JPH0462363B2 - - Google Patents
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- JPH0462363B2 JPH0462363B2 JP58239811A JP23981183A JPH0462363B2 JP H0462363 B2 JPH0462363 B2 JP H0462363B2 JP 58239811 A JP58239811 A JP 58239811A JP 23981183 A JP23981183 A JP 23981183A JP H0462363 B2 JPH0462363 B2 JP H0462363B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/0816—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
- G02B5/085—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal
- G02B5/0858—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal the reflecting layers comprising a single metallic layer with one or more dielectric layers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/26—Reflecting filters
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、CR−39（ジエチレングリコール・ビ
ス・アリルカーボネート）、キヤステイング成形
又はインジエクシヨン成形されたアクリル樹脂、
ポリカーボネート樹脂、スチレン樹脂等の合成樹
脂基板に施す反射鏡に関する。特に、小型カメラ
用、複写機用等に使用される軽量化、高精度（非
球面鏡）を目的とした合成樹脂基板の反射鏡に関
する。
ス・アリルカーボネート）、キヤステイング成形
又はインジエクシヨン成形されたアクリル樹脂、
ポリカーボネート樹脂、スチレン樹脂等の合成樹
脂基板に施す反射鏡に関する。特に、小型カメラ
用、複写機用等に使用される軽量化、高精度（非
球面鏡）を目的とした合成樹脂基板の反射鏡に関
する。
従来、合成樹脂基板にアンダーコート剤として
の有機薄膜、保護膜としての一酸化珪素膜、二酸
化珪素膜等の層をアルミニウム層と共に順次積層
して合成樹脂基板の反射鏡は製作されている。し
かしながら、従来の反射鏡では、アルミニウム層
の合成樹脂との密着性、光学的面精度の点等に難
点があり、いまだ満足な結果は得られていない。
の有機薄膜、保護膜としての一酸化珪素膜、二酸
化珪素膜等の層をアルミニウム層と共に順次積層
して合成樹脂基板の反射鏡は製作されている。し
かしながら、従来の反射鏡では、アルミニウム層
の合成樹脂との密着性、光学的面精度の点等に難
点があり、いまだ満足な結果は得られていない。
以下、従来の反射鏡を第１図及び第２図を用い
て例示する。第１図は、合成樹脂基板１，０の上
に機械的膜厚1μ程度のアンダーコート剤として
の有機薄膜２，０を形成し、その上に機械的膜厚
700〜1500Åのアルミニウム層３，０を、更にそ
の上に保護膜として光学的膜厚0.25λの一酸化珪
素の層４，０を順次積層した反射鏡である。この
ものでは、有機薄膜２，０がデイツピング等の方
法で成膜されるために光学的面精度が得られず光
学系の一部としての使用が不可能である。
て例示する。第１図は、合成樹脂基板１，０の上
に機械的膜厚1μ程度のアンダーコート剤として
の有機薄膜２，０を形成し、その上に機械的膜厚
700〜1500Åのアルミニウム層３，０を、更にそ
の上に保護膜として光学的膜厚0.25λの一酸化珪
素の層４，０を順次積層した反射鏡である。この
ものでは、有機薄膜２，０がデイツピング等の方
法で成膜されるために光学的面精度が得られず光
学系の一部としての使用が不可能である。
第２図は、合成樹脂基板１，１の上に光学的膜
厚0.25λの一酸化硅素の層２，１を形成し、その
上に機械的膜厚700〜1500Åのアルミニウム層３，
１を、更にその上に保護膜として光学的膜厚
0.25λの一酸化硅素の層４，１を順次積層した反
射鏡である。このものは、合成樹脂基板、特にア
クリルニトリル樹脂に対する密着性が期待できな
い。
厚0.25λの一酸化硅素の層２，１を形成し、その
上に機械的膜厚700〜1500Åのアルミニウム層３，
１を、更にその上に保護膜として光学的膜厚
0.25λの一酸化硅素の層４，１を順次積層した反
射鏡である。このものは、合成樹脂基板、特にア
クリルニトリル樹脂に対する密着性が期待できな
い。
本発明の目的は、合成樹脂基板の種類、例えば
CR−39、インジエクシヨン成形又はキヤステイ
ング成形のアクリル樹脂、ポリカーボネート樹
脂、スチレン樹脂等に関係なく、基板の補強効果
と硝子に成膜したアルミ鏡と同程度の反射率を有
する高密度で耐溶剤性、耐摩耗性、耐環境性の良
好な反射鏡を提供するにある。
CR−39、インジエクシヨン成形又はキヤステイ
ング成形のアクリル樹脂、ポリカーボネート樹
脂、スチレン樹脂等に関係なく、基板の補強効果
と硝子に成膜したアルミ鏡と同程度の反射率を有
する高密度で耐溶剤性、耐摩耗性、耐環境性の良
好な反射鏡を提供するにある。
以下、本発明の反射鏡を実施例を挙げ、図面を
用いて説明する。
用いて説明する。
実施例 １
第３図において、インジエクシヨン成形された
アクリル樹脂基板１，２の表面に真空度１×10-5
Torrで第１層として光学的膜厚0.5λの一酸化珪
素からなる層２，２を抵抗加熱にて蒸着速度２〜
3.5Å／Ｓで真空蒸着する。このときの一酸化珪
素の屈折率はｎ２，２＝1.60〜1.75である。第１
層の上に第２層として光学的膜厚0.5λの二酸化硅
素からなる層３，２をエレクトロン・ビームにて
蒸着する。このときの二酸化硅素の屈折率はｎ
３，２＝1.45〜1.46である。第２層の上に第３層
として機械的膜厚1000Å程度のアルミニウムから
なる層４，２を抵抗加熱で蒸着する。更に第３層
の上に第４層として光学的膜厚0.25λの一酸化硅
素からなる層５，２を層２，２と同様にして蒸着
する。このときの一酸化硅素の屈折率はｎ５，２
＝1.60〜1.75である。
アクリル樹脂基板１，２の表面に真空度１×10-5
Torrで第１層として光学的膜厚0.5λの一酸化珪
素からなる層２，２を抵抗加熱にて蒸着速度２〜
3.5Å／Ｓで真空蒸着する。このときの一酸化珪
素の屈折率はｎ２，２＝1.60〜1.75である。第１
層の上に第２層として光学的膜厚0.5λの二酸化硅
素からなる層３，２をエレクトロン・ビームにて
蒸着する。このときの二酸化硅素の屈折率はｎ
３，２＝1.45〜1.46である。第２層の上に第３層
として機械的膜厚1000Å程度のアルミニウムから
なる層４，２を抵抗加熱で蒸着する。更に第３層
の上に第４層として光学的膜厚0.25λの一酸化硅
素からなる層５，２を層２，２と同様にして蒸着
する。このときの一酸化硅素の屈折率はｎ５，２
＝1.60〜1.75である。
本実施例で得られた本発明の反射板につき次の
テストを行つた。
テストを行つた。
(1) 密着性テスト：上記反射板の表面にセロハン
テープ（ニチバン）を接着させた後、該表面に
ほぼ垂直な角度ですばやくとりのぞくテストを
十数回繰返したが、蒸着膜の剥離を生ずること
はなかつた。
テープ（ニチバン）を接着させた後、該表面に
ほぼ垂直な角度ですばやくとりのぞくテストを
十数回繰返したが、蒸着膜の剥離を生ずること
はなかつた。
(2) 耐溶剤性テスト：上記反射板の表面をエーテ
ル、アルコール混合液をつけたレンズ拭き紙
（シルボン紙）で拭いたが異状は認められなか
つた。
ル、アルコール混合液をつけたレンズ拭き紙
（シルボン紙）で拭いたが異状は認められなか
つた。
(3) 耐摩耗テスト：上記反射板の表面の１箇所を
レンズ拭き紙（シルボン紙）を用いて２〜３Kg
圧で50往復こすつたが、異状は認められなかつ
た。
レンズ拭き紙（シルボン紙）を用いて２〜３Kg
圧で50往復こすつたが、異状は認められなかつ
た。
(4) 耐環境テスト：上記反射板を温度45℃、相対
湿度95％の恒温恒湿槽に1000時間放置したが異
状は認められなかつた。
湿度95％の恒温恒湿槽に1000時間放置したが異
状は認められなかつた。
実施例 ２
第４図に示すように、実施例１の第２層３，２
と第３層４，２の間に光学的膜厚0.25λの一酸化
硅素の層６，２を設ける。この層を設けることに
より、実施例１の二酸化硅素の層３，２とアルミ
ニウムの層４，２との密着性が大幅に向上され
る。
と第３層４，２の間に光学的膜厚0.25λの一酸化
硅素の層６，２を設ける。この層を設けることに
より、実施例１の二酸化硅素の層３，２とアルミ
ニウムの層４，２との密着性が大幅に向上され
る。
実施例 ３
実施例１の第２層３，２の二酸化硅素をプラズ
マ化された活性ガス中で蒸着を行い、活性化反応
蒸着する。この蒸着方法により第２層３，２と第
１層２，２の一酸化硅素との密着性が大幅に向上
する。
マ化された活性ガス中で蒸着を行い、活性化反応
蒸着する。この蒸着方法により第２層３，２と第
１層２，２の一酸化硅素との密着性が大幅に向上
する。
実施例 ４
実施例１の第４層５，２の一酸化硅素の代り
に、低屈折率物質（弗化マグネシウム、二酸化硅
素等）と高屈折率物質（酸化ジルコニウム、酸化
セリウム、五酸化タンタリウム、チタン酸化物
等）の組合せによる増反射膜からなる第４層を設
ける。得られる反射鏡は実施例１の反射鏡と同等
の性能を有する。
に、低屈折率物質（弗化マグネシウム、二酸化硅
素等）と高屈折率物質（酸化ジルコニウム、酸化
セリウム、五酸化タンタリウム、チタン酸化物
等）の組合せによる増反射膜からなる第４層を設
ける。得られる反射鏡は実施例１の反射鏡と同等
の性能を有する。
以上詳述したように、本発明によれば基板の合
成樹脂の種類、成形方法等には無関係に、基板の
補強効果とガラスに成膜したアルミ鏡と同等の反
射率を有する良質の反射鏡を得ることができる。
成樹脂の種類、成形方法等には無関係に、基板の
補強効果とガラスに成膜したアルミ鏡と同等の反
射率を有する良質の反射鏡を得ることができる。
第１図、第２図は従来法による反射鏡の略断面
図を例示する。第３図は実施例１の反射鏡、第４
図は実施例２の反射鏡の略断面図を示す。 １，２……合成樹脂基板、２，２……第１層、
３，２……第２層、４，２……第３層、５，２…
…第４層、６，２……一酸化硅素層。
図を例示する。第３図は実施例１の反射鏡、第４
図は実施例２の反射鏡の略断面図を示す。 １，２……合成樹脂基板、２，２……第１層、
３，２……第２層、４，２……第３層、５，２…
…第４層、６，２……一酸化硅素層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 合成樹脂基板から第１〜４層と成膜された４
層構造の反射鏡において、第１層は光学的膜厚範
囲0.13λ〜λ（光の波長：λ＝450〜550nm）の一
酸化珪素（SiO）、該第１層の上に光学的膜厚範
囲0.13λ〜λの二酸化珪素（SiO2）からなる第２
層、該第２層の上に機械的膜厚範囲700Å〜1500
Åのアルミニウム（Al）からなる第３層、該第
３層の上に光学的膜厚0.25λの一酸化珪素からな
る第４層、もしくは低屈折率物質（弗化マグネシ
ウム、二酸化珪素等）と高屈折率物質（酸化ジル
コニウム、酸化セリウム、五酸化タンタリウム、
チタン酸化物等）の組合せによる増反射膜からな
る第４層を有する合成樹脂基板の反射鏡で、該第
１層と第２層とで該合成樹脂基板の補強効果を出
すことを特徴とする反射鏡。 ２ 前記第２層と第３層の境界面に一酸化珪素か
らなる層を挿入することを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の反射鏡。 ３ 前記第２層を活性化反応蒸着することを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58239811A JPS60131501A (ja) | 1983-12-21 | 1983-12-21 | 合成樹脂基板の反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58239811A JPS60131501A (ja) | 1983-12-21 | 1983-12-21 | 合成樹脂基板の反射鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60131501A JPS60131501A (ja) | 1985-07-13 |
| JPH0462363B2 true JPH0462363B2 (ja) | 1992-10-06 |
Family
ID=17050202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58239811A Granted JPS60131501A (ja) | 1983-12-21 | 1983-12-21 | 合成樹脂基板の反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60131501A (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS638604A (ja) * | 1986-06-30 | 1988-01-14 | Canon Inc | 可視域における平坦な分光特性を示す半透膜 |
| JPS63304202A (ja) * | 1987-06-04 | 1988-12-12 | Olympus Optical Co Ltd | 合成樹脂製ハ−フ・ミラ− |
| JPH0282201A (ja) * | 1988-09-20 | 1990-03-22 | Olympus Optical Co Ltd | 合成樹脂製光学部品の多層膜裏面反射鏡 |
| JPH0469603A (ja) * | 1990-07-10 | 1992-03-04 | Copal Co Ltd | 多層膜反射鏡 |
| DE4128547A1 (de) * | 1991-08-28 | 1993-03-04 | Leybold Ag | Verfahren und vorrichtung fuer die herstellung einer entspiegelungsschicht auf linsen |
| GB2261079B (en) * | 1991-10-31 | 1995-06-14 | Asahi Optical Co Ltd | Surface reflecting mirror |
| FR2687799A1 (fr) * | 1991-10-31 | 1993-08-27 | Asahi Optical Co Ltd | Miroir a substrat de resine. |
| US5872663A (en) * | 1992-03-06 | 1999-02-16 | Quantum Corporation | Apparatus and method for fabricating a deflection mirror tower |
| US6409354B1 (en) * | 2000-08-23 | 2002-06-25 | Vtec Technologies, Inc. | Transparent plastic or polymer based mirror apparatus and method for making the same |
-
1983
- 1983-12-21 JP JP58239811A patent/JPS60131501A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60131501A (ja) | 1985-07-13 |
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