JPH116906A - 誘電体薄膜付き反射鏡 - Google Patents
誘電体薄膜付き反射鏡Info
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- JPH116906A JPH116906A JP9158165A JP15816597A JPH116906A JP H116906 A JPH116906 A JP H116906A JP 9158165 A JP9158165 A JP 9158165A JP 15816597 A JP15816597 A JP 15816597A JP H116906 A JPH116906 A JP H116906A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】誘電体薄膜付き反射鏡を提供する。
【解決手段】ＡｌまたはＡｌ合金により形成された基体
と、該基体上に形成されたＡｌ2Ｏ3層と、該Ａｌ2Ｏ3層
上に形成されたガラス層と、該ガラス層上に形成された
高屈折率層と低屈折率層とが交互に複数回積層された積
層体とを備えたことを特徴とする誘電体薄膜付き反射
鏡、必要に応じて、上記ガラス層が０．１μｍ〜２００
μｍの厚さに形成され、上記高屈折率層が３０〜１５０
ｎｍ、上記低屈折率層が６０〜３００ｎｍの厚さで、更
に、上記Ａｌ2Ｏ3層が０．１〜５０μｍの厚さに形成さ
れた誘電体薄膜付き反射鏡。
と、該基体上に形成されたＡｌ2Ｏ3層と、該Ａｌ2Ｏ3層
上に形成されたガラス層と、該ガラス層上に形成された
高屈折率層と低屈折率層とが交互に複数回積層された積
層体とを備えたことを特徴とする誘電体薄膜付き反射
鏡、必要に応じて、上記ガラス層が０．１μｍ〜２００
μｍの厚さに形成され、上記高屈折率層が３０〜１５０
ｎｍ、上記低屈折率層が６０〜３００ｎｍの厚さで、更
に、上記Ａｌ2Ｏ3層が０．１〜５０μｍの厚さに形成さ
れた誘電体薄膜付き反射鏡。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光線の反射に用い
られる反射鏡に関する。更に詳しくは、レ−ザ光線の様
な高エネルギ光線を反射するための反射鏡に関するもの
である。
られる反射鏡に関する。更に詳しくは、レ−ザ光線の様
な高エネルギ光線を反射するための反射鏡に関するもの
である。
【０００２】
【従来技術】近年レーザ光線のような高エネルギ光線の
利用分野が増加している。特に、孔あけ、切断、溶接等
の超精密加工にレーザ加工機の活動分野が拡大してい
る。このようなレーザは、レ−ザ光線発生源から発生し
たレーザを反射鏡やプリズム等により折り曲げてレーザ
光線を操作している。従来、このような高エネルギ光線
を反射する反射鏡として、アルミニウム、石英ガラス等
の金属または合金等の適当な材料で形成された基板上
に、誘電体を多層に形成したものが知られている。基板
表面は鏡面研摩され、誘電体は基板上に蒸着法、スパッ
タリング法等の手段により形成される。誘電体層を多層
に形成することにより境界面を複数設けることができ、
境界面における光線の反射を増加させて反射効率を高め
ることができる。
利用分野が増加している。特に、孔あけ、切断、溶接等
の超精密加工にレーザ加工機の活動分野が拡大してい
る。このようなレーザは、レ−ザ光線発生源から発生し
たレーザを反射鏡やプリズム等により折り曲げてレーザ
光線を操作している。従来、このような高エネルギ光線
を反射する反射鏡として、アルミニウム、石英ガラス等
の金属または合金等の適当な材料で形成された基板上
に、誘電体を多層に形成したものが知られている。基板
表面は鏡面研摩され、誘電体は基板上に蒸着法、スパッ
タリング法等の手段により形成される。誘電体層を多層
に形成することにより境界面を複数設けることができ、
境界面における光線の反射を増加させて反射効率を高め
ることができる。
【０００３】しかし、アルミニウム等の金属材料では、
酸化反応を起こす性質を有しているために、高エネルギ
光線用に使用した場合には、この光線を反射することに
起因する温度上昇により酸化反応が促進され、誘電体層
が剥離して反射率を低下させる不具合いがあった。ま
た、石英ガラスは加工性がよく、耐酸化性にはアルミニ
ウムより優れているが、石英ガラス自体の熱伝導率が低
いため、同様に高エネルギ光線を反射することに起因す
る温度上昇により、誘電体層が剥離または基板の熱変形
に起因して反射率を低下させる不具合があった。 これ
らの点を解消するために、比較的熱伝導性の高いＳｉま
たはＳｉＣ 等のセラミックスを基板に用いた反射鏡が
知られている。このような基板を用いることにより耐酸
化性が高く、耐熱性が良好な反射鏡を製作することがで
きる。
酸化反応を起こす性質を有しているために、高エネルギ
光線用に使用した場合には、この光線を反射することに
起因する温度上昇により酸化反応が促進され、誘電体層
が剥離して反射率を低下させる不具合いがあった。ま
た、石英ガラスは加工性がよく、耐酸化性にはアルミニ
ウムより優れているが、石英ガラス自体の熱伝導率が低
いため、同様に高エネルギ光線を反射することに起因す
る温度上昇により、誘電体層が剥離または基板の熱変形
に起因して反射率を低下させる不具合があった。 これ
らの点を解消するために、比較的熱伝導性の高いＳｉま
たはＳｉＣ 等のセラミックスを基板に用いた反射鏡が
知られている。このような基板を用いることにより耐酸
化性が高く、耐熱性が良好な反射鏡を製作することがで
きる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、Ｓｉは、熱伝
導性に優れるが、機械的強度がアルミニウムまたは石英
ガラスより弱く、その表面を鏡面研摩する際の取扱およ
び誘電体層の形成の際の取扱に困難を生じ、機械的強度
が要求される箇所への使用が出来ない不具合がある。ま
た、ＳｉＣは、Ｓｉに比較して機械的強度が優れ、Ｓｉ
における不具合は生じないが、機械的強度の上昇から鏡
面研摩する際の加工性に劣る問題点がある。即ち、鏡面
研摩加工の困難性からＳｉ等を加工する通常の加工時間
に比較して過剰な時間を必要とし、また焼結体であるこ
とに起因して研摩加工における粒子の脱粒を起こし、高
精度の平面度に仕上げることが困難である問題点があっ
た。本発明の目的は、高い反射率特性と高い耐熱性およ
び機械強度を有する高エネルギ光線用反射鏡を提供する
ことにある。
導性に優れるが、機械的強度がアルミニウムまたは石英
ガラスより弱く、その表面を鏡面研摩する際の取扱およ
び誘電体層の形成の際の取扱に困難を生じ、機械的強度
が要求される箇所への使用が出来ない不具合がある。ま
た、ＳｉＣは、Ｓｉに比較して機械的強度が優れ、Ｓｉ
における不具合は生じないが、機械的強度の上昇から鏡
面研摩する際の加工性に劣る問題点がある。即ち、鏡面
研摩加工の困難性からＳｉ等を加工する通常の加工時間
に比較して過剰な時間を必要とし、また焼結体であるこ
とに起因して研摩加工における粒子の脱粒を起こし、高
精度の平面度に仕上げることが困難である問題点があっ
た。本発明の目的は、高い反射率特性と高い耐熱性およ
び機械強度を有する高エネルギ光線用反射鏡を提供する
ことにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１に係わる発明
は、図１の拡大図に示すように基体１１上にガラス層１
２が形成され、このガラス層１２上に高屈折率層１３と
低屈折率層１４とが交互に複数回積層された積層体１５
が形成された高エネルギ光線用反射鏡１０である。基体
１１の表面が粗くても、ガラス層１２がこれを平滑化
し、ガラス層上に形成された積層体１５の表面を歪みの
無い鏡面とし、高い反射率を有するようにする。
は、図１の拡大図に示すように基体１１上にガラス層１
２が形成され、このガラス層１２上に高屈折率層１３と
低屈折率層１４とが交互に複数回積層された積層体１５
が形成された高エネルギ光線用反射鏡１０である。基体
１１の表面が粗くても、ガラス層１２がこれを平滑化
し、ガラス層上に形成された積層体１５の表面を歪みの
無い鏡面とし、高い反射率を有するようにする。
【０００６】請求項２に係わる発明は、請求項１に係わ
る発明であって、更に図１の拡大図に示すように、ガラ
ス層１２が０．１〜２００μｍの厚さに形成され、高屈
折率層が３０〜１５０ｎｍ、低屈折率層が６０〜３００
ｎｍの厚さに形成されたことを特徴とする。この請求項
２に係わる誘電体薄膜付き反射鏡では、ガラス層１２の
厚さが０．１μｍ未満では、誘電体薄膜１３とガラス層
１２との密着性が不十分となり、２００μｍを越えると
基光線体１１自身の熱伝導性を低下させる不具合があ
る。また、高エネルギー光線用反射鏡の用途に応じて、
高屈折率層１３を３０〜１５０ｎｍおよび低屈折率層１
４を６０〜３００ｎｍの厚さに、それぞれ形成すること
がより好ましい。高屈折率層１３が３０ｎｍおよび低屈
折率層１４が６０ｎｍ未満、または高屈折率層１３が１
５０ｎｍおよび低屈折率層１４が３００ｎｍを越えると
十分な反射特性が得られない。
る発明であって、更に図１の拡大図に示すように、ガラ
ス層１２が０．１〜２００μｍの厚さに形成され、高屈
折率層が３０〜１５０ｎｍ、低屈折率層が６０〜３００
ｎｍの厚さに形成されたことを特徴とする。この請求項
２に係わる誘電体薄膜付き反射鏡では、ガラス層１２の
厚さが０．１μｍ未満では、誘電体薄膜１３とガラス層
１２との密着性が不十分となり、２００μｍを越えると
基光線体１１自身の熱伝導性を低下させる不具合があ
る。また、高エネルギー光線用反射鏡の用途に応じて、
高屈折率層１３を３０〜１５０ｎｍおよび低屈折率層１
４を６０〜３００ｎｍの厚さに、それぞれ形成すること
がより好ましい。高屈折率層１３が３０ｎｍおよび低屈
折率層１４が６０ｎｍ未満、または高屈折率層１３が１
５０ｎｍおよび低屈折率層１４が３００ｎｍを越えると
十分な反射特性が得られない。
【０００７】請求項３に係わる発明は、請求項１および
２に係わる発明であって、更に図３の拡大図に示すよう
に、Ａｌ2Ｏ3層２５が０．１〜５０μｍの厚さに形成さ
れ、必要に応じてガラス層１２が０．１〜２００μｍの
厚さに形成され、高屈折率層１３が３０〜１５０ｎｍ、
低屈折率層１４が６０〜３００ｎｍの厚さに形成された
ことを特徴とする。この請求項３に係わる誘電体薄膜付
き反射鏡では、Ａｌ2Ｏ3層２５は０．１〜５０μｍ の
厚さに形成されることがより好ましい。Ａｌ2Ｏ3層２５
の厚さが０．１μｍ未満ではガラス層１２の基体１１に
対する密着性が不十分となり、５０μｍを越えると基体
１１自身の熱伝導性が低下する不具合がある。ガラス層
１２及び誘電体薄膜１５の厚さについては上記請求項２
に係わる反射鏡と同様である。
２に係わる発明であって、更に図３の拡大図に示すよう
に、Ａｌ2Ｏ3層２５が０．１〜５０μｍの厚さに形成さ
れ、必要に応じてガラス層１２が０．１〜２００μｍの
厚さに形成され、高屈折率層１３が３０〜１５０ｎｍ、
低屈折率層１４が６０〜３００ｎｍの厚さに形成された
ことを特徴とする。この請求項３に係わる誘電体薄膜付
き反射鏡では、Ａｌ2Ｏ3層２５は０．１〜５０μｍ の
厚さに形成されることがより好ましい。Ａｌ2Ｏ3層２５
の厚さが０．１μｍ未満ではガラス層１２の基体１１に
対する密着性が不十分となり、５０μｍを越えると基体
１１自身の熱伝導性が低下する不具合がある。ガラス層
１２及び誘電体薄膜１５の厚さについては上記請求項２
に係わる反射鏡と同様である。
【０００８】
【発明の実施の形態】次に本発明の第１の実施形態を図
面に基づいて説明する。図１及び図２に示すように、反
射鏡１０の基板１１は板状のＡｌまたはＡｌ合金により
形成され、その反射面である表面は、凹面に形成され
る。なお、反射面は凹面でなく、平面であってもよい。
またガラス層１２を構成するガラス成分は、例えばＰｂ
Ｏ−ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3系にＡｌ2Ｏ3、アルカリ土類金属
酸化物、アルカリ金属酸化物等が添加された系である。
このガラス層１２は、熱膨張係数が基板の熱膨張係数に
近いことが、ガラス層１２形成次にクラック等の欠陥を
生じないため好ましい。基板１１がＡｌまたはＡｌ合金
であるので、ガラス層１２の熱膨張係数は、この基板１
１の熱膨張係数に近い（２５．６±５）×１０-5／℃で
あることが好ましい。ガラス層１２は、上記ガラス粉末
を溶剤と混合してガラスペ−ストとし、このガラスペ−
ストを基板の表面にスクリ−ン印刷法、スプレ−コ−テ
ィング法、ディップコ−ティング法、スピンコ−ティン
グ法、溶射法等により塗布して乾燥した後、焼成してガ
ラス層を軟化させることにより形成されるか、或いは基
板１１を上記ガラス成分を含む電解質に浸漬して分極す
る電着法により、基板１１の表面に上記ガラス成分を析
出させて乾燥した後、焼成する事により形成される。
面に基づいて説明する。図１及び図２に示すように、反
射鏡１０の基板１１は板状のＡｌまたはＡｌ合金により
形成され、その反射面である表面は、凹面に形成され
る。なお、反射面は凹面でなく、平面であってもよい。
またガラス層１２を構成するガラス成分は、例えばＰｂ
Ｏ−ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3系にＡｌ2Ｏ3、アルカリ土類金属
酸化物、アルカリ金属酸化物等が添加された系である。
このガラス層１２は、熱膨張係数が基板の熱膨張係数に
近いことが、ガラス層１２形成次にクラック等の欠陥を
生じないため好ましい。基板１１がＡｌまたはＡｌ合金
であるので、ガラス層１２の熱膨張係数は、この基板１
１の熱膨張係数に近い（２５．６±５）×１０-5／℃で
あることが好ましい。ガラス層１２は、上記ガラス粉末
を溶剤と混合してガラスペ−ストとし、このガラスペ−
ストを基板の表面にスクリ−ン印刷法、スプレ−コ−テ
ィング法、ディップコ−ティング法、スピンコ−ティン
グ法、溶射法等により塗布して乾燥した後、焼成してガ
ラス層を軟化させることにより形成されるか、或いは基
板１１を上記ガラス成分を含む電解質に浸漬して分極す
る電着法により、基板１１の表面に上記ガラス成分を析
出させて乾燥した後、焼成する事により形成される。
【０００９】反射鏡１０の基板１１とガラス層１２との
間にＡｌ2Ｏ3層２５が形成される。このＡｌ2Ｏ3層２５
は陽極酸化法、熱酸化法、ゾルゲル法等により形成され
る。陽極酸化法では、基板１１を硫酸、シュウ酸又はホ
ウ酸等の水溶液に浸漬してアノ−ド分極することによ
り、基板１１の表面に不導体酸化皮膜であるＡｌ2Ｏ3層
２５が形成される。また熱酸化法では、基板１１を酸化
雰囲気中で加熱することにより、基板１１の表面に酸化
膜であるＡｌ2Ｏ3層２５が形成される。更にゾルゲル法
では、Ａｌ2Ｏ3微粒子を分散した含水酸化物ゾルを脱水
処理してゲルとし、このゲルを加熱して得られた無機酸
化物を基板１１の表面に塗布し、或はＡｌアルコキシド
溶液を直接塗布して、乾燥した後、焼成することにより
Ａｌ2Ｏ3層２５が形成される。
間にＡｌ2Ｏ3層２５が形成される。このＡｌ2Ｏ3層２５
は陽極酸化法、熱酸化法、ゾルゲル法等により形成され
る。陽極酸化法では、基板１１を硫酸、シュウ酸又はホ
ウ酸等の水溶液に浸漬してアノ−ド分極することによ
り、基板１１の表面に不導体酸化皮膜であるＡｌ2Ｏ3層
２５が形成される。また熱酸化法では、基板１１を酸化
雰囲気中で加熱することにより、基板１１の表面に酸化
膜であるＡｌ2Ｏ3層２５が形成される。更にゾルゲル法
では、Ａｌ2Ｏ3微粒子を分散した含水酸化物ゾルを脱水
処理してゲルとし、このゲルを加熱して得られた無機酸
化物を基板１１の表面に塗布し、或はＡｌアルコキシド
溶液を直接塗布して、乾燥した後、焼成することにより
Ａｌ2Ｏ3層２５が形成される。
【００１０】誘電体からなる積層体１５を構成する高屈
折率層１３および低屈折率層１４は、スパッタリング
法、蒸着法などによりガラス層１２上に形成される。高
屈折率層１３としてはＺｎＳ（硫化亜鉛）、ＴｉＯ
2（二酸化チタン）、ＣｅＯ2（二酸化セリウム）等が例
示される。ＺｎＳ及びＴｉＯ2は可視スペクトルの範囲
内において光線の吸収がなく、相当に堅く相当に耐久性
のある膜を形成し、ＣｅＯ2は更に化学的に安定な膜を
形成する。また、低屈折率層１４としてはＭｇＦ２（弗
化マグネシウム）、ＴｈＦ2（弗化トリウム）等が例示
される。ＭｇＦ2、ＴｈＦ2も同様に、可視スペクトルの
範囲内において光線の吸収がなく、極めて堅く耐久性の
ある膜を形成する。
折率層１３および低屈折率層１４は、スパッタリング
法、蒸着法などによりガラス層１２上に形成される。高
屈折率層１３としてはＺｎＳ（硫化亜鉛）、ＴｉＯ
2（二酸化チタン）、ＣｅＯ2（二酸化セリウム）等が例
示される。ＺｎＳ及びＴｉＯ2は可視スペクトルの範囲
内において光線の吸収がなく、相当に堅く相当に耐久性
のある膜を形成し、ＣｅＯ2は更に化学的に安定な膜を
形成する。また、低屈折率層１４としてはＭｇＦ２（弗
化マグネシウム）、ＴｈＦ2（弗化トリウム）等が例示
される。ＭｇＦ2、ＴｈＦ2も同様に、可視スペクトルの
範囲内において光線の吸収がなく、極めて堅く耐久性の
ある膜を形成する。
【００１１】光線の反射は主として屈折率の境界面で起
こるため、互いに異なった境界面で起こる反射には吸収
による反射ロスはほとんどなく非常に良好な反射面とな
り得る。従って通常では光の吸収がなく、化学的に安定
でかつ屈折率の低い低屈折率層１４の上に、光の吸収が
比較的少なく、化学的に安定な高屈折率層１３を形成す
ることによりその境界面での反射特性を良好にすること
が出来る、この様な層１３、１４を複数設けることによ
り反射効率を向上させることが出来る。ただしこれらの
層１３、１４の膜厚は使用される用途を考慮して選定す
る必要がある。即ち、各層１３、１４の境界面からの反
射光はお互いに重なり合って反射されて行くため、光の
位相が重なり合ったところでは光はお互いに強め合い、
逆に位相が反転したところでは光は打ち消し合うことに
なる。従って、反射させる光線の波長及び入射角により
膜厚を調整し、複数回積層する事により順次境界面を増
加させるごとに反射率を増加させることが出来る。この
積層体１５は高屈折率層１３及び低屈折率層１４を少な
くとも２層形成することが好ましい。２層以下であると
十分な反射率を得ることが困難となる。
こるため、互いに異なった境界面で起こる反射には吸収
による反射ロスはほとんどなく非常に良好な反射面とな
り得る。従って通常では光の吸収がなく、化学的に安定
でかつ屈折率の低い低屈折率層１４の上に、光の吸収が
比較的少なく、化学的に安定な高屈折率層１３を形成す
ることによりその境界面での反射特性を良好にすること
が出来る、この様な層１３、１４を複数設けることによ
り反射効率を向上させることが出来る。ただしこれらの
層１３、１４の膜厚は使用される用途を考慮して選定す
る必要がある。即ち、各層１３、１４の境界面からの反
射光はお互いに重なり合って反射されて行くため、光の
位相が重なり合ったところでは光はお互いに強め合い、
逆に位相が反転したところでは光は打ち消し合うことに
なる。従って、反射させる光線の波長及び入射角により
膜厚を調整し、複数回積層する事により順次境界面を増
加させるごとに反射率を増加させることが出来る。この
積層体１５は高屈折率層１３及び低屈折率層１４を少な
くとも２層形成することが好ましい。２層以下であると
十分な反射率を得ることが困難となる。
【００１２】図２は、本発明の第２の実施の形態を示
す。図２において図１と同一符号は同一部品を示す。こ
の実施の形態では、反射鏡２０の基体３１がバルク状に
形成されることを除いて上記第１の実施の形態の反射鏡
と同一に構成される。図２において、図２は図１と同一
符号は同一部品を示す。
す。図２において図１と同一符号は同一部品を示す。こ
の実施の形態では、反射鏡２０の基体３１がバルク状に
形成されることを除いて上記第１の実施の形態の反射鏡
と同一に構成される。図２において、図２は図１と同一
符号は同一部品を示す。
【００１３】
【実施例】次に本発明の実施例を説明する。 ［実施例１］図１に示すように、誘電体薄膜付き反射鏡
１０の基板１１は厚さが１０ｍｍのＡｌ合金（６０６３
材、Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系）であって、この基板１１の凹
面は２次曲面に形成された。更に、この基板１１の表面
には、陽極酸化法、即ち、基板１１を濃度１５％の硫酸
の水溶液に浸漬してアノ−ド分極することにより、厚さ
１０μｍの不導体酸化皮膜であるＡｌ2Ｏ3層２５を形成
した。このＡｌ2Ｏ3層が形成された基板１１の凹面上の
ガラス層１２は、凹面全体に平均粒径が５．０μｍのＰ
ｂＯ−Ｂ2Ｏ3系を含むスラリ−をスプレ−コ−ティング
法により、上記Ａｌ2Ｏ3層が形成されたＡｌ合金基板表
面に塗布し、３００℃で３０分間乾燥した後、６００℃
で５分間焼成することにより、約２０μｍの厚さで形成
された。この基板１１のガラス層上に厚さ５０ｎｍの高
屈折率層であるＺｎＳ薄膜と、厚さ９０ｎｍの低屈折率
層となるＭｇＦ2薄膜とを蒸着法により５回交互に積層
して積層体を形成した。
１０の基板１１は厚さが１０ｍｍのＡｌ合金（６０６３
材、Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系）であって、この基板１１の凹
面は２次曲面に形成された。更に、この基板１１の表面
には、陽極酸化法、即ち、基板１１を濃度１５％の硫酸
の水溶液に浸漬してアノ−ド分極することにより、厚さ
１０μｍの不導体酸化皮膜であるＡｌ2Ｏ3層２５を形成
した。このＡｌ2Ｏ3層が形成された基板１１の凹面上の
ガラス層１２は、凹面全体に平均粒径が５．０μｍのＰ
ｂＯ−Ｂ2Ｏ3系を含むスラリ−をスプレ−コ−ティング
法により、上記Ａｌ2Ｏ3層が形成されたＡｌ合金基板表
面に塗布し、３００℃で３０分間乾燥した後、６００℃
で５分間焼成することにより、約２０μｍの厚さで形成
された。この基板１１のガラス層上に厚さ５０ｎｍの高
屈折率層であるＺｎＳ薄膜と、厚さ９０ｎｍの低屈折率
層となるＭｇＦ2薄膜とを蒸着法により５回交互に積層
して積層体を形成した。
【００１４】（比較例１および２）比較用試料として、
実施例１と同一材料で同一形状の基板を用い、表面を粗
研摩した基板を用いて、実施例１と同様に積層体を形成
したものを比較例１とし、表面を鏡面研摩した基板を用
いて実施例１と同様に積層体を形成したものを比較例２
とした。
実施例１と同一材料で同一形状の基板を用い、表面を粗
研摩した基板を用いて、実施例１と同様に積層体を形成
したものを比較例１とし、表面を鏡面研摩した基板を用
いて実施例１と同様に積層体を形成したものを比較例２
とした。
【００１５】実施例１、比較例１及び比較例２の反射鏡
について、それぞれ光線の反射率を比較試験した。反射
率は、基板上の誘電体薄膜に対して、波長５００ｎｍの
光線を照射したときの光線の全反射率を分光光度計を用
いて測定することにより求めた。この結果光線の反射率
は実施例１及び比較例２においてそれぞれ９８．９％、
及び９９．０％の値が得られ、高い反射特性を示した。
一方比較例１における反射率は６５．０％であり、反射
特性は低かった。このことから実施例１の反射鏡は、高
い反射特性を示し、かつ基材（表面）の鏡面（研摩）加
工が不用なことから反射鏡を安価に製造できることが確
認出来た。
について、それぞれ光線の反射率を比較試験した。反射
率は、基板上の誘電体薄膜に対して、波長５００ｎｍの
光線を照射したときの光線の全反射率を分光光度計を用
いて測定することにより求めた。この結果光線の反射率
は実施例１及び比較例２においてそれぞれ９８．９％、
及び９９．０％の値が得られ、高い反射特性を示した。
一方比較例１における反射率は６５．０％であり、反射
特性は低かった。このことから実施例１の反射鏡は、高
い反射特性を示し、かつ基材（表面）の鏡面（研摩）加
工が不用なことから反射鏡を安価に製造できることが確
認出来た。
【００１６】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、本
発明の誘電体薄膜付き反射鏡では、基体の表面が粗くて
も、ガラス層がこれを平滑化するので、ガラス層上に形
成された誘電体薄膜の表面を歪みの無い鏡面とすること
が出来、高い反射特性を有する。
発明の誘電体薄膜付き反射鏡では、基体の表面が粗くて
も、ガラス層がこれを平滑化するので、ガラス層上に形
成された誘電体薄膜の表面を歪みの無い鏡面とすること
が出来、高い反射特性を有する。
【００１７】また基体がＡｌ又はＡｌ合金により形成さ
れるので、高い熱伝導性及び耐食性を有する反射鏡が得
られ、また軽量で複雑な形状の反射鏡を比較的容易に製
造できるので、生産性を向上できる。更に基体とガラス
層との間にＡｌ2Ｏ3層を形成することにより、Ａｌ2Ｏ3
層により基体とガラス層との密着性を高めることができ
る。
れるので、高い熱伝導性及び耐食性を有する反射鏡が得
られ、また軽量で複雑な形状の反射鏡を比較的容易に製
造できるので、生産性を向上できる。更に基体とガラス
層との間にＡｌ2Ｏ3層を形成することにより、Ａｌ2Ｏ3
層により基体とガラス層との密着性を高めることができ
る。
【図１】 本発明の実施形態の誘電体薄膜付き反射鏡の
断面図。
断面図。
【図２】 本発明の第２実施形態の誘電体薄膜付き反射
鏡の断面図。
鏡の断面図。
１０、２０ 誘電体薄膜付き反射鏡 １１ 基体 １２ ガラス層 １５ 誘電体薄膜 ２５ Ａｌ2Ｏ3層 １１，３１ 基体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０２Ｂ 7/188 Ｇ０２Ｂ 7/18 ７０２
Claims (3)
- 【請求項１】 ＡｌまたはＡｌ合金により形成された基
体と、該基体上に形成されたＡｌ2Ｏ3層と、該Ａｌ2Ｏ3
層上に形成されたガラス層と、該ガラス層上に形成され
た高屈折率層と低屈折率層とが交互に複数回積層された
積層体とを備えたことを特徴とする誘電体薄膜付き反射
鏡。 - 【請求項２】 上記ガラス層が０．１μｍ〜２００μｍ
の厚さに形成され、上記高屈折率層が３０〜１５０ｎ
ｍ、上記低屈折率層が６０〜３００ｎｍの厚さに形成さ
れたことを特徴とする請求項１記載の誘電体薄膜付き反
射鏡。 - 【請求項３】 上記Ａｌ2Ｏ3層が０．１〜５０μｍの厚
さに形成されたことを特徴とする請求項１または請求項
２記載の誘電体薄膜付き反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9158165A JPH116906A (ja) | 1997-06-16 | 1997-06-16 | 誘電体薄膜付き反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9158165A JPH116906A (ja) | 1997-06-16 | 1997-06-16 | 誘電体薄膜付き反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH116906A true JPH116906A (ja) | 1999-01-12 |
Family
ID=15665698
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9158165A Withdrawn JPH116906A (ja) | 1997-06-16 | 1997-06-16 | 誘電体薄膜付き反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH116906A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006156341A (ja) * | 2004-11-01 | 2006-06-15 | Ushio Inc | 光源装置及び光源装置の製造方法 |
| JP2013529318A (ja) * | 2010-05-27 | 2013-07-18 | カール ツァイス レーザー オプティクス ゲーエムベーハー | 誘電体コーティングされたミラー |
| CN106735895A (zh) * | 2016-12-15 | 2017-05-31 | 苏州大学 | 一种铝合金‑玻璃复合材料的激光焊接方法 |
-
1997
- 1997-06-16 JP JP9158165A patent/JPH116906A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006156341A (ja) * | 2004-11-01 | 2006-06-15 | Ushio Inc | 光源装置及び光源装置の製造方法 |
| JP4517986B2 (ja) * | 2004-11-01 | 2010-08-04 | ウシオ電機株式会社 | 光源装置及び光源装置の製造方法 |
| JP2013529318A (ja) * | 2010-05-27 | 2013-07-18 | カール ツァイス レーザー オプティクス ゲーエムベーハー | 誘電体コーティングされたミラー |
| CN106735895A (zh) * | 2016-12-15 | 2017-05-31 | 苏州大学 | 一种铝合金‑玻璃复合材料的激光焊接方法 |
| CN106735895B (zh) * | 2016-12-15 | 2018-09-11 | 苏州大学 | 一种铝合金-玻璃复合材料的激光焊接方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040907 |