JP2838525B2 - 反射鏡 - Google Patents
反射鏡Info
- Publication number
- JP2838525B2 JP2838525B2 JP63263269A JP26326988A JP2838525B2 JP 2838525 B2 JP2838525 B2 JP 2838525B2 JP 63263269 A JP63263269 A JP 63263269A JP 26326988 A JP26326988 A JP 26326988A JP 2838525 B2 JP2838525 B2 JP 2838525B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- film
- light
- thickness
- reflector
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、光の全反射を行う反射鏡に関する。
更に詳しくは、光線反射層の基体への膜付けが強固
で、耐環境性に優れ、そして生産性の優れた反射鏡に関
する。
で、耐環境性に優れ、そして生産性の優れた反射鏡に関
する。
［発明の背景］ 反射鏡においては、反射率の大きい銀、銅、金、アル
ミニウム等の金属を反射鏡として使用することが一般に
知られている。
ミニウム等の金属を反射鏡として使用することが一般に
知られている。
このような金属反射膜、例えば銅（Cu）を透明な基体
上に設けるとき、従来、銅と基体との密着性を良くさせ
るために銅と基体の間に中間層としてクロム、タングス
テン、ニッケル、チタン等を設けることが提案されてい
る。
上に設けるとき、従来、銅と基体との密着性を良くさせ
るために銅と基体の間に中間層としてクロム、タングス
テン、ニッケル、チタン等を設けることが提案されてい
る。
しかしながら、この場合、中間層の厚みを大きくする
と、上層の金属膜の光線反射率が低下するため中間層の
厚さは５Å〜50Å程度に薄くせざるを得ず、そしてこの
ような小さい範囲に膜厚を制限すると、反射鏡の調製が
難かしくなり、また透明な基体として合成樹脂を用いた
場合は、上記金属膜の膜付けが不充分になる。
と、上層の金属膜の光線反射率が低下するため中間層の
厚さは５Å〜50Å程度に薄くせざるを得ず、そしてこの
ような小さい範囲に膜厚を制限すると、反射鏡の調製が
難かしくなり、また透明な基体として合成樹脂を用いた
場合は、上記金属膜の膜付けが不充分になる。
更に、反射鏡を使用しているうちに、膜ウキの問題が
生じるため、耐環境性が不十分である。
生じるため、耐環境性が不十分である。
また、アルミニウム基板と銅製反射膜との間に酸化ア
ルミニウムを主成分とする接合層を設けることにより、
良好な基板と反射膜との密着性及び熱放散性並びに安い
製造コストの反射鏡を提供する技術が提案されている
（特開昭62−165601号公報）。しかし、該技術に用いる
酸化アルミニウムは、真空蒸着を行う時、蒸発源の温度
が高温になり、有機高分子からなる基材に対しては実用
上充分な膜付を得ることは難しいという問題がある。
ルミニウムを主成分とする接合層を設けることにより、
良好な基板と反射膜との密着性及び熱放散性並びに安い
製造コストの反射鏡を提供する技術が提案されている
（特開昭62−165601号公報）。しかし、該技術に用いる
酸化アルミニウムは、真空蒸着を行う時、蒸発源の温度
が高温になり、有機高分子からなる基材に対しては実用
上充分な膜付を得ることは難しいという問題がある。
また、アルミニウム基材とアルミニウム反射膜との間
に酸化アルミニウム層を設けた反射鏡により、該基材が
軟らかいことに起因してアルミニウム反射鏡が変形しや
すい問題を改良する技術が提案されている（特開昭62−
183401号公報）。しかし、該技術においても、上記特開
昭62−165601号公報の場合と同様に有機高分子からなる
基材に対しては十分な膜付は得られず、用いられる基材
が限定される問題がある。
に酸化アルミニウム層を設けた反射鏡により、該基材が
軟らかいことに起因してアルミニウム反射鏡が変形しや
すい問題を改良する技術が提案されている（特開昭62−
183401号公報）。しかし、該技術においても、上記特開
昭62−165601号公報の場合と同様に有機高分子からなる
基材に対しては十分な膜付は得られず、用いられる基材
が限定される問題がある。
また、合成樹脂部材からなる基体と金属膜との密着性
を良くするため、この基体の上にSiO2,CrおよびAlの各
層を順次形成させ、更にその上に低屈折材料（SiO2）と
高屈折材料（TiO2、CeO2、Ta2O5またはZrO2とTiO2の混
合物）をこの順で繰り返し最低６層形成させた後、最上
層に表面層（SiO2）を形成させて成る反射鏡が提案され
ている。
を良くするため、この基体の上にSiO2,CrおよびAlの各
層を順次形成させ、更にその上に低屈折材料（SiO2）と
高屈折材料（TiO2、CeO2、Ta2O5またはZrO2とTiO2の混
合物）をこの順で繰り返し最低６層形成させた後、最上
層に表面層（SiO2）を形成させて成る反射鏡が提案され
ている。
しかしながら、この反射鏡は金属膜が２層構造となっ
ているため製造コストが嵩み、また金属クロムを用いて
いるため膜厚に制限があり、更にSiO2を合成樹脂部材と
金属膜との接触部に用いているが、合成樹脂としてポリ
カーボネートを用いた場合は膜付けが不十分で、反射鏡
に粘着テープを貼着したのち、引き剥がした場合に膜の
一部が剥離する。
ているため製造コストが嵩み、また金属クロムを用いて
いるため膜厚に制限があり、更にSiO2を合成樹脂部材と
金属膜との接触部に用いているが、合成樹脂としてポリ
カーボネートを用いた場合は膜付けが不十分で、反射鏡
に粘着テープを貼着したのち、引き剥がした場合に膜の
一部が剥離する。
また、基板上に形成された窒化チタン膜と、該窒化チ
タン膜上に低屈折率物質と高屈折率物質の少なくとも２
層の交互層を有する反射鏡により、化学的及び物理的安
定性に優れ、かつ高反射率を有する反射鏡を提供する技
術が提案されている。しかし、該技術には、反射膜が多
層構造のため製造コストが高い問題がある。
タン膜上に低屈折率物質と高屈折率物質の少なくとも２
層の交互層を有する反射鏡により、化学的及び物理的安
定性に優れ、かつ高反射率を有する反射鏡を提供する技
術が提案されている。しかし、該技術には、反射膜が多
層構造のため製造コストが高い問題がある。
［発明の目的］ 本発明は上記のような従来の問題点を解決して光線反
射層の基体への膜付けが強固であって、耐環境性に優
れ、かつその製造が容易で、生産性が高い反射鏡を提供
することを目的とするものである。
射層の基体への膜付けが強固であって、耐環境性に優
れ、かつその製造が容易で、生産性が高い反射鏡を提供
することを目的とするものである。
［発明の構成］ そして、このような目的は基体上にクロムの窒化物か
らなる中間層を設け、その上に１層構造の光反射層を積
層して成る本発明の反射鏡によって達成することができ
る。
らなる中間層を設け、その上に１層構造の光反射層を積
層して成る本発明の反射鏡によって達成することができ
る。
本発明の反射鏡に用いられる基体としては、例えば、
ガラス、各種セラミックス材料および金属のような無機
材料、或はポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、
ポリカーボネート、アクリルニトリル−スチレン共重合
体のような有機高分子材料からなり、キャスティング、
インジェクションその他の成形法により成形された精密
部材を例示することができる。
ガラス、各種セラミックス材料および金属のような無機
材料、或はポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、
ポリカーボネート、アクリルニトリル−スチレン共重合
体のような有機高分子材料からなり、キャスティング、
インジェクションその他の成形法により成形された精密
部材を例示することができる。
そして、これらを基体とする本発明の反射鏡は例え
ば、レーザービームプリンター、特にレーザー光学系に
おける45゜ミラー、ポリゴンミラー、自動車の反射ミラ
ー、液晶デイスプレーにおける背面光源用ミラーとして
有用である。
ば、レーザービームプリンター、特にレーザー光学系に
おける45゜ミラー、ポリゴンミラー、自動車の反射ミラ
ー、液晶デイスプレーにおける背面光源用ミラーとして
有用である。
本発明においてはクロムの窒化物からなる中間膜の厚
みを従来よりも大きくしても特に弊害が認められないの
で、その許容領域を従来よりも広くすることができる。
みを従来よりも大きくしても特に弊害が認められないの
で、その許容領域を従来よりも広くすることができる。
この中間膜の厚さの範囲は通常50Å〜2000Åであり、
好ましくは100Å〜1000Åである。
好ましくは100Å〜1000Åである。
本発明の反射鏡において、前記中間層の上に積層する
光反射層としては、例えばアルミニウム、金、銀、銅の
ような金属または窒化チタンのような金属化合物が用い
られる。この光反射層の膜厚は、通常500Å〜3000Åで
あり、好ましくは700〜2000Åである。
光反射層としては、例えばアルミニウム、金、銀、銅の
ような金属または窒化チタンのような金属化合物が用い
られる。この光反射層の膜厚は、通常500Å〜3000Åで
あり、好ましくは700〜2000Åである。
本発明においては、光反射層の上に、必要に応じて保
護層を設けるが、この層は酸化シリコン（SiOx、１≦ｘ
≦２）からなり、その光学膜厚（nd）を反射光波長
（λ）の1/4に設定することにより、増反射効果が生じ
るので好ましい。
護層を設けるが、この層は酸化シリコン（SiOx、１≦ｘ
≦２）からなり、その光学膜厚（nd）を反射光波長
（λ）の1/4に設定することにより、増反射効果が生じ
るので好ましい。
また、本発明においては保護層として、低屈折層（Ｌ
層）と高屈折層（Ｈ層）の交互層から成り、少なくとも
偶数層が積層されている層を設けることもでき、各層の
光学膜厚（nd）は、それぞれ反射光波長（λ）の1/4に
することが好ましい。
層）と高屈折層（Ｈ層）の交互層から成り、少なくとも
偶数層が積層されている層を設けることもでき、各層の
光学膜厚（nd）は、それぞれ反射光波長（λ）の1/4に
することが好ましい。
この際、Ｌ層としては、通常、SiO2、MgF2等を用いる
のが好ましく、またＨ層としてはTiO2、CeO2、Ta2O5ま
たはZrO2とTiO2との混合物を用いるのが好ましい。
のが好ましく、またＨ層としてはTiO2、CeO2、Ta2O5ま
たはZrO2とTiO2との混合物を用いるのが好ましい。
［発明の効果］ 次に、本発明の効果について説明すると、ガラスのよ
うな透明基材の上に、中間層としてチタン（Ti）層また
はクロム（Cr）層を形成させ、その上に光反射層として
銅（Cu）層（膜厚2000Å）を積層させて成る従来の反射
鏡においては、中間層の厚みが増加すると、既に述べた
ように反射率の低下が生じる。
うな透明基材の上に、中間層としてチタン（Ti）層また
はクロム（Cr）層を形成させ、その上に光反射層として
銅（Cu）層（膜厚2000Å）を積層させて成る従来の反射
鏡においては、中間層の厚みが増加すると、既に述べた
ように反射率の低下が生じる。
この関係を第１図および第１表を用いて示すと、第１
図は、中間層としてCrを用い、光反射層としてCu（膜厚
2000Å）を用いた従来の反射鏡に、波長1.3μｍの半導
体レーザー光線を入射した場合、その入射角45゜におけ
る反射率を示したものであって、図の横軸はCr中間層の
膜厚（Å）を、縦軸は光反射率（％）を表す。第１表は
この場合において、Cr中間層の膜厚が10Åと100Åのと
きの反射鏡の光線反射率を表したものである。
図は、中間層としてCrを用い、光反射層としてCu（膜厚
2000Å）を用いた従来の反射鏡に、波長1.3μｍの半導
体レーザー光線を入射した場合、その入射角45゜におけ
る反射率を示したものであって、図の横軸はCr中間層の
膜厚（Å）を、縦軸は光反射率（％）を表す。第１表は
この場合において、Cr中間層の膜厚が10Åと100Åのと
きの反射鏡の光線反射率を表したものである。
第１表から明らかなように、Cr中間層の膜厚が増加す
ると、Ｐ偏光、Ｓ偏光のいずれの場合においても光線反
射率が大きく低下する。
ると、Ｐ偏光、Ｓ偏光のいずれの場合においても光線反
射率が大きく低下する。
そしてこの反射鏡において、基体としてポリカーボネ
ートを用いた場合、Cr中間層の膜厚が10Åでは粘着テー
プを貼着したのち引き剥がす剥離テストにおいて、膜の
一部剥離が生じて膜付けは不十分であった。一方、膜厚
が100Åでは膜付けは良好であるが、反射率の低下が問
題となっている。
ートを用いた場合、Cr中間層の膜厚が10Åでは粘着テー
プを貼着したのち引き剥がす剥離テストにおいて、膜の
一部剥離が生じて膜付けは不十分であった。一方、膜厚
が100Åでは膜付けは良好であるが、反射率の低下が問
題となっている。
そして、この傾向は波長780nmのレーザー光線を用い
た場合にも同様であった。
た場合にも同様であった。
これに対し、基体上に中間層として、例えば窒化クロ
ム（CrN）層を設け、その上に光線反射層としてアルミ
ニウム（Al）層を膜厚1000Å〜2000Åで積層して成る本
発明の反射鏡について、波長780nmのレーザー光線を入
射角45゜で入射させた場合におけるCrN中間層の膜厚と
反射鏡の光線反射率との関係を第２図および第２表に示
す。
ム（CrN）層を設け、その上に光線反射層としてアルミ
ニウム（Al）層を膜厚1000Å〜2000Åで積層して成る本
発明の反射鏡について、波長780nmのレーザー光線を入
射角45゜で入射させた場合におけるCrN中間層の膜厚と
反射鏡の光線反射率との関係を第２図および第２表に示
す。
この第２表と第１表の対比から明らかなように、本発
明の反射鏡においては、中間層の膜厚を増加させても光
線反射率の低下率が第１表（従来）の場合に比べて格段
に少ない。
明の反射鏡においては、中間層の膜厚を増加させても光
線反射率の低下率が第１表（従来）の場合に比べて格段
に少ない。
したがって、本発明においては、中間層の膜厚の許容
限界を従来よりも大きい領域に広げることが可能であ
る。
限界を従来よりも大きい領域に広げることが可能であ
る。
このため、本発明にしたがえば反射鏡の光線反射率を
低下させることなく、光反射層の基体への膜付けの向上
を図ることができると共に反射鏡の耐環境性の向上を実
現させることができる。
低下させることなく、光反射層の基体への膜付けの向上
を図ることができると共に反射鏡の耐環境性の向上を実
現させることができる。
なお、本発明の反射鏡において、基体としてポリカー
ボネートを用いた場合のCrN中間層の膜厚と記述の粘着
テープによる膜の剥離との関係は次の第３表の通りであ
った。
ボネートを用いた場合のCrN中間層の膜厚と記述の粘着
テープによる膜の剥離との関係は次の第３表の通りであ
った。
この種の反射鏡においては、光線反射率は通常85％以
上を得ることが必要とされている。そのためには、本発
明の反射鏡におけるCrN中間層の膜厚は、第３表におけ
るテープ剥離性も考慮して、通常50Å〜1500Åの範囲内
で適宜選択することが好ましい。
上を得ることが必要とされている。そのためには、本発
明の反射鏡におけるCrN中間層の膜厚は、第３表におけ
るテープ剥離性も考慮して、通常50Å〜1500Åの範囲内
で適宜選択することが好ましい。
有機高分子（例えば、ポリカーボネート樹脂）からな
る基体の上に、中間層としてAl2O3の層を形成させ、そ
の上に反射層として銅又はアルミニウムを積層させた従
来の反射鏡は、Al2O3が真空蒸着時の蒸発源の温度が高
温になってしまうため、膜付及び耐環境性の点で実用上
の問題が生じ、また、このため基材が限定される問題も
生じる。本発明によれば、これらの問題が改善される。
る基体の上に、中間層としてAl2O3の層を形成させ、そ
の上に反射層として銅又はアルミニウムを積層させた従
来の反射鏡は、Al2O3が真空蒸着時の蒸発源の温度が高
温になってしまうため、膜付及び耐環境性の点で実用上
の問題が生じ、また、このため基材が限定される問題も
生じる。本発明によれば、これらの問題が改善される。
本発明に従い、基体上にクロムの窒化物からなる中間
層を設け、その上に光反射層を積層した後、この光反射
層の上に更に酸化シリコン（SiOx、１≦ｘ≦２）からな
る保護層を設け、その光学膜厚（nd）を反射光波長
（λ）、例えば780nmの1/4に設定することにより、この
保護膜が設けられない場合に比べて、光反射率を３〜５
％増加させることができる。また、この場合には反射鏡
の耐環境性を向上させることもできる。
層を設け、その上に光反射層を積層した後、この光反射
層の上に更に酸化シリコン（SiOx、１≦ｘ≦２）からな
る保護層を設け、その光学膜厚（nd）を反射光波長
（λ）、例えば780nmの1/4に設定することにより、この
保護膜が設けられない場合に比べて、光反射率を３〜５
％増加させることができる。また、この場合には反射鏡
の耐環境性を向上させることもできる。
更に、本発明においては、光反射層の上に、低屈折材
料（SiO2またはMgF2）からなる低屈折率層（Ｌ層、）と
高屈折材料（TiO2、CeO2、Ta2O5またはZnO2とTiO2の混
合物）からなる低屈折層（Ｈ層）の繰り返しから構成さ
れる保護膜を設けることによっても反射鏡の光反射率を
増加させることができる。
料（SiO2またはMgF2）からなる低屈折率層（Ｌ層、）と
高屈折材料（TiO2、CeO2、Ta2O5またはZnO2とTiO2の混
合物）からなる低屈折層（Ｈ層）の繰り返しから構成さ
れる保護膜を設けることによっても反射鏡の光反射率を
増加させることができる。
したがって、本発明においては、光反射層の上に、必
要に応じて更にこのような保護膜を設けることもでき
る。
要に応じて更にこのような保護膜を設けることもでき
る。
［実施例］ 次に、実施例により本発明を具体的に説明するが、こ
れにより本発明が限定されるものではないことはいうま
でもない。
れにより本発明が限定されるものではないことはいうま
でもない。
なお、以下の各実施例においては、中間層、光反射層
および保護層等の製膜に高周波イオンプレーティング法
を適用させたが、本発明においてはこの製膜法だけに限
定されず、他の製膜法、例えばスパッタリング法を適用
させることもできる。
および保護層等の製膜に高周波イオンプレーティング法
を適用させたが、本発明においてはこの製膜法だけに限
定されず、他の製膜法、例えばスパッタリング法を適用
させることもできる。
実施例１ ポリカーボネート樹脂の成型部材を基体とし、この基
体の上に、中間層として窒化クロム層を高周波イオンプ
レーティング法により、クロム蒸発源を電子銃で加熱蒸
発させて製膜した。製膜条件は以下の通りであった。
体の上に、中間層として窒化クロム層を高周波イオンプ
レーティング法により、クロム蒸発源を電子銃で加熱蒸
発させて製膜した。製膜条件は以下の通りであった。
次いで、この窒化クロム中間層の上に光反射層（Al
層）と保護層（SiO2層）を以下に示す条件で順次形成さ
せて本発明の反射鏡を作成した。
層）と保護層（SiO2層）を以下に示す条件で順次形成さ
せて本発明の反射鏡を作成した。
このようにして作成した反射鏡に、波長7800Åの半導
体レーザー光線を入射角45゜で入射した場合の光線反射
率は、88％〜86％（Ｐ偏光）、89％〜87％（Ｓ偏光）で
あった。
体レーザー光線を入射角45゜で入射した場合の光線反射
率は、88％〜86％（Ｐ偏光）、89％〜87％（Ｓ偏光）で
あった。
そして、反射鏡に粘着テープを貼着した後、引き剥が
す剥離テストにおいても膜の剥離は全く認められず、膜
付けは良好であった。
す剥離テストにおいても膜の剥離は全く認められず、膜
付けは良好であった。
また、反射鏡を温度60℃、湿度90％の環境下に24時間
放置した場合（耐環境性テスト）においても上記剥離性
の劣化は認められなかった。
放置した場合（耐環境性テスト）においても上記剥離性
の劣化は認められなかった。
実施例２、比較例１〜３ 中間層の膜厚を1000Aとしたほかは前記実施例１と同
じ条件で本発明の反射鏡（実施例２）を作成した。ま
た、中間層を形成する物質をAlN、SiO又はTiO2としたほ
かは実施例２と同様にして比較例の反射鏡（比較例１、
２及び３）を作成した。これらの反射鏡について、前記
実施例１と同様の実験を行った。ただし、剥離テスト
は、反射鏡試料の光反射面に粘着テープを貼着した後、
引き剥がしたときの粘着テープ接着面積に対する光反射
層の剥離面積の割合で評価し、耐環境性テストは、反射
鏡を実施例１の耐環境性テストと同じ条件で放置した後
に上記剥離テストを行って評価した。この結果を下記第
４表に示す。
じ条件で本発明の反射鏡（実施例２）を作成した。ま
た、中間層を形成する物質をAlN、SiO又はTiO2としたほ
かは実施例２と同様にして比較例の反射鏡（比較例１、
２及び３）を作成した。これらの反射鏡について、前記
実施例１と同様の実験を行った。ただし、剥離テスト
は、反射鏡試料の光反射面に粘着テープを貼着した後、
引き剥がしたときの粘着テープ接着面積に対する光反射
層の剥離面積の割合で評価し、耐環境性テストは、反射
鏡を実施例１の耐環境性テストと同じ条件で放置した後
に上記剥離テストを行って評価した。この結果を下記第
４表に示す。
（注）剥離テスト及び耐環境性テストの欄の記号の意味
は下記のとおりである。テープ接着面積に対する膜の剥
離面積の割合をＳ％とするとき、 ◎:S＝０％ ○:0＜Ｓ≦10％ △:10＜Ｓ≦50％
は下記のとおりである。テープ接着面積に対する膜の剥
離面積の割合をＳ％とするとき、 ◎:S＝０％ ○:0＜Ｓ≦10％ △:10＜Ｓ≦50％
第１図は、従来の反射鏡におけるクロム中間層（Cr層）
の膜厚と反射鏡の光反射率の関係を表す図であって、図
の横軸はクロム中間層（Cr層）の膜厚（Å）を、縦軸は
反射鏡の光反射率（％）を表す。 第２図は、本発明の反射鏡における中間層の膜厚と反射
鏡の光反射率の関係を表す図であって、図の横軸は中間
層の膜厚（Å）を、縦軸は反射鏡の光反射率（％）を表
す。
の膜厚と反射鏡の光反射率の関係を表す図であって、図
の横軸はクロム中間層（Cr層）の膜厚（Å）を、縦軸は
反射鏡の光反射率（％）を表す。 第２図は、本発明の反射鏡における中間層の膜厚と反射
鏡の光反射率の関係を表す図であって、図の横軸は中間
層の膜厚（Å）を、縦軸は反射鏡の光反射率（％）を表
す。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−165601（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−183401（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−219004（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−84215（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−300202（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G02B 5/08
Claims (1)
- 【請求項１】基体上にクロムの窒化物からなる中間層を
設け、その上に１層構造の光反射層を積層して成ること
を特徴とする反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63263269A JP2838525B2 (ja) | 1988-10-18 | 1988-10-18 | 反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63263269A JP2838525B2 (ja) | 1988-10-18 | 1988-10-18 | 反射鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02109003A JPH02109003A (ja) | 1990-04-20 |
| JP2838525B2 true JP2838525B2 (ja) | 1998-12-16 |
Family
ID=17387114
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63263269A Expired - Lifetime JP2838525B2 (ja) | 1988-10-18 | 1988-10-18 | 反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2838525B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5216551A (en) * | 1990-02-16 | 1993-06-01 | Asahi Kogaku Kogyo K.K. | Surface reflector |
| DE4020595A1 (de) * | 1990-06-28 | 1992-01-09 | Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh | Elektrische lampe mit lichtreflektierender schicht |
| JP4410367B2 (ja) * | 1999-12-24 | 2010-02-03 | キヤノン電子株式会社 | 金属鏡および金属回転多面鏡およびその製造方法 |
| JP2002055213A (ja) | 2000-06-02 | 2002-02-20 | Canon Inc | 高反射ミラー |
| FR2845774B1 (fr) * | 2002-10-10 | 2005-01-07 | Glaverbel | Article reflechissant hydrophile |
| JP2005029849A (ja) | 2003-07-07 | 2005-02-03 | Kobe Steel Ltd | リフレクター用Ａｇ合金反射膜、及び、このＡｇ合金反射膜を用いたリフレクター、並びに、このＡｇ合金反射膜の形成用のＡｇ合金スパッタリングターゲット |
| CN101248704B (zh) * | 2005-05-11 | 2011-10-26 | 贝卡尔特股份有限公司 | 用于红外辐射元件的反射器 |
| JP2007247166A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 道路鏡 |
| JP2013102046A (ja) * | 2011-11-08 | 2013-05-23 | Nikkeikin Aluminium Core Technology Co Ltd | アルミニウム回路基板の製造方法及びアルミニウム回路基板 |
| JP6446895B2 (ja) | 2014-08-01 | 2019-01-09 | セイコーエプソン株式会社 | デジタル・マイクロミラー・デバイス、デジタル・マイクロミラー・デバイスの製造方法、及び電子機器 |
| CN108196329B (zh) * | 2017-12-19 | 2020-05-01 | 中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所 | 一种中波红外介质增强金属高反膜的制备方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61219004A (ja) * | 1985-03-25 | 1986-09-29 | Canon Inc | 多層膜反射鏡 |
| JPS62165601A (ja) * | 1986-01-17 | 1987-07-22 | Kobe Steel Ltd | レ−ザビ−ム用反射鏡 |
| JPS62183401A (ja) * | 1986-02-07 | 1987-08-11 | Minolta Camera Co Ltd | 反射鏡 |
| JPS6484215A (en) * | 1987-09-28 | 1989-03-29 | Seiko Epson Corp | Plastic optical parts |
| JPH01300202A (ja) * | 1988-05-27 | 1989-12-04 | Sharp Corp | 反射体および該反射体を用いた干渉装置 |
-
1988
- 1988-10-18 JP JP63263269A patent/JP2838525B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02109003A (ja) | 1990-04-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2838525B2 (ja) | 反射鏡 | |
| JP2002055213A (ja) | 高反射ミラー | |
| JPH0282201A (ja) | 合成樹脂製光学部品の多層膜裏面反射鏡 | |
| JP3438738B2 (ja) | 光学部材、及び光学部品 | |
| JP3799696B2 (ja) | エキシマレーザー用ミラー | |
| JPS60502173A (ja) | 有機材料から成る光学部材に対する反射防止被膜 | |
| JP4482971B2 (ja) | 反射鏡 | |
| JPH05127004A (ja) | 反射鏡 | |
| JP2004264438A (ja) | 反射鏡及びそれを用いた光学機器 | |
| JPH0462363B2 (ja) | ||
| JP2566634B2 (ja) | 多層反射防止膜 | |
| JPH08327809A (ja) | プラスチック製反射ミラー | |
| JPS60130704A (ja) | 合成樹脂基板の反射防止膜 | |
| JPH05150105A (ja) | 金属表面鏡およびその製造方法 | |
| JP2002527846A (ja) | 光データ記憶ディスク | |
| JPH03191301A (ja) | 反射鏡 | |
| JPH07168008A (ja) | Ａｇ表面鏡 | |
| JP2004184703A (ja) | 反射鏡 | |
| JP2590019B2 (ja) | 表面反射鏡 | |
| JPH06256929A (ja) | 金色蒸着製品 | |
| JP2001264523A (ja) | 反射鏡 | |
| JPH077126B2 (ja) | 合成樹脂部材の反射鏡 | |
| JP2624827B2 (ja) | ハーフミラー | |
| JPH1130705A (ja) | 反射防止膜を有する眼鏡プラスチックレンズ | |
| JPH07280999A (ja) | Ｘ線多層膜反射鏡 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081016 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081016 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091016 Year of fee payment: 11 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091016 Year of fee payment: 11 |