利点があるので、ＤＣスパッタリング方式、特に、
マグネトロンＤＣスパッタリング方式が好ましい。スパ
ッタリング法においては、反応性のガスを用いて、反応
性スパッタリングとすることもできる。なお、導電性タ
ーゲットから絶縁膜（例えばシリカ膜）を成膜する場合
は、顕著なアーキングがなく、安定して成膜できること
からＡＣスパッタリング方式が好ましい。本発明に用い
られる透明基体が積層体である場合における反射防止膜
付き基体の製造方法は、第１の透明基体に反射防止膜を
成膜した後に、中間膜を介して第２の透明基体と積層し
てもよく、第１の透明基体と第２の透明基体とを中間膜
を介して積層した後に、反射防止膜を成膜してもよい。

【００７９】本発明の反射防止膜付き基体が、熱処理に
より曲げ加工をすることができるものであるときには、
第１の透明基体に反射防止膜を成膜した後に、熱処理に
より３次元曲面形状に加工をし、さらに中間膜を介して
第２の透明基体と積層することができる。例えば、透明
基体がガラスである本発明の反射防止膜付き基体を熱処
理により、３次元曲面形状に曲げ加工をした後、前記曲
げ加工をされた反射防止膜付きガラス基板と、略同形状
の別のガラス基板とを中間膜を介して積層して反射防止
膜付き合わせガラスを製造することができる。この合わ
せガラスの製造方法は本発明の第１０の態様である。こ
の際、第２の透明基体は、曲げ加工において、第１の透
明基体の非膜面側に接着しないように重ねておき、同時
に３次元曲面形状に曲げ加工した後、第１の透明基体と
積層するのが好ましい。

【００８０】本発明の反射防止膜付き基体の用途は、特
に限定されず、例えば、輸送機器用窓（例えば、車輌用
窓）、メータ機器のカバーとして好適に用いられる。特
に、自動車用の窓ガラス（特に、フロントガラス、リア
ガラス）に好適である。

【００８１】

【実施例】つぎに、本発明を実施例により具体的に説明
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。１．反射防止膜付き基体の製造（実施例１）真空槽内に金属Ｓｎ、金属Ｔｉおよび金属
Ｓｉ（Ｂドープ多結晶）をスパッタターゲットとしてカ
ソード上に設置し、真空槽を１．３×１０^-3Ｐａまで排
気した。真空槽内に設置したガラス基板１として熱線吸
収ガラス（厚み２ｍｍの旭硝子社製「サングリーン」、
以下「ＶＦＬ２」と称す。）を使用し、その上に次のよ
うにして反射防止膜を形成した。

【００８２】＜第１層＞放電ガスとして酸素２５０ｓｃ
ｃｍと窒素３５０ｓｃｃｍとの混合ガスを導入した。こ
のとき、圧力は０．４５Ｐａとなった。ついで、Ｓｎの
反応性ＤＣスパッタリングにより、膜厚が９８ｎｍの酸
窒化スズ膜（波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．９
５、窒素含有割合が０．５原子％）を第１層の膜２とし
て成膜した。

【００８３】＜第２層＞つぎに、放電ガスとしてアルゴ
ン３００ｓｃｃｍと酸素６０ｓｃｃｍとの混合ガスを導
入した。このとき、圧力は０．４Ｐａとなった。つい
で、Ｔｉの反応性ＤＣスパッタリングにより、膜厚が１
３ｎｍの酸化チタン膜（波長５５０ｎｍにおける屈折率
が２．４）を第２層の膜３として成膜した。

【００８４】＜第３層＞ついで、放電ガスとしてアルゴ
ン１００ｓｃｃｍと酸素５００ｓｃｃｍとの混合ガスを
導入した。このとき、圧力は０．３５Ｐａとなった。つ
いで、Ｓｉの反応性ＤＣスパッタリングにより、膜厚が
１０５ｎｍの酸化シリコン膜（波長５５０ｎｍにおける
屈折率が１．４６）を第３層の膜４として形成した。こ
のようにして得られた反射防止膜付きガラス（本発明の
反射防止膜付き基体）５の断面模式図を図２に示す。

【００８５】（実施例２）実施例１で得られた反射防止
膜付きガラスを用い、以下のようにして曲げ加工を行っ
た。実施例１で得られた反射防止膜付きガラス５と、該
ガラスと同じ大きさの別のガラス基板６として熱線吸収
ガラス（ＶＦＬ２）とを使用し、反射防止膜付きガラス
５の反射防止膜面が上側（外側）になるように、反射防
止膜付きガラス５を上側、別のガラス基板６を下側にし
て重ねた。２枚のガラスの間には熱融着防止用の粉末を
挿入した。２枚のガラスを成型するための金型に載せ、
電気加熱炉で曲げ加工のための熱処理を行った。熱処理
の条件は、大気雰囲気中で、余熱時間を３分、最高温度
保持時間を５分、ガラスの到達最高温度を６２０℃、徐
冷時間を３分とした。曲げ加工後において、反射防止膜
にシワ、剥離、変色といった外観変化は見られず、また
ガラス板の異常な反りも見られなかった。２枚のガラス
はきれいに型に追従し、曲げられた。なお、熱処理後の
酸窒化スズ膜中の窒素含有割合は０．３原子％であっ
た。

【００８６】つぎに、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）
製の中間膜７を介し、曲げ加工がなされた２枚のガラス
を合わせ、合わせガラスを作製した。合わせガラスの作
製は、予備圧着工程をゴム袋を用いた真空加熱脱気法で
行い、本圧着をオートクレーブ法（最高温度１３５℃、
圧力１．３ＭＰａ）で行った。得られた合わせガラス８
の断面模式図を図３に示す。合わせ加工後において、反
射防止膜にシワ、剥離、変色といった外観変化は見られ
ず、またガラス板の異常な反りも見られなかった。

【００８７】（実施例３）実施例１におけるガラス基板
を高熱線吸収ガラス（厚み２ｍｍの旭硝子社製「ＵＶク
ールグリーン」、以下「ＵＶＦＬ２」と称す。）に変更
し、実施例１と同様に３層の反射防止膜を作製した。得
られた反射防止膜付きガラスと該ガラスと同じ大きさの
高熱線吸収ガラス（ＵＶＦＬ２）とを使用し、実施例２
と同様の方法により、合わせガラスとした。曲げ加工後
および合わせ加工後において、反射防止膜にシワ、剥
離、変色といった外観変化は見られず、またガラス板の
異常な反りも見られなかった。

【００８８】（実施例４）真空槽内に金属ＺｎＳｎ（Ｓ
ｎ含有率：１０原子％）、金属Ｔｉおよび金属Ｓｉ（Ｂ
ドープ多結晶）をスパッタターゲットとしてカソード上
に設置し、真空槽を１．３×１０^-3Ｐａまで排気した。
真空槽内に設置したガラス基板として熱線吸収ガラス
（ＶＦＬ２）を使用し、その上に次のようにして反射防
止膜を形成した。

【００８９】＜第１層＞放電ガスとしてアルゴン１００
ｓｃｃｍと酸素５００ｓｃｃｍとの混合ガスを導入し
た。このとき、圧力は０．３５Ｐａとなった。ついで、
ＺｎＳｎの反応性ＤＣスパッタリングにより、膜厚が１
０５ｎｍのＺｎおよびＳｎの混合酸化物膜（波長５５０
ｎｍにおける屈折率が１．９５）を成膜した。

【００９０】＜第２層＞つぎに、放電ガスとしてアルゴ
ン３００ｓｃｃｍと酸素６０ｓｃｃｍとの混合ガスを導
入した。このとき、圧力は０．４Ｐａとなった。つい
で、Ｔｉの反応性ＤＣスパッタリングにより、膜厚が５
ｎｍの酸化チタン膜（波長５５０ｎｍにおける屈折率が
２．４）を成膜した。

【００９１】＜第３層＞ついで、放電ガスとしてアルゴ
ン１００ｓｃｃｍと酸素５００ｓｃｃｍとの混合ガスを
導入した。このとき、圧力は０．３５Ｐａとなった。つ
いで、Ｓｉの反応性ＤＣスパッタリングにより、膜厚が
１０３ｎｍの酸化シリコン膜（波長５５０ｎｍにおける
屈折率が１．４６）を形成した。

【００９２】このようにして得られた反射防止膜付きガ
ラスについて、実施例２と同様の方法により、曲げ・合
わせ加工を行った。合わせガラスとする場合のもう一方
のガラス６としては、該ガラスと同じ大きさの熱線吸収
ガラス（ＶＦＬ２）を使用した。曲げ加工後および合わ
せ加工後において、反射防止膜にシワ、剥離、変色とい
った外観変化は見られず、ガラス板の異常な反りも見ら
れなかった。

【００９３】（実施例５）真空槽内に金属ＴｉＳｉ（Ｓ
ｉ含有率：４８原子％）、金属Ｔｉおよび金属Ｓｉ（Ｂ
ドープ多結晶）をスパッタターゲットとしてカソード上
に設置し、真空槽を１．３×１０^-3Ｐａまで排気した。
真空槽内に設置したガラス基板として熱線吸収ガラス
（ＶＦＬ２）を使用し、その上に次のようにして反射防
止膜を形成した。

【００９４】＜第１層＞放電ガスとしてアルゴン１００
ｓｃｃｍと酸素５００ｓｃｃｍとの混合ガスを導入し
た。このとき、圧力は０．３５Ｐａとなった。ついで、
ＴｉＳｉの反応性ＤＣスパッタリングにより、膜厚が８
０ｎｍのＴｉおよびＳｉの混合酸化物膜（波長５５０ｎ
ｍにおける屈折率が１．９５）を成膜した。

【００９５】＜第２層＞つぎに、放電ガスとしてアルゴ
ン３００ｓｃｃｍと酸素６０ｓｃｃｍとの混合ガスを導
入した。このとき、圧力は０．４Ｐａとなった。つい
で、Ｔｉの反応性ＤＣスパッタリングにより、膜厚が２
５ｎｍの酸化チタン膜（波長５５０ｎｍにおける屈折率
が２．４）を成膜した。

【００９６】＜第３層＞ついで、放電ガスとしてアルゴ
ン１００ｓｃｃｍと酸素５００ｓｃｃｍとの混合ガスを
導入した。このとき、圧力は０．３５Ｐａとなった。つ
いで、Ｓｉの反応性ＤＣスパッタリングにより、膜厚が
１０３ｎｍの酸化シリコン膜（波長５５０ｎｍにおける
屈折率が１．４６）を形成した。

【００９７】このようにして得られた反射防止膜付きガ
ラスについて、実施例２と同様の方法により、曲げ・合
わせ加工を行った。合わせガラスとする場合のもう一方
のガラス６としては、該ガラスと同じ大きさの熱線吸収
ガラス（ＶＦＬ２）を使用した。曲げ加工後および合わ
せ加工後において、反射防止膜にシワ、剥離、変色とい
った外観変化は見られず、ガラス板の異常な反りも見ら
れなかった。

【００９８】（実施例６）真空槽内に金属Ｔｉ、金属Ｔ
ｉＳｉ（Ｓｉ含有率：４８原子％）および金属Ｓｉ（Ｂ
ドープ多結晶）をスパッタターゲットとしてカソード上
に設置し、真空槽を１．３×１０^-3Ｐａまで排気した。
真空槽内に設置したガラス基板として高熱線吸収ガラス
（ＵＶＦＬ２）を使用し、その上に次のようにして反射
防止膜を形成した。

【００９９】＜第１層＞放電ガスとしてアルゴン３００
ｓｃｃｍと酸素６０ｓｃｃｍとの混合ガスを導入した。
このとき、圧力は０．４Ｐａとなった。ついで、Ｔｉの
反応性ＤＣスパッタリングにより、膜厚が４ｎｍの酸化
チタン膜（波長５５０ｎｍにおける屈折率が２．４）を
成膜した。

【０１００】＜第２層＞つぎに、放電ガスとしてアルゴ
ン１００ｓｃｃｍと酸素５００ｓｃｃｍとの混合ガスを
導入した。このとき、圧力は０．３５Ｐａとなった。つ
いでＴｉＳｉの反応性ＤＣスパッタリングにより、膜厚
が１０７ｎｍのＴｉおよびＳｉの混合酸化物膜（波長５
５０ｎｍにおける屈折率が１．９５）を成膜した。

【０１０１】＜第３層＞ついで、放電ガスとしてアルゴ
ン１００ｓｃｃｍと酸素５００ｓｃｃｍとの混合ガスを
導入した。このとき、圧力は０．３５Ｐａとなった。つ
いで、Ｓｉの反応性ＤＣスパッタリングにより、膜厚が
９３ｎｍの酸化シリコン膜（波長５５０ｎｍにおける屈
折率が１．４６）を形成した。

【０１０２】このようにして得られた反射防止膜付きガ
ラスについて、実施例２と同様の方法により、曲げ・合
わせ加工を行った。合わせガラスとする場合のもう一方
のガラス６としては、該ガラスと同じ大きさの高熱線吸
収ガラス（ＵＶＦＬ２）を使用した。曲げ加工後および
合わせ加工後において、反射防止膜にシワ、剥離、変色
といった外観変化は見られず、ガラス板の異常な反りも
見られなかった。なお、本例における第２層を１０７ｎ
ｍの酸窒化スズ膜に変更した以外は、本例と同様にして
反射防止膜付きガラスを作成し、曲げ・合わせ加工を行
った。酸窒化スズ膜の成膜条件は実施例１と同様であ
る。得られた反射防止膜付きガラスおよび曲げ・合わせ
加工後の合わせガラスについての評価結果は、本例同様
の良好な結果であった。

【０１０３】（実施例７）真空槽内に金属Ｓｎおよび金
属Ｓｉ（Ｂドープ多結晶）をスパッタターゲットとして
カソード上に設置し、真空槽を１．３×１０^-3Ｐａまで
排気した。真空槽内に設置したガラス基板１１として透
明板ガラス（厚み２ｍｍの旭硝子社製「フロート板ガラ
ス」、以下「ＦＬ２」と称す。）を使用し、その上に次
のようにして反射防止膜を形成した。

【０１０４】＜第１層＞放電ガスとして酸素２５０ｓｃ
ｃｍと窒素３５０ｓｃｃｍとの混合ガスを導入した。こ
のとき、圧力は０．４５Ｐａとなった。ついで、Ｓｎの
反応性ＤＣスパッタリングにより、膜厚が１１４ｎｍの
酸窒化スズ膜（波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．９
５、窒素含有割合が０．５原子％）を第１層の膜１２と
して成膜した。

【０１０５】＜第２層＞つぎに、放電ガスとしてアルゴ
ン１００ｓｃｃｍと酸素５００ｓｃｃｍとの混合ガスを
導入した。このとき、圧力は０．３５Ｐａとなった。つ
いで、Ｓｉの反応性ＤＣスパッタリングにより、膜厚が
９５ｎｍの酸化シリコン膜（波長５５０ｎｍにおける屈
折率が１．４６）を第２層の膜１３として形成した。こ
のようにして得られた反射防止膜付きガラス１５の断面
模式図を図４に示す。

【０１０６】実施例７で得られた反射防止膜付きガラス
について、実施例２と同様の方法により、曲げ・合わせ
加工を行った。合わせガラスとする場合のもう一方のガ
ラス１６としては、該ガラスと同じ大きさの別のガラス
基板１６として透明板ガラス（ＦＬ２）を使用し、ＰＶ
Ｂ製の中間膜１７を介して合わせガラスを作製した。

【０１０７】得られた合わせガラス１８の断面模式図を
図５に示す。曲げ加工後および合わせ加工後において、
反射防止膜にシワ、剥離、変色といった外観変化は見ら
れず、またガラス板の異常な反りも見られなかった。な
お、熱処理後の酸窒化スズ膜中の窒素含有割合は０．３
原子％であった。

【０１０８】（実施例８）実施例７におけるガラス基板
を熱線吸収ガラス（ＶＦＬ２）に変更し、実施例７と同
様に２層の反射防止膜を作製した。得られた反射防止膜
付きガラスと該ガラスと同じ大きさの熱線吸収ガラス
（ＶＦＬ２）とを使用し、実施例７と同様の方法によ
り、合わせガラスとした。曲げ加工後および合わせ加工
後において、反射防止膜にシワ、剥離、変色といった外
観変化は見られず、またガラス板の異常な反りも見られ
なかった。

【０１０９】（実施例９）実施例７におけるガラス基板
を高熱線吸収ガラス（ＵＶＦＬ２）に変更し、実施例７
と同様に２層の反射防止膜を作製した。得られた反射防
止膜付きガラスと該ガラスと同じ大きさの高熱線吸収ガ
ラス（ＵＶＦＬ２）とを使用し、実施例７と同様の方法
により、合わせガラスとした。曲げ加工後および合わせ
加工後において、反射防止膜にシワ、剥離、変色といっ
た外観変化は見られず、またガラス板の異常な反りも見
られなかった。

【０１１０】（実施例１０）真空槽内にＺｒ−Ｓｉター
ゲット（Ｓｉ含有率：５３原子％）および金属Ｓｉ（Ｂ
ドープ多結晶）をスパッタターゲットとしてカソード上
に設置し、真空槽を１．３×１０^-3Ｐａまで排気した。
真空槽内に設置したガラス基板として熱線吸収ガラス
（ＶＦＬ２）を使用し、その上に次のようにして反射防
止膜を形成した。

【０１１１】＜第１層＞放電ガスとしてアルゴン２００
ｓｃｃｍと酸素１００ｓｃｃｍとの混合ガスを導入し
た。このとき、圧力は０．３５Ｐａとなった。ついで、
反応性ＤＣスパッタリングにより、膜厚が１２８ｎｍの
ＺｒおよびＳｉの複合酸化物膜（波長５５０ｎｍにおけ
る屈折率が１．８０）を成膜した。

【０１１２】＜第２層＞つぎに、放電ガスとしてアルゴ
ン１００ｓｃｃｍと酸素５００ｓｃｃｍとの混合ガスを
導入した。このとき、圧力は０．３５Ｐａとなった。つ
いで、Ｓｉの反応性ＤＣスパッタリングにより、膜厚が
９５ｎｍの酸化シリコン膜（波長５５０ｎｍにおける屈
折率が１．４６）を形成した。

【０１１３】（実施例１１）真空槽内に金属Ｔｉおよび
金属Ｓｉ（Ｂドープ多結晶）をスパッタターゲットとし
てカソード上に設置し、真空槽を１．３×１０^-3Ｐａま
で排気した。真空槽内に設置したガラス基板として高熱
線吸収ガラス（ＵＶＦＬ２）を使用し、その上に次のよ
うにして反射防止膜を形成した。

【０１１４】＜第１層＞放電ガスとしてアルゴン３００
ｓｃｃｍと酸素６０ｓｃｃｍとの混合ガスを導入した。
このとき、圧力は０．４Ｐａとなった。ついで、Ｔｉの
反応性ＤＣスパッタリングにより、膜厚が１０６ｎｍの
酸化チタン膜（波長５５０ｎｍにおける屈折率が２．
４）を成膜した。

【０１１５】＜第２層＞つぎに、放電ガスとしてアルゴ
ン１００ｓｃｃｍと酸素５００ｓｃｃｍとの混合ガスを
導入した。このとき、圧力は０．３５Ｐａとなった。つ
いで、Ｓｉの反応性ＤＣスパッタリングにより、膜厚が
８７ｎｍの酸化シリコン膜（波長５５０ｎｍにおける屈
折率が１．４６）を形成した。

【０１１６】このようにして得られた反射防止膜付きガ
ラスについて、実施例７と同様の方法により、曲げ・合
わせ加工を行った。合わせガラスとする場合のもう一方
のガラスとしては、該ガラスと同じ大きさの高熱線吸収
ガラス（ＵＶＦＬ２）を使用した。曲げ加工後および合
わせ加工後において、反射防止膜にシワ、剥離、変色と
いった外観変化は見られず、ガラス板の異常な反りも見
られなかった。

【０１１７】（実施例１２）真空槽内に金属Ｓｎ、金属
Ｔｉおよび金属Ｓｉ（Ｂドープ多結晶）をスパッタター
ゲットとしてカソード上に設置し、真空槽を１．３×１
０^-3Ｐａまで排気した。真空槽内に設置したガラス基板
１として熱線吸収ガラス（ＶＦＬ２）を使用し、その上
に次のようにして反射防止膜を形成した。

【０１１８】＜第１層＞放電ガスとして一酸化二窒素ガ
ス（Ｎ₂Ｏガス）１０００ｓｃｃｍを導入した。このと
き、圧力は０．９Ｐａとなった。ついで、Ｓｎの反応性
ＤＣスパッタリングにより、膜厚が９８ｎｍの酸窒化ス
ズ膜（波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．９５、窒素
含有割合が０．５原子％）を第１層の膜２として成膜し
た。実施例１に示した放電ガスとして酸素と窒素の混合
ガスを使用した成膜に比し、Ｎ₂Ｏガスを使用した成膜
においては、耐熱性の高い酸窒化スズ（ＳｎＯｘＮｙ）
膜を安定して得ることができる。

【０１１９】＜第２層＞つぎに、放電ガスとしてアルゴ
ン３００ｓｃｃｍと酸素６０ｓｃｃｍとの混合ガスを導
入した。このとき、圧力は０．４Ｐａとなった。つい
で、Ｔｉの反応性ＤＣスパッタリングにより、膜厚が１
３ｎｍの酸化チタン膜（波長５５０ｎｍにおける屈折率
が２．４）を第２層の膜３として成膜した。

【０１２０】＜第３層＞ついで、放電ガスとしてアルゴ
ン１００ｓｃｃｍと酸素５００ｓｃｃｍとの混合ガスを
導入した。このとき、圧力は０．３５Ｐａとなった。つ
いで、ＳｉのカソードにＤＣ電源からパルス化モジュー
ル（京三製作所社製）を経由してパルス化されたＤＣ電
源を印加し、Ｓｉターゲットの間欠ＤＣスパッタリング
により、１０５ｎｍの酸化シリコン膜（波長５５０ｎｍ
における屈折率が１．４６）を形成した。このようにし
て得られた反射防止膜付きガラスを用い、実施例２と同
様の方法により、曲げ・合わせ加工を行った。合わせの
相手となるもう一方のガラス６としては、該ガラスと同
じ大きさの熱線吸収ガラス（ＶＦＬ２）を使用した。な
お、熱処理後の酸窒化スズ膜中の窒素含有割合は０．３
原子％であった。得られた合わせガラスにおいて、反射
防止膜にシワ、剥離、変色といった外観変化は見られ
ず、ガラス板の異常なそりも見られなかった。

【０１２１】（実施例１３）実施例１２と同様にして、
熱線吸収ガラス（ＶＦＬ２）の上に３層からなる反射防
止膜を形成した。得られた反射防止膜付きガラスと該ガ
ラスと同じ大きさの高熱線吸収ガラス（ＵＶＦＬ２）と
を実施例２と同様の方法で合わせガラスとした。反射防
止膜にシワ、剥離、変色といった外観変化は見られず、
ガラス板の異常なそりも見られなかった。実施例１〜１
３におけるシリカ膜の成膜をＳｉターゲットを用いた反
応性ＡＣスパッタリング方式（例えばアプライドフィル
ムズ社製「ツインマグ」）で行なったところ、より安定
して成膜できた。

【０１２２】（比較例１）実施例１で得られた反射防止
膜付きガラスの代わりに、熱線吸収ガラス（ＶＦＬ２）
を用いた以外は、実施例２と同様の方法により、曲げ・
合わせ加工を行い、合わせガラスを作製した。

【０１２３】（比較例２）真空槽内に金属ＴｉＳｉ（Ｓ
ｉ含有率：５８原子％）、金属ＴｉＳｉ（Ｓｉ含有率：
２１原子％）および金属Ｓｉ（Ｂドープ多結晶）をスパ
ッタターゲットとしてカソード上に設置し、真空槽を
１．３×１０^-3Ｐａまで排気した。真空槽内に設置した
ガラス基板として熱線吸収ガラス（ＶＦＬ２）を使用
し、その上に次のようにして反射防止膜を形成した。

【０１２４】＜第１層＞放電ガスとしてアルゴン１００
ｓｃｃｍと酸素５００ｓｃｃｍとの混合ガスを導入し
た。このとき、圧力は０．３５Ｐａとなった。ついで、
ＴｉＳｉ（Ｓｉ含有率：５８原子％）の反応性ＤＣスパ
ッタリングにより、膜厚が９０ｎｍのＴｉおよびＳｉの
混合酸化物（波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．８
５）を成膜した。

【０１２５】＜第２層＞つぎに、第１層目と同じ放電ガ
スを用い、ＴｉＳｉ（Ｓｉ含有率：２１原子％）の反応
性ＤＣスパッタリングにより、膜厚が１６０ｎｍのＴｉ
およびＳｉの混合酸化物（波長５５０ｎｍにおける屈折
率が２．２）を成膜した。

【０１２６】＜第３層＞ついで、放電ガスとしてアルゴ
ン１００ｓｃｃｍと酸素５００ｓｃｃｍとの混合ガスを
導入した。この時、圧力は０．３５Ｐａとなった。つい
で、Ｓｉの反応性ＤＣスパッタリングにより、１２０ｎ
ｍの酸化シリコン膜（波長５５０ｎｍにおける屈折率が
１．４６）を形成した。

【０１２７】このようにして得られた反射防止膜付きガ
ラスについて、実施例２と同様の方法により曲げ・合わ
せ加工を行った。合わせガラスとする場合のもう一方の
ガラスとしては、該ガラスと同じ大きさの熱線吸収ガラ
ス（ＶＦＬ２）を使用した。得られた合わせガラスは異
常に反り、反射防止膜にはシワが発生した。

【０１２８】（比較例３）真空槽内に金属ＴｉＳｉ（Ｓ
ｉ含有率：５８原子％）および金属Ｓｉ（Ｂドープ多結
晶）をスパッタターゲットとしてカソード上に設置し、
真空槽を１．３×１０^-3Ｐａまで排気した。真空槽内に
設置したガラス基板として透明板ガラス（ＦＬ２）を使
用し、その上に次のようにして反射防止膜を形成した。

【０１２９】＜第１層＞放電ガスとしてアルゴン１００
ｓｃｃｍと酸素５００ｓｃｃｍとの混合ガスを導入し
た。このとき、圧力は０．３５Ｐａとなった。ついで、
ＴｉＳｉ（Ｓｉ含有率：５８原子％）の反応性ＤＣスパ
ッタリングにより、膜厚が８２ｎｍのＴｉおよびＳｉの
混合酸化物（波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．８
５）を成膜した。

【０１３０】＜第２層＞つぎに、放電ガスとしてアルゴ
ン１００ｓｃｃｍと酸素５００ｓｃｃｍとの混合ガスを
導入した。このとき、圧力は０．３５Ｐａとなった。つ
いで、Ｓｉの反応性ＤＣスパッタリングにより、１２４
ｎｍの酸化シリコン膜（波長５５０ｎｍにおける屈折率
が１．４６）を形成した。

【０１３１】このようにして得られた反射防止膜付きガ
ラスについて、実施例２と同様の方法により曲げ・合わ
せ加工を行った。合わせガラスとする場合のもう一方の
ガラスとしては、該ガラスと同じ大きさの透明板ガラス
（ＦＬ２）を使用した。得られた合わせガラスにおい
て、反射防止膜にシワ、剥離、変色といった外観変化は
見られず、ガラス板の異常な反りも見られなかった。し
かし、反射色調は強い青色を呈した。

【０１３２】（比較例４）実施例３で得られた反射防止
膜付きガラスの代わりに、高熱線吸収ガラス（ＵＶＦＬ
２）を用いた以外は、実施例３と同様の方法により、曲
げ・合わせ加工を行い、合わせガラスを作製した。

【０１３３】実施例１〜１３および比較例１〜４で得ら
れた反射防止膜付きガラス等の構成、ならびに、反射防
止膜の各層の（ａ）屈折率、（ｂ）反射防止条件の膜厚
（ｎｍ）、（ｃ）膜厚（ｎｍ）、および（ｄ）反射防止
条件の膜厚に対する膜厚の比（倍率）を第９表に示す。
実施例１〜６および実施例１２〜１３は、反射防止膜の
各層の（ａ）および（ｄ）から明らかなように、本発明
の第５の態様の反射防止膜付き基体である。また、実施
例１〜６および実施例１２〜１３は、反射防止膜の各層
の（ａ）および（ｃ）から明らかなように、本発明の第
６の態様の反射防止膜付き基体である。また、実施例１
〜３および実施例１２〜１３は、本発明の第７の態様の
反射防止膜付き基体である。実施例７〜１１は、反射防
止膜の各層の（ａ）および（ｄ）から明らかなように、
本発明の第２の態様の反射防止膜付き基体である。ま
た、実施例７〜１１は、反射防止膜の各層の（ａ）およ
び（ｃ）から明らかなように、本発明の第３の態様の反
射防止膜付き基体である。また、実施例７〜９は、本発
明の第４の態様の反射防止膜付き基体である。一方、比
較例２は、本発明の第５、第６、第７および第８の態様
の反射防止膜付き基体のいずれにも該当せず、また、比
較例３は、本発明の第２、第３および第４の態様の反射
防止膜付き基体のいずれにも該当しない。

【０１３４】

【表１７】

【０１３５】２．反射防止膜付き基体の評価実施例１〜１３および比較例１〜４で得られたガラスに
ついて、次の（１）〜（４）の光学特性を測定した。
（１）および（４）の測定はＪＩＳＲ３１０６に準じ
てＤ６５光源を使用して行った。また、（２）および
（３）の測定にはＣ光源を使用した。（１）入射角０度で入射した可視光の透過率（Ｔｖ）（２）入射角５度で膜面側から入射した可視光の反射防
止膜面で反射した光についての分光反射率曲線反射防止膜面側のみの反射を測定するため、反対側の非
膜面には黒色ペイントを塗布して、各波長における反射
率を測定し、分光反射率曲線の作成を行った。（３）入射角５度で非膜面側から入射した可視光の両面
（反射防止膜面側での反射をも含む。）で反射した光に
ついての反射率（Ｙ）および反射色調（ｘ，ｙ）（４）入射角６０度で膜面側から入射した可視光の両面
（非膜面側（ガラス面側）での反射をも含む。）で反射
した光についての反射率（Ｒｖ）Ｒｖの値は、実用上１
２％以下であることが好ましく、特に１０％以下である
ことが好ましい。

【０１３６】結果を第１０表（上記（１）、（３）およ
び（４））ならびに図６〜図９（上記（２））および図
１０（上記（３）の反射色調（ｘ，ｙ））に示す。

【０１３７】実施例１〜１３の反射防止膜付きガラス
は、図６〜図８から明らかなように、入射角５度で膜面
側から入射した光の膜面での反射率が４００〜４８０ｎ
ｍの波長領域の全域で６％以下であり、本発明の第１の
態様の反射防止膜付き基体である。なお、実施例１２の
分光反射率曲線は実施例２と同じであった。一方、比較
例２および３は、図９から明らかなように、本発明の第
１の態様の反射防止膜付き基体に該当しない。

【０１３８】実施例１〜１３の反射防止膜付きガラス
は、反射防止膜のない通常の合わせガラス（比較例１）
に比べて、Ｒｖ（入射角６０度での膜面側反射率）が低
減されており、従来の反射防止膜付きガラス（比較例２
および３）とほぼ同等であることが分かる（第１０表
（４））。また、Ｔｖ（入射角０度での可視光透過率）
は、２枚の高熱線吸収ガラス（ＵＶＦＬ２）を用いて合
わせガラスとした場合（実施例３、６、９および１１）
であっても７５％以上であり、各国が定める自動車用フ
ロントガラスの透過率を満足し、目的に応じて透明基体
を自由に選択することができる（第１０表（１））。

【０１３９】実施例１〜１３の反射防止膜付きガラス
は、入射角５度で非膜面側から入射した可視光の両面で
反射した光についての反射率（Ｙ）が、比較例１より低
減されている（第１０表（３））。また、反射色調
（ｘ，ｙ）がＣ光源に近く、ニュートラル（（ｘ，ｙ）
＝（０．３１０１，０．３１６２））に近いことが分か
る（図１０）。これに対して、ダッシュボードの映り込
みの防止を目的として入射角６０度での膜面側反射率が
最小となるように設計されている、従来の一般的な３層
系（比較例２）または２層系（比較例３）の反射防止膜
付きガラスは、入射角５度で非膜面側から入射した可視
光の両面で反射した光についての反射色調（ｘ，ｙ）が
ｘ、ｙともにＣ光源より小さく、青みがかっていること
が分かる（図１０）。

【０１４０】また、上述したように、実施例３、６、
９、１１および１３の高熱線吸収ガラスを用いた反射防
止膜付きガラスは、入射角０度で入射した可視光の透過
率（Ｔｖ）が７５％以上であるが、反射防止膜のない比
較例４は、７５％未満となってしまい、ヨーロッパ、オ
ーストラリア等で定められている自動車用フロントガラ
スの透過率を満足しない（第１０表（１））。

【０１４１】

【表１８】

【０１４２】

【発明の効果】本発明の反射防止膜付き基体は、膜面側
の斜め方向からの入射光に対する反射防止性能に優れ、
透過率が高く、非膜面側から入射する可視光の入射角が
大きい場合だけでなく小さい場合においても反射色調が
青みがからず、ニュートラルに近い反射色調となる反射
防止膜付き基体である。したがって、本発明の反射防止
膜付き基体を、膜面側を室内側に、非膜面側を室外側に
なるようにして自動車用のフロントガラス等に用いる
と、反射防止性能等に優れるだけでなく、外観デザイン
の点で好ましい。また、本発明の反射防止膜付き基体
が、耐熱性にも優れた反射防止膜付き基体である場合に
は、製造工程において成膜後に熱処理（曲げ加工、強化
加工等）が可能であるので、生産効率が向上すると共
に、反射防止膜付き基体を容易に製造できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】入射角５度で膜面側から入射した光の膜面で
の反射率についての説明図である。

【図２】本発明の反射防止膜付き基体の一例の断面模
式図である。

【図３】本発明の反射防止膜付き基体を用いた合わせ
ガラスの一例の断面模式図である。

【図４】本発明の反射防止膜付き基体の一例の断面模
式図である。

【図５】本発明の反射防止膜付き基体を用いた合わせ
ガラスの一例の断面模式図である。

【図６】入射角５度で膜面側から入射した可視光の反
射防止膜面で反射した光についての分光反射率曲線を示
す図である。

【図７】入射角５度で膜面側から入射した可視光の反
射防止膜面で反射した光についての分光反射率曲線を示
す図である。

【図８】入射角５度で膜面側から入射した可視光の反
射防止膜面で反射した光についての分光反射率曲線を示
す図である。

【図９】入射角５度で膜面側から入射した可視光の反
射防止膜面で反射した光についての分光反射率曲線を示
す図である。

【図１０】入射角５度で非膜面側から入射した可視光
の両面（反射防止膜面側での反射をも含む。）で反射し
た光についての反射色調（ｘ，ｙ）を示す図である。

【図１１】膜面側の斜め方向からの入射光に関する説
明図である。

【符号の説明】

１００反射防止膜付き基体１１０光源１２０受光部１３０法線１ガラス基板２第１層の膜３第２層の膜４第３層の膜５反射防止膜付きガラス６ガラス基板７中間膜８合わせガラス１１ガラス基板１２第１層の膜１３第２層の膜１５反射防止膜付きガラス１６ガラス基板１７中間膜１８合わせガラス２０ダッシュボード

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者前川三佳子神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地旭硝子株式会社内 (72)発明者志堂寺栄治神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地旭硝子株式会社内 (72)発明者野田和良神奈川県愛甲郡愛川町角田字小沢上原426 番１旭硝子株式会社内Ｆターム(参考） 2K009 AA05 AA06 BB02 CC02 CC03 CC42 DD04 4G059 AA01 AB09 AC04 EA01 EA02 EA04 EA05 EA07 EA12 EA16 EB04 GA01 GA02 GA04 GA12

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基体と、該透明基体の一方の側に積層
してなる２層以上の反射防止膜とを備える反射防止膜付
き基体であって、入射角５度で膜面側から入射した光の膜面での反射率が
４００〜４８０ｎｍの波長領域の全域で６％以下である
ことを特徴とする反射防止膜付き基体。
【請求項２】透明基体と、該透明基体の一方の側に第１
層と第２層とをこの順に積層してなる２層の反射防止膜
とを備える反射防止膜付き基体であって、該第１層が、屈折率が１．６〜２．６であり、幾何学的
膜厚が下記式で求められる反射防止条件の膜厚の１．１
〜１．９倍である薄膜であり、該第２層が、屈折率が１．４〜１．５６であり、幾何学
的膜厚が下記式で求められる反射防止条件の膜厚の０．
５〜１．１倍である薄膜であることを特徴とする反射防
止膜付き基体。ｄ＝λ／ [４ｎ｛１−（ｓｉｎθ／ｎ)²｝^1/2] ただし、ｄは各層の反射防止条件の膜厚、ｎは各層の屈
折率であり、λ＝５５０ｎｍ、θ＝６０゜である。
【請求項３】透明基体と、該透明基体の一方の側に第１
層と第２層とをこの順に積層してなる２層の反射防止膜
とを備える請求項１または２に記載の反射防止膜付き基
体であって、該第１層が、屈折率が１．６〜２．６であり、幾何学的
膜厚が６０〜２００ｎｍである薄膜であり、該第２層が、屈折率が１．４〜１．５６であり、幾何学
的膜厚が５０〜１４０ｎｍである薄膜であることを特徴
とする反射防止膜付き基体。
【請求項４】透明基体と、該透明基体の一方の側に第１
層と第２層とをこの順に積層してなる２層の反射防止膜
とを備える請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止膜
付き基体であって、該第１層が、チタン、ケイ素、亜鉛、アルミニウム、ス
ズ、ジルコニウム、タンタル、タングステン、ビスマス
およびニオブからなる群から選ばれる少なくとも１種の
元素の酸化物、酸窒化物もしくは酸炭化物、または、ケ
イ素、アルミニウムおよびホウ素からなる群から選ばれ
る少なくとも１種の元素の窒化物もしくは窒炭化物を含
有する薄膜であることを特徴とする反射防止膜付き基
体。
【請求項５】透明基体と、該透明基体の一方の側に第１
層と第２層とをこの順に積層してなる２層の反射防止膜
とを備える請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止膜
付き基体であって、該第２層が、ケイ素の酸化物を含有する薄膜であること
を特徴とする反射防止膜付き基体。
【請求項６】透明基体と、該透明基体の一方の側に第１
層と第２層とをこの順に積層してなる２層の反射防止膜
とを備える反射防止膜付き基体であって、該第１層が、幾何学的膜厚が１０４〜１２４ｎｍである
酸窒化スズ膜であり、該第２層が、幾何学的膜厚が８５
〜１０５ｎｍである酸化ケイ素膜であることを特徴とす
る反射防止膜付き基体。
【請求項７】透明基体と、該透明基体の一方の側に第１
層と第２層と第３層とをこの順に積層してなる３層の反
射防止膜とを備える反射防止膜付き基体であって、該第１層および該第２層が、互いに異なる組成を持ち、
それぞれ屈折率が１．６〜２．５であり、第１層および
第２層のうち少なくとも１層の幾何学的膜厚が下記式で
求められる反射防止条件の膜厚の０．０４〜０．９倍で
ある薄膜であり、該第３層が、屈折率が１．４〜１．５であり、幾何学的
膜厚が下記式で求められる反射防止条件の０. ４〜１．
１倍である薄膜であることを特徴とする反射防止膜付き
基体。ｄ＝λ／ [４ｎ｛１−（ｓｉｎθ／ｎ)²｝^1/2] ただし、ｄは各層の反射防止条件の膜厚、ｎは各層の屈
折率であり、λ＝５５０ｎｍ、θ＝６０゜である。
【請求項８】透明基体と、該透明基体の一方の側に第１
層と第２層と第３層とをこの順に積層してなる３層の反
射防止膜とを備える請求項１または７に記載の反射防止
膜付き基体であって、該第１層および該第２層が、互いに異なる組成を持ち、
それぞれ屈折率が１．６〜２．５であり、第１層および
第２層のうち少なくとも１層の幾何学的膜厚が２〜９５
ｎｍである薄膜であり、該第３層が、屈折率が１．４〜１．５であり、幾何学的
膜厚が４４〜１３８ｎｍである薄膜であることを特徴と
する反射防止膜付き基体。
【請求項９】透明基体と、該透明基体の一方の側に第１
層と第２層と第３層とをこの順に積層してなる３層の反
射防止膜とを備える請求項１、７または８に記載の反射
防止膜付き基体であって、該第１層および該第２層が、互いに異なる組成を持ち、
それぞれチタン、ケイ素、亜鉛、アルミニウム、スズ、
ジルコニウム、タンタル、タングステン、ビスマスおよ
びニオブからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素
の酸化物、酸窒化物もしくは酸炭化物、または、ケイ
素、アルミニウムおよびホウ素からなる群から選ばれる
少なくとも１種の元素の窒化物もしくは窒炭化物を含有
する薄膜であることを特徴とする反射防止膜付き基体。
【請求項１０】透明基体と、該透明基体の一方の側に第
１層と第２層と第３層とをこの順に積層してなる３層の
反射防止膜とを備える請求項１、７、８または９に記載
の反射防止膜付き基体であって、該第３層が、ケイ素の酸化物を含有する薄膜であること
を特徴とする反射防止膜付き基体。
【請求項１１】透明基体と、該透明基体の一方の側に第
１層と第２層と第３層とをこの順に積層してなる３層の
反射防止膜とを備える反射防止膜付き基体であって、該第１層が、幾何学的膜厚が７０〜１３０ｎｍである酸
窒化スズ膜であり、該第２層が、幾何学的膜厚が１〜２５ｎｍである酸化チ
タン膜であり、該第３層が、幾何学的膜厚が８０〜１３０ｎｍである酸
化ケイ素膜であることを特徴とする反射防止膜付き基
体。
【請求項１２】透明基体と、該透明基体の一方の側に第
１層と第２層と第３層とをこの順に積層してなる３層の
反射防止膜とを備える反射防止膜付き基体であって、該第１層が、幾何学的膜厚が１〜２５ｎｍである酸化チ
タン膜であり、該第２層が、幾何学的膜厚が７０〜１３０ｎｍである酸
窒化スズ膜であり、該第３層が、幾何学的膜厚が８０〜１３０ｎｍである酸
化ケイ素膜であることを特徴とする反射防止膜付き基
体。
【請求項１３】透明基体と、該透明基体の一方の側に第
１層と第２層と第３層とをこの順に積層してなる３層の
反射防止膜とを備える請求項１、７〜１２のいずれかに
記載の反射防止膜付き基体であって、該３層の反射防止膜の総膜厚（第１層、第２層および第
３層の膜厚の和）が、２５０ｎｍ未満であることを特徴
とする反射防止膜付き基体。
【請求項１４】各層の可視光領域の消衰係数がいずれも
０．０５以下である請求項１〜１３のいずれかに記載の
反射防止膜付き基体。
【請求項１５】請求項１〜１４のいずれかに記載の反射
防止膜付き基体を熱処理することにより、曲げ加工また
は強化加工をされた反射防止膜付き基体を製造すること
を特徴とする反射防止膜付き基体の製造方法。
【請求項１６】透明基体がガラスである請求項１〜１４
のいずれかに記載の反射防止膜付き基体を熱処理によ
り、３次元曲面形状に曲げ加工をした後、前記曲げ加工
をされた反射防止膜付きガラス基板と、略同形状の別の
ガラス基板とを中間膜を介して積層することを特徴とす
る合わせガラスの製造方法。
【請求項１７】請求項１〜１４のいずれかに記載の反射
防止膜付き基体が用いられてなる自動車用窓ガラス。