JP2005003707A

JP2005003707A - 反射防止体およびこれを用いたディスプレイ装置

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Publication number: JP2005003707A
Application number: JP2003163595A
Authority: JP
Inventors: Tamotsu Morimoto; 保森本; Masayuki Fuse; 昌之布施; Takeshi Moriwaki; 健森脇
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2003-06-09
Filing date: 2003-06-09
Publication date: 2005-01-06

Abstract

【課題】高屈折率層の積層回数を増加させることなく、高い視感透過率、低い視感反射率が得られると共に、高い生産性を備える反射防止体およびディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】透明な基材２上に反射防止層３が設けられた反射防止体１であって、前記反射防止層３が、前記基材２側から、屈折率が１．６以下である物質からなる第１の低屈折率層３２と、屈折率が１．７以上、２．１未満である物質からなる中間屈折率層３３と、屈折率が２．１以上である物質からなる高屈折率層３４と、屈折率が１．６以下である物質からなる第２の低屈折率層３５とを有する。
【選択図】図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基材上に複数の層を積層させた反射防止体、該反射防止体を備えたディスプレイ装置および反射防止層を設けたディスプレイ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、ディスプレイ等の視認性を向上させるため、表示画面上に反射防止多層コーティングを設けることが行われている。反射防止多層コーティングは、高屈折率材料からなる高屈折率薄膜と低屈折率材料からなる低屈折率薄膜とを相互に繰り返して積層した構造から成り、広範囲の波長領域において低反射性を示すように、高屈折率薄膜と低屈折率薄膜との組み合わせを２回以上積層させて、可視スペクトル内の全ての波長において反射を減じるように設計されている。例えば、プラスチック基材上に酸化チタン（ＴｉＯ_２）からなる高屈折率薄膜と、さらにその上に二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）からなる低屈折率薄膜との組み合わせを２回設けた４層からなる反射防止多層コーティングが提案されている（特許文献１参照。）。
【０００３】
また、高屈折率薄膜の替わりに光吸収膜を用いることで、少ない積層構造でも低反射性を示す反射防止層コーティングも提案されている。例えば、基材上に窒化チタン（ＴｉＮ）からなる光吸収膜と、その上に二酸化ケイ素の膜とが設けられている光吸収性反射防止体が提案されている（特許文献２参照。）。
【０００４】
【特許文献１】
特表平１０−５０９８３２号公報
【特許文献２】
特開平９−１５６９６４号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、高屈折率薄膜として用いられる酸化チタンは、低屈折率薄膜として用いられている二酸化ケイ素と比べてスパッタ速度が遅いという問題がある。そのため、酸化チタンを２回以上積層させる特許文献１に係る従来技術等では、生産性が低く、コストの上昇が著しいという問題があった。また、多数の層を積層させることによって、全体の膜厚が厚くなってしまうという問題もあった。
【０００６】
一方、特許文献２では、高屈折率薄膜の替わりに光吸収膜を用いることで、少ない積層構造でも低反射性を得ることができる。しかし、光吸収膜を用いているので、透過性が低いという問題点があった。
【０００７】
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、高屈折率層の積層回数を増加させることなく、高い視感透過率、低い視感反射率が得られると共に、高い生産性を備える反射防止体およびディスプレイ装置を提供する。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、透明な基材上に反射防止層が設けられた反射防止体であって、前記反射防止層が、前記基材側から、屈折率が１．６以下である物質からなる第１の低屈折率層と、屈折率が１．７以上、２．１未満である物質からなる中間屈折率層と、屈折率が２．１以上である物質からなる高屈折率層と、屈折率が１．６以下である物質からなる第２の低屈折率層とを有することを特徴とする反射防止体を提供する。
また、本発明は、画像を表示するためのディスプレイ画面と、該ディスプレイ画面の視認側に設けられた本発明の反射防止体とを備えることを特徴とするディスプレイ装置を提供する。
【０００９】
【発明の実施の形態】
＜反射防止体＞
以下、本発明の実施の形態に係る反射防止体の例を図面に示し、詳細に説明する。
【００１０】
［第１の実施形態］
図１に、本発明の第１の実施形態に係る反射防止体１を示す。この反射防止体１は、透明な基材２上に反射防止層３が設けられ、反射防止層３上に防汚層４が設けられている。
【００１１】
（基材）
基材２の材質としては、平滑透明で、可視光線を透過し得るものであればよい。例えば、プラスチック、ガラス等が挙げられる。
プラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタクリレート等を挙げることができる。
【００１２】
基材２の厚さは用途に応じて適宜選定される。例えば、フィルムでもよいし、板状でもよい。また、基材２は、単一の層で構成してもよいし、複数層の積層体としてもよい。
基材２は、別のガラス板、プラスチック板等に粘着剤等で貼り付けて使用してもよい。例えば、薄いフィルム状のプラスチックの基材２を別のプラスチック板、ガラス板等に貼り付けてもよいし、ガラス板の基材２を別のガラス板、プラスチック板等に貼り付けてもよい。
【００１３】
（反射防止層）
基材２の上に設けられる反射防止層３は、第１の低屈折率層３２と、第１の低屈折率層３２上に設けた中間屈折率層３３と、中間屈折率層３３上に設けた高屈折率層３４と、高屈折率層３４上に設けた第２の低屈折率層３５とから基本的に構成されている。本実施形態では、基材２と第１の低屈折率層３２との間に、導電層３１を設け、導電層３１と、第１の低屈折率層３２と、中間屈折率層３３と、高屈折率層３４と、第２の低屈折率層３５とから反射防止層３が構成されている。
【００１４】
（低屈折率層）
第１の低屈折率層３２と第２の低屈折率層３５は、屈折率が１．６以下である物質によって構成されている。例えば、二酸化ケイ素（ｎ：１．４６）、フッ化マグネシウム（ｎ：１．３８）、フッ化カリウム（ｎ：１．３〜１．４）、フッ化アルミニウム（ｎ：１．３）、フッ化ランタン（ｎ：１．５８）、酸化アルミニウム（ｎ：１．６）、Ｎａ_３ＡｌＦ_６（ｎ：１．３５）などが挙げられるが、そのなかでも二酸化ケイ素が好ましい。
なお、本明細書における屈折率（ｎ）とは、波長５５０ｎｍの屈折率をいう。
【００１５】
低屈折率層の形成方法としては、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理気相折出法またはプラズマＣＶＤ法等の化学気相折出法が挙げられる。しかし、これらの方法に限定されることはなく、ゾル−ゲル法による湿式成膜方式も使用できる。
第１の低屈折率層３２の幾何学的膜厚は、２０〜４０ｎｍが好ましく、２５〜３５ｎｍがより好ましい。また、第２の低屈折率層３５の幾何学的膜厚は、８０〜１００ｎｍが好ましく、８５〜９５ｎｍがより好ましい。
【００１６】
（中間屈折率層）
中間屈折率層３３は、屈折率が１．７以上、２．１未満である物質によって構成されている。中間屈折率層３３を設けることにより、高屈折率層の積層回数を増加させることなく、少ない積層数で高い透過率を得ることができ、広範囲の波長領域において低い反射率が得られる。
中間屈折率層３３と第１の低屈折率層３２との屈折率差は、０．２以上が好ましく、０．４以上がより好ましい。
【００１７】
中間屈折率層３３の光学的膜厚（ｎ×ｄ（式中、ｎは屈折率、ｄは幾何学的膜厚。））は、高屈折率層３４と中間屈折率層３３との光学的膜厚の総量に対して、５〜２５％とすることが好ましく、１０〜２５％とすることがより好ましい。
【００１８】
中間屈折率層３３としては、例えば、酸化亜鉛（ＺｎＯｎ：１．９〜２．０）、酸化亜鉛を主成分とし、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）を含有する酸化物（以下、ＡＺＯという。ｎ：１．９３）、窒化ケイ素（ｎ：２．０）、酸化スズ（ｎ：２．０）、酸化インジウム（ｎ：２．０）、酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）と酸化スズ（ＳｎＯ_２）との複合酸化物（以下、ＩＴＯという。ｎ：２．０６）、窒化チタン（ｎ：２．０３）、酸化ジルコニウム（ｎ：２．０〜２．１）、酸化セシウム（ｎ：２．０２）、酸化イットリウム（ｎ：１．８０）、酸化ハフニウム（ｎ：２．０）などが挙げられる。そのなかでも、ＡＺＯが好ましい。
【００１９】
ＡＺＯを用いることにより、４５０ｎｍ以下の波長領域について、高い透過率を得ることができる。また、ＡＺＯは、内部応力が低いため、層間の高い密着性を得ることができ、ひびが入りにくくなり、高い耐久性を得ることができる。
また、ＡＺＯは、速い速度で成膜をすることができるため、高い生産性が得られる。
【００２０】
成膜したＡＺＯに含有されるアルミニウムは、アルミニウムと亜鉛との総量に対して１〜７原子％であることが好ましく、２〜４原子％であることがより好ましい。
アルミニウム含有量を１原子％以上とすることにより、４５０ｎｍ以下の波長領域についてさらに高い透過率を得ることができる。また、中間屈折率層３３の内部応力が低減するため、層間の高い密着性を得ることができる。
アルミニウム含有量を７原子％以下とすることにより、結晶粒の大きさが小さくなり、粒界に吸着される水分量が減少して、高い耐湿性を保つことができる。
【００２１】
中間屈折率層３３の形成方法としては、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理気相折出法またはプラズマＣＶＤ法等の化学気相折出法が挙げられる。
そのなかでも、ＤＣスパッタリング法は、膜厚の制御が比較的容易であること、低温基材上に形成しても実用的な膜強度が得られること、大面積化が容易なこと、いわゆるインライン型の設備を用いれば積層膜の形成が容易なこと等の点から好ましい。
中間屈折率層３３の幾何学的膜厚は、５〜３０ｎｍが好ましく、１５〜２５ｎｍがより好ましい。
【００２２】
（高屈折率層）
高屈折率層３４は、屈折率が２．１以上である物質によって構成されている。該屈折率は、２．１以上、２．７以下であることが好ましい。
例えば、酸化ニオブ（ｎ：２．３５）、酸化チタン（ｎ：２．４）、酸化タンタル（ｎ：２．１〜２．２）、硫化亜鉛（ｎ：２．３）が挙げられるが、そのなかでも酸化チタンが好ましい。
高屈折率層３４と中間屈折率層３３との屈折率差は、０．２以上が好ましく、０．３以上がより好ましい。また、高屈折率層３４と第１の低屈折率層３２との屈折率差および高屈折率層３４と第２の低屈折率層３５との屈折率差は、０．４以上が好ましく、０．７以上がより好ましい。
【００２３】
高屈折率層３４の形成方法としては、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理気相折出法、プラズマＣＶＤ法等の化学気相折出法、湿式成膜方式等が挙げられる。
そのなかでも、ＤＣスパッタリング法は、膜厚の制御が比較的容易であること、低温基材上に形成しても実用的な膜強度が得られること、大面積化が容易なこと、いわゆるインライン型の設備を用いれば積層膜の形成が容易なこと等の点から好ましい。
高屈折率層３４の幾何学的膜厚は、９０〜１１５ｎｍが好ましく、９５〜１０５ｎｍがより好ましい。
【００２４】
（導電層）
導電層３１としては、屈折率が１．７以上で、かつ導電性を有するものであればいかなるものであってもよい。該屈折率は、１．７以上、２．７以下であることが好ましい。
導電層３１を設けることにより、高い導電性能による帯電防止性、電磁波遮断性という効果が得られる。また、導電層３１は、屈折率が１．７以上であるため、中間屈折率層としての役割も果たす。
導電層３１と第１の低屈折率層３２との屈折率差は、０．２以上が好ましく、０．４以上がより好ましい。
導電層３１としては、可視光線の透過率が高いことから、酸化インジウムと酸化スズとの混合物（ＩＴＯ屈折率ｎ：２．０６）、酸化スズ（ｎ：２．０）、ＡＺＯ（ｎ：１．９３）などが好ましい。
【００２５】
導電層３１の形成方法としては、例えば、蒸着、スパッタリング等の物理気相折出法、ＣＶＤ等の化学気相折出法または特殊な湿式コーティング等を用いることができる。
導電層３１の幾何学的膜厚は、通常３０ｎｍ以下が好ましく、１０〜２０ｎｍがより好ましい。
【００２６】
本実施形態における反射防止層３を構成する導電層３１、第１の低屈折率層３２、中間屈折率層３３、高屈折率層３４、第２の低屈折率層３５の各層の幾何学的膜厚は、目的の反射防止特性を考慮した光学的膜厚に基づいて、具体的に決定される。
【００２７】
（防汚層）
本実施形態では、最上層に防汚層４が設けられている。防汚層４は、反射防止層３を保護し、かつ、防汚染性能を高めるために、反射防止層３上に必要に応じて設けられるものである。
防汚層４を設けることにより、反射防止層３の機能が阻害されず、また、最表面に指紋などの汚れがついた場合に拭き取りを容易にすることができる。
防汚層４としては、パーフルオロシラン、フルオロカーボン等を含む撥油性の有機膜を使用することができる。
【００２８】
防汚層４の形成手法としては、蒸着法、スパッタリング法、塗布乾燥法などがある。
防汚層４の幾何学的膜厚は、通常、５ｎｍ以下が好ましく、２ｎｍ以下がより好ましい。
【００２９】
なお、本実施形態では、中間屈折率層３３を第１の低屈折率層３２と高屈折率層３４との間にのみ設ける構成としたが、さらに他の中間屈折率層を高屈折率層３４と第２の低屈折率層３５との間に設ける構成としてもよい。この場合、２つの中間屈折率層を合わせた光学的膜厚が、高屈折率層３４と、第１の中間屈折率層と、第２の中間屈折率層との光学的膜厚の総量に対して、５〜２５％とすることが好ましく、１０〜２５％とすることがより好ましい。
また、本実施形態の反射防止体１は、基材２上に反射防止層３を直接積層する構成としたが、基材２と反射防止層３との間に、反射防止体１に所望の硬さを付与するため、ハードコート層を設けることができる。
ハードコート層としては、透明性があり、基材２の屈折率（ｎ）と等しいか、または、基材２の屈折率（ｎ）に対し、±０．１以内の屈折率である材料であればよい。例えば、紫外線硬化型のアクリル樹脂、シリコン樹脂等を主体とする樹脂が挙げられる。これらの樹脂には、添加剤を含有させることもできる。
【００３０】
ハードコート層の形成方法としては、バーコート法、ドクターブレード法、リバースロールコート法、グラビアロールコート法等の公知の塗布方法を用いることができる。
また、ハードコート層の幾何学的膜厚は、１０μｍ以下が好ましい。
【００３１】
また、基材２と導電層３１との間、導電層３１と第１の低屈折率層３２との間、高屈折率層３４と第２の低屈折率層３５との間の全部または一部に、成膜時の酸化を防ぎ密着性を向上させるため、酸化バリア層を設けることもできる。
酸化バリア層は、その下に形成されている別の層の酸化を防ぐために形成される薄膜であり、光学的には意味を持たないものである。酸化バリア層としては、各種の金属または窒化シリコン等の金属窒化物を使用できる。
酸化バリア層の形成手法としては、蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法などがある。
酸化バリア層の幾何学的膜厚は、５ｎｍ以下が好ましい。
【００３２】
本発明の反射防止体１のシート抵抗は、帯電防止の点から１０^１０Ω以下であることが好ましい。また、電磁波遮蔽能力の点から、１０^３Ω以下であることがより好ましい。
【００３３】
＜ディスプレイ装置＞
以下、本発明の実施の形態に係るディスプレイ装置について、詳細に説明する。
【００３４】
［第２の実施形態］
本発明の第２の実施形態に係るディスプレイ装置は、画像を表示するためのディスプレイ画面と、ディスプレイ画面の視認側に設けられた反射防止体とを備えている。
【００３５】
ディスプレイ装置としては、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）等が挙げられる。
画像を表示するためのディスプレイ画面の視認側は、一般に、ガラス基板、プラスチック基板等の透明基板で構成されている。反射防止体としては、本発明の反射防止体であれば特に制限はないが、例えば、第１の実施形態の反射防止体１を用いることができる。
【００３６】
反射防止体は、ディスプレイ画面の視認側表面に粘着剤等を用いて直接貼着してもよいし、ディスプレイ画面との間に隙間を置いて設置してもよい。
また、ディスプレイ画面の視認側に、新たにガラス、プラスチック等からなる前面板を設置し、前面板の視認側またはディスプレイ側に反射防止体を直接貼着してもよい。また、前面板の視認側またはディスプレイ側に、前面板との間に隙間を置いて反射防止体を設置してもよい。
【００３７】
［第３の実施形態］
本発明の第３の実施形態に係るディスプレイ装置は、画像を表示するためのディスプレイ画面と、ディスプレイ画面の視認側の面上に設けられた反射防止層とから構成されている。
このようなディスプレイ装置としては、例えば、反射防止層が、ディスプレイ画面の視認側の面上から、屈折率が１．６以下である物質からなる第１の低屈折率層と、屈折率が１．７以上、２．１未満である物質からなる中間屈折率層と、屈折率が２．１以上である物質からなる高屈折率層と、屈折率が１．６以下である物質からなる第２の低屈折率層とを有するディスプレイ装置や、係る中間屈折率層の光学的膜厚が、高屈折率層と中間屈折率層との光学的膜厚の総量に対して、５〜２５％であるディスプレイ装置や、係る中間屈折率層が、酸化亜鉛を主成分とし酸化アルミニウムを含有する酸化物層であるディスプレイ装置や、係る反射防止層が、第１の低屈折率層のディスプレイ画面側に、屈折率が１．７以上である物質からなる導電層を有するディスプレイ装置などが挙げられる。
この場合、ディスプレイ画面の視認側は、一般に、ガラス基板、プラスチック基板等の透明基板で構成されている。
また、反射防止層としては、例えば、第１の実施形態の反射防止層３を用いることができる。この場合、ディスプレイ画面の視認側の面上に、導電層３１、第１の低屈折率層３２、中間屈折率層３３、高屈折率層３４、第２の低屈折率層３５の順番で積層する。
反射防止層は、蒸着法、スパッタリング法、塗布乾燥法などにより、直接ディスプレイ画面の視認側表面上に形成することができる。
【００３８】
【実施例】
以下、実施例により、本発明をさらに詳しく説明する。
【００３９】
［実施例１］
透明基材として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ１０８μｍ）を使用した。まず、基材上に湿式塗布法によりアクリル系ハードコート層を６μｍ設けた。ハードコート層表面の洗浄を目的としてイオンビームソースによる乾式洗浄を行った。乾式洗浄は、アルゴンガスに酸素ガスを３０質量％混合して、イオンビームソース１００Ｗによりイオン化されたアルゴンイオンおよび酸素イオンを基材表面に照射した。
【００４０】
次に、ハードコート層を設けた基材上にＩＴＯ層を形成させるため、ＩＴＯ（インジウム：スズ＝９０質量％：１０質量％）をターゲットとし、マグネトロンスパッタ法により成膜を行った。その方法としては、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行った。ガスとしてはアルゴンガスに酸素ガスを２質量％混合し、ターゲットのパワー密度は１．５Ｗ／ｃｍ^２として、２０ｎｍのＩＴＯ層を形成した。
【００４１】
次に、ＩＴＯ層の上に、酸化ケイ素層（１）を形成した。酸化ケイ素層（１）は、旭硝子セラミックス社製炭化ケイ素（ＳｉＣ商品名ＳＣ）をターゲットとして使用し、マグネトロンスパッタ法により成膜した。まず、アルゴンガスに酸素ガスを４０質量％混合したガスを導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、反転パルス幅４．５μ秒のパルススパッタを行い、ターゲットのパワー密度は４．０Ｗ／ｃｍ^２として、３０ｎｍの酸化ケイ素層（１）を形成した。
【００４２】
次に、酸化ケイ素層（１）の上にＡＺＯ層を形成した。酸化アルミニウムを５質量％添加した酸化亜鉛をターゲットとして、マグネトロンスパッタ法により成膜を行った。アルゴンガスに酸素ガスを５質量％混合したガスを導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、ターゲットのパワー密度は０．６４Ｗ／ｃｍ^２として、２０ｎｍのＡＺＯ層を形成した。
なお、得られた反射防止体のＡＺＯ層中のアルミニウムの含有量はＥＳＣＡ（ＰＨＩ社製、５５００）を用いて測定したところ、アルミニウムと亜鉛との総量に対して、３．０原子％（酸化アルミニウム換算で４．７質量％）であった。
【００４３】
次に、ＡＺＯ層の上に酸化チタン層を形成した。旭硝子セラミックス社製ＴｉＯｘ（商品名：ＴＸＯ）をターゲットとして使用し、マグネトロンスパッタ法により成膜を行った。アルゴンガスに酸素ガスを１質量％混合したガスを導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、反転パルス幅２．５μ秒のパルススパッタを行い、ターゲットのパワー密度は４．０Ｗ／ｃｍ^２として、１００ｎｍの酸化チタン層を形成した。
【００４４】
次に、酸化チタン層の上には、酸化ケイ素層（２）を形成した。酸化ケイ素層（２）は、旭硝子セラミックス社製炭化ケイ素（ＳｉＣ商品名ＳＣ）をターゲットとして使用し、マグネトロンスパッタ法により成膜した。まず、アルゴンガスに酸素ガスを４０質量％混合したガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、反転パルス幅４．５μ秒のパルススパッタを行い、ターゲットのパワー密度は４．１８Ｗ／ｃｍ^２として、８５ｎｍの酸化ケイ素層（２）を形成した。
【００４５】
さらに、酸化ケイ素層（２）の上には防汚層として、フルオロカーボン系撥油剤オブツールＤＳＸ（商品名、ダイキン社製）を塗布法により２ｎｍ形成した。得られた反射防止体は、防汚層が形成された面とは反対側にあたる基材面を粘着処理し、これをプラズマディスプレイパネルの前面ガラスに貼着させた。
【００４６】
＜評価＞
（１）反射率、視感反射率および視感透過率
得られた反射防止体の反射率と視感透過率を、島津製作所社製分光光度計ＵＶ３１５０ＰＣを用いて測定した。反射率の測定結果を図２に実線で示す。
反射率の測定結果から視感反射率（ＪＩＳＺ８７０１において規定されている反射の刺激値Ｙ）を求めたところ、０．２３％であった。
また、視感透過率（ＪＩＳＺ８７０１）は９４％であった。
【００４７】
（２）シート抵抗
得られた反射防止体のシート抵抗を、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２を用いて測定したところ、８０Ωであった。
【００４８】
［比較例１］
酸化ケイ素層（１）の上にＡＺＯ層を形成することなく、直接酸化チタン層を実施例１と同様の成膜条件で１２０ｎｍ形成した。それ以外は、実施例１と同様にして反射防止体を作製した。
【００４９】
得られた反射防止体について、実施例１と同様の方法で、反射率、視感反射率、視感透過率、およびシート抵抗の評価を行った。反射率の測定結果を図２に点線で示す。
視感反射率は０．４３％であった。視感透過率は９４％であった。シート抵抗は８０Ωであった。
【００５０】
［比較例２］
比較例２として、光吸収性反射防止体を作成した。まず、実施例１と同様にして、ＰＥＴ基板上にハードコート層を設け、乾式洗浄を行った。
【００５１】
次に、基材上にＴｉＮ層を形成させるため、チタン（ＪＩＳ第２種）をターゲットとして使用し、マグネトロンスパッタ法により成膜を行った。その方法としては、０．３５Ｐａの圧力でＤＣスパッタを行った。ガスとしてはアルゴンガスに窒素ガスを１０質量％混合し、ターゲットのパワー密度は４．９２Ｗ／ｃｍ^２として、１０ｎｍのＴｉＮ層を形成した。
【００５２】
次に、ＴｉＮ層の上には、Ｓｉ_３Ｎ_４層を形成した。Ｓｉ_３Ｎ_４層は、多結晶シリコンをターゲットとして使用し、マグネトロンスパッタ法により成膜した。まず、アルゴンガスに窒素ガスを３０質量％混合したガスを導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、反転パルス幅２．５μ秒のパルススパッタを行い、ターゲットのパワー密度は４．９２Ｗ／ｃｍ^２として、１０ｎｍのＳｉ_３Ｎ_４層を形成した。
【００５３】
次に、Ｓｉ_３Ｎ_４層の上には、酸化ケイ素層を形成した。酸化ケイ素層は、旭硝子セラミックス社製炭化ケイ素（ＳｉＣ商品名ＳＣ）をターゲットとして使用し、マグネトロンスパッタ法により成膜した。まず、アルゴンガスに酸素ガスを４０質量％混合したガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、反転パルス幅４．５μ秒のパルススパッタを行い、ターゲットのパワー密度は４．１８Ｗ／ｃｍ^２として、８５ｎｍの酸化ケイ素層を形成した。
【００５４】
さらに、酸化ケイ素層の上には防汚層として、フルオロカーボン系撥油剤オブツールＤＳＸ（商品名、ダイキン社製）を塗布法により２ｎｍ形成した。
得られた反射防止体は、防汚層が形成された面とは反対側にあたる基材面を粘着処理し、これをプラズマディスプレイパネルの前面ガラスに貼着させた。
【００５５】
得られた反射防止体について、実施例１と同様の方法で、反射率、視感反射率、視感透過率、およびシート抵抗の評価を行った。反射率の測定結果を図２に一点鎖線で示す。
視感反射率は０．３１％であった。視感透過率は６８％であった。シート抵抗は２８０Ωであった。
【００５６】
実施例１と比較例１の結果を比較すると、実施例１は、反射率、視感透過率が比較例１とほぼ同等であり、良好な反射防止体であることが確認された。また、視感反射率について、実施例１は比較例１よりも優れており、比較例１よりも良好な反射防止体であることが確認された。
また、実施例１は、シート抵抗について、比較例１とほぼ同等であることが確認された。
【００５７】
実施例１と比較例２の結果を比較すると、実施例１は、反射率、視感透過率について、比較例２よりも優れており、また、視感反射率について、１．４倍比較例２よりも優れており、非常に良好な反射防止体であることが確認された。
また、実施例１は、シート抵抗について、比較例２よりも３倍優れていることが確認された。
【００５８】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように、本発明の反射防止体およびディスプレイ装置は、高屈折率層の積層回数を増加させることなく、高い視感透過率、低い視感反射率が得られると共に、高い生産性を備える反射防止体およびディスプレイ装置である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射防止体の一実施形態に係る概略断面図である。
【図２】実施例１と、比較例１と、比較例２の反射率を示すグラフである。
【符号の説明】
１反射防止体
２基材
３反射防止層
４防汚層
３１導電層
３２第１の低屈折率層
３３中間屈折率層
３４高屈折率層
３５第２の低屈折率層

Claims

透明な基材上に反射防止層が設けられた反射防止体であって、前記反射防止層が、前記基材側から、屈折率が１．６以下である物質からなる第１の低屈折率層と、
屈折率が１．７以上、２．１未満である物質からなる中間屈折率層と、
屈折率が２．１以上である物質からなる高屈折率層と、
屈折率が１．６以下である物質からなる第２の低屈折率層とを有することを特徴とする反射防止体。
前記中間屈折率層の光学的膜厚が、前記高屈折率層と前記中間屈折率層との光学的膜厚の総量に対して、５〜２５％である請求項１に記載の反射防止体。
前記中間屈折率層が、酸化亜鉛を主成分とし酸化アルミニウムを含有する酸化物層である請求項１または２に記載の反射防止体。
前記反射防止層が、前記第１の低屈折率層の基材側に、
屈折率が１．７以上である物質からなる導電層を有する請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止体。
画像を表示するためのディスプレイ画面と、
該ディスプレイ画面の視認側に設けられた請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止体とを備えることを特徴とするディスプレイ装置。