JPH1090505A - リフレクタ及びその製造方法 - Google Patents

リフレクタ及びその製造方法

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JPH1090505A
JPH1090505A JP9217919A JP21791997A JPH1090505A JP H1090505 A JPH1090505 A JP H1090505A JP 9217919 A JP9217919 A JP 9217919A JP 21791997 A JP21791997 A JP 21791997A JP H1090505 A JPH1090505 A JP H1090505A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 反射率の高い層を備えたリフレクタ及びその
製造方法を提供する。 【解決手段】 箔、ストリップ又はシートの如き圧延さ
れたアルミニウム製品であるリフレクタ・ボディ（10）
は、層構造の形態の表面層を備えている。この表面層
は、前処理層（11）と、該前処理層の上に設けられる機
能層であって、金属化合物から成る有機機能性シランを
有している機能層（12）と、該機能層の上に設けられる
金属を含む反射層（13）とを備えている。層（11）は、
上記リフレクタ・ボディの上に設けられていて、その上
の層に対する結合強度を高めており、上記層（12）は、
平坦化を行うと共に、その上の層（13）の機械的な強度
を高めている。前処理層は、陽極酸化処理によって形成
される層とすることができる。機能層（12）は、ゾル／
ゲル層とすることができる。反射層（13）は、金属の反
射層とすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、リフレクタ・ボデ
ィを備え、該リフレクタ・ボディの上に、機械的及び化
学的なアタックに対する耐性を有すると共に大きな全反
射率を示す表面を有しているリフレクタに関する。本発
明は、また、耐性のある表面層を有する上述のリフレク
タの製造方法及び使用方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、高純度アルミニウム、又は、９
９.８％及びそれ以上の純度（例えば、９９.９％）を有
するアルミニウムをベースにしたＡlＭg 合金から成る
光沢仕上げされたストリップ（光沢仕上げストリッ
プ）、並びに、用途に応じて拡散光線又は指向性の反射
光線を発生するロール面を製造することは周知である。
そのようなストリップの指向性反射率（明るさの度合
い）を増大させるために、上記ストリップを化学的又は
電解的に光沢仕上げし、次に、陽極酸化によって、例え
ば１.５μｍ厚さの保護層を形成することが知られてい
る。
【０００３】陽極酸化プロセスは、化学的な処理であっ
て、環境汚染を防止するためにかなりの予防措置を必要
とするという欠点を有している。そのような予防措置の
程度は、酸化物層の厚さが増大するに連れて、増大す
る。
【０００４】上記周知のプロセスは、更に、極めて高純
度のアルミニウムをベースにした高価で高純度の光沢仕
上げされた合金（光沢仕上げ合金）を使用しなければな
らないという欠点も有している。陽極酸化プロセスの結
果、特に酸化物層における光線の吸収及び散漫散乱に起
因して、表面の反射率が、全反射率及び指向性反射率と
共に、減少する。これは、エネルギの損失を意味する。
【０００５】ＥＰ-Ａ-０４９５７５５から周知の物体
は、アルミニウムの表面を有しており、そのような物体
は、ガス相から上記表面に層構造が析出するのに適して
いる。表面の陽極酸化処理が排除され、上述の層構造
は、例えば、セラミック層の如き結合層と、例えばアル
ミニウムのような金属層の如き光線反射層と、金属化合
物から成る１又はそれ以上の透過性の保護層とを備えて
いる。そのような層構造は、高度の反射率を示し、陽極
酸化処理の欠点が排除されている。しかしながら、その
ような層構造は、上記表面が機械的なアタックの如き物
理的なアタック又は化学的なアタック（例えば、腐食性
媒体による）に対して極めて敏感であるという欠点を有
している。
【０００６】ＥＰ-Ａ-０５６８９４３は、アルミニウム
又はアルミニウム合金をベースにした反射層の析出、及
び、ゾル−ゲルプロセスによって上記アルミニウムの上
に設けられているゲル膜を記載している。これも、陽極
酸化処理を用いることを必要とせずに、反射性のアルミ
ニウム材料に到達する１つの可能性のある方法である。
しかしながら、ＥＰ-Ａ-０５６８９４３に記載されてい
る層構造は、機械的な影響及び腐食に対して所望の程度
までの耐性を有していない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上述
の欠点を克服し、その表面にあるいはその一部に反射率
向上層を有するリフレクタを提供することである。アル
ミニウム基板、及び、特に反射率向上層は、機械的な損
傷の如き物理的な影響、及び、化学的なアタック（例え
ば、腐食）に対して極めて高い耐性を有する必要があ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上述の目的は、リフレク
タ・ボディが以下の層構造から成る表面層を備えるとい
う特徴を有する本発明によって達成される。すなわち、
上記層構造は、（ａ） 前処理層と、（ｂ） 該前処理
層の上に設けられ、金属化合物から成る有機機能性のシ
ランを有する機能層と、（ｃ） 該機能層の上に設けら
れる金属反射層とを備えており、上記層（ａ）は、リフ
レクタ・ボディの上に設けられて、その上に位置する層
に対する結合強度を高めており、上記層（ｂ）は、平坦
化作用を行い、上述の層（ｃ）の機械的な強度を高めて
いる。
【０００９】アルミニウム又はアルミニウム合金の如き
金属から成る少なくとも１つの自由表面を有する総ての
三次元的な形状が、リフレクタのボディとして採用する
ことができる。上記自由表面は、例えば、９８.３％及
びそれ以上の純度を有するアルミニウムであり、場合に
よっては、９９.０％及びそれ以上の純度、好ましく
は、９９.９％及びそれ以上の純度、特に好ましくは、
９９.９５％及びそれ以上の純度のアルミニウムを用い
ることができる。上述の純度のアルミニウムとは別に、
上記表面は、合金とすることもできる。好ましい合金
は、ＡＡ１０００、ＡＡ３０００及びＡＡ５０００のタ
イプの合金である。更に好ましい合金は、例えば、０.
２５乃至５重量％（特に０.５乃至４重量％）のマグネ
シウムを含み、又は、０.２乃至２重量％のマンガンを
含み、あるいは、０.５乃至５重量％のマグネシウム及
び０.２乃至２重量％のマンガン（特に、例えば、１重
量％のマグネシウム及び０.５重量％のマンガン）を含
み、若しくは、０.１乃至１２重量％（好ましくは、０.
１乃至５重量％）の銅を含み、あるいは、０.５乃至６
重量％の亜鉛、０.５乃至５重量％のマグネシウム、及
び、０.５乃至５重量％の銅を含み、又は、０.５乃至２
重量％の鉄及び０.２乃至２重量％のマンガン（特に、
例えば、１.５重量％の鉄及び０.４重量％のマンガ
ン）、あるいは、ＡlＭgＳi 合金又はＡlＦeＳi 合金を
含む。
【００１０】特に好ましい表面は、例えば、９９.５％
及びそれ以上の純度、又は、９９.８％及びそれ以上の
純度を有するアルミニウムから成る表面、０.５重量％
のマグネシウム又は１重量％のマグネシウムを含むアル
ミニウム合金から成る表面、あるいは、９９％の純度の
アルミニウム、５乃至１０重量％（特に、７重量％）の
マグネシウム及び６乃至１２重量％（特に、８重量％）
の銅を含むアルミニウム合金から成る表面である。特に
好ましいのは、圧延加工可能な総てのアルミニウム合金
である。
【００１１】リフレクタ・ボディの例は、鋳造部品及び
鍛造部品であって、特に、箔、ストリップ（帯材）、プ
レート（板材）、シート（薄板）の如き、曲げ加工、深
絞り、冷間成形等によって必要に応じて成形することの
できる圧延製品である。更に、成形された形材、ビーム
（梁）又は他の形状を用いることもできる。用途に応じ
て、リフレクタ全体を上述のアルミニウム又はアルミニ
ウム合金とすることができ、あるいは、その一部だけ、
又は、その表面領域だけをそのような材料から形成する
ことができる。
【００１２】また、上述のアルミニウム又はアルミニウ
ム合金を複合材料の一部とし、これにより、そのような
アルミニウム又はアルミニウム合金が、複合箔又は箔積
層体、あるいは、プラスチック、アルミニウム被覆され
た鉄板又は鋼板の如き金属、又は、セラミックの如き適
宜な材料から成る他の基板の少なくとも１つの表面又は
表面の一部を構成するようにすることができる。
【００１３】アルミニウム表面は、例えば、圧延加工、
冷間成形、押し出し加工又は鋳造の如き化学的又は機械
的な成形操作によって表面を成形し、その後、硬質材料
等により研削、研磨、ショット・ピーニングの形態の後
処理を行うことによって、製造することができる。上記
表面は、例えば、個々の圧延作業において、あるいは、
複数の又は総ての圧延作業の間に、洗浄することがで
き、この洗浄は、特に、圧延微粒子を除去する。上記表
面の洗浄作業は、例えば、化学的及び／又は電気化学的
に、及び、酸又はアルカリを用いて、通常の手段によっ
て行うことができる。
【００１４】好ましいリフレクタ・ボディは、例えば、
０.２乃至０.８ｍｍ、実用的には０.３乃至０.７ｍｍ
（０.５ｍｍが効果的である）の厚さを有する、アルミ
ニウム板、あるいは、アルミニウム被覆された鉄板又は
鋼板である。一つの例は、０.５ｍｍ厚さのＡl ９９.５
（９９.５％純度）のＡ４アルミニウム板である。構造
化（粗面化）されたロール表面を用いる場合には、例え
ば、旋削、研削、手作業による彫刻、電子ビーム腐食、
レーザビーム腐食、電解腐食、あるいは、硬質材料によ
るブラスティング／ピーニングによって、ロールの表面
を構造化することができる。
【００１５】上記アルミニウム表面は、また、化学的又
は電気化学的なつや出しプロセス、あるいは、アルカリ
酸洗いプロセスを受けることができる。そのようなつや
出しプロセス又は酸洗いプロセスは、陽極酸化処理を行
う前に行われる。
【００１６】アルミニウム表面は、例えば、０.０１乃
至５μｍ、好ましくは、０.０１から０.５μｍの表面粗
さＲa を有することができる。また、効果的で好ましい
粗さＲa の度合いは、０.０１から０.４μｍであって、
特に、０.０３乃至０.０６μｍであるのが好ましく、
０.０４μｍであるのが極めて好ましい。表面粗さＲa
は、ＤＩＮ規格４７６１乃至４７６８の少なくとも一つ
によって決定される。
【００１７】本発明によれば、本発明のリフレクタは、
リフレクタ・ボディと反射層との間に、（ｃ）中間層を
有するという特徴を備えている。すなわち、上記中間層
は、（ａ）前処理層（例えば、陽極酸化されたアルミニ
ウムの層の形態の）と、（ｂ）金属化合物の有機機能性
シランを有する機能性コーティングの形態の層（例え
ば、ゾル／ゲル層の形態の）とを含んでいる。
【００１８】上記前処理層（ａ）は、例えば、クロメー
ト処理、リン酸処理、又は、陽極酸化処理によって製造
される層とすることができる。上記前処理層は、陽極酸
化されたアルミニウムから形成されるのが好ましく、特
に、リフレクタ・ボディの表面のアルミニウムから直接
的に形成される。前処理層（ａ）は、例えば、少なくと
も２０ｎｍ（ナノメートル）、実用的には少なくとも５
０ｎｍ、好ましくは少なくとも１００ｎｍ、特に好まし
くは、少なくとも１５０ｎｍの厚さを有することができ
る。前処理層（ａ）の最大厚さは、例えば、１５００ｎ
ｍ、好ましくは、２００ｎｍとすることができる。従っ
て、前処理層の厚さは、１００乃至２００ｎｍであるの
が好ましい。
【００１９】例えば、前処理層（ａ）は、陽極酸化処理
によって製造される酸化物層とすることができ、そのよ
うな酸化物層は、再溶解性の又は非再溶解性の電解液の
中で形成される。前処理層（ａ）は、また、イェローク
ロメート（yellow chromate）層、グリーンクロメート
（green chromate）層、リン酸層、あるいは、Ｔi、Ｚ
r、Ｆ、Ｍo 又はＭn の少なくとも１つの元素を含む電
解液の中で成長されたクロムを含まない前処理層とする
ことができる。
【００２０】アルミニウム層の如き好ましい陽極酸化物
層の製造は、通常、例えば、清浄なアルミニウム表面、
すなわち、陽極酸化処理すべきアルミニウム表面が、電
解酸化の前に、いわゆる表面前処理を受けることを必要
とする。
【００２１】アルミニウム表面は、通常、自然の酸化物
層を有しており、そのような自然の酸化物層は、それ以
前の履歴に起因して、異物粒子によって汚染されている
ことが多い。そのような異物粒子は、例えば、圧延潤滑
剤の残滓、輸送のための保護オイル、腐食生成物、又
は、圧入された異物粒子である。そのような異物粒子を
除去するために、アルミニウム表面は、通常、ある程度
の腐食性を有する洗浄剤によって、化学的に前処理され
る。酸性水溶液の外に、ポリリン酸及びホウ酸系のアル
カリ性脱脂剤が、上記目的に特に適している。例えば、
苛性ソーダ溶液、又は、硝酸及びフッ酸の混合物の如き
強いアルカリ性溶液又は酸性溶液による酸洗い又はエッ
チングは、穏やかな洗浄効果を発揮して、物質の所定の
除去を行う。そのようなプロセスにおいて、上記自然の
酸化物層、及び、その中に含まれている総ての不純物が
除去される。強力なアルカリ性酸洗い溶液を用いた場合
には、スマットが沈着することが多く、酸による後処理
によって除去しなければならない。有機溶媒、あるい
は、水性又はアルカリ性の洗剤は、表面層を何等除去す
ることなく、表面を脱脂する。
【００２２】別の洗浄方法は、プラズマ酸化、コロナ放
電、又は、Ａr、Ｈe、Ｎe、Ｎ2 等の如き不活性ガスプ
ラズマ中での洗浄によって、アルミニウム表面を脱脂す
ることである。
【００２３】表面の状態によっては、研磨剤を用いる機
械的な手段によって、表面の一部を取り除くことも必要
である。そのような表面の前処理は、例えば、研削、ブ
ラスティング／ピーニング、ブラシ研磨又は研磨によっ
て行うことができ、必要であれば、その後に、化学的な
前処理を行うことができる。
【００２４】陽極酸化に関する次の処理は、その後、リ
フレクタ・ボディ（陽極酸化処理すべきアルミニウム層
の少なくとも一部である）を導電性の流体（電解液）の
中に入れ、アノード（陽極）として電流源に接続するこ
とである。通常、陰極は、ステンレス鋼、グラファイ
ト、鉛又はアルミニウムである。
【００２５】非再溶解性の電解液の場合には、上記電極
は、陽極酸化プロセスの間に形成されたアルミニウム酸
化物を化学的に溶解しないような電極とすることができ
る。すなわち、アルミニウム酸化物の再溶解は生じな
い。直流の電界においては、気体水素が、カソード（陰
極）に発生し、また、気体酸素が、アノード（陽極）に
発生する。アルミニウム表面に発生した酸素は、そのア
ルミニウムと反応して、プロセスの間に厚さが増大する
酸化物層を形成する。バリア層の厚さが増大するに伴っ
て、上記層の抵抗は急激に増大し、これに応じて電流の
流れが低下して、層のそれ以上の成長は停止する。
【００２６】そのような層（ａ）の電解生成は、該層の
厚さを極めて厳密に調節することを可能にする。達成さ
れる酸化物バリア層の最大厚さは、印加電圧（Ｖ）の値
にほぼ応じて、ナノメートル（ｎｍ）の単位である。す
なわち、層の最大厚さは、陽極酸化電圧に直線的に比例
するので、外側層における電圧降下を考慮に入れなけれ
ばならない。外側層における電圧降下を考慮した印加電
圧Ｕの関数として達成される層の最大厚さの正確な値
は、簡単な試行によって決定することができ、１.２乃
至１.６ｎｍ/Ｖの範囲にある。層厚の正確な値は、印加
電圧、及び、使用する電解液（すなわち、その組成及び
その温度）の関数である。
【００２７】プロセスの間に変化する外側層における電
圧降下を考慮に入れるために、陽極酸化電圧は、プロセ
スの間に連続的に又は段階的に増大することができる。
最適な陽極酸化電圧、すなわち、プロセス全体を通じて
の一連の最適な電圧、及び、陽極酸化の継続時間は、簡
単な試行によって、あるいは、陽極酸化プロセスの間に
反射率を測定することによって、決定することができ
る。
【００２８】電解酸化は、予め決定した陽極酸化電圧を
与えることにより、あるいは、陽極酸化電圧を、所定値
まで、又は、最適な反射特性を測定することによって決
定される値まで、連続的に又は段階的に増大させること
により、単一の工程で実行することができる。しかしな
がら、電解酸化は、複数の工程で、すなわち、例えば、
異なる陽極酸化電圧を与える幾つかのプロセス工程で実
行することができる。
【００２９】例えば、非再溶解性の電解液を使用する場
合には、アルミニウム酸化物のバリア層は、殆ど無孔性
である。すなわち、例えば、電解液の中の不純物、ある
いは、アルミニウムの表面層の構造欠陥によって、何等
かの細孔が形成される。しかしながら、そのような細孔
は、電解液によるアルミニウム酸化物が再溶解する結
果、殆ど問題とならない。
【００３０】上述のように形成される層（ａ）は、正確
な所定の層厚を有し、無孔性であり、均質であり、更
に、電磁放射線、特に、可視光線及び／又は赤外線の範
囲における放射線に関して透過性を有するように、製造
することができる。
【００３１】通常は水で希釈される有機酸又は無機酸
を、上記目的のための非再溶解性の電解液として使用す
ることができる。そのような電解液は、２及びそれ以上
の、好ましくは、３及びそれ以上の、特に、４及びそれ
以上で７未満の、好ましくは、７及びそれ未満の、特に
好ましくは、５.５及びそれ未満のｐＨ値を有してい
る。冷たい電解液、すなわち、室温で機能する電解液が
好ましい。特に好ましい電解液は、低濃度の硫酸又はリ
ン酸、ホウ酸、アジピン酸、クエン酸又は酒石酸、ある
いは、これらの混合物、若しくは、アンモニウム塩又は
ナトリウム塩及びこれらの混合物から成る溶液である。
これらの溶液の中で特に効果的な溶液は、好ましくは、
全濃度が２０ｇ/ｌ又は未満（実用的には、２乃至１５
ｇ/ｌ）のアンモニウム塩又はナトリウム塩を電解液の
中に溶解した溶液である。従って、極めて好ましい溶液
は、クエン酸又は酒石酸のアンモニウム塩、あるいは、
リン酸のナトリウム塩から成る溶液である。
【００３２】極めて好ましい電解液は、１乃至５重量％
の酒石酸を含み、この電解液に、相当する量の水酸化ア
ンモニウム（ＮＨ4ＯＨ）を加えて、ｐＨ値を所望のレ
ベルに調節することができる。
【００３３】上記電解液は、一般的に、水溶液である。
【００３４】印加することのできる最大陽極酸化電圧
は、電解液の誘電率によって決定される。これは、例え
ば、電解液の組成及び温度に依存し、通常は、３００乃
至６００Ｖの範囲にある。
【００３５】電解液の最適温度は、使用する電解液に依
存するが、そのような最適温度の重要性は、一般的に、
層（ｃ）の品質に関しては、二次的である。１５乃至４
０°Ｃ（特に１８乃至３０°Ｃ）の電解液の温度が、陽
極酸化を行うのに好ましい。
【００３６】非再溶解性の電解液の中で密閉されない状
態で陽極酸化を行うことにより生成される陽極酸化物層
が好ましい。
【００３７】使用することのできる再溶解性の電解液
は、例えば、硫酸、リン酸、シュウ酸、クロム酸等の
酸、及び、これらの混合物の如き、通常は水で希釈され
た無機酸又は有機酸である。陽極酸化すべき表面に直流
又は交流として印加される陽極酸化電圧は、通常、約
０.１乃至１０Ａ/ｄｍ2の電流密度が表面に得られるよ
うに、選択される。再溶解性の電解液によって得られる
多孔性の構造は、その後、化学薬品を添加してあるいは
添加せずに、熱い水又は蒸気の中に密閉される。しかし
ながら、特にしっかりと結合した表面は、密閉されず、
その代わりに、水で洗浄して乾燥されただけの陽極酸化
物層によって得られる。
【００３８】再溶解性の電解液と共に使用するのに特に
適した陽極酸化プロセスは、密閉操作を行わない、いわ
ゆるｄｃ-Ｈ2ＳＯ4プロセスである。
【００３９】陽極酸化によって生成されるアルミニウム
酸化物層である層（ａ）は、少なくとも２０ｎｍの厚さ
とすることができ、この厚さは、実用的には、５０ｎｍ
及びそれ以上であり、好ましくは、１００ｎｍ及びそれ
以上であり、より好ましくは、１５０ｎｍ及びそれ以上
であるのが効果的である。陽極酸化処理によって生成さ
れるアルミニウム酸化物層（ａ）の厚さは、コスト及び
廃棄される電解液の量の理由から、例えば、最大でも、
１５００ｎｍであり、最大２００ｎｍであるのが好まし
い。陽極酸化処理によって生成されるアルミニウム酸化
物層の好ましい厚さは、従って、１００乃至２００ｎｍ
である。
【００４０】アルミニウム表面の酸化は、また、コロナ
前処理及び乾式酸化によって行うこともできる。
【００４１】金属化合物の有機機能性シランを有する機
能性コーティング（例えば、ゾル／ゲル層の形態）であ
る層（ｂ）が、層（ａ）の上に設けられる。
【００４２】例えば、層（ｂ）の厚さは、０.５乃至２
０μｍであり、実用的には、１乃至２０μｍであり、好
ましくは、２乃至１０μｍであって、極めて好ましく
は、２乃至５μｍである。
【００４３】金属化合物の有機機能性シランを有する機
能性コーティング（ｂ）は、例えば、必要に応じて、縮
合触媒及び／又は通常の添加剤の存在下で、以下の
（１）〜（４）の成分を加水分解により縮合することに
より得られたものとすることができる。
【００４４】（１） 以下の組成式（II）を有する少な
くとも１つの架橋性の有機機能性シラン： Ｒ'''mＳiＸ(4-m) （II） 上式において、同じもの又は異なるものとすることがで
きる基Ｘは、水素基、ハロゲン基、アルコキシ基、アル
キルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、あるい
は、-ＮＲ''２（Ｒ''＝Ｈ及び／又はアルキル）を表し
ている。同じもの又は異なるものとすることができるラ
ジカル又は遊離基Ｒ'''は、アルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アリール基、アリールアルキル基、
アルキルアリール基、アリールアルケニル基、アルケニ
ルアリール基、アリールアルキニル基、又は、アルキニ
ルアリール基を表しており、これらの遊離基は、Ｏ-又
はＳ-原子又は-ＮＲ''基によって中断することができ、
また、ハロゲン基、及び、置換型の可能性が高い、アミ
ノ基、アミド基、アルデヒド基、ケト基、アルキルカル
ボニル基、カルボキシ基、メルカプト基、シアノ基、ヒ
ドロキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、
スルフォン酸基、リン酸基、アクリロキシ基、メタクリ
ロキシ基、エポキシ基又はビニル基から成る群の１又は
それ以上の置換基を有することができる。ｍは、１、２
又は３の値、及び／又は、それから誘導される１つのオ
リゴマーを有している。上記遊離基Ｒ'''及び／又は置
換基は、（モノマー）出発成分の全モル数を基準にし
て、１０乃至９５モル％の量の架橋性の遊離基又は置換
基でなければならない。
【００４５】（２） 以下の一般式IIIを有する少なく
とも１つの金属化合物： ＭeＲy （III） 上式において、Ｍe は、Ａl、Ｚr、Ｔi から成る群から
選択される金属を表しており、ｙは、アルミニウムの場
合には、３であり、Ｔi 及びＺr の場合には、４であ
る。同じもの又は異なるものとすることができる遊離基
Ｒは、ハロゲン基、アルキル基、アルコキシ基、アシル
オキシ基、又は、ヒドロキシ基を表しており、これらの
基は、キレート配位子及び／又はこれから誘導される１
つのオリゴマーによって、及び／又は、必要であれば、
（モノマー）出発成分の全モル数を基準にして、５乃至
７５モル％の量の有機酸又は無機酸のアルミニウム錯塩
によって、その全部又は一部を置換することができる。
【００４６】（３） 必要に応じて使用される、以下の
組成式Ｉを有する少なくとも１つの非架橋性の有機機能
性シラン： Ｒ'mＳiＸ(4-m) （Ｉ） 上式において、同じもの又は異なるものとすることがで
きる基Ｘは、水素基、ハロゲン基、ヒドロキシ基、アル
コキシ基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニ
ル基、あるいは、-ＮＲ''２（Ｒ''＝Ｈ及び／又はアル
キル）を表している。同じもの又は異なるものとするこ
とができるラジカル又は遊離基Ｒ'は、アルキル基、ア
リール基、アリールアルキ基、又は、アルキルアリール
基を表しており、これらの遊離基は、Ｏ-又はＳ-原子又
は-ＮＲ''基によって中断することができ、また、ハロ
ゲン基、及び、置換型の可能性が高い、アミド基、アル
デヒド基、ケト基、アルキルカルボニル基、カルボキシ
基、シアノ基、アルコキシ基、及び、アルコキシカルボ
ニル基から成る群の１又はそれ以上の置換基を有するこ
とができる。ｍは、１、２又は３の値、及び／又は、そ
れから誘導される１つのオリゴマーを有しており、（モ
ノマー）出発成分の全モル数を基準にして、０乃至６０
モル％の量である。
【００４７】（４） 必要に応じて使用される、周期律
表の主族１ａからＶａまでの元素、又は、副族IIｂ、II
Iｂ、Ｖｂ乃至ＶIIIｂの元素の１又はそれ以上の不揮発
性酸化物：これら酸化物は、Ａl を除いて、反応媒体の
中で可溶性であり、上記元素の中の１つの元素の１又は
それ以上の化合物は、反応条件において不揮発性酸化物
を形成し、この酸化物は、（モノマー）出発成分の全モ
ル数を基準にして、０乃至７０モル％の量で、反応媒体
の中で可溶性である。
【００４８】本発明の方法は、以下の（ｂ）及び（ｃ）
の工程により実施される。 （ｂ） 有機プレポリマーを上記加水分解縮合物に加え
て、遊離基Ｒ'''の反応性の架橋基、及び／又は、遊離
基Ｒ'''の架橋性の置換基が、上記プレポリマーと同じ
名前を有するようにし、上記プレポリマーは、（モノマ
ー）出発成分の全モル数を基準にして、２乃至７０モル
％の量で加えられる。 （ｃ） 上述のようにして得たコーティング溶液を基板
の上に設けて、その後硬化させる。
【００４９】機能層（ｂ）の詳細及びその調製方法は、
ＥＰ-Ａ-０６１０８３１及びＥＰ-Ａ-０３５８０１１か
ら得ることができる。
【００５０】上記機能層は、ゾル−ゲルプロセスによっ
て、リフレクタ・ボディ上の前処理層の上に効果的に設
けられる。機能層は、浸漬法、ブラシ研磨、圧延、遠心
手段、スプレー法、いわゆるコイルコーティング法等に
よって、基板に付与することができる。一般的に、機能
性コーティングには、シランが用いられる。シランが、
ケイ素ではなく、チタン、ジルコニウム、又は、アルミ
ニウムを含む化合物によって部分的に置換されている場
合には、機能性コーティングの硬度、密度、及び、屈折
率を変えることができる。機能層の硬度も、例えば、硬
度及び熱安定性を調節するための無機の網目構造を形成
することにより、あるいは、弾性を調節するための有機
の網目構造を用いることにより、種々のシランを用いて
調節することができる。無機ポリマーと有機ポリマーと
の間であると考えることのできる機能性コーティング
が、例えば、主として、ケイ素、アルミニウム、チタン
及びジルコニウムから成るアルコキシドの加水分解及び
縮合によるゾル−ゲルプロセスによって、アルミニウム
基板の上に設けられる。そのようなプロセスの結果とし
て、無機の網目構造が形成され、対応して派生する石英
質エステルによって、追加の有機基をその中に一体化す
ることができ、所定の無機ポリマー系を機能化し且つ生
成するために使用することができる。また、ゾル／ゲル
層は、アミン／有機改質セラミックの電気泳動析出の原
理に基づく電気浸漬コーティングによって、設けること
ができる。
【００５１】リフレクタ・ボディの陽極酸化表面を機能
層でコーティングした後に、そのコーティングを硬化さ
せることができる。この硬化処理は、例えば、紫外線、
電子ビーム放射線、又は、レーザビーム放射線の如き放
射線によって、及び／又は、高温を用いて、行うことが
できる。上記温度は、対流、あるいは、赤外線及び／又
は紫外線のイオンの如き熱放射線によって、若しくは、
対流及び紫外線及び／又は赤外線の如き放射線の組み合
わせにより、あるいは、熱風の如き熱ガスによって、上
昇させることができる。機能性コーティング（例えば、
金属層、又は、アルミニウム層）の下に存在する層で測
定した温度は、例えば、１１０℃よりも高く、実用的に
は、１５０℃よりも高く、１５０℃と２２０℃との間で
あるのが好ましい。そのような上昇した温度は、例え
ば、１０秒間乃至１２０分間にわたって、リフレクタ・
ボディに作用することができる。上記対流加熱は、実用
的には、空気、窒素、希ガス、又は、これらの混合物の
如き加熱ガスをリフレクタ・ボディに衝突させることに
よって、行うことができる。
【００５２】上記層（ｂ）、すなわち、機能層は、表面
の平坦化又は平滑化を行う。例えば、０.０１μｍ、好
ましくは、０.０２μｍよりも小さい粗さすなわち粗度
Ｒa が得られる。表面粗さＲa は、ＤＩＮ規格４７６１
乃至４７６８の少なくとも１つによって決定される。機
能層（ｂ）は、単層、あるいは、例えば、２、３又はそ
れ以上の層をから成る多層とすることができる。これら
の層は総て、同じ物質又は異なる物質から形成すること
ができ、いずれの場合においても、機能層（ｂ）に関し
て上述した物質から選択される。上記多層コーティング
（すなわち、２、３又はそれ以上の層から成るコーティ
ング）は、例えば、第１の層を設け、この第１の層を予
備硬化させ、第２の層を設け、この第２の層を硬化させ
ることによって、堆積させることができる。単に予備硬
化されただけの第１の層は、第２の層の硬化処理と共
に、完全に硬化させることができる。第３の層を設ける
場合には、上記第１及び第２の層を硬化又は予備硬化さ
せることができ、そのような硬化処理は、第３の層に関
してだけ行うか、あるいは、必要に応じて、この第３の
層と共にその下に存在する層を硬化させることができ
る。同じことが、第４の層又はそれ以上の層についても
言える。予備硬化処理は、単数又は複数の層を乾燥さ
せ、熱又は放射線の影響下で、あるいは、放射線又は熱
処理によって、予備乾燥するような方法を含む。２層又
は３層から成るコーティングの実用的な厚さは、１乃至
２０μｍの上述の範囲にあり、これにより、個々に設け
られた各々の層は、２乃至５μｍの厚さを有することが
できる。
【００５３】上記反射層（ｃ）は、単一の反射層であっ
て、特に、多層系においては、そのような多層系は、例
えば、アルミニウム、銀、銅、金、クロム、ニッケル、
あるいは、例えば、主として上述の金属を少なくとも１
つ含む合金の如き反射層を有する特徴を備えている。反
射層の厚さは、例えば、１０乃至２００ｎｍ（ナノメー
トル）とすることができ、１又はそれ以上の透過性の保
護層を、上記金属層の上に設けることができ、そのよう
な保護層は、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属
の酸化物、窒化物、フッ化物等、又は、半導体、及び／
又は遷移金属及び／又はランタニドから形成するかその
ような物質を含むものとすることができる。また、異な
る屈折率を有する上述の金属を用いて、２又はそれ以上
の透過性の保護層を設け、これにより、透過性の保護層
の界面における部分的な光線反射の結果として、反射率
を高めることができる。上述の個々の保護層の厚さは、
一般的に、１ｎｍであり、好ましくは、４０乃至２００
ｎｍであって、特に、反射すべき放射線の波長の分数で
ある、例えばλ/２又はλ/４の値を有することができ
る。反射層、及び、少なくとも１つの透過性の保護層を
有する多層系であるのが好ましい。好ましい多層系は、
金属保護層を備えており、この保護層の上には、低屈折
率の透過性のλ/４保護層を有しており、また、この保
護層の上には、高屈折率の透過性のλ/４保護層を有し
ている。その例は、金属反射層としてのアルミニウム、
低屈折率のλ/４層としてのＳiＯ2 又はＭgＦ2、及び、
高屈折率のλ/４層としてのＴi，Ｐt 酸化物である。よ
り均一な屈折率は、低屈折率及び高屈折率が交互に設け
られた複数のλ/４層を用いて、得ることができる。
【００５４】反射層（ｃ）従って反射層、あるいは、反
射層及び多層系から成る別の層は、例えば、真空中にお
けるガス又は蒸気成長（物理蒸着：ＰＶＤ）、熱蒸発、
イオンサポートを用いるか用いない電子ビーム蒸発、ス
パッタリング、特に、マグネトロンスパッタリング、あ
るいは、プラズマサポートを用いるか用いない化学的な
気相成長（化学蒸着：ＣＶＤ）によって、リフレクタ・
ボディの上に設けることができる。
【００５５】リフレクタ・ボディの上の反射層（ｃ）
は、層（ｂ）を介して、波及び／又は粒子の形態のエネ
ルギを反射する役割を特に果たし、実用的には、光学範
囲の波長、好ましくは、可視光線の波長、特に、４００
乃至７５０ｎｍの波長を有する、放射線を反射する。
【００５６】リフレクタ・ボディの上の反射層（ｃ）
は、特に、ＤＩＮ５０３６によって測定した実用上は９
０％及びそれ以上の、特に、９４乃至９６％の全反射率
を達成するコーティング表面を有するリフレクタを生じ
させる。上記反射層又は多層系は、例えば、一連のプロ
セス工程で表面に設けることができる。そのような一連
のプロセス工程は、必要に応じて、被覆すべき表面を脱
脂する工程と、被覆すべき表面を担持する品物を真空装
置の中で包囲する工程と、例えば、スパッタリング、グ
ロー放電等によって洗浄する工程と、必要に応じて、予
備段階で結合層を設ける工程とを備える。第１の段階に
おいては、少なくとも１つの光線反射層（特に、金属
層）を設け、第２の段階、及び、必要に応じて第３、第
４等の段階においては、透過性の層を析出させ、あるい
は、必要に応じて、２、３又はそれ以上の透過層を設
け、次に、被覆された品物を真空室から取り出す。
【００５７】本発明のリフレクタにおいては、機能層
（ｂ）と反射層（ｃ）との間に、追加の（例えば、酸化
物又は窒化物を含む）結合層を設けることができる。こ
の結合層は、例えば、セラミック層とすることができ
る。そのような層は、例えば、組成式ＳiＯx、又は、Ａ
lyＯzを有する化合物から形成するか又はそのような化
合物を含むことができ、上式において、ｘは、１から２
であり、また、ｙ/ｚは、０.２から１.５までの数であ
る。好ましい結合層は、ＳiＯx から構成されるか、あ
るいは、それを含んでおり、ｘは、上に説明した意味で
ある。酸化物を含む結合層は、一般的に、２００ｎｍの
厚さを有しており、好ましくは、１乃至１００ｎｍの厚
さを有している。酸化物を含む結合層は、例えば、真空
中におけるガス成長又は蒸気成長（物理蒸着）によっ
て、熱蒸発によって、イオンサポートを用いる又は用い
ない電子ビーム蒸発によって、スパッタリング（特に、
マグネトロンスパッタリング）によって、あるいは、プ
ラズマサポートを用いる又は用いない化学的な気相成長
（化学蒸着）によって、本発明の表面又は予め形成され
た層の上に設けることができる。
【００５８】上述の反射層又は多層系を有する表面を備
える本発明のリフレクタは、例えば、電磁放射線、特
に、可視光線範囲の電磁放射線に関して、優れた反射性
を示す。上記光学範囲は、例えば、赤外線範囲、可視光
線範囲、紫外線範囲等を含む。好ましい応用範囲は、電
磁放射線の範囲であり、従って、可視光線範囲である。
【００５９】放射線の反射性は、用途に応じて、指向
性、散乱又はその組み合わせとすることができる。この
理由から、本発明のリフレクタは、放射線源又は光学機
器のためのリフレクタの如きリフレクタとして適してい
る。そのような放射線源は、例えば、作業場の光線、一
次光線、二次光線、横方向のリフレクタを有するストリ
ップ照明、照明要素、照明カバー、偏光フィン、又は、
熱ラジエータである。本リフレクタは、また、光学機
器、照明要素又は熱ラジエータの鏡又は内部鏡とするこ
とができる。
【００６０】例えば、箔、ストリップ又はシートの如き
圧延製品の場合、あるいは、アルミニウム層を有するフ
ィンの場合には、個々のコーティング（総てのコーティ
ングであるのが効果的である）は、一般的に、ストリッ
プコーティング法又はコイルコーティング法において、
連続的なプロセスで堆積又は析出される。アルミニウム
を陽極酸化するために使用されるプロセスは、例えば、
層（ａ）を形成するために使用することができ、また、
ゾル／ゲル層の如き機能層である層（ｂ）を連続的なプ
ロセスで堆積させ、これにより、浸漬法、スプレー法又
はコイルコーティング法によって、処理すべき表面にゾ
ルを設け、その後、放射すなわち輻射及び／又は熱処理
によって、連続的なオーブンの中で乾燥すなわち硬化さ
せる。最後に、層（ｃ）、すなわち、多層系は、蒸発
法、スパッタリング法等（いずれも、特に真空中で）に
よって堆積させることができる。
【００６１】本発明のリフレクタは、例えば、５乃至５
０％の良好な反射率を示す。例えば、箔、ストリップ又
はシートの形態のリフレクタは、問題となる程のクラッ
クを生ずることなく、成形することもできる。本発明の
リフレクタは、化学的、物理的、特に、機械的な損傷、
磨耗、腐食の如き機械的な劣化に対して、良好な耐性を
示す。機械的な損傷の発生源としては、例えば、表面す
なわち反射層の洗浄時に、洗浄機器と当該表面との間に
入り込むダスト、砂等があり、また、洗浄機器自体、す
なわち、布、ワイパー、ブラシ等によってもそのような
損傷が生ずる。腐食は、表面を腐食する、あるいは、層
の下方に侵入して層を剥離したりそのような層を化学的
に変質させる湿分、ガス、又は、蒸気によって発生す
る。
【００６２】本発明は、また、機械的及び化学的なアタ
ックに対して耐性を有する表面を備えると共に、光学範
囲（すなわち、昼光、人工光線、熱放射線、可視光線、
紫外線等）の放射線の反射に関して高い全反射率を有す
る、リフレクタの使用方法も含む。特に重要なのは、特
に、紫外線を含む昼光又は人工光線の中の可視光線を反
射させるためにリフレクタを使用することである。本発
明のリフレクタは、例えば、作業場の照明、一次照明、
二次照明、横方向のリフレクタを有するストリップ照
明、照明要素、あるいは、偏光要素等として適してい
る。
【００６３】
【発明の実施の形態】図１は、本発明のリフレクタの断
面を概略的に示している。リフレクタ・ボディ１０（例
えば、アルミニウムの如き金属の帯材（ストリップ））
の上に位置しているのは、反射層であり、この反射層
は、前処理層１１と、機能層１２と、金属の保護層１３
とから構成される層構造の形態を有している。前処理層
１１は、陽極酸化によって、リフレクタ・ボディ１０の
材料から直接形成することができる。機能層１２の方を
向いている前処理層１１の表面は、ある程度の粗さを有
することができる。機能層１２は、そのような粗さを取
り除いて、金属の反射層１３を取り付けるための滑らか
な表面を形成することができる。金属の反射層１３、あ
るいは、金属の反射層１７及び保護層１６から成る層構
造が、機能層１２の上に設けられる。光線１５が、概略
的に示されていて特に透過性を有する透過性の保護層１
６に侵入する。そのような光線は、金属の反射層１７に
よって反射される。場合によっては、結合層１４を機能
性コーティング１２と金属の反射層１３との間に設ける
ことができる。
【００６４】実施例 （１） 前処理層を連続的なプロセスでアルミニウムス
トリップの上に設ける。この目的のために、幅が５００
ｍｍで厚さが０.３ｍｍのアルミニウムストリップ（Ａl
９９.８％、Ｒa ０.０８μｍ）を、４０ｍ/分の速度で
連続的に陽極酸化する。このプロセスにおいては、スト
リップは、以下の（ａ）〜（ｅ）の処理を受ける。 （ａ） ｐＨ９〜９.５、約５０℃の条件でボンダーＶ
６１５０/０１を用いて脱脂する。 （ｂ） 生水（室温）で洗浄する。 （ｃ） ８５℃の２０％Ｈ2ＳＯ4 の中で２０Ｖで陽極
酸化する。 （ｄ） ５０℃の生水の中で洗浄する。 （ｅ） 約８５℃の脱イオン水の中で洗浄する。
【００６５】前処理層を有するストリップ（この例にお
いては、予備陽極酸化処理されたストリップ）に、コイ
ルコーティングプロセス、向流浸漬法及び析出ロールに
おいて、４０ｍｍ/分の速度で機能層をコーティング
し、２００乃至２５０℃の温度の連続的なオーブンの中
で約１０乃至１５秒間にわたって乾燥する。金属の温度
（コーティングされていない基板の上で温度素子を用い
て測定した）は、１９５乃至２１６℃であった。
【００６６】洗浄したストリップは、インターロック
（interlocking）の兆候を全く示さず、５μｍの層厚に
おいて、２Ｈ〜３Ｈの硬度（「Ｗolf Ｗilburn による
鉛筆試験」方法のＳＮＶ３７１１３、ＳＩＳ１８４１８
７、ＮＥＮ５３５０、ＭＩＬＣ２７２２７、ＥＣＣＡ試
験方法に従って測定した）を示した。
【００６７】結合強度は、クロスハッチテスト（cross-
hatch test：ＩＳＯ２４０９）に従って測定した。折り
曲げた後に、層は、折り曲げ部に対して平行な規則的な
クラックを生じたが、層剥離の兆候は全く示さなかっ
た。
【００６８】ゾル−ゲルプロセスを用いて機能性コーテ
ィングで被覆した後に、上記ストリップに、ＰＶＤ反射
率向上コーティング（Ｂalzers のＡntiflex Ｂ：登録
商標）を設けたところ、ＤＩＮ５０３６パート３による
以下の反射率の値を示した。 全反射率＞９５％、散乱反射率＜１％。
【００６９】上記ＰＶＤ層は、基板に対して確実に取り
付けられ、例えば、折り曲げによる所定の変形の後で
も、機能性コーティングから離れない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のリフレクタの断面図である。
【符号の説明】
１０ リフレクタ・ボディ １１ 前処理層 １２ 機能層 １３ 反射層 １４ 結合層 １５ 光線 １６ 透過性の保護層 １７ 金属の反射層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 591059652 Ｂａｄｉｓｃｈｅ Ｂａｈｎｈｏｆｓｔｒ ａｓｓｅ 16， ＣＨ−8212 Ｎｅｕｈａ ｕｓｅｎ ａｍ Ｒｈｅｉｎｆａｌｌ，Ｓ ｗｉｔｚｅｒｌａｎｄ (72)発明者 ゲーアハルト・ショットナー ドイツ連邦共和国デー−91560 ハイルス ブロン，ライターザイヒャーヴェーグ ６ (72)発明者 ヨハネス・マルティーン・ザントロック ドイツ連邦共和国デー−97204 ヘーヒベ ルク，マーティーアス−グリューネヴァル ト・シュトラーセ 11

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 機械的及び化学的なアタックに対して耐
    性を有すると共に、高い全反射率を有するリフレクタで
    あって、当該リフレクタのリフレクタ・ボディ（10）
    が、層構造の形態の表面層を有しており、 前記表面層が、 （ａ） 前処理層（11）と、 （ｂ） 該前処理層の上に設けられる機能層（12）であ
    って、金属化合物から成る有機機能性シランを有してい
    る機能層（12）と、 （ｃ） 該機能層の上に設けられる金属を含む反射層
    （13）とを備えており、 前記層（ａ）は、前記リフレクタ・ボディの上に設けら
    れていて、その上の層に対する結合強度を高めており、
    前記層（ｂ）は、平坦化を行うと共に、その上の層
    （ｃ）の機械的な強度を高めていることを特徴とするリ
    フレクタ。
  2. 【請求項２】 請求項１のリフレクタにおいて、前記前
    処理層（ａ）は、陽極酸化処理によって生成される酸化
    物層であり、該酸化物層は、再溶解性の又は非再溶解性
    の電解液の中で形成されることを特徴とするリフレク
    タ。
  3. 【請求項３】 請求項１のリフレクタにおいて、前記前
    処理層（ａ）は、イェロークロメート層、グリーンクロ
    メート層、リン酸層、又は、Ｔi、Ｚr、Ｆ、Ｍo 及びＭ
    n の元素の中の少なくとも１つの元素を含む電解液の中
    で形成されたクロムを含まない前処理層であることを特
    徴とするリフレクタ。
  4. 【請求項４】 請求項１のリフレクタにおいて、前記前
    処理層（ａ）は、少なくとも２０ｎｍの厚さを有してお
    り、実用的には、５０ｎｍよりも大きく、好ましくは、
    １００ｎｍであり、１５０ｎｍよりも大きいのが効果的
    である厚さを有していることを特徴とするリフレクタ。
  5. 【請求項５】 請求項１のリフレクタにおいて、前記前
    処理層（ａ）は、最大で１５００ｎｍの厚さを有してお
    り、好ましくは、最大２００ｎｍの厚さを有しているこ
    とを特徴とするリフレクタ。
  6. 【請求項６】 請求項１のリフレクタにおいて、前記機
    能性コーティング（ｂ）は、０.５乃至２０μｍの厚さ
    を有しており、実用的には、１乃至２０μｍであり、好
    ましくは、２乃至１０μｍであり、極めて好ましくは、
    ２乃至５μｍの厚さを有していることを特徴とするリフ
    レクタ。
  7. 【請求項７】 請求項１のリフレクタであって、前記機
    能性コーティング（ｂ）は、加水分解縮合によって得ら
    れた１又はそれ以上の物質層から構成されており、前記
    加水分解縮合は、必要に応じて、縮合触媒、及び／又
    は、以下の（１）乃至（４）の成分から成る通常の添加
    剤の存在下で行われ、 （１） 以下の組成式（II）を有する少なくとも１つの
    架橋性の有機機能性シラン： Ｒ'''mＳiＸ(4-m) （II） 上式において、同じもの又は異なるものとすることがで
    きる基Ｘは、水素基、ハロゲン基、アルコキシ基、アル
    キルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、あるい
    は、-ＮＲ''２（Ｒ''＝Ｈ及び／又はアルキル）を表し
    ており、同じもの又は異なるものとすることができるラ
    ジカル又は遊離基Ｒ'''は、アルキル基、アルケニル
    基、アルキニル基、アリール基、アリールアルキル基、
    アルキルアリール基、アリールアルケニル基、アルケニ
    ルアリール基、アリールアルキニル基、又は、アルキニ
    ルアリール基を表しており、これらの遊離基は、Ｏ-又
    はＳ-原子又は-ＮＲ''基によって中断することができ、
    また、ハロゲン基、及び、置換型の可能性が高い、アミ
    ノ基、アミド基、アルデヒド基、ケト基、アルキルカル
    ボニル基、カルボキシ基、メルカプト基、シアノ基、ヒ
    ドロキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、
    スルフォン酸基、リン酸基、アクリロキシ基、メタクリ
    ロキシ基、エポキシ基又はビニル基から成る群の１又は
    それ以上の置換基を有することができ、ｍは、１、２又
    は３の値、及び／又は、それから誘導される１つのオリ
    ゴマーを有しており、前記遊離基Ｒ'''及び／又は置換
    基は、（モノマー）出発成分の全モル数を基準にして、
    １０乃至９５モル％の量の架橋性の遊離基又は置換基で
    なければならず； （２） 以下の一般式IIIを有する少なくとも１つの金
    属化合物： ＭeＲy （III） 上式において、Ｍe は、Ａl、Ｚr、Ｔi から成る群から
    選択される金属を表しており、ｙは、アルミニウムの場
    合には、３であり、Ｔi 及びＺr の場合には、４であ
    り、同じもの又は異なるものとすることができる遊離基
    Ｒは、ハロゲン基、アルキル基、アルコキシ基、アシル
    オキシ基、又は、ヒドロキシ基を表しており、これらの
    基は、キレート配位子及び／又はこれから誘導される１
    つのオリゴマーによって、及び／又は、必要であれば、
    （モノマー）出発成分の全モル数を基準にして、５乃至
    ７５モル％の量の有機酸又は無機酸のアルミニウム錯塩
    によって、その全部又は一部を置換することができ； （３） 必要に応じて使用される、以下の組成式Ｉを有
    する少なくとも１つの非架橋性の有機機能性シラン： Ｒ'mＳiＸ(4-m) （Ｉ） 上式において、同じもの又は異なるものとすることがで
    きる基Ｘは、水素基、ハロゲン基、ヒドロキシ基、アル
    コキシ基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニ
    ル基、あるいは、-ＮＲ''２（Ｒ''＝Ｈ及び／又はアル
    キル）を表しており、同じもの又は異なるものとするこ
    とができるラジカル又は遊離基Ｒ'は、アルキル基、ア
    リール基、アリールアルキ基、又は、アルキルアリール
    基を表しており、これらの遊離基は、Ｏ-又はＳ-原子又
    は-ＮＲ''基によって中断することができ、また、ハロ
    ゲン基、及び、置換型の可能性が高い、アミド基、アル
    デヒド基、ケト基、アルキルカルボニル基、カルボキシ
    基、シアノ基、アルコキシ基、及び、アルコキシカルボ
    ニル基から成る群の１又はそれ以上の置換基を有するこ
    とができ、ｍは、１、２又は３の値、及び／又は、それ
    から誘導される１つのオリゴマーを有しており、その量
    は、（モノマー）出発成分の全モル数を基準にして、０
    乃至６０モル％の量であり； （４） 必要に応じて使用される、周期律表の主族１ａ
    からＶａまでの元素、又は、副族IIｂ、IIIｂ、Ｖｂ乃
    至ＶIIIｂの元素の１又はそれ以上の不揮発性酸化物：
    これら酸化物は、Ａl を除いて、反応媒体の中で可溶性
    であり、前記元素の中の１つの元素の１又はそれ以上の
    化合物は、反応条件において不揮発性酸化物を形成し、
    この酸化物は、（モノマー）出発成分の全モル数を基準
    にして、０乃至７０モル％の量で、反応媒体の中で可溶
    性であり； （ｂ） 有機プレポリマーを前記加水分解縮合物に加え
    て、遊離基Ｒ'''の反応性の架橋基、及び／又は、遊離
    基Ｒ'''の架橋性の置換基が、前記プレポリマーと同じ
    名前を有するようにし、前記プレポリマーは、（モノマ
    ー）出発成分の全モル数を基準にして、２乃至７０モル
    ％の量で加えられ、 （ｃ） 上述のようにして得たコーティング溶液を基板
    の上に設けて、その後硬化させることによって得られる
    ことを特徴とするリフレクタ。
  8. 【請求項８】 請求項７のリフレクタにおいて、前記機
    能性コーティング（ｂ）は、単層又は多層であって、該
    多層は、総て同じ物質から形成されるか、あるいは、異
    なる物質から形成されており、いずれの場合において
    も、前記物質は、前記機能性コーティング（ｂ）の物質
    から選択されることを特徴とするリフレクタ。
  9. 【請求項９】 請求項１のリフレクタにおいて、前記反
    射層（ｃ）は、多層構造であって、該多層構造は、反射
    層を備えていて、異なる屈折率を有する透過性の保護層
    の上に設けられていることを特徴とするリフレクタ。
  10. 【請求項１０】 請求項１のリフレクタにおいて、前記
    反射層（ｃ）は、多層構造であって、該多層構造は、反
    射層を備えていて、異なる屈折率を有する透過性の保護
    層の上に設けられており、前記反射層は、１０乃至２０
    ０ｎｍの厚さを有しており、各々の透過性の保護層は、
    ４０乃至２００ｎｍの厚さを有していることを特徴とす
    るリフレクタ。
  11. 【請求項１１】 請求項１のリフレクタにおいて、反射
    層である前記反射層（ｃ）は、Ａl、Ａg、Ｃu、Ａu、Ｃ
    r、Ｎi から選択される金属、又は、前記金属の中の少
    なくとも１つを主として含む合金であるか、そのような
    選択された金属又は前記合金を含むことを特徴とするリ
    フレクタ。
  12. 【請求項１２】 請求項１のリフレクタにおいて、前記
    機能性コーティング（ｂ）と前記反射層（ｃ）との間に
    結合層が設けられていることを特徴とするリフレクタ。
  13. 【請求項１３】 請求項１のリフレクタの製造方法であ
    って、前記リフレクタ・ボディの表面を陽極酸化処理
    し、ゾル−ゲル膜でコーティングし、該ゾル−ゲル膜を
    硬化させ、前記反射層を設ける製造方法において、当該
    方法を、連続ストリッププロセスとして実行することを
    特徴とする製造方法。
  14. 【請求項１４】 請求項１のリフレクタの製造方法であ
    って、前記リフレクタ・ボディの表面を陽極酸化処理
    し、ゾル−ゲル膜でコーティングし、該ゾル−ゲル膜を
    硬化させ、前記反射層を設ける製造方法において、陽極
    酸化処理を行う際に、陽極酸化物層を再溶解性の電解液
    の中で形成し、該再溶解性の電解液が、硫酸、シュウ
    酸、リン酸、クロム酸又はこれらの混合物を含むことを
    特徴とする製造方法。
  15. 【請求項１５】 請求項１のリフレクタの製造方法であ
    って、前記リフレクタ・ボディの表面を陽極酸化処理
    し、ゾル−ゲル膜でコーティングし、該ゾル−ゲル膜を
    硬化させ、前記反射層を設ける製造方法において、陽極
    酸化処理を行う際に、陽極酸化物層を非再溶解性の電解
    液の中で形成し、密閉しないことを特徴とする製造方
    法。
  16. 【請求項１６】 請求項１のリフレクタの製造方法であ
    って、前記リフレクタ・ボディの表面を陽極酸化処理
    し、ゾル−ゲル膜でコーティングし、該ゾル−ゲル膜を
    硬化させ、前記反射層を設ける製造方法において、前記
    ゾル−ゲル膜の硬化処理を高い温度で行い、前記ゾル／
    ゲル層の下に存在するアルミニウム層において測定した
    前記高い温度は、１１０℃よりも高く、前記高い温度
    は、実用的には、１５０℃よりも高く、１５０と２００
    ℃との間であるのが好ましく、前記高い温度は、前記リ
    フレクタ・ボディに対して、１０秒間乃至１２０分間に
    わたって作用することを特徴とする製造方法。
  17. 【請求項１７】 請求項１６の製造方法であって、前記
    高い温度は、紫外線及び赤外線によって、又は、赤外線
    によって、あるいは、熱風であるのが好ましい熱ガスに
    よって生成されることを特徴とする製造方法。
  18. 【請求項１８】 請求項１のリフレクタの製造方法であ
    って、前記リフレクタ・ボディの表面を陽極酸化処理
    し、ゾル−ゲル膜でコーティングし、該ゾル−ゲル膜を
    硬化させ、前記反射層を設ける製造方法において、前記
    反射層、従って、前記反射層、あるいは、前記反射層及
    び多層構造から成る別の反射層は、真空中での気相又は
    蒸気相成長によって形成されることを特徴とする製造方
    法。
  19. 【請求項１９】 請求項１のリフレクタの使用方法であ
    って、人工光線及び昼光用のリフレクタ又は照明要素と
    して使用することを特徴とする使用方法。
  20. 【請求項２０】 請求項１９のリフレクタの使用方法で
    あって、モニタ作業場の照明、一次照明、二次照明、ス
    トリップ照明、照明カバーのリフレクタとして、あるい
    は、偏光フィンとして使用することを特徴とする使用方
    法。
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