CN116693208A - 经涂覆的纹理化玻璃制品及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及经过涂覆的纹理化玻璃制品及其制造方法。经过涂覆的纹理化玻璃制品包括：包含第一表面的玻璃主体；从第一表面延伸的多个多面体表面特征体；以及布置在主体的第一表面和所述多个多面体表面特征体上的涂层。所述多个多面体表面特征体中的每一个包括第一表面上的底座以及从底座延伸且朝向彼此会聚的多个面。涂层包括多层干涉堆叠。
Description
技术领域
本说明书大体上涉及纹理化玻璃制品，更具体来说，涉及具有强化的反射率和硬度以及可调节的颜色性质的经过涂覆的纹理化玻璃制品。
背景技术
铝硅酸盐玻璃制品可以展现出优异的可离子交换能力和跌落性能。各种行业(包括消费者电子行业)需要具有相同或相似强度和断裂韧度性质的纹理化反射性材料。但是，常规纹理化工艺无法在某些铝硅酸盐玻璃制品上产生所需外观。
因此，需要替代方法来产生具有强化的反射性和可调节颜色性质同时维持或改善的制品硬度的铝硅酸盐玻璃制品。
发明内容
根据第1个方面A1，经过涂覆的纹理化玻璃制品可以包括：包含第一表面的玻璃主体；包含第一表面的玻璃主体；从第一表面延伸的多个多面体表面特征体，所述多个多面体表面特征体中的每一个包括第一表面上的底座以及从底座延伸且朝向彼此会聚的多个面；以及布置在主体的第一表面以及所述多个多面体表面特征体上的涂层，所述涂层包含多层干涉堆叠。
第2个方面A2包括根据第1个方面A1的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括大于或等于50μm且小于或等于300μm的表面特征体尺寸。
第3个方面A3包括根据第1个方面A1或第2个方面A2的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括大于或等于10μm且小于或等于40μm的表面特征体高度。
第4个方面A4包括根据第1个方面A1至第3个方面A3中任一项的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括三棱锥(triangular pyramid)、四棱锥(quadrangular pyramid)或其组合。
第5个方面A5包括根据第1个方面A1至第4个方面A4中任一项的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括大于或等于10°且小于或等于25°的面角。
第6个方面A6包括根据第1个方面A1至第5个方面A5中任一项的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括大于或等于2μm且小于或等于7μm的表面粗糙度。
第7个方面A7包括根据第1个方面A1至第6个方面A6中任一项的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括多个层，其中，所述多个层包括至少一层低折射率层和至少一层高折射率层。
第8个方面A8包括根据第7个方面A7的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括至少一个周期，每个周期包括所述至少一层低折射率层中的一个以及所述至少一层高折射率层中的一个。
第9个方面A9包括根据第8个方面A8的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括1至20个周期。
第10个方面A10包括根据第7个方面A7至第9个方面A9中任一项的制品，其中，所述至少一层低折射率层包含SiO2、Al2O3、GeO2、SiO、AlOxNy、SiOxNu、SiAlxOy、SiuAlvOxNy、MgO、MgAl2O4、MgF2、BaF2、CaF2、DyF3、YbF3、CeF3或其组合，其中，下标“u”、“x”和“y”是0至1。
第11个方面A11包括根据第7个方面A7至第10个方面A10中任一项的制品，其中，所述至少一层高折射率层包含SiuAlvOxNy、Ya2O5、Nb2O5、AlN、Si3N4、AlOxNy、SiOxNy、HfO2、TiO2、ZrO2、Y2O3、Al2O3、MoO3、钻石状碳或其组合，其中，下标“u”、“x”和“y”是0至1。
第12个方面A12包括根据第7个方面A7至第11个方面A11中任一项的制品，其中，所述至少一层低折射率层包括大于或等于2nm且小于或等于200nm的厚度。
第13个方面A13包括根据第7个方面A7至第12个方面A12中任一项的制品，其中，所述至少一层高折射率层包括大于或等于5nm且小于或等于5000nm的厚度。
第14个方面A14包括根据第1个方面A1至第13个方面A13中任一项的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括与主体的第一表面相反的外表面，以及其中，制品包括大于或等于10GPa的硬度，这是沿着100nm至500nm的压痕深度通过布氏压痕硬度测试在所述外表面上测得的。
第15个方面A15包括根据第1个方面A1至第14个方面A14中任一项的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括与主体的第一表面相反的外表面，以及其中，制品包括大于或等于4％的单侧平均适光反光率，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第16个方面A16包括根据第15个方面A15的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于7％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第17个方面A17包括根据第16个方面A16的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于10％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第18个方面A18包括根据第17个方面A17的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于20％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第19个方面A19包括根据第1个方面A1至第18个方面A18中任一项的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括与主体的第一表面相反的外表面，以及其中，制品包括大于或等于25％的峰值单侧反光率，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第20个方面A20包括根据第19个方面A19的制品，其中，制品的峰值单侧反光率大于或等于40％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第21个方面A21包括根据第20个方面A20的制品，其中，制品的峰值单侧反光率大于或等于50％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第22个方面A22包括根据第1个方面A1至第21个方面A21中任一项的制品，其中，制品包括520nm至560nm的峰值单侧反光，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第23个方面A23包括根据第1个方面A1至第22个方面A22中任一项的制品，其中，制品包括大于或等于20且小于或等于90的制品反射颜色坐标L*，这是在D65光源下且以10°标准观察者角度测得的。
第24个方面A24包括根据第1个方面A1至第23个方面A23中任一项的制品，其中，制品包括大于或等于-30且小于或等于30的制品反射颜色坐标a*和b*中的至少一个，这是在D65光源下且以10°标准观察者角度测得的。
第25个方面A25包括根据第1个方面A1至第24个方面A24中任一项的制品，其中：制品展现出大于或等于5的角度色移，这是在D65光源下，参比法向入射大于或等于20度的入射照射角测得的；以及采用方程式√((a*2-a*1)2+(b*2-b*1)2)计算角度色移，a*1和b*1表示当以法向入射观察时的制品坐标，而a*2和b*2表示当以所述入射照射角观察时的制品坐标。
第26个方面A26包括根据第1个方面A1至第25个方面A25中任一项的制品，其中，制品展现出大于或等于2的参照点色移，这是在D65光源下以法向入射测得的；以及采用方程式√(a*2+b*2)计算参照点色移。
第27个方面A27包括根据第1个方面A1至第26个方面A26中任一项的制品，其中，玻璃主体包括铝硅酸盐玻璃。
第28个方面A28包括根据第1个方面A1至第27个方面A27中任一项的制品，其中，玻璃主体包括玻璃陶瓷主体。
根据第29个方面A29，经过涂覆的纹理化玻璃制品可以包括：包含第一表面的玻璃主体；从所述第一表面延伸的多个多面体表面特征体；以及布置在主体的第一表面和所述多个多面体表面特征体上的涂层，所述涂层包括多层干涉堆叠，所述多层干涉堆叠包括与主体的第一表面相反的外表面，其中：制品包括大于或等于4％的单侧平均适光反光率，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第30个方面A30包括根据第29个方面A29的制品，其中，制品包括大于或等于10GPa的硬度，这是沿着100nm至500nm的压痕深度通过布氏压痕硬度测试在所述外表面上测得的。
第31个方面A31包括根据第29个方面A29或者第30个方面A30的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于7％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第32个方面A32包括根据第31个方面A31的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于10％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第33个方面A33包括根据第32个方面A32的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于20％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第34个方面A34包括根据第29个方面A29至第33个方面A33中任一项的制品，其中，制品包括大于或等于25％的峰值单侧反光率，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第35个方面A35包括根据第34个方面A34的制品，其中，制品的峰值单侧反光率大于或等于40％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第36个方面A36包括根据第35个方面A35的制品，其中，制品的峰值单侧反光率大于或等于50％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第37个方面A37包括根据第29个方面A29至第36个方面A36中任一项的制品，其中，制品包括520nm至560nm的峰值单侧反光，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第38个方面A38包括根据第29个方面A29至第37个方面A37中任一项的制品，其中，制品包括大于或等于20且小于或等于90的制品反射颜色坐标L*，这是在D65光源下且以10°标准观察者角度测得的。
第39个方面A39包括根据第29个方面A29至第38个方面A38中任一项的制品，其中，制品包括大于或等于-30且小于或等于30的制品反射颜色坐标a*和b*中的至少一个，这是在D65光源下且以10°标准观察者角度测得的。
第40个方面A40包括根据第29个方面A29至第39个方面A39中任一项的制品，其中：制品展现出大于或等于5的角度色移，这是在D65光源下，参比法向入射大于或等于20度的入射照射角测得的；以及采用方程式√((a*2-a*1)2+(b*2-b*1)2)计算角度色移，a*1和b*1表示当以法向入射观察时的制品坐标，而a*2和b*2表示当以所述入射照射角观察时的制品坐标。
第41个方面A41包括根据第29个方面A29至第40个方面A40中任一项的制品，其中，制品展现出大于或等于2的参照点色移，这是在D65光源下以法向入射测得的；以及采用方程式√(a*2+b*2)计算参照点色移。
第44个方面A44包括根据第29个方面A29至第43个方面A43中任一项的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括三棱锥(triangular pyramid)、四棱锥(quadrangularpyramid)或其组合。
第45个方面A45包括根据第29个方面A29至第44个方面A44中任一项的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括多个层，其中，所述多个层包括至少一层低折射率层和至少一层高折射率层。
第46个方面A46包括根据第45个方面A45的制品，其中，所述至少一层低折射率层包含SiO2，以及所述至少一层高折射率层包含Si3N4。
第47个方面A47包括根据第45个方面A45或第46个方面A46中任一项的制品，其中：所述至少一层低折射率层包括大于或等于2nm且小于或等于200nm的厚度；以及所述至少一层高折射率层包括大于或等于5nm且小于或等于5000nm的厚度。
第48个方面A48包括根据第29个方面A29至第47个方面A47中任一项的制品，其中，玻璃主体包括铝硅酸盐玻璃。
第49个方面A49包括根据第29个方面A29至第48个方面A48中任一项的制品，其中，玻璃主体包括玻璃陶瓷主体。
根据第50个方面A50，经过涂覆的纹理化玻璃制品可以包括：包含第一表面的玻璃主体；从所述第一表面延伸的多个多面体表面特征体，所述多个多面体表面特征体中的每一个包括第一表面上的底座以及从底座延伸且朝向彼此会聚的多个面，所述多个多面体表面特征体包括大于或等于50μm且小于或等于300μm的表面特征体尺寸以及大于或等于10μm且小于或等于40μm的表面特征体高度；以及布置在主体的第一表面和所述多个多面体表面特征体上的涂层，所述涂层包括多层干涉堆叠，所述多层干涉多到包括与主体的第一表面相反的外表面，其中：制品包括大于或等于4％的单侧平均适光反光率，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第51个方面A51包括根据第50个方面的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括大于或等于10°且小于或等于25°的面角以及大于或等于2μm且小于或等于7μm的表面粗糙度。
第52个方面A52包括根据第50个方面A50或第51个方面A51的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括三棱锥(triangular pyramid)、四棱锥(quadrangular pyramid)或其组合。
第53个方面A53包括根据第50个方面A50至第52个方面A52中任一项的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括多个层，所述多个层包括至少一层低折射率层和至少一层高折射率层。
第54个方面A54包括根据第53个方面A53的制品，其中，所述至少一层低折射率层包含SiO2，以及所述至少一层高折射率层包含Si3N4。
第55个方面A55包括根据第53个方面A53或第54个方面A54的制品，其中，所述至少一层低折射率层包括大于或等于2nm且小于或等于200nm的厚度，以及所述至少一层高折射率层包括大于或等于5nm且小于或等于5000nm的厚度。
第56个方面A56包括根据第50个方面A50至第55个方面A55中任一项的制品，其中，制品包括大于或等于10GPa的硬度，这是沿着100nm至500nm的压痕深度通过布氏压痕硬度测试在所述外表面上测得的。
第57个方面A57包括根据第50个方面A50至第56个方面A56中任一项的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于7％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第58个方面A58包括根据第57个方面A57的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于10％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第59个方面A59包括根据第58个方面A58的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于20％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第60个方面A60包括根据第50个方面A50至第59个方面A59中任一项的制品，其中，制品包括大于或等于25％的峰值单侧反光率，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第61个方面A61包括根据第60个方面A60的制品，其中，制品的峰值单侧反光率大于或等于40％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第62个方面A62包括根据第61个方面A61的制品，其中，制品的峰值单侧反光率大于或等于50％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第63个方面A63包括根据第50个方面A50至第62个方面A62中任一项的制品，其中，制品包括520nm至560nm的峰值单侧反光，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
第64个方面A64包括根据第50个方面A50至第63个方面A63中任一项的制品，其中，制品包括大于或等于20且小于或等于90的制品反射颜色坐标L*，这是在D65光源下且以10°标准观察者角度测得的。
第65个方面A65包括根据第50个方面A50至第64个方面A64中任一项的制品，其中，制品包括大于或等于-30且小于或等于30的制品反射颜色坐标a*和b*中的至少一个，这是在D65光源下且以10°标准观察者角度测得的。
第66个方面A66包括根据第50个方面A50至第65个方面A65中任一项的制品，其中：制品展现出大于或等于5的角度色移，这是在D65光源下，参比法向入射大于或等于20度的入射照射角测得的；以及采用方程式√((a*2-a*1)2+(b*2-b*1)2)计算角度色移，a*1和b*1表示当以法向入射观察时的制品坐标，而a*2和b*2表示当以所述入射照射角观察时的制品坐标。
第67个方面A67包括根据第50个方面A50至第66个方面A66中任一项的制品，其中，制品展现出大于或等于2的参照点色移，这是在D65光源下以法向入射测得的；以及采用方程式√(a*2+b*2)计算参照点色移。
根据第68个方面A68，消费者电子装置可以包括：具有前表面、背表面和侧表面的外壳；以及提供成至少部分位于外壳内的电子组件，所述电子组件至少包括控制器、存储器和显示器，所述显示器提供成位于外壳的前表面或者或外壳的前表面相邻；其中，外壳的背表面包括根据第1个方面A1至第28个方面A28中任一项的经过涂覆的纹理化玻璃制品。
根据第69个方面A69，消费者电子装置可以包括：具有前表面、背表面和侧表面的外壳；以及提供成至少部分位于外壳内的电子组件，所述电子组件至少包括控制器、存储器和显示器，所述显示器提供成位于外壳的前表面或者或外壳的前表面相邻；其中，外壳的背表面包括根据第29个方面A29至第49个方面A40中任一项的经过涂覆的纹理化玻璃制品。
根据第70个方面A70，消费者电子装置可以包括：具有前表面、背表面和侧表面的外壳；以及提供成至少部分位于外壳内的电子组件，所述电子组件至少包括控制器、存储器和显示器，所述显示器提供成位于外壳的前表面或者或外壳的前表面相邻；其中，外壳的背表面包括根据第50个方面A50至第67个方面A67中任一项的经过涂覆的纹理化玻璃制品。
在以下的详细描述中提出了本文所述的经过涂覆的纹理化玻璃制品的方法的其他特征和优点，其中的部分特征和优点对本领域的技术人员而言，根据所作描述就容易看出，或者通过实施包括以下详细描述、权利要求书以及附图在内的本文所述的实施方式而被认识。
要理解的是，前述的一般性描述和下文的具体实施方式都描述了各个实施方式且都旨在提供用于理解所要求保护的主题的性质和特性的总体评述或框架。包括的附图提供了对各个实施方式的进一步理解，附图并入本说明书中并构成说明书的一部分。附图例示了本文所描述的各个实施方式，并且与说明书一起用于解释所要求保护的主题的原理和操作。
附图说明
图1示意性显示常规玻璃制品的平面图；
图2示意性显示在其上没有涂层的纹理化玻璃制品的平面图；
图3示意性显示根据本文所示和所述的一个或多个实施方式的经过涂覆的纹理化玻璃制品的平面图；
图4示意性显示根据本文所示和所述的一个或多个实施方式的纹理化玻璃制品在其上布置涂层之前的平面图；
图5示意性显示根据本文所示和所述的一个或多个实施方式的多面体表面特征体的平面图；
图6示意性显示根据本文所示和所述的一个或多个实施方式的多面体表面特征体的平面图；
图7示意性显示根据本文所示和所述的一个或多个实施方式的与铝硅酸盐玻璃制品反应的蚀刻剂；
图8是根据本文所示和所述的一个或多个实施方式的形成纹理化玻璃制品的流程图；
图9示意性显示根据本文所示和所述的一个或多个实施方式的形成纹理化玻璃制品的方法步骤；
图10示意性显示根据本文所示和所述的一个或多个实施方式的形成纹理化玻璃制品的方法的另一个步骤；
图11示意性显示根据本文所示和所述的一个或多个实施方式的形成纹理化玻璃制品的方法的另一个步骤；
图12示意性显示根据本文所示和所述的一个或多个实施方式的经过涂覆的纹理化玻璃制品的平面图；
图13示意性显示根据本文所示和所述的一个或多个实施方式的涂层的截面图；
图14是根据本文所述一个或多个实施方式的整合了任意经过涂覆的纹理化玻璃制品的示例性电子装置的平面图；
图15是图14的示例性电子装置的透视图；
图16是图14的示例性电子装置的透视图；
图17是根据本文所示和所述的一个或多个实施方式的纹理化玻璃制品在其上布置涂层之前的100倍放大倍数的光学显微镜图像；
图18是图17所示的纹理化玻璃制品的200倍放大倍数的光学显微镜图像；
图19是根据本文所示和所述的一个或多个实施方式的纹理化玻璃制品在其上布置涂层之前的100倍放大倍数的光学显微镜图像；
图20是图19的纹理化玻璃制品的200倍放大倍数的光学显微镜图像；
图21是根据本文所示和所述的一个或多个实施方式的经过涂覆的纹理化玻璃制品的100倍放大倍数的光学显微镜图像；
图22是图21所示的经过涂覆的纹理化玻璃制品的200倍放大倍数的光学显微镜图像；
图23是根据本文所示和所述的一个或多个实施方式的经过涂覆的纹理化玻璃制品的100倍放大倍数的光学显微镜图像；
图24是图23所示的经过涂覆的纹理化玻璃制品的200倍放大倍数的光学显微镜图像；
图25显示根据本文所示和所述的一个或多个实施方式的纹理化玻璃制品和经过涂覆的纹理化玻璃制品的反射率(y轴，单位是百分比(％))与波长(x轴，单位是纳米(nm))的关系图；以及
图26显示根据本文所示和所述的一个或多个实施方式的纹理化玻璃制品和经过涂覆的纹理化玻璃制品的硬度(y轴，单位是吉帕斯卡(GPa))与进入表面中的位移量(x轴，单位是纳米(nm))的关系图。
具体实施方式
现将具体参照具有强化的反射率和硬度以及可调节的颜色性质的经过涂覆的纹理化玻璃制品的各种实施方式。
根据实施方式，经过涂覆的纹理化玻璃制品包括：包含第一表面的玻璃主体；从第一表面延伸的多个多面体表面特征体；以及布置在主体的第一表面和所述多个多面体表面特征体上的涂层。所述多个多面体表面特征体中的每一个可以包括第一表面上的底座以及从底座延伸且朝向彼此会聚的多个面。涂层可以包括多层干涉堆叠。
根据其他实施方式，经过涂覆的纹理化玻璃制品包括：包含第一表面的玻璃主体；从第一表面延伸的多个多面体表面特征体；以及布置在主体的第一表面和所述多个表面特征体上的涂层。涂层可以包括与主体的第一表面相反的外表面。制品可以包括大于或等于4％的单侧平均适光反光率，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
根据其他实施方式，经过涂覆的纹理化玻璃制品包括：包含第一表面的玻璃主体；从第一表面延伸的多个多面体表面特征体；以及布置在主体的第一表面和所述多个多面体表面特征体上的涂层。所述多个多面体表面特征体中的每一个可以包括第一表面上的底座以及从底座延伸且朝向彼此会聚的多个面。所述多个多面体表面特征体可以包括大于或等于50μm且小于或等于300μm的表面特征体尺寸以及大于或等于10μm且小于或等于40μm的表面特征体高度。涂层可以包括多层干涉堆叠。制品可以包括大于或等于4％的单侧平均适光反光率，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
本文将具体参照附图描述经过涂覆的纹理化玻璃制品及其形成方法的各种实施方式。
本文中，范围可以表示为从“约”一个具体值和/或到“约”另一个具体值的范围。当表述这样的范围时，另一个实施方式包括自所述一个具体数值始和/或至所述另一具体数值止。类似地，当用先行词“约”将数值表示为近似值时，应理解具体数值构成了另一个实施方式。还会理解的是，每个范围的端点在与另一个端点有关及独立于另一个端点时都是重要的。
本文所用的方向术语，例如上、下、右、左、前、后、顶、底，仅仅是参照绘制的附图而言，并不用来暗示绝对的取向。
除非另有明确说明，否则本文所述的任何方法不应理解为其步骤需要按具体顺序进行，或者要求使任何设备具有特定取向。因此，如果方法权利要求没有实际叙述其步骤要遵循的顺序，或者任何设备权利要求没有实际叙述各组件的顺序或取向，或者权利要求书或说明书中没有另外具体陈述步骤限于具体顺序，或者没有叙述设备组件的具体顺序或取向，那么在任何方面都不应推断顺序或取向。这同样适用于任何可能的未明确表述的解释依据，包括：关于设置步骤、操作流程、组件顺序或组件取向的逻辑；由语法结构或标点获得的一般含义；以及说明书所述的实施方式的数量或种类。
除非上下文另外清楚地说明，否则，本文所用的单数形式“一个”、“一种”以及“该”包括复数指代。因此，例如，提到的“一种”部件包括具有两种或更多种这类部件的方面，除非文本中有另外的明确表示。
在本文所述的铝硅酸盐玻璃制品的实施方式中，除非另有说明，否则构成组分(例如，SiO2和Al2O3等)的浓度规定为基于氧化物的摩尔百分比(摩尔％)。
如本文所述，通过尼康Eclipse L200N光学显微镜，以2倍和10倍物镜和目镜倍数10倍(总计100倍和200倍放大倍数)来获得光学显微镜图像。
如本文所述，采用200倍放大倍数的光学显微镜图像测量“表面特征体尺寸”。以两个不同的500μm x 1000μm扫描区域获得图像。在每个图像中，测量10个最大表面特征体的底座的横截面上的最大距离。“表面特征体尺寸”指的是来自这两次扫描区域的20个表面特征体的底座的横截面上的平均最大距离。例如，对于具有三角形底座的表面特征体，底座的横截面上的最大距离是三角形底座的高。对于具有矩形底座的表面特征体，底座的横截面上的最大距离是底座上的对角线测量。
如本文所用，“表面特征体高度”指的是表面特征体的底座与表面特征体的最高顶点之间的平均多面体表面特征体距离。
如本文所用，“面角(facet angle)”指的是与铝硅酸盐玻璃制品的第一表面呈法向的平面与面(facet)之间的平均多面体表面角度。通过表面特征体的反正切(高度/半长)来测量面角。如本文所用，“三棱锥面角”指的是铝硅酸盐玻璃制品上存在的三棱锥的平均面角。如本文所用，“四棱锥面角”指的是铝硅酸盐玻璃制品上存在的四棱锥的平均面角。
如本文所述，“表面粗糙度”指的是通过如下方式量化的纹理化玻璃制品的表面纹理：记录在评估长度内的轮廓高度偏离平均线的绝对值的算术平均值，由Mitutoyo SJ-310表面粗糙度计并根据ISO1997进行测量。除非另有说明，否则本文所记录的数值是微米或者μm。
当本文用于描述纹理化玻璃制品的多个多面体表面特征体为“充分覆盖”时，指的是多面体表面特征体覆盖了大于或等于90％的纹理化玻璃制品的主表面。
当本文用于描述纹理化玻璃制品的多个多面体表面特征体为“微均匀性”时，指的是个体特征体尺寸变化不超过20％。
当用于描述纹理化玻璃制品上的表面特征体的结构时，“多面体”指的是具有平坦的多边形面和直边的三维形状。
当用于描述纹理化玻璃制品上的表面特征体的结构时，“树突状(dendritic)”指的是分支化结构。
如本文所述，通过横截面的扫描电子显微镜(SEM)测量涂层或其层的厚度。
如本文所述，采用J.A.Woollam公司的光谱椭偏仪测量“折射率”。
如本文所用，术语“硬度”指的是经过涂覆的纹理化玻璃制品的硬度，这是在涂层的多层干涉堆叠的外表面上沿着100nm至500nm的压痕深度通过布氏压痕计硬度测试测得的。
如本文所用，术语“反射率”指的是总反射率，包括镜面反射率和漫反射率。
如本文所用，术语“单侧平均适光反光率”指的是从经过涂覆的纹理化玻璃制品反射的入射光学能量的平均百分比，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在涂层的多层干涉堆叠的外表面上测得的。
如本文所用，术语“峰值单侧反光率”指的是从经过涂覆的纹理化玻璃制品反射的入射光学能量的峰值百分比，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在涂层的多层干涉堆叠的外表面上测得的。
如本文所用，术语“CIELAB色空间”指的是由国际照明委员会(CIE)在1976年定义的色空间。其通过三个数值来对颜色进行表述：L*用于量度，从黑(0)到白(100)；a*从绿(-)到红(+)；以及B*从蓝(-)到黄(+)。
“颜色性质”指的是峰值单侧反光率、CIELAB色空间中的反射率色坐标(L*、a*和b*)以及角度色移。
如本文所用，“中性颜色”指的是a*和b*值为-1.5至1.5。
现参见图1，具有凹的微特征体和哑光视觉外观的常规玻璃制品显示为100。被引导到常规玻璃制品100的入射光102可能被漫射方式反射回去，显示为104。现参见图2，为了实现“发光效果”(即，更大的反射率)，使用蚀刻剂来实现纹理化玻璃制品，显示为110。纹理化表面的性质(包括：其上的表面特征的结构、尺寸、覆盖率和微均匀性)可能影响纹理化玻璃制品110的外观(例如，反射率或者“发光效果”)。由于它们的平坦多边形面和直边，多面体表面特征体112可以以镜面方式将入射光102反射回去(例如，约4％)(显示为114)，并实现比常规玻璃制品更好的“发光效果”。虽然增加表面特征体尺寸可以进一步强化“发光效果”，但是单个表面特征体也可能变得粒状。此外，多面体表面特征体含有尖点，这可能容易地受到破坏。
本文公开了经过涂覆的纹理化玻璃制品及其形成方法，它们减轻了上文所述的问题从而使得铝硅酸盐玻璃可以具有强化的反射率和硬度以及可调节的颜色性质。具体来说，现参见图3，布置在纹理化玻璃制品110上的涂层122可以增强入射光102的反射(显示为124)以及硬度。此外，涂层122可以经过修改以提供所需的颜色性质。
纹理化玻璃制品
现参见图4，本文所述的纹理化玻璃制品200具有包含第一表面204的玻璃主体202。在实施方式中，玻璃主体202可以包括铝硅酸盐玻璃。在实施方式中，玻璃主体可以包含大于或等于14摩尔％Al2O3。在实施方式中，玻璃主体202可以包含：大于或等于56摩尔％且小于或等于72摩尔％SiO2，大于或等于14摩尔％且小于或等于25摩尔％Al2O3，大于或等于0摩尔％且小于或等于3摩尔％P2O5，大于或等于0摩尔％且小于或等于3摩尔％ZnO，大于或等于1摩尔％且小于或等于12摩尔％Li2O，以及大于或等于4摩尔％且小于或等于18摩尔％Na2O。在实施方式中，玻璃主体202可以包含：大于或等于50摩尔％且小于或等于66摩尔％SiO2，大于或等于14摩尔％且小于或等于25摩尔％Al2O3，大于或等于0摩尔％且小于或等于3摩尔％P2O5，大于或等于1摩尔％且小于或等于8摩尔％B2O3，大于或等于0摩尔％且小于或等于3摩尔％MgO，大于或等于2摩尔％且小于或等于14摩尔％Li2O，大于或等于2摩尔％且小于或等于14摩尔％Na2O，大于或等于0摩尔％且小于或等于1摩尔％K2O，以及大于或等于0摩尔％且小于或等于1摩尔％TiO2。玻璃主体202的其他合适的组成如下所述：美国专利第10,294,151B2号，美国专利第11,104,602B2号，美国专利第10,787,387B2号，美国专利申请公开第2021/0387898A1，美国专利第10,633,279B2号，以及美国专利申请公开第2021/0155530A1号，它们全文通过引用结合入本文。
在一个或多个实施方式中，玻璃主体202可以经过强化或者未经强化。合适的玻璃的例子包括钠钙玻璃、碱性铝硅酸盐玻璃、含碱性硼硅酸盐玻璃以及碱性铝硼硅酸盐玻璃。在一些变化形式中，玻璃可以不含Li2O。在一个或多个替代实施方式中，玻璃主体可以包括晶体，例如玻璃陶瓷基材(其可以经过强化或者未经过强化)或者可以包括单晶结构，例如蓝宝石。在一个或多个具体实施方式中，基材包括无定形基底(例如玻璃)和晶体包覆(例如，蓝宝石层、多晶氧化铝层和/或尖晶石(MgAl2O4)层)。
纹理化玻璃制品200还包括从第一表面204延伸的多个多面体表面特征体206。所述多个多面体表面特征体206中的每一个包括第一表面204上的底座208，从底座208延伸的多个面210，以及至少一个顶点212。
在实施方式中，每个多面体表面特征体206的面210从底座208延伸并朝向彼此会聚以形成多面体表面特征体206的多面体形貌(例如，具有三重对称或四重对称的金字塔形)。例如，如图5和6所示，在实施方式中，多面体表面特征体206可以包括三棱锥206a、四棱锥206b或其组合。
在实施方式中，所述多个表面特征体206可以包括大于或等于50μm且小于或等于300μm的表面特征体尺寸。在实施方式中，所述多个表面特征体206可以包括大于或等于50μm、大于或等于75μm、或者甚至大于或等于100μm的表面特征体尺寸。在实施方式中，所述多个表面特征体206可以包括小于或等于300μm、小于或等于250μm、小于或等于200μm、或者甚至小于或等于150μm的表面特征体尺寸。在实施方式中，所述多个表面特征体206可以包括如下表面特征体尺寸：大于或等于50μm且小于或等于300μm，大于或等于50μm且小于或等于250μm，大于或等于50μm且小于或等于200μm，大于或等于50μm且小于或等于150μm，大于或等于75μm且小于或等于300μm，大于或等于75μm且小于或等于250μm，大于或等于75μm且小于或等于200μm，大于或等于75μm且小于或等于150μm，大于或等于100μm且小于或等于300μm，大于或等于100μm且小于或等于250μm，大于或等于100μm且小于或等于200μm，或者甚至大于或等于100μm且小于或等于150μm，或者由任意这些端点形成的任意和全部子范围。
在实施方式中，多面体表面特征体206可以包括大于或等于10°且小于或等于25°的面角。在实施方式中，多面体表面特征体206可以包括大于或等于10°、大于或等于13°、或者甚至大于或等于15°的面角。在实施方式中，多面体表面特征体206可以包括小于或等于25°、小于或等于23°、小于或等于20°、或者甚至小于或等于18°的面角。在实施方式中，多面体表面特征体206可以包括如下面角：大于或等于10°且小于或等于25°，大于或等于10°且小于或等于23°，大于或等于10°且小于或等于20°，大于或等于10°且小于或等于18°，大于或等于13°且小于或等于25°，大于或等于13°且小于或等于23°，大于或等于13°且小于或等于20°，大于或等于13°且小于或等于18°，大于或等于15°且小于或等于25°，大于或等于15°且小于或等于23°，大于或等于15°且小于或等于20°，或者甚至大于或等于15°且小于或等于18°，或者由任意这些端点形成的任意和全部子范围。
在实施方式中，多面体表面特征体206可以包括大于或等于2μm且小于或等于7μm的表面粗糙度。在实施方式中，多面体表面特征体206可以包括大于或等于2μm或者甚至大于或等于4μm的表面粗糙度。在实施方式中，多面体表面特征体206可以包括小于或等于7μm或者甚至小于或等于6μm的表面粗糙度。在实施方式中，多面体表面特征体106可以包括如下表面粗糙度：大于或等于2μm且小于或等于7μm，大于或等于2μm且小于或等于6μm，大于或等于4μm且小于或等于7μm，或者甚至大于或等于4μm且小于或等于6μm，或者由任意这些端点形成的任意和全部子范围。
每个多面体表面特征体206的结构和尺寸及其充分覆盖微均匀性，有助于实现比常规玻璃制品更大的反射率。
蚀刻剂
在实施方式中，为了实现具有充分覆盖和微均匀性的多面体表面特征体从而实现所需的“发光效果”，可以制备蚀刻剂以形成纹理化玻璃制品，从而使得蚀刻剂优先产生硅基沉淀物和最小化铝基沉淀物的量。硅基沉淀物(例如，金属氟硅酸盐(MSiF6))导致大的多面体表面特征体，这相比于树突状表面特征反射更多的光。铝基沉淀物(例如，铝氟化金属盐(MAlF5))导致小的树突状表面特征。
将各种蚀刻剂认为对于产生本文所述的纹理化玻璃制品是合适的，例如美国临时专利申请第63/289,782号所述的那些，其全文通过引用结合入本文。出于示例性目的，本文将会对包含氟化氢铵、硅化合物、多元醇、盐酸和水的蚀刻剂进行描述。但是，本领域技术人员会理解的是，可以使用任何优先产生硅基沉淀物且使得铝基沉淀量的量最小化的蚀刻剂。
现参见图7，氟化氢铵包括氢氟酸(HF)物质和铵(NH4)离子。蚀刻剂300与铝硅酸盐玻璃制品302反应，这导致来自蚀刻剂300的HF物质扩散进入到铝硅酸盐玻璃制品302中并腐蚀Si-O网络。从铝硅酸盐玻璃制品302释放SiF4并与HF反应产生SiF6 2-离子。来自蚀刻剂的NH4离子扩散到蚀刻剂300与铝硅酸盐玻璃制品302的界面304，并与SiF6 2-离子反应从而产生氟硅酸铵(NH4)2SiF6沉淀物。由于这些沉淀物在蚀刻剂300中具有低溶解度，由此它们沉积到铝硅酸盐玻璃制品302的表面上以形成晶种306(例如，盐壳(salt crust))。
随着蚀刻剂300持续与铝硅酸盐玻璃制品302反应，晶种306生长。由于晶种306不溶于蚀刻剂中，晶种306起到了原位掩模的作用。晶种306密封了铝硅酸盐玻璃制品302的部分表面。绕着晶种306蚀刻掉玻璃从而产生多面体表面特征体308。多面体表面特征体308的形状可以由晶种306的形状所决定，可以通过改变蚀刻剂300的组成和/或改变蚀刻剂与铝硅酸盐玻璃制品302的接触时长来调节所述晶种306的形状。
由此，蚀刻剂300中存在的氟化氢铵起到了结晶促进剂的作用，鼓励形成晶种306。蚀刻剂300中的氟化氢铵的量应该足够高(例如，大于或等于20重量％)从而确保形成晶种306。可以限制氟化铵的量(例如，小于或等于45重量％)从而减少或防止一旦达到溶解度可能沉淀出来的未溶解的盐。未溶解的盐的蚀刻可能与蚀刻剂不同，并且可能导致缺乏微均匀性。
在实施方式中，蚀刻剂300中的氟化氢铵的量可以大于或等于20重量％、大于或等于23重量％、大于或等于25重量％、或者甚至大于或等于27重量％。在实施方式中，蚀刻剂300中的氟化氢铵的量可以小于或等于45重量％、小于或等于43重量％、小于或等于40重量％、小于或等于37重量％、或者甚至小于或等于35重量％。在实施方式中，蚀刻剂300中的氟化氢铵的量可以是：大于或等于20重量％且小于或等于45重量％，大于或等于20重量％且小于或等于43重量％，大于或等于20重量％且小于或等于40重量％，大于或等于20重量％且小于或等于37重量％，大于或等于20重量％且小于或等于35重量％，大于或等于23重量％且小于或等于45重量％，大于或等于23重量％且小于或等于43重量％，大于或等于23重量％且小于或等于40重量％，大于或等于23重量％且小于或等于37重量％，大于或等于23重量％且小于或等于35重量％，大于或等于25重量％且小于或等于45重量％，大于或等于25重量％且小于或等于43重量％，大于或等于25重量％且小于或等于40重量％，大于或等于25重量％且小于或等于37重量％，大于或等于25重量％且小于或等于35重量％，大于或等于27重量％且小于或等于45重量％，大于或等于27重量％且小于或等于43重量％，大于或等于27重量％且小于或等于40重量％，大于或等于27重量％且小于或等于37重量％，或者甚至大于或等于27重量％且小于或等于35重量％，或者由任意这些端点形成的任意和全部子范围。
蚀刻剂300中的硅化合物可以被用于增加Si离子(例如，二氧化硅和二氧化硅凝胶)的浓度或者SiF6离子(例如，六氟硅酸铵、六氟硅酸钾、六氟硅酸钠或者六氟硅酸镁)的浓度，从而加速氟硅酸铵在铝硅酸盐玻璃制品302上的沉淀。在实施方式中，硅化合物可以包括：二氧化硅、二氧化硅凝胶、六氟硅酸铵、六氟硅酸钾、六氟硅酸钠、六氟硅酸镁或其组合。
蚀刻剂300中的硅化合物的量应该足够高(例如，大于或等于0.25重量％)从而增加Si或SiF6离子的浓度。可以限制硅化合物的量(例如，小于或等于10重量％)从而没有使得蚀刻剂300的粘度增加到无法实现所得到的多面体表面特征体的充分覆盖和微均匀性的那个点。
在实施方式中，蚀刻剂300中的硅化合物的量可以大于或等于0.25重量％、大于或等于0.5重量％、大于或等于0.75重量％、或者甚至大于或等于1重量％。在实施方式中，蚀刻剂300中的硅化合物的量可以小于或等于10重量％、小于或等于8重量％、小于或等于6重量％、或者甚至小于或等于4重量％。在实施方式中，蚀刻剂300中的硅化合物的量可以是：大于或等于0.25重量％且小于或等于10重量％，大于或等于0.25重量％且小于或等于8重量％，大于或等于0.25重量％且小于或等于6重量％，大于或等于0.25重量％且小于或等于4重量％，大于或等于0.5重量％且小于或等于10重量％，大于或等于0.5重量％且小于或等于8重量％，大于或等于0.5重量％且小于或等于6重量％，大于或等于0.5重量％且小于或等于4重量％，大于或等于0.75重量％且小于或等于10重量％，大于或等于0.75重量％且小于或等于8重量％，大于或等于0.75重量％且小于或等于6重量％，大于或等于0.75重量％且小于或等于4重量％，大于或等于1重量％且小于或等于10重量％，大于或等于1重量％且小于或等于8重量％，大于或等于1重量％且小于或等于6重量％，或者甚至大于或等于1重量％且小于或等于4重量％，或者由任意这些端点形成的任意和全部子范围。
蚀刻剂300中的多元醇可以被用于增加蚀刻剂的粘度从而帮助调节蚀刻剂的流动。蚀刻剂300中的多元醇还可以被用于降低氟硅酸铵的溶解性，从而增加氟硅酸铵的沉淀。在实施方式中，盐酸可以包括：季戊四醇、乙二醇、1,2-丙二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、新戊二醇、二乙二醇、二丙二醇、三羟甲基丙烷、甘油或其组合。
蚀刻剂300中的多元醇的量应该足够高(例如，大于或等于0.5重量％)从而确保增加蚀刻剂粘度。可以限制多元醇的量(例如，小于或等于20重量％)从而没有使得蚀刻剂300的粘度增加到无法实现所得到的多面体表面特征体的充分覆盖和微均匀性的那个点。在实施方式中，蚀刻剂300中的多元醇的量可以大于或等于0.5重量％、大于或等于1重量％、大于或等于1.5重量％、或者甚至大于或等于2重量％。在实施方式中，蚀刻剂300中的多元醇的量可以小于或等于20重量％、小于或等于15重量％、小于或等于10重量％、或者甚至小于或等于5重量％。在实施方式中，蚀刻剂300中的多元醇的量可以是：大于或等于0.5重量％且小于或等于20重量％，大于或等于0.5重量％且小于或等于15重量％，大于或等于0.5重量％且小于或等于10重量％，大于或等于0.5重量％且小于或等于5重量％，大于或等于1重量％且小于或等于20重量％，大于或等于1重量％且小于或等于15重量％，大于或等于1重量％且小于或等于10重量％，大于或等于1重量％且小于或等于5重量％，大于或等于1.5重量％且小于或等于20重量％，大于或等于1.5重量％且小于或等于15重量％，大于或等于1.5重量％且小于或等于10重量％，大于或等于1.5重量％且小于或等于5重量％，大于或等于2重量％且小于或等于20重量％，大于或等于2重量％且小于或等于15重量％，大于或等于2重量％且小于或等于10重量％，或者甚至大于或等于2重量％且小于或等于5重量％，或者由任意这些端点形成的任意和全部子范围。
蚀刻剂300中存在的盐酸起到了溶解铝硅酸盐玻璃制品302的玻璃网络的组分和形成多面体表面特征体308的功能。蚀刻剂300中的盐酸的量应该足够高(例如，大于或等于5重量％)从而确保玻璃的蚀刻以及形成纹理化玻璃制品。可以限制盐酸的量(例如，小于或等于30重量％)以确保产生多面体表面特征体。当添加过量盐酸时，多面体表面特征体可能被腐蚀成更小的尺寸，失去它们的反射性外观。
在实施方式中，蚀刻剂300中的盐酸的量可以大于或等于5重量％、大于或等于7重量％、大于或等于10重量％、大于或等于13重量％、或者甚至大于或等于15重量％。在实施方式中，蚀刻剂300中的盐酸的量可以小于或等于30重量％、小于或等于27重量％、小于或等于25重量％、小于或等于23重量％、或者甚至小于或等于20重量％。在实施方式中，蚀刻剂300中的盐酸的量可以是：大于或等于5重量％且小于或等于30重量％，大于或等于5重量％且小于或等于27重量％，大于或等于5重量％且小于或等于25重量％，大于或等于5重量％且小于或等于23重量％，大于或等于5重量％且小于或等于20重量％，大于或等于7重量％且小于或等于30重量％，大于或等于7重量％且小于或等于27重量％，大于或等于7重量％且小于或等于25重量％，大于或等于7重量％且小于或等于23重量％，大于或等于7重量％且小于或等于20重量％，大于或等于10重量％且小于或等于30重量％，大于或等于10重量％且小于或等于27重量％，大于或等于10重量％且小于或等于25重量％，大于或等于10重量％且小于或等于23重量％，大于或等于10重量％且小于或等于20重量％，大于或等于13重量％且小于或等于30重量％，大于或等于13重量％且小于或等于27重量％，大于或等于13重量％且小于或等于25重量％，大于或等于13重量％且小于或等于23重量％，大于或等于13重量％且小于或等于20重量％，大于或等于15重量％且小于或等于30重量％，大于或等于15重量％且小于或等于27重量％，大于或等于15重量％且小于或等于25重量％，大于或等于15重量％且小于或等于23重量％，或者甚至大于或等于15重量％且小于或等于20重量％，或者由任意这些端点形成的任意和全部子范围。
蚀刻剂300中存在的水可以起到溶剂的作用。在实施方式中，蚀刻剂300中的水的量可以大于或等于25重量％、大于或等于30重量％、大于或等于35重量％、或者甚至大于或等于40重量％。在实施方式中，蚀刻剂300中的水的量可以小于或等于60重量％、小于或等于55重量％、或者甚至小于或等于50重量％。在实施方式中，蚀刻剂300中的水的量可以是：大于或等于25重量％且小于或等于60重量％，大于或等于25重量％且小于或等于55重量％，大于或等于25重量％且小于或等于50重量％，大于或等于30重量％且小于或等于60重量％，大于或等于30重量％且小于或等于55重量％，大于或等于30重量％且小于或等于50重量％，大于或等于35重量％且小于或等于60重量％，大于或等于35重量％且小于或等于55重量％，大于或等于35重量％且小于或等于50重量％，大于或等于40重量％且小于或等于60重量％，大于或等于40重量％且小于或等于55重量％，或者甚至大于或等于40重量％且小于或等于50重量％，或者由任意这些端点形成的任意和全部子范围。
在实施方式中，由于存在的氟化氢铵和硅化合物以及它们的量，本文公开的蚀刻剂300可以具有较高的粘度并且可以是浆料。蚀刻剂300的较高的粘度可以帮助调节蚀刻剂的流动，导致所得到的多面体表面特征体具有充分覆盖和微均匀性。在实施方式中，氟化氢铵与硅化合物之和比上盐酸、水与多元醇之和的重量比可以是0.3至0.9或者甚至0.3至0.6。
在实施方式中，蚀刻剂300可以包含：大于或等于25重量％且小于或等于40重量％氟化氢铵；大于或等于0.5重量％且小于或等于4重量％二氧化硅凝胶；大于或等于13重量％且小于或等于23重量％盐酸；大于或等于35重量％且小于或等于25重量％水；以及大于或等于1重量％且小于或等于15重量％甘油。
形成纹理化玻璃制品的方法
现参见图8和9，在实施方式中，形成纹理化玻璃制品的方法500开始于方框502：将铝硅酸盐玻璃制品302与层叠体620进行层叠。铝硅酸盐玻璃制品302可以是板材的形式。在实施方式中，层叠体620可以是具有粘合剂层的聚乙烯膜。在实施方式中，可以在辊层叠机器中进行铝硅酸盐玻璃制品302的层叠。
回到图8，在实施方式中，方法500可以任选地继续进行方框504：对铝硅酸盐玻璃制品302进行预清洁(例如，(例如用DI水)清洗之后在水性溶液中进行)以及干燥(例如，在烘箱中进行)。
回到图8并现参见图10，方法500继续进行方框506：将铝硅酸盐玻璃制品320浸入在蚀刻剂300中。在实施方式中，可以通过如下方式制备蚀刻剂300：通过手磨掺混粉末形式的组分，以及将液体/溶剂形式的组分预混合和搅拌至均匀状态。可以对粉末和液体的混合物进行倾倒和搅拌。所得到的蚀刻剂300可以老化持续大于或等于2小时，之后浸入铝硅酸盐玻璃制品302中。
在实施方式中，蚀刻剂300的温度可以是大于或等于10℃且小于或等于30℃。在实施方式中，蚀刻剂300的温度可以是大于或等于10℃、大于或等于12℃、大于或等于14℃、或者甚至大于或等于16℃。在实施方式中，蚀刻剂300的温度可以是小于或等于30℃、小于或等于28℃、小于或等于26℃、或者甚至小于或等于24℃。在实施方式中，蚀刻剂300的温度可以是：大于或等于10℃且小于或等于30℃，大于或等于10℃且小于或等于28℃，大于或等于10℃且小于或等于26℃，大于或等于10℃且小于或等于24℃，大于或等于12℃且小于或等于30℃，大于或等于12℃且小于或等于28℃，大于或等于12℃且小于或等于26℃，大于或等于12℃且小于或等于24℃，大于或等于14℃且小于或等于30℃，大于或等于14℃且小于或等于28℃，大于或等于14℃且小于或等于26℃，大于或等于14℃且小于或等于24℃，大于或等于16℃且小于或等于30℃，大于或等于16℃且小于或等于28℃，大于或等于16℃且小于或等于26℃，或者甚至大于或等于16℃且小于或等于24℃，或者由任意这些端点形成的任意和全部子范围。
在实施方式中，如图10所示，可以将铝硅酸盐玻璃制品302固定到臂622，以帮助将铝硅酸盐玻璃制品302浸入到蚀刻剂300中。例如，在实施方式中，可以在层叠体620与臂622之间布置粘合剂或吸盘624，从而将铝硅酸盐玻璃制品302固定到臂622。臂622可以下探进入到含有蚀刻剂300的罐626中，从而将铝硅酸盐玻璃制品302浸入到蚀刻剂300中。
回到图8和10并现参见图11，方法继续进行方框508：使得铝硅酸盐玻璃制品302在蚀刻剂300中在上浸入深度D1(如图10所示)与下浸入深度D2(如图11所示)之间循环，持续循环时间。在实施方式中，通过臂622的重复上下运动进行移动来进行铝硅酸盐玻璃制品302的循环。相对于蚀刻剂300的表面628而言，下浸入深度D2比上浸入深度D1更深。
在实施方式中，可以以大于或等于5cm/s且小于或等于30cm/s的速度进行循环。在实施方式中，循环速度可以大于或等于5cm/s或者甚至大于或等于10cm/s。在实施方式中，循环速度可以小于或等于30cm/s、小于或等于25cm/s、或者甚至小于或等于20cm/s。在实施方式中，进行循环的速度可以是：大于或等于5cm/s且小于或等于30cm/s，大于或等于5cm/s且小于或等于25cm/s，大于或等于5cm/s且小于或等于20cm/s，大于或等于10cm/s且小于或等于30cm/s，大于或等于10cm/s且小于或等于25cm/s，或者甚至大于或等于10cm/s且小于或等于20cm/s，或者由任意这些端点形成的任意和全部子范围。
循环帮助实现了多面体表面特征体的充分覆盖和微均匀性。在实施方式中，循环时间可以大于或等于60s且小于或等于600s。在实施方式中，循环时间可以大于或等于60s、大于或等于120s、大于或等于180s、或者甚至大于或等于240s。在实施方式中，循环时间可以小于或等于600s、小于或等于480s、或者甚至小于或等于360s。在实施方式中，循环时间可以是：大于或等于60s且小于或等于600s，大于或等于60s且小于或等于480s，大于或等于60s且小于或等于360s，大于或等于120s且小于或等于600s，大于或等于120s且小于或等于480s，大于或等于120s且小于或等于360s，大于或等于180s且小于或等于600s，大于或等于180s且小于或等于480s，或者甚至大于或等于180s且小于或等于360s，或者由任意这些端点形成的任意和全部子范围。
回到图8，方法500继续进行方框510：从蚀刻剂300取出铝硅酸盐玻璃制品302，对铝硅酸盐玻璃制品302进行清洗从而从表面去除蚀刻剂300和晶种306，以及对制品进行干燥从而形成具有多面体表面特征体的纹理化玻璃制品，如图4所示。可以从臂622取下铝硅酸盐玻璃制品302。在实施方式中，可以通过去离子(DI)水从铝硅酸盐玻璃制品302清洗掉蚀刻剂。在实施方式中，可以通过例如洗涤海绵去除或者洗涤掉粘附到铝硅酸盐玻璃制品302的晶种306。在实施方式中，可以去除层叠体620。在实施方式中，可以在环境条件或烘箱中对铝硅酸盐玻璃制品302进行干燥。
涂层
现参见图12，如本文所述的经过涂覆的纹理化玻璃制品700包括：布置在玻璃主体202的第一表面204以及多个多面体表面特征体206上的涂层702(例如，减反射涂层702)。如下文所述，涂层702提供了强化的反射率和硬度。此外，涂层702可以经过修改以提供所需的颜色性质。
涂层702包括至少一种材料的至少一层。术语“层”可以包括单层或者可以包括一层或多层子层。此类子层可以相互直接接触。子层可以由相同材料形成，或者可以由两种或更多种不同材料形成。在实施方式中，此类子层可以具有布置在其间的不同材料的插入层。在实施方式中，层可以包括一层或多层毗邻且不间断层和/或一层或多层不连续且间断层(即，由相互相邻的不同材料形成的层)。层或子层可以由本领域的任意已知方法形成，包括离散沉积或连续沉积工艺。在实施方式中，可以仅使用连续沉积工艺形成层，或者可以仅使用离散沉积工艺形成层。
涂层702的厚度对于强化经过涂覆的纹理化玻璃制品700的硬度具有贡献作用。在实施方式中，涂层702的厚度可以大于或等于1μm或者甚至大于或等于2μm。在实施方式中，涂层702的厚度可以小于或等于10μm或者甚至小于或等于5μm。在实施方式中，涂层702的厚度可以是：大于或等于1μm且小于或等于10μm，大于或等于1μm且小于或等于5μm，大于或等于2μm且小于或等于10μm，或者甚至大于或等于2μm且小于或等于5μm，或者由任意这些端点形成的任意和全部子范围。
如本文所用，术语“布置”包括采用本领域任意已知的方法在表面上涂覆、沉积和/或形成材料。布置的材料可以构成本文所定义的层。表述“布置在...上”包括在表面上形成材料从而使得材料与表面直接接触的情况，还包括在表面上形成材料，其中在布置的材料和表面之间具有一种或多种插入材料的情况。插入材料可以构成本文所定义的层。
可以采用各种沉积方法，例如，真空沉积技术，例如化学气相沉积(例如，等离子体强化的化学气相沉积(PECVD)、低压化学气相沉积、大气压化学气相沉积以及等离子体强化的大气压化学气相沉积)、物理气相沉积(例如，反应性或非反应性喷溅、金属模式反应性喷溅或激光烧蚀)、热或电子束蒸发或者原子层沉积，来形成涂层702。也可使用基于液体的方法，例如喷涂、浸涂、旋涂或狭缝涂覆(例如，使用溶胶凝胶材料)。
现参见图13，涂层702包括多层干涉堆叠704。在实施方式中，多层干涉堆叠704可以包括多个层706、708。在实施方式中，所述多个层706、708可以表征为相互具有不同的折射率。在实施方式中，多层干涉堆叠704可以包括至少一层低折射率层706和至少一层高折射率层708。如本文所用，术语“高折射率”包括1.7至2.5。如本文所用，术语“低折射率”包括1.3至1.6。
在实施方式中，低折射率层与高折射率层的差异可以大于或等于0.01、大于或等于0.05、大于或等于0.1、大于或等于0.3、或者甚至大于或等于0.5。
所述至少一层低折射率层706和至少一层高折射率层708的厚度可以设计成导致相消干涉(即，低反射)或相长干涉(即，高反射)。调节所述至少一层低折射率层706和所述至少一层高折射率层708的数量、厚度和材料帮助强化了反射率。
在实施方式中，多层干涉堆叠704可以包括至少一个周期。单个周期710可以包括低折射率层706和高折射率层708，从而使得当提供多个周期时，低折射率层706和高折射率层708看上去沿着多层干涉堆叠704的物理厚度是交替的。在图13的例子中，多层干涉堆叠704包括3个周期。在实施方式中，多层干涉堆叠704可以包括1至20个周期。在实施方式中，多层干涉堆叠704可以包括：大于1个周期，大于2个周期，大于3个周期，大于或等于4个周期，或者甚至大于或等于5个周期。在实施方式中，多层干涉堆叠704可以包括：小于或等于20个周期，小于或等于18个周期，小于或等于16个周期，小于或等于14个周期，或者甚至小于或等于12个周期。在实施方式中，多个干涉堆叠704可以包括：1至20周期，1至18周期，1至16周期，1至14周期，1至12周期，2至20周期，2至18周期，2至16周期，2至14周期，2至12周期，3至20周期，3至18周期，3至16周期，3至14周期，3至12周期，4至20周期，4至18周期，4至16周期，4至14周期，4至12周期，5至20周期，5至18周期，5至16周期，5至14周期，或者甚至5至12周期，或者由任意这些端点形成的任意和全部子范围。
适用于多层干涉堆叠704中的示例性材料包括：SiO2、Al2O3、GeO2、SiO、AlOxNy、AlN、SiNx、SiOxNy、SiuAlvOxNy、Ta2O5、Nb2O5、TiO2、ZrO2、TiN、MgO、MgF2、CaF2、SnO2、HfO2、Y2O3、MoO3、DyF3、YF3、CeF3,、聚合物、含氟聚合物、等离子体聚合化的聚合物、硅氧烷聚合物、硅倍半氧烷、聚酰亚胺、氟化聚酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚醚砜、聚苯砜、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、丙烯酸聚合物、氨基甲酸酯聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯，以及本领域已知的其他材料，其中，下标“u”、“x”和“y”是0至1。在实施方式中，低折射率层706可以包含：SiO2、Al2O3、GeO2、SiO、AlOxNy、SiOxNu、SiAlxOy、SiuAlvOxNy、MgO、MgAl2O4、MgF2、BaF2、CaF2、DyF3、YbF3、CeF3或其组合，其中，下标“u”、“x”和“y”是0至1。在实施方式中，用于低折射率层的材料的氮含量可以最小化(例如，在诸如Al2O3和MgAl2O4之类的材料中)从而实现较低的折射率和/或实现较低的吸收。在实施方式中，高折射率层708可以包含：SiuAlvOxNy、Ya2O5、Nb2O5、AlN、Si3N4、AlOxNy、SiOxNy、HfO2、TiO2、ZrO2、Y2O3、Al2O3、MoO3、钻石状碳或其组合，其中，下标“u”、“x”和“y”是0至1。在实施方式中，可以使用于高折射率层的材料的氧含量最小化(SiNx或AlNx材料)，从而实现较高硬度。
在实施方式中，低折射率层706的厚度可以大于或等于2nm且小于或等于200nm。在实施方式中，低折射率层706的厚度可以是：大于或等于2nm、大于或等于5nm、大于或等于10nm、或者甚至大于或等于25nm。在实施方式中，低折射率层706的厚度可以小于或等于200nm、小于或等于150nm、或者甚至小于或等于100nm。在实施方式中，低折射率层的厚度可以是：大于或等于2nm且小于或等于200nm，大于或等于2nm且小于或等于150nm，大于或等于2nm且小于或等于100nm，大于或等于5nm且小于或等于200nm，大于或等于5nm且小于或等于150nm，大于或等于5nm且小于或等于100nm，大于或等于10nm且小于或等于200nm，大于或等于10nm且小于或等于150nm，大于或等于10nm且小于或等于100nm，大于或等于25nm且小于或等于200nm，大于或等于25nm且小于或等于150nm，或者甚至大于或等于25nm且小于或等于100nm，或者由任意这些端点形成的任意和全部子范围。
在实施方式中，高折射率层708的厚度可以大于或等于5nm且小于或等于5000nm。在实施方式中，高折射率层708的厚度可以大于或等于5nm、大于或等于10nm、或者甚至大于或等于25nm。在实施方式中，高折射率层708的厚度可以是：小于或等于5000nm、小于或等于2500nm、小于或等于1000nm、小于或等于500nm、或者甚至小于或等于250nm。在实施方式中，高折射率层的厚度是：大于或等于5nm且小于或等于5000nm，大于或等于5nm且小于或等于2500nm，大于或等于5nm且小于或等于1000nm，大于或等于5nm且小于或等于500nm，大于或等于5nm且小于或等于250nm，大于或等于10nm且小于或等于5000nm，大于或等于10nm且小于或等于2500nm，大于或等于10nm且小于或等于1000nm，大于或等于10nm且小于或等于500nm，大于或等于10nm且小于或等于250nm，大于或等于25nm且小于或等于5000nm，大于或等于25nm且小于或等于2500nm，大于或等于25nm且小于或等于1000nm，大于或等于25nm且小于或等于500nm，或者大于或等于25nm且小于或等于250nm，或者由任意这些端点形成的任意和全部子范围。
在实施方式中，可以使得涂层中的低折射率材料的量最小化。不受限于理论，低折射率材料通常也是较低硬度材料，这是由于同时影响折射率和硬度的原子键和电子密度的特性所导致的。因此，使得此类低折射率材料尽可能得少可以使得硬度最大化，同时维持本文所述的反射率和颜色性能。在实施方式中，表述为涂层702的厚度的比例的形式，低折射率材料可以占据涂层厚度的小于或等于60％、小于或等于50％、小于或等于40％、小于或等于30％、小于或等于20％、小于或等于10％、或者甚至小于或等于5％。
不受限于理论，高折射率材料通常来说同时还可以是较高硬度材料。因此，包含高折射率材料不仅可以增强反射率，而且还可以增强硬度。
不受限于理论，具有较高硬度的厚的高折射率层有效地屏蔽了下方层(或者厚的折射率层与玻璃主体之间的层)免受划痕影响。这种厚的高折射率层可以被称作耐划痕层。耐划痕层的物理厚度可以是约1nm至约5μm。在一些实施方式中，耐划痕涂层的物理厚度可以是如下范围：约1nm至约3μm，约1nm至约2.5μm，约1nm至约2μm，约1nm至约1.5μm，约1nm至约1μm，约1nm至约0.5μm，约1nm至约0.2μm，约1nm至约0.1μm，约1nm至约0.05μm，约5nm至约0.05μm，约10nm至约0.05μm，约15nm至约0.05μm，约20nm至约0.05μm，约5nm至约0.05μm，约200nm至约3μm，约400nm至约3μm，约800nm至约3μm，以及其间的所有范围和子范围。在一些实施方式中，耐划痕涂层的物理厚度可以是约1nm至约25nm。在一些情况下，耐划痕层可以包括氮化物或者氧氮化物材料，并且可以具有约200nm或更大、500nm或更大、或者约1000nm或更大的厚度。
在实施方式中，多层干涉堆叠704可以包括额外的封盖层712。额外的封盖层712可以包括比高折射率层708低的折射率材料。在实施方式中，封盖层712可以是低摩擦层、疏油性涂层、或者易清洁涂层。例如，在实施方式中，封盖层712可以包括：SiO2，疏油性或低摩擦层，或者SiO2与疏油材料的组合。示例性低摩擦层可以包括钻石状碳，此类材料展现出小于0.4、小于0.3、小于0.2、或者甚至小于0.1的摩擦系数。
在实施方式中，相对于厚的高折射率层(例如，大于或等于500nm)而言，添加的封盖层712(例如，较低折射率层)具有低厚度(例如，小于或等于200nm)，这使得对于纹理化玻璃制品的反射率和颜色性能的影响最小化。在实施方式中，封盖层712的厚度可以是大于0nm或者甚至大于或等于1nm。在实施方式中，封盖层712可以具有如下厚度：小于或等于200nm、小于或等于150nm、小于或等于100nm、或者小于或等于50nm、或者甚至小于或等于25nm。在实施方式中，封盖层712可以具有如下厚度：大于0nm且小于或等于200nm，大于0nm且小于或等于150nm，大于0nm且小于或等于100nm，大于0nm且小于或等于50nm，大于0nm且小于或等于25nm，大于或等于1nm且小于或等于200nm，大于或等于1nm且小于或等于150nm，大于或等于1nm且小于或等于100nm，大于或等于1nm且小于或等于50nm，或者大于或等于1nm且小于或等于25nm，或者由任意这些端点形成的任意和全部子范围。
在实施方式中，多层干涉堆叠704包括与玻璃主体202的第一表面相反的外表面714。
如本文所述，涂层702强化了经过涂覆的纹理化玻璃制品700的硬度，这至少部分是由于涂层702的厚度以及包含了高折射率层708。在实施方式中，经过涂覆的纹理化玻璃制品700可以包括大于或等于10GPa的硬度。在实施方式中，经过涂覆的纹理化玻璃制品700可以包括如下硬度：大于或等于10GPa，大于或等于12GPa，大于或等于15GPa，大于或等于18GPa，或者甚至大于或等于20GPa。在一些实施方式中，经过涂覆的纹理化玻璃制品700可以包括如下硬度：小于或等于35GPa，小于或等于30GPa，或者甚至小于或等于25GPa。在实施方式中，经过涂覆的纹理化玻璃制品700可以包括如下硬度：大于或等于10GPa且小于或等于35GPa，大于或等于10GPa且小于或等于30GPa，大于或等于10GPa且小于或等于25GPa，大于或等于12GPa且小于或等于35GPa，大于或等于12GPa且小于或等于30GPa，大于或等于12GPa且小于或等于25GPa，大于或等于15GPa且小于或等于35GPa，大于或等于15GPa且小于或等于30GPa，大于或等于15GPa且小于或等于25GPa，大于或等于18GPa且小于或等于35GPa，大于或等于18GPa且小于或等于30GPa，大于或等于18GPa且小于或等于25GPa，大于或等于20GPa且小于或等于35GPa，大于或等于20GPa且小于或等于30GPa，或者甚至大于或等于20GPa且小于或等于25GPa，或者由任意这些端点形成的任意和全部子范围。
除了强化了硬度之外，可以对本文所述的涂层702的数量、厚度和材料进行调整以强化纹理化的经过涂覆的玻璃制品的反射率。在实施方式中，制品可以包括大于或等于4％的单平均适光反光率。在实施方式中，经过涂覆的纹理化制品700可以包括大于或等于7％的单平均适光反光率。在实施方式中，经过涂覆的纹理化制品700可以包括大于或等于10％的单平均适光反光率。在实施方式中，经过涂覆的纹理化制品700可以包括大于或等于20％的单平均适光反光率。在实施方式中，经过涂覆的纹理化玻璃制品700包括如下单平均适光反光率：大于或等于4％、大于或等于7％、大于或等于10％、或者甚至大于或等于20％。在实施方式中，经过涂覆的纹理化玻璃制品700可以包括如下单平均适光反光率：小于或等于60％、小于或等于50％、或者甚至小于或等于40％。在实施方式中，经过涂覆的纹理化玻璃制品700可以包括如下单平均适光反光率：大于或等于4％且小于或等于60％，大于或等于4％且小于或等于50％，大于或等于4％且小于或等于40％，大于或等于7％且小于或等于60％，大于或等于7％且小于或等于50％，大于或等于7％且小于或等于40％，大于或等于10％且小于或等于60％，大于或等于10％且小于或等于50％，大于或等于10％且小于或等于40％，大于或等于20％且小于或等于60％，大于或等于20％且小于或等于50％，或者甚至大于或等于20％且小于或等于40％，或者由任意这些端点形成的任意和全部子范围。
来自涂层702/空气界面以及涂层702/玻璃主体202界面的反射波之间的光学干涉可能导致产生明显颜色的光谱反射振荡。可以通过改变多层干涉堆叠的层的厚度和材料来调节颜色性质和所得到的明显颜色。
所述明显颜色可能在反射中更为明显。在实施方式中，经过涂覆的纹理化制品700可以包括大于或等于25％的峰值单侧反光率。在实施方式中，经过涂覆的纹理化制品700可以包括大于或等于40％的峰值单侧反光率。在实施方式中，经过涂覆的纹理化制品700可以包括大于或等于50％的峰值单侧反光率。在实施方式中，经过涂覆的纹理化玻璃制品700可以包括如下峰值单侧反光率：大于或等于25％、大于或等于40％、或者甚至大于或等于50％。在实施方式中，经过涂覆的纹理化制品700可以包括小于或等于80％或者甚至小于或等于70％的峰值单侧反光率。在实施方式中，经过涂覆的纹理化玻璃制品700可以包括：大于或等于25％且小于或等于80％，大于或等于25％且小于或等于70％，大于或等于40％且小于或等于80％，大于或等于40％且小于或等于70％，大于或等于50％且小于或等于80％，或者甚至大于或等于50％且小于或等于70％，或者由任意这些端点形成的任意和全部子范围。
峰值单侧发光率的位置表明了经过涂覆的纹理化玻璃制品的明显颜色。例如，在实施方式中，制品可以包括520nm至560nm的峰值单侧反光，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在外表面上测得的。520nm至560nm范围的反射光视觉上看上去是绿色的。
在实施方式中，经过涂覆的纹理化玻璃制品可以具有大于或等于20且小于或等于90的制品反射色坐标L*，这是在D65光源下且以10°标准观察者角度测得的。在实施方式中，经过涂覆的纹理化玻璃制品可以具有大于或等于-30且小于或等于30的制品反射色坐标a*和b*中的至少一个，这是在D65光源下且以10°标准观察者角度测得的。
在实施方式中，由于光谱反射振幅随着入射照射角发生偏移，反射的角度颜色随着观察角而发生偏移。在实施方式中，经过涂覆的纹理化玻璃制品可以展现出大于或等于5的角度色移，这是在D65光源下，参比法向入射大于或等于20度的入射照射角测得的。采用方程式√((a*2-a*1)2+(b*2-b*1)2)计算角度色移，a*1和b*1表示当以法向入射观察时的制品坐标，而a*2和b*2表示当以所述入射照射角观察时的制品坐标。
在实施方式中，经过涂覆的制品还可以展现出参照点色移，其在这里用于简化描述非中性的绝对颜色，即偏离CIELAB色空间中的原点a*,b*＝0,0所表述的中性颜色，并且通过方程式(参照点色移)＝√(a*2+b*2)进行定义。这个参照点色移可以不依赖于观察角，或者还可以与角度色移相结合。在实施方式中，经过涂覆的纹理化玻璃制品(对于第一表面反射颜色)可以展现出如下参照点色移：大于或等于2、大于或等于5、大于或等于10、或者大于或等于20，这是在D65光源下以法向入射(或者0-20的角度)测得的。在实施方式中，经过涂覆的纹理化玻璃制品(对于第一表面反射颜色)还可以展现出如下参照点色移：小于或等于60、小于或等于40、或者小于或等于30，这是在D65光源下以法向入射(或者0-20的角度)测得的。
多层干涉堆叠704的其他合适的布置、材料和性质如美国专利第9,079,802B2号、第9,359,261B2号、第10,444,408B2号、第10,162,084B2号、第9,684,097B2号、第9,335,444B2号以及第10,416,352B2号所述，它们全文通过引用结合入本文。
本文所述的经过涂覆的纹理化玻璃制品可以用于各种应用，包括例如：消费者或商用电子装置(例如，智能手机、平板电脑、个人计算机、超极本、电视和照相机)中的背面覆盖应用。结合了如本文所揭示的任意经过涂覆的纹理化玻璃制品的示例性制品如图14-16所示。具体来说，图14-16显示消费者电子装置800，其包括：具有前表面804、背表面806和侧表面808的外壳802；(未示出的)电子组件，其至少部分位于或者完全位于外壳内并且至少包括控制器、存储器和位于外壳的前表面或者与外壳的前表面相邻的显示器810；以及位于外壳的前表面或者在外壳的前表面上方的覆盖基材812，从而使其位于显示器上方。在实施方式中，一部分的外壳802(例如，背面806)可以包括如本文所揭示的任意经过涂覆的纹理化玻璃制品。
实施例
为了更容易地理解各种实施方式，参考以下实施例，其显示了本文所述的经过涂覆的纹理化玻璃制品的各种实施方式。
纹理化玻璃制品(即，在其上布置涂层之前)
表1显示了经过如下所述处理的玻璃制品GA和GB的组成(单位是摩尔％)。
表1
表2显示实施例蚀刻剂EA和EB的组成(单位是重量％)。
表2
表3显示以下实施例1和2所述形成的实施例纹理化制品TA和TB的性质(即，在其上布置涂层之前)。
表3
实施例1：实施例纹理化制品TA(蚀刻剂EA和玻璃制品GA)
为了获得蚀刻剂EA，通过手磨获得包含98.0重量％NH4HF2和2.5重量％SiO2凝胶的153g掺混粉末。获得并充分搅拌包含27.0重量％HCl、59.4重量％H2O和13.6重量％C3H8O3的351g预混溶剂。在24℃执行粉末和溶剂的混合物。蚀刻剂冷却至16℃。
玻璃制品GA切割至50x 50mm尺寸并在一侧上层叠。经过层叠的玻璃制品GA在3％Parker水性溶液中进行10分钟超声处理，之后用流动的DI水充分冲洗。这之后，玻璃制品GA在60℃烘箱中干燥，之后放入环境条件下直到玻璃制品GA冷却到24℃。
玻璃制品GA浸入并在蚀刻剂EA中循环，以10cm/s的循环速度持续120s的时间段。蚀刻剂EA的温度是16℃。
用流动的DI水冲刷经过蚀刻的玻璃制品GA。通过刮擦去除经过蚀刻的玻璃制品上的沉淀物，并剥离层叠体。玻璃制品放入60℃烘箱中直至干燥。
现参见图17和18，用蚀刻剂EA处理玻璃制品GA导致的实施例纹理化制品TA具有充分覆盖以及所得到的多面体表面特征体的微均匀性。如图17和18所示，实施例纹理化制品TA包括三棱锥和四棱锥。
如上表3所示，实施例纹理化制品TA具有：115μm的表面特征体尺寸，13μm的表面特征体高度，15.0°的三棱锥面角，15.0°的四棱锥面角，以及4.0μm的表面粗糙度。
实施例2：实施例纹理化制品TB(蚀刻剂EB和玻璃制品GB)
为了获得蚀刻剂EB，通过手磨获得包含97.5重量％NH4HF2和2.5重量％SiO2凝胶的616g掺混粉末。获得并充分搅拌包含26.0重量％HCl、71.0重量％H2O和3.0重量％C3H8O3的1212g预混溶剂。在24℃执行粉末和溶剂的混合物。蚀刻剂冷却至12℃。
在蚀刻之前，玻璃制品GB进行与实施例1中的玻璃制品GA相同的处理。
玻璃制品GB浸入并在蚀刻剂EB中循环，以20cm/s的循环速度持续240s的时间段。蚀刻剂EB的温度是12℃。
在蚀刻之后，经过蚀刻的玻璃制品GB进行与实施例1中的玻璃制品GA相同的处理。
现参见图19和20，用蚀刻剂EB处理玻璃制品GB导致的实施例纹理化制品TB具有充分覆盖以及所得到的多面体表面特征体的微均匀性。如图19和20所示，实施例纹理化制品TB包括三棱锥和四棱锥。
如上表3所示，实施例纹理化制品TB具有：140μm的表面特征体尺寸，30μm的表面特征体高度，18.5°的三棱锥面角，19.0°的四棱锥面角，以及6.0μm的表面粗糙度。
经过涂覆的纹理化玻璃制品
随后，将实施例涂层CA的层一个接一个布置在实施例纹理化制品TA的顶部上，从而形成实施例经过涂覆的纹理化制品CTA。经过涂覆的纹理化玻璃制品CTA的结构(包括涂层CA的层)，每层的相对折射率，以及每层的相对厚度如表4所示。
SiO2和Si3N4层都是通过AJA-工业喷溅器沉积工具中的反应性喷溅制得的。通过离子辅助的Si靶的DC反应性喷溅沉积SiO2。通过DC反应性喷溅结合具有离子辅助的RF双重DC喷溅沉积Si3N4。靶是3”直径硅和3”直径氮。反应性气体是氮气和氧气，以及“工作”(或惰性)气体是氩气。供给到硅的能源是13.56Mhz的射频(RF)。供给到氮的能源是DC。
表4
实施例经过涂覆的纹理化制品CTA的结构
现参见图21和22，实施例涂层CB的层随后一个接一个沉积到实施例纹理化制品TA上，从而形成实施例经过涂覆的纹理化制品CTB。经过涂覆的纹理化玻璃制品CTB的结构(包括涂层CB的层)，每层的相对折射率，以及每层的相对厚度如表5所示。
如相对于涂层CA所述那样通过反应性喷溅形成涂层CB的层。
表5
实施例经过涂覆的纹理化制品CTB的结构
现参见图23和24，实施例涂层CB的层随后一个接一个沉积到实施例纹理化制品TB上，从而形成实施例经过涂覆的纹理化制品CTC。经过涂覆的纹理化制品CTC的结构(包括涂层CB的层)，每层的相对折射率，以及每层的相对厚度如表6所示。
表6
实施例经过涂覆的纹理化制品CTC的结构
现参见图25，在400nm至700nm的波长范围上，实施例纹理化制品TA和实施例经过涂覆的纹理化制品CTA分别具有约7％和约10％的单侧平均适光反光率。如图25所证实的那样，本文所述的经过涂覆的纹理化玻璃制品相比于没有涂层的纹理化玻璃制品可以具有更高的反射率。
同样如图25所示，实施例经过涂覆的纹理化制品CTB在可见光范围(即，从400nm到700nm)上具有明显更高的反射率，峰值反射约为535nm，导致在沿着制品的点处的绿色视觉外观。如图25所证实的那样，可以对本文所述的经过涂覆的纹理化制品的颜色性质进行调节以提供所需的颜色外观。
现参见表7，显示了实施例纹理化制品TA、实施例经过涂覆的纹理化制品CTA以及实施例经过涂覆的纹理化制品CTB的L*、a*和b*值(包括镜面分量，SCI)以及单侧平均适光反光率。
表7
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实施例经过涂覆的纹理化制品CTA的亮度值L*和反射率高于实施例纹理化制品TA，同时维持了中性颜色和视觉外观(如a*和b*值所证实)。实施例经过涂覆的纹理化制品CTB的亮度值L*和反射率高于实施例纹理化制品TA，同时提供了绿色外观(如a*和b*值所证实)。如表7所证实的那样，可以对本文所述的经过涂覆的纹理化制品进行调节以提供所需的反射率、量度和颜色外观。
现参见图26，实施例纹理化制品TA和实施例经过涂覆的纹理化制品CTA分别具有7GPa和20GPa的最大硬度。如图26所证实，本文所述的经过涂覆的纹理化玻璃制品的涂层赋予了所需的硬度。
本领域的技术人员显而易见的是，可以在不偏离要求专利权的主题的精神和范围的情况下，对本文所述的实施方式进行各种修改和变动。因此，本说明书旨在涵盖本文所述的各种实施方式的修改和变化形式，只要这些修改和变化形式落在所附权利要求及其等同内容的范围之内。
实施方式1：一种经过涂覆的纹理化玻璃制品，其包括：包含第一表面的玻璃主体；包含第一表面的玻璃主体；从第一表面延伸的多个多面体表面特征体，所述多个多面体表面特征体中的每一个包括第一表面上的底座以及从底座延伸且朝向彼此会聚的多个面；以及布置在主体的第一表面以及所述多个多面体表面特征体上的涂层，所述涂层包含多层干涉堆叠。
实施方式2：如实施方式1所述的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括大于或等于50μm且小于或等于300μm的表面特征体尺寸。
实施方式3：如实施方式1或实施方式2所述的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括大于或等于10μm且小于或等于40μm的表面特征体高度。
实施方式4：如实施方式1至实施方式3中任一项所述的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括三棱锥、四棱锥或其组合。
实施方式5：如实施方式1至实施方式4中任一项所述的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括大于或等于10°且小于或等于25°的面角。
实施方式6：如实施方式1至实施方式5中任一项所述的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括大于或等于2μm且小于或等于7μm的表面粗糙度。
实施方式7：如实施方式1至实施方式6中任一项所述的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括多个层，其中，所述多个层包括至少一层低折射率层和至少一层高折射率层。
实施方式8：如实施方式7所述的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括至少一个周期，每个周期包括所述至少一层低折射率层中的一个以及所述至少一层高折射率层中的一个。
实施方式9：如实施方式8所述的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括1至20个周期。
实施方式10：如实施方式7至实施方式9中任一项所述的制品，其中，所述至少一层低折射率层包含SiO2、Al2O3、GeO2、SiO、AlOxNy、SiOxNu、SiAlxOy、SiuAlvOxNy、MgO、MgAl2O4、MgF2、BaF2、CaF2、DyF3、YbF3、CeF3或其组合，其中，下标“u”、“x”和“y”是0至1。
实施方式11：如实施方式7至实施方式10中任一项所述的制品，其中，所述至少一层高折射率层包含SiuAlvOxNy、Ya2O5、Nb2O5、AlN、Si3N4、AlOxNy、SiOxNy、HfO2、TiO2、ZrO2、Y2O3、Al2O3、MoO3、钻石状碳或其组合，其中，下标“u”、“x”和“y”是0至1。
实施方式12：如实施方式7至实施方式11中任一项所述的制品，其中，所述至少一层低折射率层包括大于或等于2nm且小于或等于200nm的厚度。
实施方式13：如实施方式7至实施方式12中任一项所述的制品，其中，所述至少一层高折射率层包括大于或等于5nm且小于或等于5000nm的厚度。
实施方式14：如实施方式1至实施方式13中任一项所述的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括与主体的第一表面相反的外表面，以及其中，制品包括大于或等于10GPa的硬度，这是沿着100nm至500nm的压痕深度通过布氏压痕硬度测试在所述外表面上测得的。
实施方式15：如实施方式1至实施方式14中任一项所述的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括与主体的第一表面相反的外表面，以及其中，制品包括大于或等于4％的单侧平均适光反光率，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
实施方式16：如实施方式15所述的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于7％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
实施方式17：如实施方式16所述的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于10％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
实施方式18：如实施方式17所述的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于20％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
实施方式19：如实施方式1至实施方式18中任一项所述的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括与主体的第一表面相反的外表面，以及其中，制品包括大于或等于25％的峰值单侧反光率，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
实施方式20：如实施方式19所述的制品，其中，制品的峰值单侧反光率大于或等于40％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
实施方式21：如实施方式20所述的制品，其中，制品的峰值单侧反光率大于或等于50％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
实施方式22：如实施方式1至实施方式21中任一项所述的制品，其中，制品包括520nm至560nm的峰值单侧反光，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在外表面上测得的。
实施方式23：如实施方式1至实施方式22中任一项所述的制品，其中，制品包括大于或等于20且小于或等于90的制品反射色坐标L*，这是在D65光源下且以10°标准观察者角度测得的。
实施方式24：如实施方式1至实施方式23中任一项所述的制品，其中，制品包括大于或等于-30且小于或等于30的制品反射色坐标a*和b*中的至少一个，这是在D65光源下且以10°标准观察者角度测得的。
实施方式25：如实施方式1至实施方式24中任一项所述的制品，其中：制品展现出大于或等于5的角度色移，这是在D65光源下，参比法向入射大于或等于20度的入射照射角测得的；以及采用方程式√((a*2-a*1)2+(b*2-b*1)2)计算角度色移，a*1和b*1表示当以法向入射观察时的制品坐标，而a*2和b*2表示当以所述入射照射角观察时的制品坐标。
实施方式26：如实施方式1至实施方式25中任一项所述的制品，其中，制品展现出大于或等于2的参照点色移，这是在D65光源下以法向入射测得的；以及采用方程式√(a*2+b*2)计算参照点色移。
实施方式27：如实施方式1至实施方式26中任一项所述的制品，其中，玻璃主体包括铝硅酸盐玻璃。
实施方式28：如实施方式1至实施方式27中任一项所述的制品，其中，玻璃主体包括玻璃陶瓷主体。
实施方式29：一种经过涂覆的纹理化玻璃制品，其包括：包含第一表面的玻璃主体；从所述第一表面延伸的多个多面体表面特征体；以及布置在主体的第一表面和所述多个多面体表面特征体上的涂层，所述涂层包括多层干涉堆叠，所述多层干涉堆叠包括与主体的第一表面相反的外表面，其中：制品包括大于或等于4％的单侧平均适光反光率，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
实施方式30：如实施方式29所述的制品，其中，制品包括大于或等于10GPa的硬度，这是沿着100nm至500nm的压痕深度通过布氏压痕硬度测试在所述外表面上测得的。
实施方式31：如实施方式29或实施方式30所述的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于7％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
实施方式32：如实施方式31所述的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于10％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
实施方式33：如实施方式32所述的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于20％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
实施方式34：如实施方式29至实施方式33中任一项所述的制品，其中，制品包括大于或等于25％的峰值单侧反光率，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在外表面上测得的。
实施方式35：如实施方式34所述的制品，其中，制品的峰值单侧反光率大于或等于40％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
实施方式36：如实施方式35所述的制品，其中，制品的峰值单侧反光率大于或等于50％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
实施方式37：如实施方式29至实施方式36中任一项所述的制品，其中，制品包括520nm至560nm的峰值单侧反光，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在外表面上测得的。
实施方式38：如实施方式29至实施方式37中任一项所述的制品，其中，制品包括大于或等于20且小于或等于90的制品反射色坐标L*，这是在D65光源下且以10°标准观察者角度测得的。
实施方式39：如实施方式29至实施方式38中任一项所述的制品，其中，制品包括大于或等于-30且小于或等于30的制品反射色坐标a*和b*中的至少一个，这是在D65光源下且以10°标准观察者角度测得的。
实施方式40：如实施方式29至实施方式39中任一项所述的制品，其中：制品展现出大于或等于5的角度色移，这是在D65光源下，参比法向入射大于或等于20度的入射照射角测得的；以及采用方程式√((a*2-a*1)2+(b*2-b*1)2)计算角度色移，a*1和b*1表示当以法向入射观察时的制品坐标，而a*2和b*2表示当以所述入射照射角观察时的制品坐标。
实施方式41：如实施方式29至实施方式40中任一项所述的制品，其中，制品展现出大于或等于2的参照点色移，这是在D65光源下以法向入射测得的；以及采用方程式√(a*2+b*2)计算参照点色移。
实施方式42：如实施方式29至实施方式41中任一项所述的制品，其中，所述多个多面体表面特征体中的每一个包括第一表面上的底座以及从底座延伸且朝向彼此会聚的多个面。
实施方式43：如实施方式29至实施方式42中任一项所述的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括：大于或等于50μm且小于或等于300μm的表面特征体尺寸；大于或等于10μm且小于或等于40μm的表面特征体高度；大于或等于10°且小于或等于25°的面角；以及大于或等于2μm且小于或等于7μm的表面粗糙度。
实施方式44：如实施方式29至实施方式43中任一项所述的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括三棱锥、四棱锥或其组合。
实施方式45：如实施方式29至实施方式44中任一项所述的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括多个层，其中，所述多个层包括至少一层低折射率层和至少一层高折射率层。
实施方式46：如实施方式45所述的制品，其中，所述至少一层低折射率层包含SiO2，以及所述至少一层高折射率层包含Si3N4。
实施方式47：如实施方式45或实施方式46所述的制品，其中：所述至少一层低折射率层包括大于或等于2nm且小于或等于200nm的厚度；以及所述至少一层高折射率层包括大于或等于5nm且小于或等于5000nm的厚度。
实施方式48：如实施方式29至实施方式47中任一项所述的制品，其中，玻璃主体包括铝硅酸盐玻璃。
实施方式49：如实施方式29至实施方式48中任一项所述的制品，其中，玻璃主体包括玻璃陶瓷主体。
实施方式50：一种经过涂覆的纹理化玻璃制品，其包括：包含第一表面的玻璃主体；从所述第一表面延伸的多个多面体表面特征体，所述多个多面体表面特征体中的每一个包括第一表面上的底座以及从底座延伸且朝向彼此会聚的多个面，所述多个多面体表面特征体包括大于或等于50μm且小于或等于300μm的表面特征体尺寸以及大于或等于10μm且小于或等于40μm的表面特征体高度；以及布置在主体的第一表面和所述多个多面体表面特征体上的涂层，所述涂层包括多层干涉堆叠，所述多层干涉多到包括与主体的第一表面相反的外表面，其中：制品包括大于或等于4％的单侧平均适光反光率，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
实施方式51：如实施方式50所述的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括大于或等于10°且小于或等于25°的面角以及大于或等于2μm且小于或等于7μm的表面粗糙度。
实施方式52：如实施方式50或实施方式51所述的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括三棱锥、四棱锥或其组合。
实施方式53：如实施方式50至实施方式52中任一项所述的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括多个层，所述多个层包括至少一层低折射率层和至少一层高折射率层。
实施方式54：如实施方式53所述的制品，其中，所述至少一层低折射率层包含SiO2，以及所述至少一层高折射率层包含Si3N4。
实施方式55：如实施方式53至实施方式54所述的制品，其中：所述至少一层低折射率层包括大于或等于2nm且小于或等于200nm的厚度；以及所述至少一层高折射率层包括大于或等于5nm且小于或等于5000nm的厚度。
实施方式56：如实施方式50至实施方式55中任一项所述的制品，其中，制品包括大于或等于10GPa的硬度，这是沿着100nm至500nm的压痕深度通过布氏压痕硬度测试在所述外表面上测得的。
实施方式57：如实施方式50至实施方式56中任一项所述的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于7％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
实施方式58：如实施方式57所述的制品，其中，制品在外表面的单侧平均适光反光率大于或等于10％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
实施方式59：如实施方式58所述的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于20％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
实施方式60：如实施方式50至实施方式59中任一项所述的制品，其中，制品包括大于或等于25％的峰值单侧反光率，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在外表面上测得的。
实施方式61：如实施方式60所述的制品，其中，制品的峰值单侧反光率大于或等于40％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
实施方式62：如实施方式61所述的制品，其中，制品的峰值单侧反光率大于或等于50％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
实施方式63：如实施方式50至实施方式62中任一项所述的制品，其中，制品包括520nm至560nm的峰值单侧反光，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在外表面上测得的。
实施方式64：如实施方式50至实施方式63中任一项所述的制品，其中，制品包括大于或等于20且小于或等于90的制品反射色坐标L*，这是在D65光源下且以10°标准观察者角度测得的。
实施方式65：如实施方式50至实施方式64中任一项所述的制品，其中，制品包括大于或等于-30且小于或等于30的制品反射色坐标a*和b*中的至少一个，这是在D65光源下且以10°标准观察者角度测得的。
实施方式66：如实施方式50至实施方式65中任一项所述的制品，其中：制品展现出大于或等于5的角度色移，这是在D65光源下，参比法向入射大于或等于20度的入射照射角测得的；以及采用方程式√((a*2-a*1)2+(b*2-b*1)2)计算角度色移，a*1和b*1表示当以法向入射观察时的制品坐标，而a*2和b*2表示当以所述入射照射角观察时的制品坐标。
实施方式67：如实施方式50至实施方式66中任一项所述的制品，其中，制品展现出大于或等于2的参照点色移，这是在D65光源下以法向入射测得的；以及采用方程式√(a*2+b*2)计算参照点色移。
实施方式68：一种消费者电子产品，其包括：具有前表面、背表面和侧表面的外壳；以及提供成至少部分位于外壳内的电子组件，所述电子组件至少包括控制器、存储器和显示器，所述显示器提供成位于外壳的前表面或者与外壳的前表面相邻；其中，外壳的背表面包括如实施方式1至实施方式28中任一项所述的经过涂覆的纹理化玻璃制品。
实施方式69：一种消费者电子产品，其包括：具有前表面、背表面和侧表面的外壳；以及提供成至少部分位于外壳内的电子组件，所述电子组件至少包括控制器、存储器和显示器，所述显示器提供成位于外壳的前表面或者与外壳的前表面相邻；其中，外壳的背表面包括如实施方式29至实施方式49中任一项所述的经过涂覆的纹理化玻璃制品。
实施方式70：一种消费者电子产品，其包括：具有前表面、背表面和侧表面的外壳；以及提供成至少部分位于外壳内的电子组件，所述电子组件至少包括控制器、存储器和显示器，所述显示器提供成位于外壳的前表面或者与外壳的前表面相邻；其中，外壳的背表面包括如实施方式50至实施方式67中任一项所述的经过涂覆的纹理化玻璃制品。
Claims (70)
1.一种经过涂覆的纹理化玻璃制品，其包括：
包含第一表面的玻璃主体；
从所述第一表面延伸的多个多面体表面特征体，所述多个多面体表面特征体中的每一个包括所述第一表面上的底座以及从底座延伸且朝向彼此会聚的多个面；以及
布置在所述主体的第一表面以及所述多个多面体表面特征体上的涂层，所述涂层包含多层干涉堆叠。
2.如权利要求1所述的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括大于或等于50μm且小于或等于300μm的表面特征体尺寸。
3.如权利要求1或2所述的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括大于或等于10μm且小于或等于40μm的表面特征体高度。
4.如权利要求1-3中任一项所述的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括三棱锥、四棱锥或其组合。
5.如权利要求1-4中任一项所述的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括大于或等于10°且小于或等于25°的面角。
6.如权利要求1-5中任一项所述的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括大于或等于2μm且小于或等于7μm的表面粗糙度。
7.如权利要求1-6中任一项所述的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括多个层，其中，所述多个层包括至少一层低折射率层和至少一层高折射率层。
8.如权利要求7所述的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括至少一个周期，每个周期包括所述至少一层低折射率层中的一个以及所述至少一层高折射率层中的一个。
9.如权利要求8所述的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括1至20个周期。
10.如权利要求7-9中任一项所述的制品，其中，所述至少一层低折射率层包含SiO2、Al2O3、GeO2、SiO、AlOxNy、SiOxNu、SiAlxOy、SiuAlvOxNy、MgO、MgAl2O4、MgF2、BaF2、CaF2、DyF3、YbF3、CeF3或其组合，其中，下标“u”、“x”和“y”是0至1。
11.如权利要求7-10中任一项所述的制品，其中，所述至少一层高折射率层包含SiuAlvOxNy、Ya2O5、Nb2O5、AlN、Si3N4、AlOxNy、SiOxNy、HfO2、TiO2、ZrO2、Y2O3、Al2O3、MoO3、钻石状碳或其组合，其中，下标“u”、“x”和“y”是0至1。
12.如权利要求7-11中任一项所述的制品，其中，所述至少一层低折射率层包括大于或等于2nm且小于或等于200nm的厚度。
13.如权利要求7-12中任一项所述的制品，其中，所述至少一层高折射率层包括大于或等于5nm且小于或等于5000nm的厚度。
14.如权利要求1-13中任一项所述的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括与主体的第一表面相反的外表面，以及其中，制品包括大于或等于10GPa的硬度，这是沿着100nm至500nm的压痕深度通过布氏压痕硬度测试在所述外表面上测得的。
15.如权利要求1-14中任一项所述的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括与所述主体的第一表面相反的外表面，以及其中，制品包括大于或等于4％的单侧平均适光反光率，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
16.如权利要求15所述的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于7％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
17.如权利要求16所述的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于10％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
18.如权利要求17所述的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于20％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
19.如权利要求1-18中任一项所述的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括与所述主体的第一表面相反的外表面，以及其中，制品包括大于或等于25％的峰值单侧反光率，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
20.如权利要求19所述的制品，其中，制品的峰值单侧反光率大于或等于40％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
21.如权利要求20所述的制品，其中，制品的峰值单侧反光率大于或等于50％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
22.如权利要求1-21中任一项所述的制品，其中，制品包括520nm至560nm的峰值单侧反光，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在外表面上测得的。
23.如权利要求1-22中任一项所述的制品，其中，制品包括大于或等于20且小于或等于90的制品反射色坐标L*，这是在D65光源下且以10°标准观察者角度测得的。
24.如权利要求1-23中任一项所述的制品，其中，制品包括大于或等于-30且小于或等于30的制品反射色坐标a*和b*中的至少一个，这是在D65光源下且以10°标准观察者角度测得的。
25.如权利要求1-24中任一项所述的制品，其中：
制品展现出大于或等于5的角度色移，这是在D65光源下，参比法向入射大于或等于20度的入射照射角测得的；以及
采用方程式√((a*2-a*1)2+(b*2-b*1)2)计算角度色移，a*1和b*1表示当以法向入射观察时的制品坐标，而a*2和b*2表示当以所述入射照射角观察时的制品坐标。
26.如权利要求1-25中任一项所述的制品，其中，制品展现出大于或等于2的参照点色移，这是在D65光源下以法向入射测得的；以及采用方程式√(a*2+b*2)计算参照点色移。
27.如权利要求1-26中任一项所述的制品，其中，所述玻璃主体包括铝硅酸盐玻璃。
28.如权利要求1-27中任一项所述的制品，其中，所述玻璃主体包括玻璃陶瓷主体。
29.一种经过涂覆的纹理化玻璃制品，其包括：
包含第一表面的玻璃主体；
从所述第一表面延伸的多个多面体表面特征体；以及
布置在所述主体的第一表面和所述多个多面体表面特征体上的涂层，所述涂层包括多层干涉堆叠，所述多层干涉堆叠包括与所述主体的第一表面相反的外表面，其中：
制品包括大于或等于4％的单侧平均适光反光率，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
30.如权利要求29所述的制品，其中，制品包括大于或等于10GPa的硬度，这是沿着100nm至500nm的压痕深度通过布氏压痕硬度测试在所述外表面上测得的。
31.如权利要求29或30所述的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于7％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
32.如权利要求31所述的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于10％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
33.如权利要求32所述的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于20％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
34.如权利要求29-33中任一项所述的制品，其中，制品包括大于或等于25％的峰值单侧反光率，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在外表面上测得的。
35.如权利要求34所述的制品，其中，制品的峰值单侧反光率大于或等于40％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
36.如权利要求35所述的制品，其中，制品的峰值单侧反光率大于或等于50％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
37.如权利要求29-36中任一项所述的制品，其中，制品包括520nm至560nm的峰值单侧反光，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在外表面上测得的。
38.如权利要求29-37中任一项所述的制品，其中，制品包括大于或等于20且小于或等于90的制品反射色坐标L*，这是在D65光源下且以10°标准观察者角度测得的。
39.如权利要求29-38中任一项所述的制品，其中，制品包括大于或等于-30且小于或等于30的制品反射色坐标a*和b*中的至少一个，这是在D65光源下且以10°标准观察者角度测得的。
40.如权利要求29-39中任一项所述的制品，其中：
制品展现出大于或等于5的角度色移，这是在D65光源下，参比法向入射大于或等于20度的入射照射角测得的；以及
采用方程式√((a*2-a*1)2+(b*2-b*1)2)计算角度色移，a*1和b*1表示当以法向入射观察时的制品坐标，而a*2和b*2表示当以所述入射照射角观察时的制品坐标。
41.如权利要求29-40中任一项所述的制品，其中，制品展现出大于或等于2的参照点色移，这是在D65光源下以法向入射测得的；以及采用方程式√(a*2+b*2)计算参照点色移。
42.如权利要求29-41中任一项所述的制品，其中，所述多个多面体表面特征体中的每一个包括第一表面上的底座以及从底座延伸且朝向彼此会聚的多个面。
43.如权利要求29-42中任一项所述的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括：
大于或等于50μm且小于或等于300μm的表面特征体尺寸；
大于或等于10μm且小于或等于40μm的表面特征体高度；
大于或等于10°且小于或等于25°的面角，以及大于或等于2μm且小于或等于7μm的表面粗糙度。
44.如权利要求29-43中任一项所述的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括三棱锥、四棱锥或其组合。
45.如权利要求29-44中任一项所述的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括多个层，其中，所述多个层包括至少一层低折射率层和至少一层高折射率层。
46.如权利要求45所述的制品，其中，所述至少一层低折射率层包含SiO2，以及所述至少一层高折射率层包含Si3N4。
47.如权利要求45或46所述的制品，其中：
所述至少一层低折射率层包括大于或等于2nm且小于或等于200nm的厚度；以及
所述至少一层高折射率层包括大于或等于5nm且小于或等于5000nm的厚度。
48.如权利要求29-47中任一项所述的制品，其中，所述玻璃主体包括铝硅酸盐玻璃。
49.如权利要求29-48中任一项所述的制品，其中，所述玻璃主体包括玻璃陶瓷主体。
50.一种经过涂覆的纹理化玻璃制品，其包括：
包含第一表面的玻璃主体；
从所述第一表面延伸的多个多面体表面特征体，所述多个多面体表面特征体中的每一个包括所述第一表面上的底座以及从所述底座延伸且朝向彼此会聚的多个面，所述多个多面体表面特征体包括大于或等于50μm且小于或等于300μm的表面特征体尺寸以及大于或等于10μm且小于或等于40μm的表面特征体高度；以及
布置在所述主体的第一表面和所述多个多面体表面特征体上的涂层，所述涂层包括多层干涉堆叠，所述多层干涉堆叠包括与所述主体的第一表面相反的外表面，其中：
制品包括大于或等于4％的单侧平均适光反光率，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
51.如权利要求50所述的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括大于或等于10°且小于或等于25°的面角以及大于或等于2μm且小于或等于7μm的表面粗糙度。
52.如权利要求50或51所述的制品，其中，所述多个多面体表面特征体包括三棱锥、四棱锥或其组合。
53.如权利要求50-52中任一项所述的制品，其中，所述多层干涉堆叠包括多个层，所述多个层包括至少一层低折射率层和至少一层高折射率层。
54.如权利要求53所述的制品，其中，所述至少一层低折射率层包含SiO2，以及所述至少一层高折射率层包含Si3N4。
55.如权利要求53或54所述的制品，其中，所述至少一层低折射率层包括大于或等于2nm且小于或等于200nm的厚度；以及所述至少一层高折射率层包括大于或等于5nm且小于或等于5000nm的厚度。
56.如权利要求50-55中任一项所述的制品，其中，制品包括大于或等于10GPa的硬度，这是沿着100nm至500nm的压痕深度通过布氏压痕硬度测试在所述外表面上测得的。
57.如权利要求50-56中任一项所述的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于7％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
58.如权利要求57所述的制品，其中，制品在外表面的单侧平均适光反光率大于或等于10％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
59.如权利要求58所述的制品，其中，制品的单侧平均适光反光率大于或等于20％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
60.如权利要求50-59中任一项所述的制品，其中，制品包括大于或等于25％的峰值单侧反光率，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在外表面上测得的。
61.如权利要求60所述的制品，其中，制品的峰值单侧反光率大于或等于40％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
62.如权利要求61所述的制品，其中，制品的峰值单侧反光率大于或等于50％，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在所述外表面上测得的。
63.如权利要求50-62中任一项所述的制品，其中，制品包括520nm至560nm的峰值单侧反光，这是在400nm至700nm的波长范围上，以参比法向入射为6°的入射照射角在外表面上测得的。
64.如权利要求50-63中任一项所述的制品，其中，制品包括大于或等于20且小于或等于90的制品反射色坐标L*，这是在D65光源下且以10°标准观察者角度测得的。
65.如权利要求50-64中任一项所述的制品，其中，制品包括大于或等于-30且小于或等于30的制品反射色坐标a*和b*中的至少一个，这是在D65光源下且以10°标准观察者角度测得的。
66.如权利要求50-65中任一项所述的制品，其中：
制品展现出大于或等于5的角度色移，这是在D65光源下，参比法向入射大于或等于20度的入射照射角测得的；以及
采用方程式√((a*2-a*1)2+(b*2-b*1)2)计算角度色移，a*1和b*1表示当以法向入射观察时的制品坐标，而a*2和b*2表示当以所述入射照射角观察时的制品坐标。
67.如权利要求50-66中任一项所述的制品，其中，制品展现出大于或等于2的参照点色移，这是在D65光源下以法向入射测得的；以及采用方程式√(a*2+b*2)计算参照点色移。
68.一种消费者电子装置，其包括：
具有前表面、背表面和侧表面的外壳；和
至少部分提供在外壳内的电子组件，所述电子组件至少包括控制器、存储器和显示器，所述显示器提供在外壳的前表面处或者与外壳的前表面相邻；
其中，外壳的背表面包括如权利要求1-28中任一项所述的经过涂覆的纹理化玻璃制品。
69.一种消费者电子装置，其包括：
具有前表面、背表面和侧表面的外壳；和
至少部分提供在外壳内的电子组件，所述电子组件至少包括控制器、存储器和显示器，所述显示器提供在外壳的前表面处或者与外壳的前表面相邻；
其中，外壳的背表面包括如权利要求29-49中任一项所述的经过涂覆的纹理化玻璃制品。
70.一种消费者电子装置，其包括：
具有前表面、背表面和侧表面的外壳；和
至少部分提供在外壳内的电子组件，所述电子组件至少包括控制器、存储器和显示器，所述显示器提供在外壳的前表面处或者与外壳的前表面相邻；
其中，外壳的背表面包括如权利要求50-67中任一项所述的经过涂覆的纹理化玻璃制品。
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