JPS6135521B2 - - Google Patents
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- JPS6135521B2 JPS6135521B2 JP56026458A JP2645881A JPS6135521B2 JP S6135521 B2 JPS6135521 B2 JP S6135521B2 JP 56026458 A JP56026458 A JP 56026458A JP 2645881 A JP2645881 A JP 2645881A JP S6135521 B2 JPS6135521 B2 JP S6135521B2
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 11
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 10
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 8
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 8
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、反射防止膜の改良に関し、更に詳細
にはプラスチツク光学部材のための反射防止膜の
改良に関するものである。
にはプラスチツク光学部材のための反射防止膜の
改良に関するものである。
一般にプラスチツク光学部材は、基板が軟らか
いことや、80℃以上に加熱すると変形してしまう
ことから、反射防止膜として、300℃前後まで加
熱することが必要なホツトコートを使用すること
ができず、従つて強い反射防止膜を形成すること
が困難である。この対策として、プラスチツク光
学部材の表面にSiO2またはガラスを２μ〜10μ
蒸着し、下地の強度を高め、その上に反射防止膜
を施す方法が知られている。しかしながら、この
ような方法は、SiO2またはガラスの蒸着に時間
がかかり、作業性が悪く、またSiO2は上記した
程度（２μ〜10μ）になると光の吸収が大きくな
つてしまうなどの欠点がある。
いことや、80℃以上に加熱すると変形してしまう
ことから、反射防止膜として、300℃前後まで加
熱することが必要なホツトコートを使用すること
ができず、従つて強い反射防止膜を形成すること
が困難である。この対策として、プラスチツク光
学部材の表面にSiO2またはガラスを２μ〜10μ
蒸着し、下地の強度を高め、その上に反射防止膜
を施す方法が知られている。しかしながら、この
ような方法は、SiO2またはガラスの蒸着に時間
がかかり、作業性が悪く、またSiO2は上記した
程度（２μ〜10μ）になると光の吸収が大きくな
つてしまうなどの欠点がある。
また、基盤上に高屈折率を有する物質を先す蒸
着し、この高屈折率層上に更に低屈折率を有する
物質を蒸着し、反射防止膜を２層膜構成とすれば
特定波長の反射率を特に下げることができること
が知られている。しかしながら、基盤を高温にす
ることができれば種々の物質を用いて上記２層膜
を形成することができるが、前述のようにプラス
チツクはほぼ常温において反射防止膜の蒸着を行
なう必要があるため、特に高屈折率層の選択が難
しいという問題がある。また、前述のガラスや
SiO2を高屈折率層として用いることは、ガラス
の場合には屈折率が不足であり、またSiO2の場
合には光の吸収が大きくなつてしまうという問題
があるため適当でない。
着し、この高屈折率層上に更に低屈折率を有する
物質を蒸着し、反射防止膜を２層膜構成とすれば
特定波長の反射率を特に下げることができること
が知られている。しかしながら、基盤を高温にす
ることができれば種々の物質を用いて上記２層膜
を形成することができるが、前述のようにプラス
チツクはほぼ常温において反射防止膜の蒸着を行
なう必要があるため、特に高屈折率層の選択が難
しいという問題がある。また、前述のガラスや
SiO2を高屈折率層として用いることは、ガラス
の場合には屈折率が不足であり、またSiO2の場
合には光の吸収が大きくなつてしまうという問題
があるため適当でない。
そこで本発明は、プラスチツク光学部材に上記
のような表面強化処理をしないで、直接施すこと
ができ、しかも特定の波長の反射率を特に高める
ことのできる層構成を有する反射防止膜を提供す
ることを目的とするものである。
のような表面強化処理をしないで、直接施すこと
ができ、しかも特定の波長の反射率を特に高める
ことのできる層構成を有する反射防止膜を提供す
ることを目的とするものである。
本発明による反射防止膜は、プラスチツク光学
部材上に蒸着された厚さ1/8λ〜1/2λの酸化ジル
コニウムZrO2からなる第１層、この第１層上に
蒸着された厚さ1/4λのフツ化マグネシウム
MgF2からなる第２層、およびこの第２層上に蒸
着された厚さ1/8λ以下の二酸化硅素SiO2からな
る第３層からなることを特徴とするものである。
部材上に蒸着された厚さ1/8λ〜1/2λの酸化ジル
コニウムZrO2からなる第１層、この第１層上に
蒸着された厚さ1/4λのフツ化マグネシウム
MgF2からなる第２層、およびこの第２層上に蒸
着された厚さ1/8λ以下の二酸化硅素SiO2からな
る第３層からなることを特徴とするものである。
この本発明の反射防止膜においては、第１層と
〓〓〓
して常温で蒸着された場合にも十分な強度を有
し、光の吸収も少なく高屈折率を有するとともに
第２層のフツ化マグネシウムとの合性も良い酸化
ジルコニウムを用い、また第２層として屈折率の
低いフツ化マグネシウムMgF2を用いているので
反射防止効果が大きく、また常温においてもその
蒸着を良好に行なうことができる。また、フツ化
マグネシウムは、強度が低いが、フツ化マグネシ
ウムの劣化を防止するために第３層として二酸化
硅素を用いて反射防止膜を上記したような３層構
造とすることによつて反射防止膜全体として、上
記した従来の表面強化処理した場合と同様の強度
を呈することが実験の結果わかつた。
〓〓〓
して常温で蒸着された場合にも十分な強度を有
し、光の吸収も少なく高屈折率を有するとともに
第２層のフツ化マグネシウムとの合性も良い酸化
ジルコニウムを用い、また第２層として屈折率の
低いフツ化マグネシウムMgF2を用いているので
反射防止効果が大きく、また常温においてもその
蒸着を良好に行なうことができる。また、フツ化
マグネシウムは、強度が低いが、フツ化マグネシ
ウムの劣化を防止するために第３層として二酸化
硅素を用いて反射防止膜を上記したような３層構
造とすることによつて反射防止膜全体として、上
記した従来の表面強化処理した場合と同様の強度
を呈することが実験の結果わかつた。
以下添付図面を参照しつつ本発明の反射防止膜
の好ましい実施例について説明する。
の好ましい実施例について説明する。
第１図は、本発明の反射防止膜１の断面図であ
る。
る。
第１図において、符号２はPMMA等のプラス
チツク光学部材であり、反射防止膜１はこの光学
部材２上に被覆される。この反射防止膜１は、光
学部材２に近い順に酸化ジルコニウム層である第
１層３、MgF2層である第２層４およびSiO2層で
ある第３層５からなつている。第２層４の厚さは
λ／４が望ましく、第１層３の厚さはλ／２〜
λ／８から透過させるべき光の波長に応じた厚さ
に選択される。この第１層の厚さは、通常はλ／
４が選択される。第３層５は、特に第２層の
MgF2膜が劣化するのを防止するためのものであ
り、第１層３および第２層４による反射防止効果
に影響を与えない程度の厚さ（例えばλ／８以
下）を有する。以上の第１、２および３層３，４
および５は、すべて蒸着によつて層設される。
チツク光学部材であり、反射防止膜１はこの光学
部材２上に被覆される。この反射防止膜１は、光
学部材２に近い順に酸化ジルコニウム層である第
１層３、MgF2層である第２層４およびSiO2層で
ある第３層５からなつている。第２層４の厚さは
λ／４が望ましく、第１層３の厚さはλ／２〜
λ／８から透過させるべき光の波長に応じた厚さ
に選択される。この第１層の厚さは、通常はλ／
４が選択される。第３層５は、特に第２層の
MgF2膜が劣化するのを防止するためのものであ
り、第１層３および第２層４による反射防止効果
に影響を与えない程度の厚さ（例えばλ／８以
下）を有する。以上の第１、２および３層３，４
および５は、すべて蒸着によつて層設される。
次に実験例１によつて本発明を更に詳細に説明
する。
する。
実験例
加熱せずに、アクリル基板上に第１層３として
酸化ジルコニウムZrO2を50ｍμ蒸着した。次
に、このように形成した第１層３上に第２層４と
してフツ化マグネシウムMgF2を125ｍμ蒸着し
た。最後に、このように形成した第２層４上に第
３層５として二酸化硅素SiO2を30ｍμ蒸着し
た。それぞれの層の材料の屈折率は、ZrO2＝
1.89、MgF2＝1.38、SiO2＝1.47であつた。
酸化ジルコニウムZrO2を50ｍμ蒸着した。次
に、このように形成した第１層３上に第２層４と
してフツ化マグネシウムMgF2を125ｍμ蒸着し
た。最後に、このように形成した第２層４上に第
３層５として二酸化硅素SiO2を30ｍμ蒸着し
た。それぞれの層の材料の屈折率は、ZrO2＝
1.89、MgF2＝1.38、SiO2＝1.47であつた。
以上のようにして形成した反射防止膜１の分光
反射率特性を第２図のグラフに示す。
反射率特性を第２図のグラフに示す。
この第２図のグラフから分かるように、本発明
による反射防止膜１は、波長500ｍμの光に対す
る反射率が0.3％程度となり、反射防止効果が非
常に高い。また、上記反射防止膜１について50
℃、95％の恒高、恒湿試験を24時間行なつても異
常が生ぜず、従つてこの反射防止膜は密着性や機
械的強度についても相当高いものであるというこ
とができる。
による反射防止膜１は、波長500ｍμの光に対す
る反射率が0.3％程度となり、反射防止効果が非
常に高い。また、上記反射防止膜１について50
℃、95％の恒高、恒湿試験を24時間行なつても異
常が生ぜず、従つてこの反射防止膜は密着性や機
械的強度についても相当高いものであるというこ
とができる。
なお、第１層３としてZrO2を用いたものを説
明したが、TiO2またはTi2O3でも反射特性や膜の
強度に差は出なかつた。従つて、第１層として
は、TiO2またはTi2O3を使用することもできる。
明したが、TiO2またはTi2O3でも反射特性や膜の
強度に差は出なかつた。従つて、第１層として
は、TiO2またはTi2O3を使用することもできる。
第１図は、本発明の反射防止膜の断面図、第２
図は、第１図に示した反射防止膜の反射率特性を
示すグラフである。 １……反射防止膜、２……プラスチツク光学部
材、３……第１層、４……第２層、５……第３
層。 〓〓〓
図は、第１図に示した反射防止膜の反射率特性を
示すグラフである。 １……反射防止膜、２……プラスチツク光学部
材、３……第１層、４……第２層、５……第３
層。 〓〓〓
Claims (1)
- １ プラスチツク光学部材上に蒸着された厚さ1/
８λ〜1/2λの酸化ジルコニウムZrO2からなる第
１層、この第１層上に蒸着された厚さ1/4λのフ
ツ化マグネシウムMgF2からなる第２層、および
この第２層上に蒸着された厚さ1/8λ以下の二酸
化硅素SiO2からなる第３層からなるプラスチツ
ク光学部材の反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56026458A JPS57139701A (en) | 1981-02-25 | 1981-02-25 | Reflection preventing film of plastic optical member |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56026458A JPS57139701A (en) | 1981-02-25 | 1981-02-25 | Reflection preventing film of plastic optical member |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57139701A JPS57139701A (en) | 1982-08-28 |
| JPS6135521B2 true JPS6135521B2 (ja) | 1986-08-13 |
Family
ID=12194058
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56026458A Granted JPS57139701A (en) | 1981-02-25 | 1981-02-25 | Reflection preventing film of plastic optical member |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57139701A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11242940B2 (en) | 2017-12-27 | 2022-02-08 | Eagle Industry Co., Ltd. | Capacity control valve |
| US11434885B2 (en) | 2017-12-27 | 2022-09-06 | Eagle Industry Co., Ltd. | Capacity control valve and method for controlling same |
| US11454227B2 (en) | 2018-01-22 | 2022-09-27 | Eagle Industry Co., Ltd. | Capacity control valve |
| US11486376B2 (en) | 2017-12-27 | 2022-11-01 | Eagle Industry Co., Ltd. | Capacity control valve and method for controlling same |
| US11512786B2 (en) | 2017-11-30 | 2022-11-29 | Eagle Industry Co., Ltd. | Capacity control valve and control method for capacity control valve |
| US11519399B2 (en) | 2017-12-08 | 2022-12-06 | Eagle Industry Co., Ltd. | Capacity control valve and method for controlling same |
| US11542930B2 (en) | 2017-02-18 | 2023-01-03 | Eagle Industry Co., Ltd. | Capacity control valve |
| US11542931B2 (en) | 2017-11-15 | 2023-01-03 | Eagle Industry Co., Ltd. | Capacity control valve and capacity control valve control method |
| US11542929B2 (en) | 2017-12-14 | 2023-01-03 | Eagle Industry Co., Ltd. | Capacity control valve and method for controlling capacity control valve |
| US11603832B2 (en) | 2017-01-26 | 2023-03-14 | Eagle Industry Co., Ltd. | Capacity control valve having a throttle valve portion with a communication hole |
| US11635152B2 (en) | 2018-11-26 | 2023-04-25 | Eagle Industry Co., Ltd. | Capacity control valve |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2794701B2 (ja) * | 1987-11-16 | 1998-09-10 | 株式会社ニコン | 水ヤケが防止された反射防止膜 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS591226A (ja) * | 1983-06-23 | 1984-01-06 | Yoshino Kogyosho Co Ltd | 二軸延伸された飽和ポリエステル樹脂製壜の成形方法 |
-
1981
- 1981-02-25 JP JP56026458A patent/JPS57139701A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS591226A (ja) * | 1983-06-23 | 1984-01-06 | Yoshino Kogyosho Co Ltd | 二軸延伸された飽和ポリエステル樹脂製壜の成形方法 |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11603832B2 (en) | 2017-01-26 | 2023-03-14 | Eagle Industry Co., Ltd. | Capacity control valve having a throttle valve portion with a communication hole |
| US11542930B2 (en) | 2017-02-18 | 2023-01-03 | Eagle Industry Co., Ltd. | Capacity control valve |
| US11542931B2 (en) | 2017-11-15 | 2023-01-03 | Eagle Industry Co., Ltd. | Capacity control valve and capacity control valve control method |
| US11512786B2 (en) | 2017-11-30 | 2022-11-29 | Eagle Industry Co., Ltd. | Capacity control valve and control method for capacity control valve |
| US11519399B2 (en) | 2017-12-08 | 2022-12-06 | Eagle Industry Co., Ltd. | Capacity control valve and method for controlling same |
| US11542929B2 (en) | 2017-12-14 | 2023-01-03 | Eagle Industry Co., Ltd. | Capacity control valve and method for controlling capacity control valve |
| US11242940B2 (en) | 2017-12-27 | 2022-02-08 | Eagle Industry Co., Ltd. | Capacity control valve |
| US11434885B2 (en) | 2017-12-27 | 2022-09-06 | Eagle Industry Co., Ltd. | Capacity control valve and method for controlling same |
| US11486376B2 (en) | 2017-12-27 | 2022-11-01 | Eagle Industry Co., Ltd. | Capacity control valve and method for controlling same |
| US11454227B2 (en) | 2018-01-22 | 2022-09-27 | Eagle Industry Co., Ltd. | Capacity control valve |
| US11635152B2 (en) | 2018-11-26 | 2023-04-25 | Eagle Industry Co., Ltd. | Capacity control valve |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57139701A (en) | 1982-08-28 |
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