JPS6381402A - 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 - Google Patents

合成樹脂製光学部品の反射防止膜

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JPS6381402A
JPS6381402A JP61228682A JP22868286A JPS6381402A JP S6381402 A JPS6381402 A JP S6381402A JP 61228682 A JP61228682 A JP 61228682A JP 22868286 A JP22868286 A JP 22868286A JP S6381402 A JPS6381402 A JP S6381402A
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JP
Japan
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layer
refractive index
film
film thickness
layer consisting
Prior art date
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Pending
Application number
JP61228682A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirozo Tani
谷 博蔵
Masaru Okumura
勝 奥村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Minolta Co Ltd
Original Assignee
Minolta Co Ltd
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Publication date
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Priority to US07/100,953 priority patent/US4921760A/en
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は合成樹脂光学部品との密着性に優れた反射防止
膜に関する。
従来技術 反射防止膜は、屈折率に差のある物質を積層した構造と
することにより反射防止効果が得られる。
反射防止膜の構成としては二酸化ケイ素あるいは一酸化
ケイ素を介在させてその上に反射防止膜を形成した技術
が知られている(例えば特開昭55−101901号公
報、特開昭60−130701号公報ないし特開昭60
−130704号公報あるいは特開昭60−13150
1号公報等)。
二酸化ケイ素等の薄膜をコーティングするのは合成樹脂
光学部品等の表面は機帷的引っ掻きゃ薬品等の溶剤に対
して弱く、傷付きやすいという欠点を解消し、表面硬度
の向上および耐久性の向上を計るた、めである。
しかし、二酸化ケイ素は合成樹脂光学部品の屈折率とほ
ぼ等しいため、反射防止効果を奏でる役割をするもので
はなく、樹脂光学部品と反射防止膜の密着性を改良する
介在層としての存在意義しか有していない。しかも、そ
の介在層はある程度以上の厚みが必要であり、またこの
膜が反射防止効果の効率の低下、及び表面の面精度の維
持困難という問題を来したりする。
一方、−酸化ケイ素は二酸化ケイ素と同様に樹脂光学部
品との密着性の良さが利用されている。
しかし、反射率特性の不安定さに問題が存在する。
それ故、物質自体が反射防止効果を有し、経時変化を受
けず、かつ合成樹脂光学部品と密着性の良いものが望ま
れている。
特開昭55−101901号公報の技術は、樹脂基板側
に一酸化ケイ素(Sin)あるいは二酸化ケイ素(Si
n、)よりなるガラス層(厚さ約2μ〜3μ)を作製し
、その上に反射防止膜をコーティングしている。そのガ
ラス層はある程度の厚さが必要である。例えば、ガラス
層をデツピング方式でコートした場合、膜厚の制御が困
難であり、かつ光学部材の表面面精度維持の困難性や、
反射率特性の安定性の欠如等の問題が生じる。
特開昭60−130701号公報ないし特開昭60−1
30704号公報および特開昭60−131501号公
報の技術は、合成樹脂基板上に一酸化ケイ素そして二酸
化ケイ素よりなる膜を有する反射防止膜を開示するが、
−酸化ケイ素膜の屈折率が経時的に変化するため、反射
率特性の安定性が欠けるという問題が存在する。
明が解決しようとする1題、。
前述したように、合成樹脂基板上に少なくともと一酸化
ケイ素あるいは二酸化ケイ素よりなる膜を含有する反射
防止膜は、表面反射率の安定性に問題(−酸化ケイ素に
起因)が存在し、かつ表面面精度を維持することが困難
(二酸化ケイ素のある程度の膜厚の必要性)となる。
本発明は酸化セリウムがアクリル樹脂等の合成樹脂との
密着性が非常に良好であり、しかも酸化セリウムの膜厚
が薄くてもその効果を十分得られるという知見に基づい
て、従来の反射防止膜の持つ上記欠点の解消し、反射率
の経時変化の問題が生じない、かつ密着性の良好な反射
防止膜を作製することに成功し、本発明を完成した。
問題点を解決するための手段 本発明は合成樹脂表面上に、空気側から合成樹脂表面へ
二酸化ケイ素(SiO2)からなる第1層、酸化アルミ
ニウム(AI210■)からなる第2層および酸化セリ
ウム(Cede)からなる第3層を有していることを特
徴とする反射防止膜に関する。
本発明に使用可能な合成樹脂としては、一般に光学部品
に使用される樹脂、例えば、アクリル樹脂(PMMA)
、ポリカーボネート樹脂(PC)、ポリスチレン樹II
I(PS)、紫外線(U V )el[!化樹脂等の屈
折率1.49〜1.58のものであればよい。
酸化セリウムはそれらの樹脂に比べ屈折率カ月。
92〜2.10と大きく、良好な反射防止膜を構成しう
る。また、酸化セリウムは上記樹脂との密着性が非常に
良く、かつ屈折率の経時変化が生じない。
酸化アルミニウムの層は酸化セリウムよりなる第3層と
二酸化ケイ素よりなる第1層の中間に形成される。酸化
アルミニウムは酸化セリウムと二酸化ケイ素の有する屈
折率の中間の屈折率(l、50〜1.62)を有するも
ので、反射防止膜を構成するとともに、酸化セリウムの
第3層と二酸化ケイ素の第1層の密着性を向上させる働
きをする。
酸化アルミニウムの第2層を介在させないで構成した反
射防止膜は最表面の二酸化ケイ素の膜が剥離しやすいも
のとなる。
最表面の二酸化ケイ素よりなる第1層は、二酸化ケイ素
の屈折率(1,47)が第2層の酸化アルミニウムの屈
折率より小さいこと、および二酸化ケイ素が硬質である
ことを利用したもので、反射防止膜を構成するとともに
、表面保護層としての働きをする。
第1層ないし第3層は真空蒸着により設けることができ
、それらの厚さく光学的膜厚)は設計主波長λ。に対し
て第1層が0.20λa〜0.32λ。、第2層が0.
02λ。〜0.15λ。、第3層が0゜02λ。〜0.
50λ。となるように設ける。酸化セリウムよりなる第
3層は薄くてもよく、反射防止膜は非常に密着性がよい
。 本発明の反射防止膜は、ディジタル・オーディオ・
ディスク(DAD)用プラスチックレンズ及び複合型非
球面レンズ、ビデオプロジェクタ−用プラスチックレン
ズ、カメラ用プラスチックレンズ及び複合型レンズ等積
々の合成樹脂光学部品に有効に使用できる。
さらに具体的に実施例を挙げて説明する。
X臭性 電子銃方式を使用し、蒸着しようとするアクリル樹脂光
学部品を加熱することなく、到達真空度5 X l O
−’Torrで、蒸着速度的0 、5 nm/分の条件
下で蒸着を行い、表1から表3に示した膜構成の反射防
止膜を作製した。
表−1(膜構成l) λ。= 510nm;  入射角θ=0゛表−3(膜構
成3) λ。=780nm;  入射角θ=06膜構成1〜3を
した反射防止膜の反射率特性を第1図〜第3図に示した
上記表1〜表3に示した膜構成の反射防止膜の信頼性試
験として、密着性試験、耐薬品性試験および環境試験を
行った。
密着性試験 作製した反射防止膜薄膜面上にテープを接着させた後、
テープを表面から垂直に剥がし、膜の剥離状態を観察し
た。
密着性試験の結果、膜剥離は発生しなかった。
耐薬品性試験 フロンソルブ、アルコール、エーテルの各溶剤を含ませ
たレンズクリーナーおよび紙にて作製した反射防止膜の
表面を拭いたが膜には異常は認められなかった。
環境試験 (耐湿度試験) 作製した反射防止膜を50℃、95%の環境下500時
間放置したが、膜には異常は認められなかった。
(熱サイクル試験) 作製した反射防止膜を一30℃と+70℃の温度の環境
下にに各1時間放置するサイクルを4サイクル行ったが
、膜に異常は認められなかった。
発明の効果 合成樹脂光学部品基板上に酸化セリウムの薄膜を有する
構成の反射防止膜は反射防止効果に優れ、屈折率の経時
変化の心配がない。かつ反射防止膜の基板との密着性が
非常に良好なため、膜剥離が生じにくい。
【図面の簡単な説明】
第1図から第3図は本発明の反射防止膜の反射率特性を
示す図である。 1111  図 第2図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、合成樹脂表面上に、空気側から合成樹脂表面へ二酸
    化ケイ素(SiO_2)からなる第1層、酸化アルミニ
    ウム(Al_2O_3)からなる第2層および酸化セリ
    ウム(CeO_2)からなる第3層を有していることを
    特徴とする反射防止膜。 2、更に以下の条件を満足することを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載の反射防止膜: n_1=1.47 0.20λ_0≦n_1d_1≦0
    .32λ_0 1.50≦n_2≦1.62 0.02λ_0≦n_2
    d_2≦0.15λ_0 1.92≦n_3≦2.10 0.02λ_0≦n_3
    d_3≦0.50λ_0 但し、ここで、 n_1:第1層の屈折率 n_2:第2層の屈折率 n_3:第3層の屈折率 n_1d_1:第1層の光学的膜厚 n_2d_2:第2層の光学的膜厚 n_3d_3:第3層の光学的膜厚 λ_0:設計主波長 である。
JP61228682A 1986-09-26 1986-09-26 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 Pending JPS6381402A (ja)

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JP61228682A JPS6381402A (ja) 1986-09-26 1986-09-26 合成樹脂製光学部品の反射防止膜
US07/100,953 US4921760A (en) 1986-09-26 1987-09-25 Anti-reflection coating of optical part made of synthetic resin

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JPS6381402A true JPS6381402A (ja) 1988-04-12

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JP (1) JPS6381402A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5172269A (en) * 1989-06-26 1992-12-15 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Anti-reflection film for plastic optical component
US6778042B2 (en) 2000-10-30 2004-08-17 Kabushiki Kaisha Toshiba High-frequency device
US10371867B2 (en) 2010-09-29 2019-08-06 Nikon-Essilor Co., Ltd. Optical component and method of manufacturing the same

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US6937117B2 (en) 2000-10-30 2005-08-30 Kabushiki Kaisha Toshiba High-frequency device
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