JPH0483201A - 合成樹脂製光学部品への反射防止膜 - Google Patents
合成樹脂製光学部品への反射防止膜Info
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- JPH0483201A JPH0483201A JP2198643A JP19864390A JPH0483201A JP H0483201 A JPH0483201 A JP H0483201A JP 2198643 A JP2198643 A JP 2198643A JP 19864390 A JP19864390 A JP 19864390A JP H0483201 A JPH0483201 A JP H0483201A
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Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、合成樹脂製光学部品への反射防止膜に関する
。
。
[従来の技術]
近年、レンズ等の光学部品の素材には、無機ガラスに代
えて、軽量でかつ加工の容易な合成樹脂が多く用いられ
るようになった。ところが、この合成樹脂製光学部品は
、無機ガラスを素材としたものと同様に光の反射が大き
く、また軟らかいために、表面が傷つき易いという問題
がある。このため、合成樹脂製光学部品には硬化保護を
兼ねた反射防止膜を施す必要がある。
えて、軽量でかつ加工の容易な合成樹脂が多く用いられ
るようになった。ところが、この合成樹脂製光学部品は
、無機ガラスを素材としたものと同様に光の反射が大き
く、また軟らかいために、表面が傷つき易いという問題
がある。このため、合成樹脂製光学部品には硬化保護を
兼ねた反射防止膜を施す必要がある。
一般に、反射防止膜は真空蒸着法により形成するもので
あり、無機ガラスの場合には無機ガラスを加熱して蒸着
させることができるので、無機ガラスと蒸着膜との密着
性かよく、強固な膜を形成可能である。しかしながら、
合成樹脂の場合、合成樹脂の熱変形温度が低いため、無
機ガラスにような基板加熱ができず、そのために合成樹
脂と蒸着膜も密着性が悪くなり、耐久性に劣るという問
題点があった。
あり、無機ガラスの場合には無機ガラスを加熱して蒸着
させることができるので、無機ガラスと蒸着膜との密着
性かよく、強固な膜を形成可能である。しかしながら、
合成樹脂の場合、合成樹脂の熱変形温度が低いため、無
機ガラスにような基板加熱ができず、そのために合成樹
脂と蒸着膜も密着性が悪くなり、耐久性に劣るという問
題点があった。
そこで従来は、例えば特開昭60−130701号公報
や特開昭60−130704号公報に開示されるように
、−酸化ケイ素(Sin)を合成樹脂との密着層として
介在させた反射防止膜を形成することが知られている。
や特開昭60−130704号公報に開示されるように
、−酸化ケイ素(Sin)を合成樹脂との密着層として
介在させた反射防止膜を形成することが知られている。
SiOを密着層として用いる理由は、SiOが合成樹脂
に対して密着性が高いところによるものである。しかし
、SiOは、不安定な物質として知られており、該屈折
率が経時的に大きく変化するため、反射率特性の安定性
が欠けるという問題点が存在する。また、SiOは抵抗
加熱蒸着法でなければ安定に蒸着できない物質であり、
抵抗加熱蒸着法は生産性が悪くランニングコストも高い
ことから生産する上でのコスト面の問題もあった。
に対して密着性が高いところによるものである。しかし
、SiOは、不安定な物質として知られており、該屈折
率が経時的に大きく変化するため、反射率特性の安定性
が欠けるという問題点が存在する。また、SiOは抵抗
加熱蒸着法でなければ安定に蒸着できない物質であり、
抵抗加熱蒸着法は生産性が悪くランニングコストも高い
ことから生産する上でのコスト面の問題もあった。
上記のような問題点を解消するために、特開昭63−8
1404号公報に開示されるように、二酸化セリウム(
CeO□)を合成樹脂との密着性向上のために介在させ
た反射防止膜が提案されている。
1404号公報に開示されるように、二酸化セリウム(
CeO□)を合成樹脂との密着性向上のために介在させ
た反射防止膜が提案されている。
CeO2は合成樹脂との密着性が高(、屈折率が安定し
ていて経時変化が少ないうえ、電子線加熱蒸着法により
蒸着できるため、生産性が高いなど利点の多い物質であ
るが、実験の結果、以下のような問題点を有しているこ
とがわかった。
ていて経時変化が少ないうえ、電子線加熱蒸着法により
蒸着できるため、生産性が高いなど利点の多い物質であ
るが、実験の結果、以下のような問題点を有しているこ
とがわかった。
[発明が解決しようとする課題]
第一に、CeO□は充填率が低い膜(ポーラスな膜)と
なり易く、このたCeO□を密着層として介在させた反
射防止膜を耐湿度試験(45°C195%、300時間
)に暴露するとCeO2の膜中に水分が浸透し、CeO
□とその上に重ねられた蒸着膜との界面に影響を及ぼし
てしまう。その結果、反射防止膜を構成する膜相互間の
密着性が極端に劣化し、簡単にテープ剥離してしまうと
いう問題点があった。
なり易く、このたCeO□を密着層として介在させた反
射防止膜を耐湿度試験(45°C195%、300時間
)に暴露するとCeO2の膜中に水分が浸透し、CeO
□とその上に重ねられた蒸着膜との界面に影響を及ぼし
てしまう。その結果、反射防止膜を構成する膜相互間の
密着性が極端に劣化し、簡単にテープ剥離してしまうと
いう問題点があった。
第二に、CeO□には420nm以下の短波長領域の光
に対して吸収が存在し、CeO□をカメラティキングレ
ンズ等の反射防止膜に用いると、透過光のカラーバラン
スを崩す虞がある。
に対して吸収が存在し、CeO□をカメラティキングレ
ンズ等の反射防止膜に用いると、透過光のカラーバラン
スを崩す虞がある。
本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてなされたもので
、合成樹脂との密着性が高く、安定で生産性が高い利点
を有しつつ、耐湿度試験後でも膜の密着性の劣化がな(
かつ吸収の少ない合成樹脂製光学部品への反射防止膜を
提供することを目的とする。
、合成樹脂との密着性が高く、安定で生産性が高い利点
を有しつつ、耐湿度試験後でも膜の密着性の劣化がな(
かつ吸収の少ない合成樹脂製光学部品への反射防止膜を
提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
上記目的を達成するために、本発明は、合成樹脂基板の
表面に設けられる反射防止膜を、前記表面側から空気側
へ順に、酸化ジルコニウム(ZrO2)と酸化チタン(
TiO□)の混合物または酸化ジルコニウム(ZrO□
)と酸化タンタル(TazO5)の混合物からなる第−
層と、二酸化ケイ素(SiO2)または酸化アルミニウ
ム(l□03)からなる第二層と、酸化ジルコニウム(
ZrO□)と酸化チタン(TiOz)の混合物または酸
化ジルコニウム(ZrO□)と酸化タンタル(Ta20
5)の混合物からなる第三層と、二酸化ケイ素(SiO
2)からなる第四層とから構成した。
表面に設けられる反射防止膜を、前記表面側から空気側
へ順に、酸化ジルコニウム(ZrO2)と酸化チタン(
TiO□)の混合物または酸化ジルコニウム(ZrO□
)と酸化タンタル(TazO5)の混合物からなる第−
層と、二酸化ケイ素(SiO2)または酸化アルミニウ
ム(l□03)からなる第二層と、酸化ジルコニウム(
ZrO□)と酸化チタン(TiOz)の混合物または酸
化ジルコニウム(ZrO□)と酸化タンタル(Ta20
5)の混合物からなる第三層と、二酸化ケイ素(SiO
2)からなる第四層とから構成した。
本発明において、光学部品を形成する合成樹脂としては
、例えばアクルル樹脂(PMMA) 、ポリカーボネー
ト樹脂(pc) 、ポリスチレン樹脂(Psi 、アモ
ルファスポリオレフィン樹脂(APO) 、紫外線fU
V)硬化型樹脂などであればよい。
、例えばアクルル樹脂(PMMA) 、ポリカーボネー
ト樹脂(pc) 、ポリスチレン樹脂(Psi 、アモ
ルファスポリオレフィン樹脂(APO) 、紫外線fU
V)硬化型樹脂などであればよい。
[作用コ
かかる構成の合成樹脂製光学部品への反射防止膜におい
て、第−層はZrO□TiO□の混合物またはZrO□
とTaxesの混合物を電子線加熱蒸着法により形成し
て成る。これらの混合物層は、合成樹脂に対しCeO□
と同等の高い密着性を有しているとともに、安定で経時
変化が少なく、生産性も高い。さらに、本発明の特徴と
して、該混合物層の充填率がCeO□に比べて高(、水
分の影響を受けに(いため耐湿性が向上する。また、該
混合物層はCeO□に比べて420nm以下の短波長領
域で吸収が少なく、透過光のカラーバランスを阻害しな
い。
て、第−層はZrO□TiO□の混合物またはZrO□
とTaxesの混合物を電子線加熱蒸着法により形成し
て成る。これらの混合物層は、合成樹脂に対しCeO□
と同等の高い密着性を有しているとともに、安定で経時
変化が少なく、生産性も高い。さらに、本発明の特徴と
して、該混合物層の充填率がCeO□に比べて高(、水
分の影響を受けに(いため耐湿性が向上する。また、該
混合物層はCeO□に比べて420nm以下の短波長領
域で吸収が少なく、透過光のカラーバランスを阻害しな
い。
第二層は第−層と第三層の中間に形成され、Singま
たは八β203を電子線加熱蒸着法により形成して成る
。これらの物質は第−層、第三層に比ベて低い屈折率(
1,45〜1.62)を有しており、反射防止膜を構成
するとともに、第−層と第三層との密着性を向上させる
働きをする。
たは八β203を電子線加熱蒸着法により形成して成る
。これらの物質は第−層、第三層に比ベて低い屈折率(
1,45〜1.62)を有しており、反射防止膜を構成
するとともに、第−層と第三層との密着性を向上させる
働きをする。
第三層は第二層と第四層の中間に形成され、ZrO□と
Ti0zの混合物またはZrO□とTazO5の混合物
を電子線加熱蒸着法により形成して成る。これらの混合
物層は第二層と第4層に比べて高い屈折率!1.85〜
2.101を有しており、反射防止効果を向上させるも
のである。なお、上記混合物の混合比率を変えることに
より屈折率の調整が可能で、所望の反射特性を得ること
ができる。
Ti0zの混合物またはZrO□とTazO5の混合物
を電子線加熱蒸着法により形成して成る。これらの混合
物層は第二層と第4層に比べて高い屈折率!1.85〜
2.101を有しており、反射防止効果を向上させるも
のである。なお、上記混合物の混合比率を変えることに
より屈折率の調整が可能で、所望の反射特性を得ること
ができる。
第四層は第三′層の上に形成され、本発明の反射防止膜
の最表面を構成するものであり、SiO□を電子線加熱
蒸着法により形成して成る。5iOzは第三層に比べて
低い屈折率(1,45〜1.47)を有しており、反射
防止効果の基本的な特性を与えるとともに、SiO□が
硬いことから表面保護としての働きをする。
の最表面を構成するものであり、SiO□を電子線加熱
蒸着法により形成して成る。5iOzは第三層に比べて
低い屈折率(1,45〜1.47)を有しており、反射
防止効果の基本的な特性を与えるとともに、SiO□が
硬いことから表面保護としての働きをする。
本発明の反射防止膜の第−層から第四層の各層の膜厚は
、設計中心波長えに対して第−層が0.25λ以下、第
二層が0,25λ以下、第三層が0.25〜0.60え
、第四層が0.25〜0.30λどなるように設ける。
、設計中心波長えに対して第−層が0.25λ以下、第
二層が0,25λ以下、第三層が0.25〜0.60え
、第四層が0.25〜0.30λどなるように設ける。
[実施例]
直径15mmの合成樹脂基板をチャンバー径が560闘
の真空蒸着装置に500個セットした後、真空蒸着チャ
ンバー内をI X 10−’Torr以下の高真空に排
気した。排気系にはコールドトラップ付きのデイフュー
ジョンポンプあるいはクライオポンプを使用した。しか
る後に、合成樹脂基板の加熱を行うことなく、電子線加
熱法により、蒸着速度0.5〜1.0nm/secの条
件で表1から表6に示される膜構成の反射防止膜を蒸着
した。
の真空蒸着装置に500個セットした後、真空蒸着チャ
ンバー内をI X 10−’Torr以下の高真空に排
気した。排気系にはコールドトラップ付きのデイフュー
ジョンポンプあるいはクライオポンプを使用した。しか
る後に、合成樹脂基板の加熱を行うことなく、電子線加
熱法により、蒸着速度0.5〜1.0nm/secの条
件で表1から表6に示される膜構成の反射防止膜を蒸着
した。
(以下余白)
表1(実施例1)え= 500nm
表3(実施例3)
ん= 500nm
表2(実施例2)
え= 500nm
表4(実施例4)
え= 500nm
表5
(実施例5)
ん =500口m
実施例1〜5の反射防止膜の反射率特性を第1図〜第5
図に示した。本発明の反射防止膜は可視域(400〜7
00nmlで良好な反射防止効果を有している。
図に示した。本発明の反射防止膜は可視域(400〜7
00nmlで良好な反射防止効果を有している。
次に、上記実施例1〜5および比較例1の反射防止膜に
ついて以下のような方法で基板との密着性、耐湿性、耐
熱衝撃性、吸収特性を評価した。
ついて以下のような方法で基板との密着性、耐湿性、耐
熱衝撃性、吸収特性を評価した。
表6
(比較例1)
ルー 500nrn
(1)密着性;幅10mmの粘着テープ(セロハン粘着
テープ)を反射防止膜にはりつけ、粘着テープの一端を
45°の角度から瞬時に引き剥して膜の剥離状態を観察
することにより評価した。
テープ)を反射防止膜にはりつけ、粘着テープの一端を
45°の角度から瞬時に引き剥して膜の剥離状態を観察
することにより評価した。
(2)耐湿性;温度45°C1湿度95%の環境に30
0時間放置した後に外観性能と上記(1)の方法で密着
性を評価した。
0時間放置した後に外観性能と上記(1)の方法で密着
性を評価した。
(3)耐熱衝撃性;温度が一30℃と70℃の環境下に
交互に30分間ずつ放置するサイクルを10サイクル行
った後、外観性能と上記(11の方法で密着性を評価し
た。
交互に30分間ずつ放置するサイクルを10サイクル行
った後、外観性能と上記(11の方法で密着性を評価し
た。
(4)吸収特性;片面に反射防止膜を施した基板の分光
透過率と分光反射率を分光光度計にて測定し、その結果
得られた吸収特性からさらに基板の吸収率を差し引いて
反射防止膜の吸収特性を評価した(特に400nmにお
ける吸収率で評価した)。
透過率と分光反射率を分光光度計にて測定し、その結果
得られた吸収特性からさらに基板の吸収率を差し引いて
反射防止膜の吸収特性を評価した(特に400nmにお
ける吸収率で評価した)。
表7
実施例1〜5および比較例1の反射防止膜について密着
性、耐湿性、耐衝撃性、吸収特性を評価した結果は表7
に示す通りである。
性、耐湿性、耐衝撃性、吸収特性を評価した結果は表7
に示す通りである。
(以下余白)
O;良 △;やや不良 ×、不良
表7の結果かられかるように、本発明の反射防止膜は、
密着性、耐熱衝撃性に関して従来の反射防止膜と同等の
性能を有しつつ、特に1fi1湿性と吸収特性の点で従
来の反射防止膜よりも優れている。
密着性、耐熱衝撃性に関して従来の反射防止膜と同等の
性能を有しつつ、特に1fi1湿性と吸収特性の点で従
来の反射防止膜よりも優れている。
[発明の効果J
以上のように本発明の合成樹脂製光学部品への反射防止
膜によれば、合成樹脂との密着層としてZrO2とTi
O□の混合物またはZrO7とTa205の混合物を介
在させているので、合成樹脂への高い密着性を有すると
ともに、耐湿度試験後でも膜の密着性の劣化がなく、光
の吸収も少ない。
膜によれば、合成樹脂との密着層としてZrO2とTi
O□の混合物またはZrO7とTa205の混合物を介
在させているので、合成樹脂への高い密着性を有すると
ともに、耐湿度試験後でも膜の密着性の劣化がなく、光
の吸収も少ない。
【図面の簡単な説明】
第1図から第5図はそれぞれ本発明の反射防止膜の実施
例1〜5の反射率特性図である。
例1〜5の反射率特性図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)合成樹脂基板の表面に設けられ、該表面側から空
気側へ順に、酸化ジルコニウムと酸化チタンの混合物ま
たは酸化ジルコニウムと酸化タンタルの混合物からなる
第一層と、二酸化ケイ素または酸化アルミニウムからな
る第二層と、酸化ジルコニウムと酸化チタンの混合物ま
たは酸化ジルコニウムと酸化タンタルの混合物からなる
第三層と、二酸化ケイ素からなる第四層とからなること
を特徴とする合成樹脂製光学部品への反射防止膜。 (2)1.85≦n_1≦2.10 0<n_1d_1
≦0.25λ 1.45≦n_2≦1.62 0<n_2d_2≦0.
25λ 1.85≦n_3≦2.10 0.25λ≦n_3d_
3≦0.60λ 1.45≦n_4≦1.47 0.25λ≦n_4d_
4≦0.30λここで、 n_1;第一層の屈折率n_1d_1;第一層の光学的
膜厚n_2;第二層の屈折率n_2d_2;第二層の光
学的膜厚n_3;第三層の屈折率n_3d_3;第三層
の光学的膜厚n_4;第四層の屈折率n_4d_4;第
四層の光学的膜厚λ;中心波長 の条件を満足することを特徴とする請求項1記載の合成
樹脂製光学部品への反射防止膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2198643A JPH0483201A (ja) | 1990-07-26 | 1990-07-26 | 合成樹脂製光学部品への反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2198643A JPH0483201A (ja) | 1990-07-26 | 1990-07-26 | 合成樹脂製光学部品への反射防止膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0483201A true JPH0483201A (ja) | 1992-03-17 |
Family
ID=16394628
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2198643A Pending JPH0483201A (ja) | 1990-07-26 | 1990-07-26 | 合成樹脂製光学部品への反射防止膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0483201A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2163215A2 (en) * | 2003-01-30 | 2010-03-17 | Sumitomo Bakelite Co., Ltd. | Endoscope-equipped puncture balloon |
-
1990
- 1990-07-26 JP JP2198643A patent/JPH0483201A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2163215A2 (en) * | 2003-01-30 | 2010-03-17 | Sumitomo Bakelite Co., Ltd. | Endoscope-equipped puncture balloon |
EP2163215A3 (en) * | 2003-01-30 | 2010-11-24 | Sumitomo Bakelite Co., Ltd. | Endoscope-equipped puncture balloon |
US8771174B2 (en) | 2003-01-30 | 2014-07-08 | Sumitomo Bakelite Co., Ltd. | Endoscope-equipped puncture balloon |
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