JP2000338314A - 反射鏡およびその製造方法 - Google Patents
反射鏡およびその製造方法Info
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- JP2000338314A JP2000338314A JP11153660A JP15366099A JP2000338314A JP 2000338314 A JP2000338314 A JP 2000338314A JP 11153660 A JP11153660 A JP 11153660A JP 15366099 A JP15366099 A JP 15366099A JP 2000338314 A JP2000338314 A JP 2000338314A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 反射率が高く、入射角による反射率の変化が
小さく、かつ、耐久性が高い（すなわち耐湿性が高い、
耐腐食性雰囲気に強い等）反射鏡、およびその製造方法
を提供することにある。 【解決手段】 金属からなる、または金属薄膜が形成さ
れた基板表面に、ＳｉＯ 2層と、ＺｒＯ2層と、が順次積
層されてなることを特徴とする反射鏡、およびその製造
方法である。
小さく、かつ、耐久性が高い（すなわち耐湿性が高い、
耐腐食性雰囲気に強い等）反射鏡、およびその製造方法
を提供することにある。 【解決手段】 金属からなる、または金属薄膜が形成さ
れた基板表面に、ＳｉＯ 2層と、ＺｒＯ2層と、が順次積
層されてなることを特徴とする反射鏡、およびその製造
方法である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光を反射する反射
鏡およびその製造方法に関し、詳しくは、シリンドリカ
ルミラー、折り返しミラー、回転多面鏡等に使用し得る
高波長レーザー（波長：６００ｎｍ以上）用反射光学素
子としての反射鏡およびその製造方法に関するものであ
る。
鏡およびその製造方法に関し、詳しくは、シリンドリカ
ルミラー、折り返しミラー、回転多面鏡等に使用し得る
高波長レーザー（波長：６００ｎｍ以上）用反射光学素
子としての反射鏡およびその製造方法に関するものであ
る。
【０００２】本発明の反射鏡は、レーザービームプリン
タ、レーザー複写機、レーザーファクシミリ等で光ビー
ムを像担持体上に収束させて静電潜像を形成する光学系
で使用することができる。
タ、レーザー複写機、レーザーファクシミリ等で光ビー
ムを像担持体上に収束させて静電潜像を形成する光学系
で使用することができる。
【０００３】
【従来の技術】従来、シリンドリカルミラー、折り返し
ミラー、回転多面鏡等に使用し得る反射鏡として、金属
または金属薄膜のみで形成されたものが知られている。
しかし、金属または金属薄膜のみで形成された反射鏡で
は、金属あるいは金属薄膜が比較的強度が弱いため、傷
つきやすい。さらに、金属の種類によっては、酸化や硫
化により表面特性が変化し、経時とともに反射率が低下
してしまうといった問題もあった。
ミラー、回転多面鏡等に使用し得る反射鏡として、金属
または金属薄膜のみで形成されたものが知られている。
しかし、金属または金属薄膜のみで形成された反射鏡で
は、金属あるいは金属薄膜が比較的強度が弱いため、傷
つきやすい。さらに、金属の種類によっては、酸化や硫
化により表面特性が変化し、経時とともに反射率が低下
してしまうといった問題もあった。
【０００４】傷つきにくく、かつ、酸化あるいは硫化等
による腐食を防止すべく、金属または金属薄膜の上にさ
らに保護膜を形成してなる反射鏡も知られている。保護
層の膜厚によっては、反射率特性が大幅に変わることが
ある上、金属の種類によっては、反射率特性が８５％程
度まで低下してしまい、実用上問題があった。また、樹
脂製基板上にＡｌ製の主反射膜、ＣｅＦ3製の低屈折率
層、および、ＣｅＯ3製の高屈折率層を順次積層した構
造の反射鏡が特開平２−６６１５７号公報に開示されて
いる。このように低高屈折率層を順次積層した場合、金
属層のみに比べ、反射率が極めて高いものとなる。しか
し、ＣｅＦ3やＣｅＯ3は、傷つきやすく耐湿性に弱いた
め、耐久性に問題がある。
による腐食を防止すべく、金属または金属薄膜の上にさ
らに保護膜を形成してなる反射鏡も知られている。保護
層の膜厚によっては、反射率特性が大幅に変わることが
ある上、金属の種類によっては、反射率特性が８５％程
度まで低下してしまい、実用上問題があった。また、樹
脂製基板上にＡｌ製の主反射膜、ＣｅＦ3製の低屈折率
層、および、ＣｅＯ3製の高屈折率層を順次積層した構
造の反射鏡が特開平２−６６１５７号公報に開示されて
いる。このように低高屈折率層を順次積層した場合、金
属層のみに比べ、反射率が極めて高いものとなる。しか
し、ＣｅＦ3やＣｅＯ3は、傷つきやすく耐湿性に弱いた
め、耐久性に問題がある。
【０００５】さらに、低屈折率層および高屈折率層の組
み合わせることにより反射率特性を向上させる技術とし
て、高屈折率層にＭｏＯ3あるいはＷＯ3を用いること
で、反射率が高く、傷がつきにくく、さらに、耐湿性が
高い反射鏡を得ることができる技術について、特開平７
−２９４７１０号公報に開示がある。しかし、この場合
でも、ＭｏＯ3あるいはＷＯ3は膜状態の制御が難しく、
入射角により反射率が大きく変化してしまい、走査光学
系に用いた場合には、光量エネルギー分布が最適な状態
では用いられなかった。
み合わせることにより反射率特性を向上させる技術とし
て、高屈折率層にＭｏＯ3あるいはＷＯ3を用いること
で、反射率が高く、傷がつきにくく、さらに、耐湿性が
高い反射鏡を得ることができる技術について、特開平７
−２９４７１０号公報に開示がある。しかし、この場合
でも、ＭｏＯ3あるいはＷＯ3は膜状態の制御が難しく、
入射角により反射率が大きく変化してしまい、走査光学
系に用いた場合には、光量エネルギー分布が最適な状態
では用いられなかった。
【０００６】このように反射率向上を企図して、低屈折
率層および高屈折率層を組み合わせて積層する場合、反
射率が高く、入射角による反射率の変化が小さく、そし
て、傷がつきにくく、耐久性が高い（すなわち耐湿性が
高い、耐腐食性雰囲気に強い等）、といった全ての要求
品質を高いレベルで満足させるものは存在しなかった。
率層および高屈折率層を組み合わせて積層する場合、反
射率が高く、入射角による反射率の変化が小さく、そし
て、傷がつきにくく、耐久性が高い（すなわち耐湿性が
高い、耐腐食性雰囲気に強い等）、といった全ての要求
品質を高いレベルで満足させるものは存在しなかった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、反射率が高く、入射角による反射率の変化が小さ
く、かつ、耐久性が高い反射鏡およびその製造方法を提
供することにある。
は、反射率が高く、入射角による反射率の変化が小さ
く、かつ、耐久性が高い反射鏡およびその製造方法を提
供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的は、以下の本発
明により達成される。すなわち本発明は、 ＜１＞ 金属からなる、または金属薄膜が形成された基
板表面に、ＳｉＯ2層と、ＺｒＯ2層と、が順次積層され
てなることを特徴とする反射鏡である。
明により達成される。すなわち本発明は、 ＜１＞ 金属からなる、または金属薄膜が形成された基
板表面に、ＳｉＯ2層と、ＺｒＯ2層と、が順次積層され
てなることを特徴とする反射鏡である。
【０００９】＜２＞ 入射光の波長をλとした場合に、
前記ＳｉＯ2層の光学膜厚が０．２３λ〜０．２７λの
範囲であり、前記ＺｒＯ2層の光学膜厚が０．６３λ〜
０．６７λの範囲であることを特徴とする＜１＞に記載
の反射鏡である。
前記ＳｉＯ2層の光学膜厚が０．２３λ〜０．２７λの
範囲であり、前記ＺｒＯ2層の光学膜厚が０．６３λ〜
０．６７λの範囲であることを特徴とする＜１＞に記載
の反射鏡である。
【００１０】＜３＞ さらにＺｒＯ2層の上層として、
ＳｉＯ2からなる保護層を形成してなることを特徴とす
る＜１＞に記載の反射鏡である。
ＳｉＯ2からなる保護層を形成してなることを特徴とす
る＜１＞に記載の反射鏡である。
【００１１】＜４＞ 入射光の波長をλとした場合に、
前記ＳｉＯ2層の光学膜厚が０．０８λ〜０．１２λの
範囲であり、前記ＺｒＯ2層の光学膜厚が０．２８λ〜
０．３２λの範囲であり、前記ＳｉＯ2からなる保護層
の光学膜厚が０．４８λ〜０．５２λの範囲であること
を特徴とする＜３＞に記載の反射鏡である。
前記ＳｉＯ2層の光学膜厚が０．０８λ〜０．１２λの
範囲であり、前記ＺｒＯ2層の光学膜厚が０．２８λ〜
０．３２λの範囲であり、前記ＳｉＯ2からなる保護層
の光学膜厚が０．４８λ〜０．５２λの範囲であること
を特徴とする＜３＞に記載の反射鏡である。
【００１２】＜５＞ 入射光の波長をλとした場合に、
前記ＳｉＯ2層の光学膜厚が０．２３λ〜０．２７λの
範囲であり、前記ＺｒＯ2層の光学膜厚が０．１８λ〜
０．２２λの範囲であり、前記ＳｉＯ2からなる保護層
の光学膜厚が０．４８λ〜０．５２λの範囲であること
を特徴とする＜３＞に記載の反射鏡である。
前記ＳｉＯ2層の光学膜厚が０．２３λ〜０．２７λの
範囲であり、前記ＺｒＯ2層の光学膜厚が０．１８λ〜
０．２２λの範囲であり、前記ＳｉＯ2からなる保護層
の光学膜厚が０．４８λ〜０．５２λの範囲であること
を特徴とする＜３＞に記載の反射鏡である。
【００１３】＜６＞ 反射率が、９８％以上であること
を特徴とする＜１＞ないし＜５＞のいずれか１に記載の
反射鏡である。
を特徴とする＜１＞ないし＜５＞のいずれか１に記載の
反射鏡である。
【００１４】＜７＞ ＜１＞ないし＜６＞のいずれか１
に記載の反射鏡の製造方法であって、前記ＳｉＯ2層お
よび／またはＺｒＯ2層を、電子ビームを用いた真空蒸
着によって成膜して形成することを特徴とする反射鏡の
製造方法である。
に記載の反射鏡の製造方法であって、前記ＳｉＯ2層お
よび／またはＺｒＯ2層を、電子ビームを用いた真空蒸
着によって成膜して形成することを特徴とする反射鏡の
製造方法である。
【００１５】本発明の反射鏡は、低屈折率層としてＳｉ
Ｏ2層、高屈折率層としてＺｒＯ2層が形成された多層構
成のものであり、反射率が高いとともに、耐久性が高
く、さらに入射角による反射率の変化幅も極めて小さ
い。特に、これら低屈折率層および高屈折率層の光学膜
厚を最適な組み合わせに設定することにより、極めて高
い反射率と、極めて小さい入射角による反射率の変化幅
を達成することができる。具体的には、９８％の高い反
射率とともに、入射角による反射率変化幅が、入射角０
°〜８０°の範囲で０．４％以下を容易に達成すること
ができ、さらには入射角０°〜６０°の範囲で０．２％
以下も達成することができる。すなわち、本発明によれ
ば、入射角による反射率変化をほとんど無視できるレベ
ルの反射鏡を得ることができる。
Ｏ2層、高屈折率層としてＺｒＯ2層が形成された多層構
成のものであり、反射率が高いとともに、耐久性が高
く、さらに入射角による反射率の変化幅も極めて小さ
い。特に、これら低屈折率層および高屈折率層の光学膜
厚を最適な組み合わせに設定することにより、極めて高
い反射率と、極めて小さい入射角による反射率の変化幅
を達成することができる。具体的には、９８％の高い反
射率とともに、入射角による反射率変化幅が、入射角０
°〜８０°の範囲で０．４％以下を容易に達成すること
ができ、さらには入射角０°〜６０°の範囲で０．２％
以下も達成することができる。すなわち、本発明によれ
ば、入射角による反射率変化をほとんど無視できるレベ
ルの反射鏡を得ることができる。
【００１６】勿論、これら各層の膜厚は蒸着条件や環境
条件等から適宜選択されるべきものであり、本発明にお
いて明示した各光学厚みに限定されるものではない。な
お、ここで「入射角による反射率変化」とは、規定され
る入射角範囲における反射率（％）の値の上下限差（１
つの反射鏡における入射角による反射率Ｒｓの上下限差
（ｍａｘ−ｍｉｎ）の絶対値）をいう。
条件等から適宜選択されるべきものであり、本発明にお
いて明示した各光学厚みに限定されるものではない。な
お、ここで「入射角による反射率変化」とは、規定され
る入射角範囲における反射率（％）の値の上下限差（１
つの反射鏡における入射角による反射率Ｒｓの上下限差
（ｍａｘ−ｍｉｎ）の絶対値）をいう。
【００１７】本発明においては、さらに高屈折率層であ
るＺｒＯ2層の上層として、ＳｉＯ2からなる保護層を形
成することにより、より一層耐環境性の高い反射鏡とす
ることができ、その場合低屈折率層および高屈折率層と
ともにＳｉＯ2からなる保護層の膜厚をも制御すること
が、高い反射率を確保し、入射角による反射率の変化を
小さくする観点より好ましい。
るＺｒＯ2層の上層として、ＳｉＯ2からなる保護層を形
成することにより、より一層耐環境性の高い反射鏡とす
ることができ、その場合低屈折率層および高屈折率層と
ともにＳｉＯ2からなる保護層の膜厚をも制御すること
が、高い反射率を確保し、入射角による反射率の変化を
小さくする観点より好ましい。
【００１８】一方、本発明の反射鏡は、前記ＳｉＯ2層
および／またはＺｒＯ2層を、電子ビームを用いた真空
蒸着によって成膜することとすれば、製造が容易であ
り、製造コストを低減することができる。
および／またはＺｒＯ2層を、電子ビームを用いた真空
蒸着によって成膜することとすれば、製造が容易であ
り、製造コストを低減することができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】本発明の反射鏡は、金属からな
る、または金属薄膜が形成された基板表面に、ＳｉＯ2
層と、ＺｒＯ2層と、が順次積層されてなる。以下、本
発明の反射鏡について、各構成要素に分けて説明する。
る、または金属薄膜が形成された基板表面に、ＳｉＯ2
層と、ＺｒＯ2層と、が順次積層されてなる。以下、本
発明の反射鏡について、各構成要素に分けて説明する。
【００２０】１.基板 本発明において、使用すべき基板としては特に限定され
るものではないが、たとえば金属からなる基板として
は、アルミニウム、ステンレス、銅、アルミニウム合
金、鉄系合金等の金属が挙げられる。
るものではないが、たとえば金属からなる基板として
は、アルミニウム、ステンレス、銅、アルミニウム合
金、鉄系合金等の金属が挙げられる。
【００２１】一方、金属薄膜が形成された基板として
は、非晶質ポリオレフィン系合成樹脂、ＡＢＳ樹脂（ア
クリルニトリル−ブタジエン−スチレン）、ＰＣ（ポリ
カーボネイト）系樹脂、アクリル樹脂等、ポリエステル
樹脂、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート等の合
成樹脂、あるいはガラス等の素材のものを支持体とし
て、これに前記金属等からなる薄膜を蒸着等公知の手段
により形成したものを使用することができる。このとき
支持体の素材としては、薄膜を形成する金属とは異なる
任意の金属（あるいはそれと同一の金属）からなるもの
であっても構わない。
は、非晶質ポリオレフィン系合成樹脂、ＡＢＳ樹脂（ア
クリルニトリル−ブタジエン−スチレン）、ＰＣ（ポリ
カーボネイト）系樹脂、アクリル樹脂等、ポリエステル
樹脂、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート等の合
成樹脂、あるいはガラス等の素材のものを支持体とし
て、これに前記金属等からなる薄膜を蒸着等公知の手段
により形成したものを使用することができる。このとき
支持体の素材としては、薄膜を形成する金属とは異なる
任意の金属（あるいはそれと同一の金属）からなるもの
であっても構わない。
【００２２】なお、金属薄膜が形成された基板を用いる
場合、支持体と金属薄膜との間に接着層を設けることが
好ましい。接着層を設けることにより、支持体と金属薄
膜との間の密着性を向上させることができ、耐久性に優
れた反射鏡を得ることができる。特に支持体として合成
樹脂を使用した場合に、当該基板と金属薄膜層との密着
性を確保することが困難であり、接着層を設けることが
有効である。
場合、支持体と金属薄膜との間に接着層を設けることが
好ましい。接着層を設けることにより、支持体と金属薄
膜との間の密着性を向上させることができ、耐久性に優
れた反射鏡を得ることができる。特に支持体として合成
樹脂を使用した場合に、当該基板と金属薄膜層との密着
性を確保することが困難であり、接着層を設けることが
有効である。
【００２３】接着層を構成する材料としては、Ｚｒ
Ｏ2、ＴｉＯ2、ＭｇＦ2等が挙げられ、その膜厚として
は、２０〜１００ｎｍ程度とすることが好ましく、より
好ましくは５０〜７０ｎｍ程度である。接着層は、一般
の真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティン
グ法等従来公知の方法により支持体表面に形成すること
ができる。
Ｏ2、ＴｉＯ2、ＭｇＦ2等が挙げられ、その膜厚として
は、２０〜１００ｎｍ程度とすることが好ましく、より
好ましくは５０〜７０ｎｍ程度である。接着層は、一般
の真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティン
グ法等従来公知の方法により支持体表面に形成すること
ができる。
【００２４】２．ＳｉＯ2層 本発明において、基板表面（金属薄膜が形成されている
基板の場合には、当該金属薄膜が形成されている側の表
面）には、低屈折率層としてのＳｉＯ2層が形成され
る。
基板の場合には、当該金属薄膜が形成されている側の表
面）には、低屈折率層としてのＳｉＯ2層が形成され
る。
【００２５】ＳｉＯ2層の形成は、一般の真空蒸着法、
スパッタリング法、イオンプレーティング法等従来公知
の方法を適用し、諸条件を適宜設定することにより形成
可能であるが、均一な組織、均一な膜厚形成、および正
確な膜厚制御の観点より電子ビームを用いた真空蒸着に
よって成膜して形成することが望ましい。
スパッタリング法、イオンプレーティング法等従来公知
の方法を適用し、諸条件を適宜設定することにより形成
可能であるが、均一な組織、均一な膜厚形成、および正
確な膜厚制御の観点より電子ビームを用いた真空蒸着に
よって成膜して形成することが望ましい。
【００２６】３．ＺｒＯ2層 本発明において、低屈折率層としてのＳｉＯ2層の上に
は、高屈折率層としてのＺｒＯ2層が形成される。
は、高屈折率層としてのＺｒＯ2層が形成される。
【００２７】ＺｒＯ2層の形成も、ＳｉＯ2層の形成同
様、一般の真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ
ーティング法等従来公知の方法を適用し、諸条件を適宜
設定することにより形成可能であるが、均一な組織、均
一な膜厚形成、および正確な膜厚制御の観点より電子ビ
ームを用いた真空蒸着によって成膜して形成することが
望ましい。
様、一般の真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ
ーティング法等従来公知の方法を適用し、諸条件を適宜
設定することにより形成可能であるが、均一な組織、均
一な膜厚形成、および正確な膜厚制御の観点より電子ビ
ームを用いた真空蒸着によって成膜して形成することが
望ましい。
【００２８】４．ＳｉＯ2からなる保護層 本発明では、より一層耐環境性の高い反射鏡とするため
に高屈折率層であるＺｒＯ2層の上層として、ＳｉＯ2か
らなる保護層を形成することが好ましい。ＳｉＯ2から
なる保護層の形成は、前記ＳｉＯ2層の形成と同様にし
て行うことができる。
に高屈折率層であるＺｒＯ2層の上層として、ＳｉＯ2か
らなる保護層を形成することが好ましい。ＳｉＯ2から
なる保護層の形成は、前記ＳｉＯ2層の形成と同様にし
て行うことができる。
【００２９】５．各層の膜厚の組み合わせ 高い反射率を確保し、および、入射角による反射率変化
を小さいものとするためには、入射光の波長をλとした
場合に、以下に示すようなＳｉＯ2層およびＺｒＯ2層の
光学膜厚の組み合わせとすることが好ましい。
を小さいものとするためには、入射光の波長をλとした
場合に、以下に示すようなＳｉＯ2層およびＺｒＯ2層の
光学膜厚の組み合わせとすることが好ましい。
【００３０】ＳｉＯ2層の光学膜厚が０．０８λ〜
０．１２λの範囲 ＺｒＯ2層の光学膜厚が０．２８λ〜０．３２λの範囲
０．１２λの範囲 ＺｒＯ2層の光学膜厚が０．２８λ〜０．３２λの範囲
【００３１】さらに、ＺｒＯ2層の上にＳｉＯ2からなる
保護層を形成する構造においては、入射光の波長をλと
した場合に、以下に示すようなＳｉＯ2層、ＺｒＯ2層、
およびＳｉＯ2からなる保護層の各光学膜厚の組み合わ
せとすることが好ましい。
保護層を形成する構造においては、入射光の波長をλと
した場合に、以下に示すようなＳｉＯ2層、ＺｒＯ2層、
およびＳｉＯ2からなる保護層の各光学膜厚の組み合わ
せとすることが好ましい。
【００３２】ＳｉＯ2層の光学膜厚が０．０８λ〜
０．１２λの範囲 ＺｒＯ2層の光学膜厚が０．２８λ〜０．３２λの範囲 ＳｉＯ2からなる保護層の光学膜厚が０．４８λ〜０．
５２λの範囲
０．１２λの範囲 ＺｒＯ2層の光学膜厚が０．２８λ〜０．３２λの範囲 ＳｉＯ2からなる保護層の光学膜厚が０．４８λ〜０．
５２λの範囲
【００３３】ＳｉＯ2層の光学膜厚が０．２３λ〜
０．２７λの範囲 ＺｒＯ2層の光学膜厚が０．１８λ〜０．２２λの範囲 ＳｉＯ2からなる保護層の光学膜厚が０．４８λ〜０．
５２λの範囲
０．２７λの範囲 ＺｒＯ2層の光学膜厚が０．１８λ〜０．２２λの範囲 ＳｉＯ2からなる保護層の光学膜厚が０．４８λ〜０．
５２λの範囲
【００３４】これら各層の膜厚の組み合わせは、本発明
の目的を達するに好ましいものとしての例示であり、蒸
着条件や環境条件等から適宜選択されるべきものであ
り、本発明は、以上に例示した各光学厚みに限定される
ものではない。
の目的を達するに好ましいものとしての例示であり、蒸
着条件や環境条件等から適宜選択されるべきものであ
り、本発明は、以上に例示した各光学厚みに限定される
ものではない。
【００３５】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。
【００３６】＜実施例１＞支持体としての直径３０ｍｍ
厚さ１．５ｍｍの円盤形状のＢＫ−７製ガラス平板上
に、ＺｒＯ2からなる膜厚７５ｎｍの接着層を介して、
膜厚８５０ｎｍの銅薄膜を、電子ビームを用いた真空蒸
着によって成膜して金属薄膜層（反射膜）とし、基板を
得た。さらに基板の金属薄膜層の上に、低屈折率層とし
て、光学膜厚０．２５λ（波長λ＝７８０ｎｍ）のＳｉ
Ｏ2（屈折率Ｎｄ：１．４５）を、電子ビームを用いた
真空蒸着によって成膜し、さらに高屈折率層として、光
学膜厚０．６５λ（波長λ＝７８０ｎｍ）のＺｒＯ
2（屈折率Ｎｄ：２．０５）を、電子ビームを用いた真
空蒸着によって成膜して実施例１の反射鏡を得た。
厚さ１．５ｍｍの円盤形状のＢＫ−７製ガラス平板上
に、ＺｒＯ2からなる膜厚７５ｎｍの接着層を介して、
膜厚８５０ｎｍの銅薄膜を、電子ビームを用いた真空蒸
着によって成膜して金属薄膜層（反射膜）とし、基板を
得た。さらに基板の金属薄膜層の上に、低屈折率層とし
て、光学膜厚０．２５λ（波長λ＝７８０ｎｍ）のＳｉ
Ｏ2（屈折率Ｎｄ：１．４５）を、電子ビームを用いた
真空蒸着によって成膜し、さらに高屈折率層として、光
学膜厚０．６５λ（波長λ＝７８０ｎｍ）のＺｒＯ
2（屈折率Ｎｄ：２．０５）を、電子ビームを用いた真
空蒸着によって成膜して実施例１の反射鏡を得た。
【００３７】得られた実施例１の反射鏡について、入射
角１０°〜８０°において、λ＝７８０ｎｍにおける反
射率Ｒｓ（Ｓ偏光）を測定した。入射角１０°〜８０°
においては、平均の反射率が９８．６％と高い反射率を
確保することができ、入射角による反射率変化が０．４
％と極めて小さかった。さらに、入射角１０°〜６０°
においても、平均の反射率が９８．６％と高い反射率を
確保することができ、入射角による反射率変化が０．２
％と極めて小さかった。
角１０°〜８０°において、λ＝７８０ｎｍにおける反
射率Ｒｓ（Ｓ偏光）を測定した。入射角１０°〜８０°
においては、平均の反射率が９８．６％と高い反射率を
確保することができ、入射角による反射率変化が０．４
％と極めて小さかった。さらに、入射角１０°〜６０°
においても、平均の反射率が９８．６％と高い反射率を
確保することができ、入射角による反射率変化が０．２
％と極めて小さかった。
【００３８】＜実施例２＞実施例１で得られた反射鏡に
ついて、さらに、高屈折率層としてのＺｒＯ2層の上層
として、ＳｉＯ2からなる保護層を光学膜厚０．５０λ
（波長λ＝７８０ｎｍ）積層して、実施例２の反射鏡を
得た。
ついて、さらに、高屈折率層としてのＺｒＯ2層の上層
として、ＳｉＯ2からなる保護層を光学膜厚０．５０λ
（波長λ＝７８０ｎｍ）積層して、実施例２の反射鏡を
得た。
【００３９】得られた実施例２の反射鏡について、入射
角１０°〜８０°において、λ＝７８０ｎｍにおける反
射率Ｒｓ（Ｓ偏光）を測定した。入射角１０°〜８０°
においては、平均の反射率が９８．６％と高い反射率を
確保することができ、入射角による反射率変化が０．４
％と極めて小さかった。さらに、入射角１０°〜６０°
においても、平均の反射率が９８．９％と高い反射率を
確保することができ、入射角による反射率変化が０．３
％と極めて小さかった。
角１０°〜８０°において、λ＝７８０ｎｍにおける反
射率Ｒｓ（Ｓ偏光）を測定した。入射角１０°〜８０°
においては、平均の反射率が９８．６％と高い反射率を
確保することができ、入射角による反射率変化が０．４
％と極めて小さかった。さらに、入射角１０°〜６０°
においても、平均の反射率が９８．９％と高い反射率を
確保することができ、入射角による反射率変化が０．３
％と極めて小さかった。
【００４０】＜実施例３＞支持体としての内接円直径２
５ｍｍの１２面非晶質ポリオレフィン基体上に、ＺｒＯ
2からなる膜厚６５ｎｍの接着層を介して、膜厚８００
ｎｍの銅薄膜を、電子ビームを用いた真空蒸着によって
成膜して金属薄膜層（反射膜）とし、基板を得た。さら
に基板の金属薄膜層の上に、低屈折率層として、光学膜
厚０．２５λ（波長λ＝７８０ｎｍ）のＳｉＯ2（屈折
率Ｎｄ：１．４５）を、電子ビームを用いた真空蒸着に
よって成膜し、高屈折率層として、光学膜厚０．２０λ
（波長λ＝７８０ｎｍ）のＺｒＯ2（屈折率Ｎｄ：２．
０５）を、電子ビームを用いた真空蒸着によって成膜
し、さらに保護層として、光学膜厚０．５０λ（波長λ
＝７８０ｎｍ）のＳｉＯ2（屈折率Ｎｄ：１．４５）
を、電子ビームを用いた真空蒸着によって成膜して実施
例３のポリゴンミラー（反射鏡）を得た。
５ｍｍの１２面非晶質ポリオレフィン基体上に、ＺｒＯ
2からなる膜厚６５ｎｍの接着層を介して、膜厚８００
ｎｍの銅薄膜を、電子ビームを用いた真空蒸着によって
成膜して金属薄膜層（反射膜）とし、基板を得た。さら
に基板の金属薄膜層の上に、低屈折率層として、光学膜
厚０．２５λ（波長λ＝７８０ｎｍ）のＳｉＯ2（屈折
率Ｎｄ：１．４５）を、電子ビームを用いた真空蒸着に
よって成膜し、高屈折率層として、光学膜厚０．２０λ
（波長λ＝７８０ｎｍ）のＺｒＯ2（屈折率Ｎｄ：２．
０５）を、電子ビームを用いた真空蒸着によって成膜
し、さらに保護層として、光学膜厚０．５０λ（波長λ
＝７８０ｎｍ）のＳｉＯ2（屈折率Ｎｄ：１．４５）
を、電子ビームを用いた真空蒸着によって成膜して実施
例３のポリゴンミラー（反射鏡）を得た。
【００４１】得られた実施例３のポリゴンミラーについ
て、入射角１０°〜８０°において、λ＝７８０ｎｍに
おける反射率Ｒｓ（Ｓ偏光）を測定した。入射角１０°
〜８０°においては、平均の反射率が９８．６％と高い
反射率を確保することができ、入射角による反射率変化
が０．３％と極めて小さかった。さらに、入射角１０°
〜６０°においても、平均の反射率が９８．６％と高い
反射率を確保することができ、入射角による反射率変化
が０．２％と極めて小さかった。
て、入射角１０°〜８０°において、λ＝７８０ｎｍに
おける反射率Ｒｓ（Ｓ偏光）を測定した。入射角１０°
〜８０°においては、平均の反射率が９８．６％と高い
反射率を確保することができ、入射角による反射率変化
が０．３％と極めて小さかった。さらに、入射角１０°
〜６０°においても、平均の反射率が９８．６％と高い
反射率を確保することができ、入射角による反射率変化
が０．２％と極めて小さかった。
【００４２】また、密着性について、ポリゴンミラーの
反射面の表面に、カッターで１ｍｍ角の傷を付け、その
上に粘着テープ（３Ｍ製、＃６００）を貼り、普通に剥
がす剥離試験を行って確認した。その結果蒸着膜には、
全く剥がれが発生しなかった。
反射面の表面に、カッターで１ｍｍ角の傷を付け、その
上に粘着テープ（３Ｍ製、＃６００）を貼り、普通に剥
がす剥離試験を行って確認した。その結果蒸着膜には、
全く剥がれが発生しなかった。
【００４３】＜比較例１＞支持体としての直径３０ｍｍ
厚さ１．５ｍｍの円盤形状のＢＫ−７製ガラス平板上
に、ＺｒＯ2からなる膜厚７５ｎｍの接着層を介して、
膜厚８５０ｎｍの銅薄膜を、電子ビームを用いた真空蒸
着によって成膜して金属薄膜層（反射膜）とし、基板を
得た。さらに基板の金属薄膜層の上に、低屈折率層とし
て、光学膜厚０．５０λ（波長λ＝７８０ｎｍ）のＳｉ
Ｏ2（屈折率Ｎｄ：１．４５）を、電子ビームを用いた
真空蒸着によって成膜して比較例１の反射鏡を得た。
厚さ１．５ｍｍの円盤形状のＢＫ−７製ガラス平板上
に、ＺｒＯ2からなる膜厚７５ｎｍの接着層を介して、
膜厚８５０ｎｍの銅薄膜を、電子ビームを用いた真空蒸
着によって成膜して金属薄膜層（反射膜）とし、基板を
得た。さらに基板の金属薄膜層の上に、低屈折率層とし
て、光学膜厚０．５０λ（波長λ＝７８０ｎｍ）のＳｉ
Ｏ2（屈折率Ｎｄ：１．４５）を、電子ビームを用いた
真空蒸着によって成膜して比較例１の反射鏡を得た。
【００４４】得られた比較例１の反射鏡について、入射
角１０°〜８０°において反射率Ｒｓを測定した。入射
角１０°〜８０°においては、平均の反射率は、９８．
２％とある程度高い反射率を確保することができたが、
入射角による反射率変化については、２．０％とかなり
大きい値となった。さらに、入射角１０°〜６０°にお
いても、平均の反射率は、９７．９％とある程度高い反
射率を確保することができたが、入射角による反射率変
化については、１．３％とかなり大きい値となった。
角１０°〜８０°において反射率Ｒｓを測定した。入射
角１０°〜８０°においては、平均の反射率は、９８．
２％とある程度高い反射率を確保することができたが、
入射角による反射率変化については、２．０％とかなり
大きい値となった。さらに、入射角１０°〜６０°にお
いても、平均の反射率は、９７．９％とある程度高い反
射率を確保することができたが、入射角による反射率変
化については、１．３％とかなり大きい値となった。
【００４５】
【発明の効果】本発明によれば、基板上に一般的な構成
で反射鏡を作製した場合と比較して、反射率を安定して
高くできるだけでなく、入射角に依存した反射率のばら
つきもより小さくすることができる。このため本発明の
反射鏡は、通常の反射鏡として用いる以上に、コピー、
ファクシミリ、プリンター、バーコードスキャナー等の
走査光学系に用いられる回転多面鏡に採用することによ
って、光学系の設計が容易になるうえ、高い性能を得る
ことが可能になる。一方、本発明の反射鏡は、前記Ｓｉ
Ｏ2層および／またはＺｒＯ2層を、電子ビームを用いた
真空蒸着によって成膜することとすれば、製造が容易で
あり、製造コストを低減することができる。
で反射鏡を作製した場合と比較して、反射率を安定して
高くできるだけでなく、入射角に依存した反射率のばら
つきもより小さくすることができる。このため本発明の
反射鏡は、通常の反射鏡として用いる以上に、コピー、
ファクシミリ、プリンター、バーコードスキャナー等の
走査光学系に用いられる回転多面鏡に採用することによ
って、光学系の設計が容易になるうえ、高い性能を得る
ことが可能になる。一方、本発明の反射鏡は、前記Ｓｉ
Ｏ2層および／またはＺｒＯ2層を、電子ビームを用いた
真空蒸着によって成膜することとすれば、製造が容易で
あり、製造コストを低減することができる。
Claims (7)
- 【請求項１】 金属からなる、または金属薄膜が形成さ
れた基板表面に、ＳｉＯ2層と、ＺｒＯ2層と、が順次積
層されてなることを特徴とする反射鏡。 - 【請求項２】 入射光の波長をλとした場合に、前記Ｓ
ｉＯ2層の光学膜厚が０．２３λ〜０．２７λの範囲で
あり、前記ＺｒＯ2層の光学膜厚が０．６３λ〜０．６
７λの範囲であることを特徴とする請求項１に記載の反
射鏡。 - 【請求項３】 さらにＺｒＯ2層の上層として、ＳｉＯ2
からなる保護層を形成してなることを特徴とする請求項
１に記載の反射鏡。 - 【請求項４】 入射光の波長をλとした場合に、前記Ｓ
ｉＯ2層の光学膜厚が０．０８λ〜０．１２λの範囲で
あり、前記ＺｒＯ2層の光学膜厚が０．２８λ〜０．３
２λの範囲であり、前記ＳｉＯ2からなる保護層の光学
膜厚が０．４８λ〜０．５２λの範囲であることを特徴
とする請求項３に記載の反射鏡。 - 【請求項５】 入射光の波長をλとした場合に、前記Ｓ
ｉＯ2層の光学膜厚が０．２３λ〜０．２７λの範囲で
あり、前記ＺｒＯ2層の光学膜厚が０．１８λ〜０．２
２λの範囲であり、前記ＳｉＯ2からなる保護層の光学
膜厚が０．４８λ〜０．５２λの範囲であることを特徴
とする請求項３に記載の反射鏡。 - 【請求項６】 反射率が、９８％以上であることを特徴
とする請求項１ないし５のいずれか１に記載の反射鏡。 - 【請求項７】 請求項１ないし６のいずれか１に記載の
反射鏡の製造方法であって、前記ＳｉＯ2層および／ま
たはＺｒＯ2層を、電子ビームを用いた真空蒸着によっ
て成膜して形成することを特徴とする反射鏡の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11153660A JP2000338314A (ja) | 1999-06-01 | 1999-06-01 | 反射鏡およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11153660A JP2000338314A (ja) | 1999-06-01 | 1999-06-01 | 反射鏡およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000338314A true JP2000338314A (ja) | 2000-12-08 |
Family
ID=15567405
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11153660A Pending JP2000338314A (ja) | 1999-06-01 | 1999-06-01 | 反射鏡およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000338314A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117512527A (zh) * | 2023-11-10 | 2024-02-06 | 星际光(上海)实业有限公司 | 一种介质膜反射镜及其制备工艺 |
-
1999
- 1999-06-01 JP JP11153660A patent/JP2000338314A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117512527A (zh) * | 2023-11-10 | 2024-02-06 | 星际光(上海)实业有限公司 | 一种介质膜反射镜及其制备工艺 |
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