JPS6381402A - 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 - Google Patents
合成樹脂製光学部品の反射防止膜Info
- Publication number
- JPS6381402A JPS6381402A JP61228682A JP22868286A JPS6381402A JP S6381402 A JPS6381402 A JP S6381402A JP 61228682 A JP61228682 A JP 61228682A JP 22868286 A JP22868286 A JP 22868286A JP S6381402 A JPS6381402 A JP S6381402A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- refractive index
- film
- film thickness
- layer consisting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 17
- 239000004033 plastic Substances 0.000 title abstract description 6
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 title abstract description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title abstract description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title abstract description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 42
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract description 20
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims description 15
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 claims description 15
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 11
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 6
- 239000012788 optical film Substances 0.000 abstract description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 42
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 24
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は合成樹脂光学部品との密着性に優れた反射防止
膜に関する。
膜に関する。
従来技術
反射防止膜は、屈折率に差のある物質を積層した構造と
することにより反射防止効果が得られる。
することにより反射防止効果が得られる。
反射防止膜の構成としては二酸化ケイ素あるいは一酸化
ケイ素を介在させてその上に反射防止膜を形成した技術
が知られている(例えば特開昭55−101901号公
報、特開昭60−130701号公報ないし特開昭60
−130704号公報あるいは特開昭60−13150
1号公報等)。
ケイ素を介在させてその上に反射防止膜を形成した技術
が知られている(例えば特開昭55−101901号公
報、特開昭60−130701号公報ないし特開昭60
−130704号公報あるいは特開昭60−13150
1号公報等)。
二酸化ケイ素等の薄膜をコーティングするのは合成樹脂
光学部品等の表面は機帷的引っ掻きゃ薬品等の溶剤に対
して弱く、傷付きやすいという欠点を解消し、表面硬度
の向上および耐久性の向上を計るた、めである。
光学部品等の表面は機帷的引っ掻きゃ薬品等の溶剤に対
して弱く、傷付きやすいという欠点を解消し、表面硬度
の向上および耐久性の向上を計るた、めである。
しかし、二酸化ケイ素は合成樹脂光学部品の屈折率とほ
ぼ等しいため、反射防止効果を奏でる役割をするもので
はなく、樹脂光学部品と反射防止膜の密着性を改良する
介在層としての存在意義しか有していない。しかも、そ
の介在層はある程度以上の厚みが必要であり、またこの
膜が反射防止効果の効率の低下、及び表面の面精度の維
持困難という問題を来したりする。
ぼ等しいため、反射防止効果を奏でる役割をするもので
はなく、樹脂光学部品と反射防止膜の密着性を改良する
介在層としての存在意義しか有していない。しかも、そ
の介在層はある程度以上の厚みが必要であり、またこの
膜が反射防止効果の効率の低下、及び表面の面精度の維
持困難という問題を来したりする。
一方、−酸化ケイ素は二酸化ケイ素と同様に樹脂光学部
品との密着性の良さが利用されている。
品との密着性の良さが利用されている。
しかし、反射率特性の不安定さに問題が存在する。
それ故、物質自体が反射防止効果を有し、経時変化を受
けず、かつ合成樹脂光学部品と密着性の良いものが望ま
れている。
けず、かつ合成樹脂光学部品と密着性の良いものが望ま
れている。
特開昭55−101901号公報の技術は、樹脂基板側
に一酸化ケイ素(Sin)あるいは二酸化ケイ素(Si
n、)よりなるガラス層(厚さ約2μ〜3μ)を作製し
、その上に反射防止膜をコーティングしている。そのガ
ラス層はある程度の厚さが必要である。例えば、ガラス
層をデツピング方式でコートした場合、膜厚の制御が困
難であり、かつ光学部材の表面面精度維持の困難性や、
反射率特性の安定性の欠如等の問題が生じる。
に一酸化ケイ素(Sin)あるいは二酸化ケイ素(Si
n、)よりなるガラス層(厚さ約2μ〜3μ)を作製し
、その上に反射防止膜をコーティングしている。そのガ
ラス層はある程度の厚さが必要である。例えば、ガラス
層をデツピング方式でコートした場合、膜厚の制御が困
難であり、かつ光学部材の表面面精度維持の困難性や、
反射率特性の安定性の欠如等の問題が生じる。
特開昭60−130701号公報ないし特開昭60−1
30704号公報および特開昭60−131501号公
報の技術は、合成樹脂基板上に一酸化ケイ素そして二酸
化ケイ素よりなる膜を有する反射防止膜を開示するが、
−酸化ケイ素膜の屈折率が経時的に変化するため、反射
率特性の安定性が欠けるという問題が存在する。
30704号公報および特開昭60−131501号公
報の技術は、合成樹脂基板上に一酸化ケイ素そして二酸
化ケイ素よりなる膜を有する反射防止膜を開示するが、
−酸化ケイ素膜の屈折率が経時的に変化するため、反射
率特性の安定性が欠けるという問題が存在する。
明が解決しようとする1題、。
前述したように、合成樹脂基板上に少なくともと一酸化
ケイ素あるいは二酸化ケイ素よりなる膜を含有する反射
防止膜は、表面反射率の安定性に問題(−酸化ケイ素に
起因)が存在し、かつ表面面精度を維持することが困難
(二酸化ケイ素のある程度の膜厚の必要性)となる。
ケイ素あるいは二酸化ケイ素よりなる膜を含有する反射
防止膜は、表面反射率の安定性に問題(−酸化ケイ素に
起因)が存在し、かつ表面面精度を維持することが困難
(二酸化ケイ素のある程度の膜厚の必要性)となる。
本発明は酸化セリウムがアクリル樹脂等の合成樹脂との
密着性が非常に良好であり、しかも酸化セリウムの膜厚
が薄くてもその効果を十分得られるという知見に基づい
て、従来の反射防止膜の持つ上記欠点の解消し、反射率
の経時変化の問題が生じない、かつ密着性の良好な反射
防止膜を作製することに成功し、本発明を完成した。
密着性が非常に良好であり、しかも酸化セリウムの膜厚
が薄くてもその効果を十分得られるという知見に基づい
て、従来の反射防止膜の持つ上記欠点の解消し、反射率
の経時変化の問題が生じない、かつ密着性の良好な反射
防止膜を作製することに成功し、本発明を完成した。
問題点を解決するための手段
本発明は合成樹脂表面上に、空気側から合成樹脂表面へ
二酸化ケイ素(SiO2)からなる第1層、酸化アルミ
ニウム(AI210■)からなる第2層および酸化セリ
ウム(Cede)からなる第3層を有していることを特
徴とする反射防止膜に関する。
二酸化ケイ素(SiO2)からなる第1層、酸化アルミ
ニウム(AI210■)からなる第2層および酸化セリ
ウム(Cede)からなる第3層を有していることを特
徴とする反射防止膜に関する。
本発明に使用可能な合成樹脂としては、一般に光学部品
に使用される樹脂、例えば、アクリル樹脂(PMMA)
、ポリカーボネート樹脂(PC)、ポリスチレン樹II
I(PS)、紫外線(U V )el[!化樹脂等の屈
折率1.49〜1.58のものであればよい。
に使用される樹脂、例えば、アクリル樹脂(PMMA)
、ポリカーボネート樹脂(PC)、ポリスチレン樹II
I(PS)、紫外線(U V )el[!化樹脂等の屈
折率1.49〜1.58のものであればよい。
酸化セリウムはそれらの樹脂に比べ屈折率カ月。
92〜2.10と大きく、良好な反射防止膜を構成しう
る。また、酸化セリウムは上記樹脂との密着性が非常に
良く、かつ屈折率の経時変化が生じない。
る。また、酸化セリウムは上記樹脂との密着性が非常に
良く、かつ屈折率の経時変化が生じない。
酸化アルミニウムの層は酸化セリウムよりなる第3層と
二酸化ケイ素よりなる第1層の中間に形成される。酸化
アルミニウムは酸化セリウムと二酸化ケイ素の有する屈
折率の中間の屈折率(l、50〜1.62)を有するも
ので、反射防止膜を構成するとともに、酸化セリウムの
第3層と二酸化ケイ素の第1層の密着性を向上させる働
きをする。
二酸化ケイ素よりなる第1層の中間に形成される。酸化
アルミニウムは酸化セリウムと二酸化ケイ素の有する屈
折率の中間の屈折率(l、50〜1.62)を有するも
ので、反射防止膜を構成するとともに、酸化セリウムの
第3層と二酸化ケイ素の第1層の密着性を向上させる働
きをする。
酸化アルミニウムの第2層を介在させないで構成した反
射防止膜は最表面の二酸化ケイ素の膜が剥離しやすいも
のとなる。
射防止膜は最表面の二酸化ケイ素の膜が剥離しやすいも
のとなる。
最表面の二酸化ケイ素よりなる第1層は、二酸化ケイ素
の屈折率(1,47)が第2層の酸化アルミニウムの屈
折率より小さいこと、および二酸化ケイ素が硬質である
ことを利用したもので、反射防止膜を構成するとともに
、表面保護層としての働きをする。
の屈折率(1,47)が第2層の酸化アルミニウムの屈
折率より小さいこと、および二酸化ケイ素が硬質である
ことを利用したもので、反射防止膜を構成するとともに
、表面保護層としての働きをする。
第1層ないし第3層は真空蒸着により設けることができ
、それらの厚さく光学的膜厚)は設計主波長λ。に対し
て第1層が0.20λa〜0.32λ。、第2層が0.
02λ。〜0.15λ。、第3層が0゜02λ。〜0.
50λ。となるように設ける。酸化セリウムよりなる第
3層は薄くてもよく、反射防止膜は非常に密着性がよい
。 本発明の反射防止膜は、ディジタル・オーディオ・
ディスク(DAD)用プラスチックレンズ及び複合型非
球面レンズ、ビデオプロジェクタ−用プラスチックレン
ズ、カメラ用プラスチックレンズ及び複合型レンズ等積
々の合成樹脂光学部品に有効に使用できる。
、それらの厚さく光学的膜厚)は設計主波長λ。に対し
て第1層が0.20λa〜0.32λ。、第2層が0.
02λ。〜0.15λ。、第3層が0゜02λ。〜0.
50λ。となるように設ける。酸化セリウムよりなる第
3層は薄くてもよく、反射防止膜は非常に密着性がよい
。 本発明の反射防止膜は、ディジタル・オーディオ・
ディスク(DAD)用プラスチックレンズ及び複合型非
球面レンズ、ビデオプロジェクタ−用プラスチックレン
ズ、カメラ用プラスチックレンズ及び複合型レンズ等積
々の合成樹脂光学部品に有効に使用できる。
さらに具体的に実施例を挙げて説明する。
X臭性
電子銃方式を使用し、蒸着しようとするアクリル樹脂光
学部品を加熱することなく、到達真空度5 X l O
−’Torrで、蒸着速度的0 、5 nm/分の条件
下で蒸着を行い、表1から表3に示した膜構成の反射防
止膜を作製した。
学部品を加熱することなく、到達真空度5 X l O
−’Torrで、蒸着速度的0 、5 nm/分の条件
下で蒸着を行い、表1から表3に示した膜構成の反射防
止膜を作製した。
表−1(膜構成l)
λ。= 510nm; 入射角θ=0゛表−3(膜構
成3) λ。=780nm; 入射角θ=06膜構成1〜3を
した反射防止膜の反射率特性を第1図〜第3図に示した
。
成3) λ。=780nm; 入射角θ=06膜構成1〜3を
した反射防止膜の反射率特性を第1図〜第3図に示した
。
上記表1〜表3に示した膜構成の反射防止膜の信頼性試
験として、密着性試験、耐薬品性試験および環境試験を
行った。
験として、密着性試験、耐薬品性試験および環境試験を
行った。
密着性試験
作製した反射防止膜薄膜面上にテープを接着させた後、
テープを表面から垂直に剥がし、膜の剥離状態を観察し
た。
テープを表面から垂直に剥がし、膜の剥離状態を観察し
た。
密着性試験の結果、膜剥離は発生しなかった。
耐薬品性試験
フロンソルブ、アルコール、エーテルの各溶剤を含ませ
たレンズクリーナーおよび紙にて作製した反射防止膜の
表面を拭いたが膜には異常は認められなかった。
たレンズクリーナーおよび紙にて作製した反射防止膜の
表面を拭いたが膜には異常は認められなかった。
環境試験
(耐湿度試験)
作製した反射防止膜を50℃、95%の環境下500時
間放置したが、膜には異常は認められなかった。
間放置したが、膜には異常は認められなかった。
(熱サイクル試験)
作製した反射防止膜を一30℃と+70℃の温度の環境
下にに各1時間放置するサイクルを4サイクル行ったが
、膜に異常は認められなかった。
下にに各1時間放置するサイクルを4サイクル行ったが
、膜に異常は認められなかった。
発明の効果
合成樹脂光学部品基板上に酸化セリウムの薄膜を有する
構成の反射防止膜は反射防止効果に優れ、屈折率の経時
変化の心配がない。かつ反射防止膜の基板との密着性が
非常に良好なため、膜剥離が生じにくい。
構成の反射防止膜は反射防止効果に優れ、屈折率の経時
変化の心配がない。かつ反射防止膜の基板との密着性が
非常に良好なため、膜剥離が生じにくい。
第1図から第3図は本発明の反射防止膜の反射率特性を
示す図である。 1111 図 第2図
示す図である。 1111 図 第2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、合成樹脂表面上に、空気側から合成樹脂表面へ二酸
化ケイ素(SiO_2)からなる第1層、酸化アルミニ
ウム(Al_2O_3)からなる第2層および酸化セリ
ウム(CeO_2)からなる第3層を有していることを
特徴とする反射防止膜。 2、更に以下の条件を満足することを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の反射防止膜: n_1=1.47 0.20λ_0≦n_1d_1≦0
.32λ_0 1.50≦n_2≦1.62 0.02λ_0≦n_2
d_2≦0.15λ_0 1.92≦n_3≦2.10 0.02λ_0≦n_3
d_3≦0.50λ_0 但し、ここで、 n_1:第1層の屈折率 n_2:第2層の屈折率 n_3:第3層の屈折率 n_1d_1:第1層の光学的膜厚 n_2d_2:第2層の光学的膜厚 n_3d_3:第3層の光学的膜厚 λ_0:設計主波長 である。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61228682A JPS6381402A (ja) | 1986-09-26 | 1986-09-26 | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 |
US07/100,953 US4921760A (en) | 1986-09-26 | 1987-09-25 | Anti-reflection coating of optical part made of synthetic resin |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61228682A JPS6381402A (ja) | 1986-09-26 | 1986-09-26 | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6381402A true JPS6381402A (ja) | 1988-04-12 |
Family
ID=16880157
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61228682A Pending JPS6381402A (ja) | 1986-09-26 | 1986-09-26 | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6381402A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5172269A (en) * | 1989-06-26 | 1992-12-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Anti-reflection film for plastic optical component |
US6778042B2 (en) | 2000-10-30 | 2004-08-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | High-frequency device |
US10371867B2 (en) | 2010-09-29 | 2019-08-06 | Nikon-Essilor Co., Ltd. | Optical component and method of manufacturing the same |
-
1986
- 1986-09-26 JP JP61228682A patent/JPS6381402A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5172269A (en) * | 1989-06-26 | 1992-12-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Anti-reflection film for plastic optical component |
US6778042B2 (en) | 2000-10-30 | 2004-08-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | High-frequency device |
US6937117B2 (en) | 2000-10-30 | 2005-08-30 | Kabushiki Kaisha Toshiba | High-frequency device |
US10371867B2 (en) | 2010-09-29 | 2019-08-06 | Nikon-Essilor Co., Ltd. | Optical component and method of manufacturing the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5725959A (en) | Antireflection film for plastic optical element | |
JP3624082B2 (ja) | 反射防止膜及びその製造方法 | |
JPH03109503A (ja) | プラスチック製光学部品の反射防止膜とその形成方法 | |
JPS5860701A (ja) | 反射防止膜 | |
US4921760A (en) | Anti-reflection coating of optical part made of synthetic resin | |
JPS6381402A (ja) | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 | |
JP3221764B2 (ja) | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 | |
JPH0462363B2 (ja) | ||
JPH08327809A (ja) | プラスチック製反射ミラー | |
JPS6381403A (ja) | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 | |
JPS6381404A (ja) | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 | |
JPS60130704A (ja) | 合成樹脂基板の反射防止膜 | |
JP2002107505A (ja) | 反射防止膜 | |
JP3111243B2 (ja) | 積層反射防止膜を有する光学部品 | |
JPH04156501A (ja) | 合成樹脂製光学部品への反射防止膜 | |
JPH0483201A (ja) | 合成樹脂製光学部品への反射防止膜 | |
JPS62127701A (ja) | 反射防止膜 | |
JPS63172201A (ja) | 2層反射防止膜 | |
JPH08240701A (ja) | 光学薄膜 | |
JPH03132601A (ja) | プラスチック製光学部品の反射防止膜とその形成方法 | |
JPH02304501A (ja) | 自動開閉装置 | |
JPH06138303A (ja) | プラスチック製光学部品の反射防止膜 | |
JPH10195636A (ja) | 耐久性に優れた反射防止材 | |
JPH05313001A (ja) | プラスチック製光学部品の反射防止膜 | |
JPS60130702A (ja) | 合成樹脂基板の反射防止膜 |