JP2017514170A - 高性能金属系光学ミラー基板 - Google Patents
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Abstract
Description
4つのミラー基板のサンプルが用意され、レーザ誘起損傷閾値(LIDT)試験が、4つのサンプルに対して行われた。4つのサンプルは、6061−T6 Al基板を含んでいた。サンプルS1およびS2の基板表面が、ダイヤモンド旋削、および、研磨された。反射金属層が、サンプルS2上に積層され、薄膜積層体が、反射金属層上に積層された。サンプルS3およびS4の基板は、ダイヤモンド旋削され、次に、研磨された。研磨された基板は加熱され、不活性ガスでイオン衝撃され、金属層を含む被覆部が、低圧マグネトロンスパッタリングにより、研磨された被覆部上に積層された。被覆部は、グリコール系コロイド溶液を用いて、約25ÅのRMSより小さい表面粗さを有する仕上がり面を形成するように研磨された。反射金属層が、サンプルS4の被覆部上に積層され、薄膜積層体が、反射金属層上に積層された。同じ反射金属層および薄膜積層体が、サンプルS2およびS4上に積層された。
ミラーは、本開示の実施形態に従って被覆された。基板は、約60Åと約100ÅのRMSの間の表面粗さにダイヤモンド旋削され、次に、約25Åより小さい表面粗さに研磨された。研磨された基板は、次に、約80℃と約110℃の間の温度まで、約1.0時間と約2.0時間の間の時間、加熱された。研磨された基板は、次に、約15分間と約30分間の間の時間、アルゴンでイオン衝撃された。約5.0nmと約50nmの間の厚さを有する接着層が、イオン衝撃された面に積層された。約6.0μmの厚さを有する金属被覆部が、次に、接着層上に積層された。様々な層の積層は、毎秒約2.0Åより遅い速さで行われた。処理圧力は、約2.0×10−4torr(約0.267Pa)と約6.0×10−4torr(約0.800Pa)の間であり、基板は、約0.5mA/cm2と約1.0mA/cm2の間の平均アルゴンイオンビーム密度で積層される間、イオン衝撃された。
実施例2に記載されたミラーに従って、2つのミラーが用意され、反射金属層が、被覆部上に積層された。異なる薄膜積層体が、2つのミラーの反射金属層の各々に積層された。第1の薄膜積層体は、Al2O3−Ag−Al2O3−YbFxOy−Ta2O5−YbFxOyを、順に含んでいた。第2の薄膜積層体は、Al2O3−Ag−Al2O3−SiO2を、順に含んでいた。各ミラーの反射率が測定され、約400nmから約1700nmの波長範囲に亘って、約94%より大きく、約800nmから約1700nmの波長範囲に亘って、約96%より大きく、約900nmから約1700nmの波長範囲に亘って、約98%より大きいことが観察された。
基板を被覆するための方法であって、
基板を、約60Åと約100ÅのRMSの間の表面粗さにダイヤモンド旋削し、前記基板は、金属または合金のいずれかである工程と、
前記基板の前記ダイヤモンド旋削された面を、研磨された基板を形成するように、約10Åと約25Åの間の表面粗さに研磨する工程と、
前記研磨された基板を加熱する工程と、
前記基板を、不活性ガスでイオン衝撃する工程と、
少なくとも1つの金属層を備えた被覆部を、低圧マグネトロンスパッタリングを用いて、前記基板の前記イオン衝撃された面上に積層する工程と、
前記被覆部を、グリコール系コロイド溶液を用いて、約25ÅのRMSより小さい表面粗さを有する仕上がり面を形成するように研磨する工程とを有することを特徴とする方法。
前記基板は、アルミニウム、アルミニウム合金、マグネシウム、および、マグネシウム合金からなる群から選択されることを特徴とする実施形態1に記載の方法。
前記金属層が、アルミニウム、アルミニウム合金、マグネシウム、および、マグネシウム合金からなる群から選択される材料を含むことを特徴とする実施形態1または2に記載の方法。
前記被覆部が、約2.0μmと約10μmの間の厚さを有することを特徴とする実施形態1から3のいずれか1つに記載の方法。
前記グリコール系コロイド溶液が、約8.5と約9.5の間のpHを有することを特徴とする実施形態1から4のいずれか1つに記載の方法。
前記仕上がり面が、約30nmより小さい、山から谷まで(PV)の粗さを有することを特徴とする実施形態1から5のいずれか1つに記載の方法。
前記被覆部を積層する工程が、接着層を、前記基板の前記イオン衝撃された面上に積層し、前記金属層を、前記接着層上に積層する工程を、さらに有することを特徴とする実施形態1から6のいずれか1つに記載の方法。
前記被覆部を積層する工程が、中間層を、前記接着層上に積層する工程をさらに有し、
前記中間層が、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、および、酸窒化アルミニウムからなる群から選択される材料を含むことを特徴とする実施形態7に記載の方法。
少なくとも1つの平滑層を積層する工程をさらに有し、
前記少なくとも1つの平滑層が、酸化アルミニムを含むことを特徴とする実施形態1から8のいずれか1つに記載の方法。
基板と、
前記基板上に積層され、約25ÅのRMSより小さい仕上がり表面粗さを有する少なくとも1つの金属層を備えた被覆部と、
前記金属層上に積層された反射金属層と、
前記反射金属層上に積層された薄膜積層体とを備えたことを特徴とする光学ミラー。
前記基板は、アルミニウム、アルミニウム合金、マグネシウム、および、マグネシウム合金からなる群から選択されたことを特徴とする実施形態10に記載の光学ミラー。
前記金属層が、アルミニウム、アルミニウム合金、マグネシウム、および、マグネシウム合金からなる群から選択された材料を含むことを特徴とする実施形態10または11に記載の光学ミラー。
前記被覆部が、約2.0μmと約10μmの間の厚さを有することを特徴とする実施形態10から12のいずれか1つに記載の光学ミラー。
前記仕上がり面が、約30nmより小さい、山から谷まで(PV)の粗さを有することを特徴とする実施形態10から13のいずれか1つに記載の光学ミラー。
前記被覆部が、前記基板に積層された接着層をさらに備えたことを特徴とする実施形態10から14のいずれか1つに記載の光学ミラー。
前記接着層が、Ni、Cr、NiCr、Ti、Al2O3、Bi、および、Bi2O3、並びに、それらの組合せからなる群から選択された材料を含むことを特徴とする実施形態15に記載の光学ミラー。
前記被覆部が、前記接着層上に積層された中間層をさらに有し、
前記中間層が、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、および、酸窒化アルミニウムからなる群から選択された材料を含むことを特徴とする実施形態15に記載の光学ミラー。
前記被覆部が、少なくとも1つの平滑層をさらに備え、
前記少なくとも1つの平滑層が、酸化アルミニムを含むことを特徴とする実施形態10から17のいずれか1つに記載の光学ミラー。
前記反射金属層が、ゼロ価のAg、Au、Rh、Cu、Pt、および、Niからなる群から選択される材料を含むことを特徴とする実施形態10から18のいずれか1つに記載の光学ミラー。
薄膜積層体が、保護層を備え、
前記保護層が、AlON、SiON、YbF3、YbFxOy、YF3、および、Si3N4からなる群から選択された材料を含むことを特徴とする実施形態10から19のいずれか1つに記載の光学ミラー。
110、210、310、410 基板
120、220、320、420 金属層
130、230、330、430 薄膜積層体
240、340、440 接着層
350 中間層
450 平滑層
Claims (5)
- 基板を被覆するための方法であって、
基板を、約60Åと約100ÅのRMSの間の表面粗さにダイヤモンド旋削し、前記基板は、金属または合金のいずれかである工程と、
前記基板の前記ダイヤモンド旋削された面を、研磨された基板を形成するように、約10Åと約25Åの間の表面粗さに研磨する工程と、
前記研磨された基板を加熱する工程と、
前記基板を、不活性ガスでイオン衝撃する工程と、
少なくとも1つの金属層を備えた被覆部を、低圧マグネトロンスパッタリングを用いて、前記基板の前記イオン衝撃された面上に積層する工程と、
前記被覆部を、グリコール系コロイド溶液を用いて、約25ÅのRMSより小さい表面粗さを有する仕上がり面を形成するように研磨する工程とを有することを特徴とする方法。 - 前記グリコール系コロイド溶液が、約8.5と約9.5の間のpHを有することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記仕上がり面が、約30nmより小さい、山から谷まで(PV)の粗さを有することを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
- 基板と、
前記基板上に積層され、約25ÅのRMSより小さい仕上がり表面粗さを有する、少なくとも1つの金属層を備えた被覆部と、
前記金属層上に積層された反射金属層と、
前記反射金属層上に積層された薄膜積層体とを備えたことを特徴とする光学ミラー。 - 前記仕上がり面が、約30nmより小さい、山から谷まで(PV)の粗さを有することを特徴とする請求項4に記載の光学ミラー。
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