JPS61219004A - 多層膜反射鏡 - Google Patents
多層膜反射鏡Info
- Publication number
- JPS61219004A JPS61219004A JP6048285A JP6048285A JPS61219004A JP S61219004 A JPS61219004 A JP S61219004A JP 6048285 A JP6048285 A JP 6048285A JP 6048285 A JP6048285 A JP 6048285A JP S61219004 A JPS61219004 A JP S61219004A
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- JP
- Japan
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- reflectance
- refractive index
- layers
- titanium nitride
- substrate
- Prior art date
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- Pending
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- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１）技術分野
本発明は、多層膜反射鏡、特に近赤外領域以上の光に対
して有効な多層膜反射鏡に関する。
して有効な多層膜反射鏡に関する。
（２）従来技術
従来、この種の反射鏡は、アルミニウム、銅等の金属上
に誘電体の低屈折率物質と高屈折率物質の交互層を形成
したものや、或いは誘電体のみの交互層から成るもの等
があった。
に誘電体の低屈折率物質と高屈折率物質の交互層を形成
したものや、或いは誘電体のみの交互層から成るもの等
があった。
前記金属膜を用いた反射鏡は、高反射率を有しイ七−
ではいるが、〆学的安定性や機械的強度の点ではまだ不
十分であり、前記誘電体のみの交互層から成る反射鏡は
、耐久性には優れてはいるが、高反射率を得る為には暦
数を多くしなければならず。
十分であり、前記誘電体のみの交互層から成る反射鏡は
、耐久性には優れてはいるが、高反射率を得る為には暦
数を多くしなければならず。
ヒ
従って、生産に時間を要してコスト高なり、そのΔ
主反射帯域幅が狭くなるという欠点を有していた。
（３）発明の概要
本発明の目的は、従来の欠点を除去し、化学的及び物理
的安定性に優れ、且つ高反射率を有する多層膜反射鏡を
提供する事にある。
的安定性に優れ、且つ高反射率を有する多層膜反射鏡を
提供する事にある。
本発明に係る多層膜反射鏡は、基板上に形成された窒化
チタン膜と、該窒化チタン膜上に基板側から順に形成さ
れた低屈折率物質と高屈折率物質の少なくとも２層の交
互層とを有する事により上記目的を達成せんとするもの
である。
チタン膜と、該窒化チタン膜上に基板側から順に形成さ
れた低屈折率物質と高屈折率物質の少なくとも２層の交
互層とを有する事により上記目的を達成せんとするもの
である。
前記基板は、ガラス、金属等通常この種の反射鏡に使用
可能なものであれば如何なる素材を用いても構わない。
可能なものであれば如何なる素材を用いても構わない。
更に、前記交互層を成す各物質の光学的膜厚は、各々反
射帯域の中心波長のほぼｌ／４である車が望ましく、本
反射鏡を使用する際の条件、即ち前記反射帯域や光の入
射角度等により膜厚は適時制御されるものである。
射帯域の中心波長のほぼｌ／４である車が望ましく、本
反射鏡を使用する際の条件、即ち前記反射帯域や光の入
射角度等により膜厚は適時制御されるものである。
前記低屈折率物質は、ＭｇＦ２ 、ＬａＦ３ 。
ＮｄＦ３等の弗化物や５ｆＯ２、Ａ又２０３等の酸化物
から構成され、前記高屈折率物質は、ＴｉＯ２、ＣｅＯ
２、ＺｒＣ）２等の酸化物やＳｉ。
から構成され、前記高屈折率物質は、ＴｉＯ２、ＣｅＯ
２、ＺｒＣ）２等の酸化物やＳｉ。
Ｇｅ等の半導体により構成される。
又、前記窒化チタン膜は、硬度が高く腐食に強い誘電体
で耐久性に優れている。特に、近赤外線領域以上で高反
射率を有し、基板及び反射率増加の為の誘電体層に対し
て強い密着性を持つ。該窒化チタン膜の膜厚は通常０．
１ｇｍ以上が望ましく、この膜厚以下では所望の反射率
が得られない、しかしながら、製法の改良等により若干
この限界値が向上する可能性は残されている。尚、本発
明に係る窒化チタン膜を作成する方法は、イオンブレー
ティング法、スパッタリング法、ＣＶＤ法等各種方法を
用いる事が出来、窒化チタン膜上に形成する交互層から
成る多層膜は通常の真空蒸着法等により作成出来る。
で耐久性に優れている。特に、近赤外線領域以上で高反
射率を有し、基板及び反射率増加の為の誘電体層に対し
て強い密着性を持つ。該窒化チタン膜の膜厚は通常０．
１ｇｍ以上が望ましく、この膜厚以下では所望の反射率
が得られない、しかしながら、製法の改良等により若干
この限界値が向上する可能性は残されている。尚、本発
明に係る窒化チタン膜を作成する方法は、イオンブレー
ティング法、スパッタリング法、ＣＶＤ法等各種方法を
用いる事が出来、窒化チタン膜上に形成する交互層から
成る多層膜は通常の真空蒸着法等により作成出来る。
（４）実施例
第１図及び第２図は本発明に係る多層膜反射鏡の構成例
で、■はガラス或いは金属等の基板、２は窒化チタン、
３及び５は低屈折率物質、４及び６は高屈折率物質を示
す。
で、■はガラス或いは金属等の基板、２は窒化チタン、
３及び５は低屈折率物質、４及び６は高屈折率物質を示
す。
第２図に示す多層膜反射鏡は、基板ｌから数えて第１層
目に幾可学的膜厚０．２ルｍの窒化チタン（ＴｉＮ）２
、第２層目及び第４層目に各々光学的膜厚が約０ 、２
１ ｇｍの５ｉｎ２から成る低屈折率物質３，５．第３
層目及び第５層目に各々光学的膜厚が約０．２１ｇｍの
ＳｉＯから成る高屈折率物質４．６の５層構造を有して
いる。
目に幾可学的膜厚０．２ルｍの窒化チタン（ＴｉＮ）２
、第２層目及び第４層目に各々光学的膜厚が約０ 、２
１ ｇｍの５ｉｎ２から成る低屈折率物質３，５．第３
層目及び第５層目に各々光学的膜厚が約０．２１ｇｍの
ＳｉＯから成る高屈折率物質４．６の５層構造を有して
いる。
又、第２図に示す多層膜反射鏡は、基板ｌから数えて第
１層目に幾可学的膜厚０．２ｐｍの窒化チタン（ＴｉＮ
）２．第２層目に光学的膜厚が約Ｑ 、 ２１ ＪＬｍ
のＭｇＦ２から成る低屈折率物質３、第３層目に光学的
膜厚が約０．２層ルｍのＳｉから成る高屈折率物質４の
３層構造を有している。
１層目に幾可学的膜厚０．２ｐｍの窒化チタン（ＴｉＮ
）２．第２層目に光学的膜厚が約Ｑ 、 ２１ ＪＬｍ
のＭｇＦ２から成る低屈折率物質３、第３層目に光学的
膜厚が約０．２層ルｍのＳｉから成る高屈折率物質４の
３層構造を有している。
第１図及び８２図で示される多層膜反射鏡は。
反射帯域の中心波長入ｏ＝８５０ｎｍ（＝０．８５ｇｍ
）、光の入射角θをθ＝０（膜面垂直）としたもので、
第２層目以降に於る交互層の各膜厚は、はぼ入。／４と
なっている。
）、光の入射角θをθ＝０（膜面垂直）としたもので、
第２層目以降に於る交互層の各膜厚は、はぼ入。／４と
なっている。
第３図は本実施例に係る多層膜反射鏡の分光反射率を示
すグラフで、横軸は波長（ｎｍ）を、縦軸は反射率（％
）を示している０図中、Ａは第１図の多層膜反射鏡に於
る反射率を、Ｂは第２図の多層膜反射鏡に於る反射率を
、Ｃはガラス基板に形成した窒化チタン膜に於る反射率
を示している。
すグラフで、横軸は波長（ｎｍ）を、縦軸は反射率（％
）を示している０図中、Ａは第１図の多層膜反射鏡に於
る反射率を、Ｂは第２図の多層膜反射鏡に於る反射率を
、Ｃはガラス基板に形成した窒化チタン膜に於る反射率
を示している。
一般に、近赤外領域に於る窒化チタン膜のみの反射率は
７０〜８０％であり、十分な反射率は得られない、従っ
て、本発明の多層膜反射鏡の如く、窒化チタン膜上に低
屈折率物質と高屈折率物質の交互層を形成することによ
り反射率を向上させる事が出来る。この為第１図の多層
膜反射鏡の反射率は最大９７％、第２図の多層膜反射鏡
の反射率は最大９３％となった。
７０〜８０％であり、十分な反射率は得られない、従っ
て、本発明の多層膜反射鏡の如く、窒化チタン膜上に低
屈折率物質と高屈折率物質の交互層を形成することによ
り反射率を向上させる事が出来る。この為第１図の多層
膜反射鏡の反射率は最大９７％、第２図の多層膜反射鏡
の反射率は最大９３％となった。
本実施例で示された多層膜反射鏡の耐久試験を行なう為
に、高温多湿の試験装置内に長時間放置した後反射率の
測定を行なった所、反射率の低下は見受けられず、膜強
度、腐食等物理的、化学的変化も現われなかった。
に、高温多湿の試験装置内に長時間放置した後反射率の
測定を行なった所、反射率の低下は見受けられず、膜強
度、腐食等物理的、化学的変化も現われなかった。
（５）発明の詳細
な説明した様に、本発明に係る多層膜反射鏡は、化学的
、物理的安定性に優れ、高耐火性、高反射率を有する反
射鏡である。
、物理的安定性に優れ、高耐火性、高反射率を有する反
射鏡である。
第１図及び第２図は本発明に係る多層膜反射鏡の構成例
を示す図、第３図は第１図及び第２図の多層膜反射鏡に
於る分光反射率を示す図。 １−ｍ−一基板 ２−一一一窒化チタン膜（Ｔ ｉ Ｎ）３．５−−−一
低屈折率物質 ４．６−−−−高屈折率物質 第２０
を示す図、第３図は第１図及び第２図の多層膜反射鏡に
於る分光反射率を示す図。 １−ｍ−一基板 ２−一一一窒化チタン膜（Ｔ ｉ Ｎ）３．５−−−一
低屈折率物質 ４．６−−−−高屈折率物質 第２０
Claims (3)
- （１）基板上に形成された窒化チタン膜と、該窒化チタ
ン膜上に基板側から順に形成された低屈折率物質と高屈
折率物質の少なくとも２層の交互層とを有する事を特徴
とする多層膜反射鏡。 - （２）前記交互層を成す各物質の光学的膜厚が、反射帯
域の中心波長のほぼ１／４である事を特徴とする特許請
求の範囲第（１）項記載の多層膜反射鏡。 - （３）前記低屈折率物質がＭｇＦ＿２、ＬａＦ＿３、Ｎ
ｄＦ＿３等の弗化物もしくはＳｉＯ＿２、Ａｌ＿２Ｏ＿
３等の酸化物から成り、前記高屈折率物質がＴｉＯ＿２
、ＣｅＯ＿２、ＺｒＯ＿２等の酸化物もしくはＳｉ、Ｇ
ｅ等の半導体から成る事を特徴とする特許請求の範囲第
（２）項記載の多層膜反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6048285A JPS61219004A (ja) | 1985-03-25 | 1985-03-25 | 多層膜反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6048285A JPS61219004A (ja) | 1985-03-25 | 1985-03-25 | 多層膜反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61219004A true JPS61219004A (ja) | 1986-09-29 |
Family
ID=13143539
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6048285A Pending JPS61219004A (ja) | 1985-03-25 | 1985-03-25 | 多層膜反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61219004A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0294906A2 (en) * | 1987-06-11 | 1988-12-14 | NISHIZAWA, Junichi | Apparatus for measuring very low water content in gas |
| JPS6432201A (en) * | 1987-07-28 | 1989-02-02 | Asahi Optical Co Ltd | Laminated structure of thin dielectric film |
| JPH02109003A (ja) * | 1988-10-18 | 1990-04-20 | Konica Corp | 反射鏡 |
| DE3936282A1 (de) * | 1988-10-31 | 1990-05-03 | Hoya Corp | Mehrschichtiger oberflaechenreflektierspiegel |
| FR2679064A1 (fr) * | 1991-07-10 | 1993-01-15 | Philips Electronique Lab | Dispositif a neutrons incluant un miroir multicouches. |
| JP2000225489A (ja) * | 1998-12-31 | 2000-08-15 | General Electric Co <Ge> | 溶接作業用加熱装置並びに方法 |
| JP2015167105A (ja) * | 2014-03-04 | 2015-09-24 | スタンレー電気株式会社 | 可視光源 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5655910A (en) * | 1979-10-13 | 1981-05-16 | Fujitsu Ltd | Production of optical multilayer film |
| JPS6135401A (ja) * | 1984-07-27 | 1986-02-19 | Minolta Camera Co Ltd | 反射鏡 |
-
1985
- 1985-03-25 JP JP6048285A patent/JPS61219004A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5655910A (en) * | 1979-10-13 | 1981-05-16 | Fujitsu Ltd | Production of optical multilayer film |
| JPS6135401A (ja) * | 1984-07-27 | 1986-02-19 | Minolta Camera Co Ltd | 反射鏡 |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0294906A2 (en) * | 1987-06-11 | 1988-12-14 | NISHIZAWA, Junichi | Apparatus for measuring very low water content in gas |
| JPS6432201A (en) * | 1987-07-28 | 1989-02-02 | Asahi Optical Co Ltd | Laminated structure of thin dielectric film |
| JPH0516003B2 (ja) * | 1987-07-28 | 1993-03-03 | Asahi Optical Co Ltd | |
| JPH02109003A (ja) * | 1988-10-18 | 1990-04-20 | Konica Corp | 反射鏡 |
| DE3936282A1 (de) * | 1988-10-31 | 1990-05-03 | Hoya Corp | Mehrschichtiger oberflaechenreflektierspiegel |
| FR2679064A1 (fr) * | 1991-07-10 | 1993-01-15 | Philips Electronique Lab | Dispositif a neutrons incluant un miroir multicouches. |
| JP2000225489A (ja) * | 1998-12-31 | 2000-08-15 | General Electric Co <Ge> | 溶接作業用加熱装置並びに方法 |
| JP2015167105A (ja) * | 2014-03-04 | 2015-09-24 | スタンレー電気株式会社 | 可視光源 |
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