JPS62127701A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
- Publication number
- JPS62127701A JPS62127701A JP60267207A JP26720785A JPS62127701A JP S62127701 A JPS62127701 A JP S62127701A JP 60267207 A JP60267207 A JP 60267207A JP 26720785 A JP26720785 A JP 26720785A JP S62127701 A JPS62127701 A JP S62127701A
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- JP
- Japan
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- refractive index
- layer
- index material
- range
- antireflection film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、屈折率が１．４５乃至１．６０の基板上に
設けられる反射防止膜に関し、特に光の入射角が５０度
乃至７０度の範囲にある場合に有効な反射防止膜に係る
。
設けられる反射防止膜に関し、特に光の入射角が５０度
乃至７０度の範囲にある場合に有効な反射防止膜に係る
。
従来より、カメラレンズ、メガネ及び各種光学部品等に
おける表面反射を低減するために、反射防止膜を施すこ
とは広く行なわれてきた。その際の反射防止膜のもが成
としては低屈折率物質の薄膜を反射を防止したい波長λ
の約１７４の光学的膜Ｊ１１に形成する（１層層反射防
止膜、高低２種類の屈折率をもつ物質をそれぞれ光学的
膜厚が１／４λどなるように順次基板上に積層した２層
反射防止膜、更に、中高低の３種類の屈折率をもつ物質
をそれぞれ光学的膜厚が１／４λ、１／２λ、〕／４λ
となるように順次基板上に積層した３層反射防止膜など
が広く知られている。
おける表面反射を低減するために、反射防止膜を施すこ
とは広く行なわれてきた。その際の反射防止膜のもが成
としては低屈折率物質の薄膜を反射を防止したい波長λ
の約１７４の光学的膜Ｊ１１に形成する（１層層反射防
止膜、高低２種類の屈折率をもつ物質をそれぞれ光学的
膜厚が１／４λどなるように順次基板上に積層した２層
反射防止膜、更に、中高低の３種類の屈折率をもつ物質
をそれぞれ光学的膜厚が１／４λ、１／２λ、〕／４λ
となるように順次基板上に積層した３層反射防止膜など
が広く知られている。
これらの反射防止膜のうち、可視光全域にわたるような
広い波長領域において反射防止膜を行なうためには３層
あるいはそれ以上の層数をもつ反射防止膜が必要である
。しかし、たとえばレーザー光などのような単一波長に
対しては２層あるいは３層膜で十分な反射防止効果が得
られる。
広い波長領域において反射防止膜を行なうためには３層
あるいはそれ以上の層数をもつ反射防止膜が必要である
。しかし、たとえばレーザー光などのような単一波長に
対しては２層あるいは３層膜で十分な反射防止効果が得
られる。
しかしながら、これらの反射防止膜は、基板に立てた垂
線に対し０度あるいは、それに近い角度で入射した光の
みに効果があり、入射角度が大きくなるにつれ、基板表
面による反射率が大きくなってくる。たとえば基板の屈
折率が１．５前後の場′７′群 成分とＰ偏光成分の届 率が大きく異なるため、すべて
の偏光に対して反射率が小さくなるようにするには、現
在一般に使用されている反射防止膜では不十分である。
線に対し０度あるいは、それに近い角度で入射した光の
みに効果があり、入射角度が大きくなるにつれ、基板表
面による反射率が大きくなってくる。たとえば基板の屈
折率が１．５前後の場′７′群 成分とＰ偏光成分の届 率が大きく異なるため、すべて
の偏光に対して反射率が小さくなるようにするには、現
在一般に使用されている反射防止膜では不十分である。
従って入射角が大きな用途で用いられる光学部品、例え
ばコンパクトディスプレーヤの読取り部に用いられる光
ピツクアップヘッドのビームスプリッタ、に適する反射
防止膜の″開発が望まれている。
ばコンパクトディスプレーヤの読取り部に用いられる光
ピツクアップヘッドのビームスプリッタ、に適する反射
防止膜の″開発が望まれている。
本発明は、特に基板に対し５０度以上７０度以下の入射
角で光が入射する場合に有効でＳ偏光成分とＰ偏光成分
の反射率の差が小さく、しかも層数が少なく、膜構成が
単純な多層反射防止膜を提供するものである。
角で光が入射する場合に有効でＳ偏光成分とＰ偏光成分
の反射率の差が小さく、しかも層数が少なく、膜構成が
単純な多層反射防止膜を提供するものである。
この発明は、屈折率が１．４５〜１．６０の範囲にある
基板の表面に設けられる３層構造の反射防止膜であって
、特に基板側から数えて第１の層が屈折率１．３５〜１
．４０の低屈折率物質、第２の層が屈折率１．５５〜１
．７０の高屈折率物質、また第３の層が屈折率１．３５
〜１．４０の低屈折率物質からなるものであり。
基板の表面に設けられる３層構造の反射防止膜であって
、特に基板側から数えて第１の層が屈折率１．３５〜１
．４０の低屈折率物質、第２の層が屈折率１．５５〜１
．７０の高屈折率物質、また第３の層が屈折率１．３５
〜１．４０の低屈折率物質からなるものであり。
各層をこれら所定の屈折率に選定することにより、基板
に対して５０度〜７０度の入射角で光が入射した場合に
有効に反射防止効果が得られるものである。
に対して５０度〜７０度の入射角で光が入射した場合に
有効に反射防止効果が得られるものである。
第１図は本発明の反射防止膜の構成を示す断面図である
。屈折率が１．４５乃至１．６０の範囲にある基板■上
に、屈折率が１．３５乃至１．４０の範囲にある低屈折
率物質からなる第１の層Ω）、屈折率が１．５５乃至１
．７０の範囲にある高屈折率物質からなる第２の層０及
び屈折率が１．３５乃至１．４０の範囲にある低屈折率
物質からなる第３の層（８）が順次形成されて、３層構
造の反射防止膜（１（１）が構成される。設計波長をλ
。とすると、第１の層（イ）の光学的膜厚はｏ、ｌλ。
。屈折率が１．４５乃至１．６０の範囲にある基板■上
に、屈折率が１．３５乃至１．４０の範囲にある低屈折
率物質からなる第１の層Ω）、屈折率が１．５５乃至１
．７０の範囲にある高屈折率物質からなる第２の層０及
び屈折率が１．３５乃至１．４０の範囲にある低屈折率
物質からなる第３の層（８）が順次形成されて、３層構
造の反射防止膜（１（１）が構成される。設計波長をλ
。とすると、第１の層（イ）の光学的膜厚はｏ、ｌλ。
乃至０．４０λ。、第２の層０の光学的膜厚は０．１λ
。乃至０．４５λ。、また第３の層（８）の光学的膜厚
は０．１５λ０乃至０．４５λ０の範囲に選ばれる。第
１の層。
。乃至０．４５λ。、また第３の層（８）の光学的膜厚
は０．１５λ０乃至０．４５λ０の範囲に選ばれる。第
１の層。
第３の層を構成する低屈折率物質としては、ＭｇＦｚ
ｅＬｉＦ 、及びＡＱＦ、などが使用される。また第２
の層を構成する高屈折率物質としてはＡｌ２Ｏ，、Ｃｅ
Ｆ、 １及びＡｌ２Ｏ３とＺｒＯ□との混合物が使用さ
れる。
ｅＬｉＦ 、及びＡＱＦ、などが使用される。また第２
の層を構成する高屈折率物質としてはＡｌ２Ｏ，、Ｃｅ
Ｆ、 １及びＡｌ２Ｏ３とＺｒＯ□との混合物が使用さ
れる。
本実施例では、基板■として屈折率１．５１の光学ガラ
スを用い、 第１の層■としてＭｇＦ２を１８０ｎｏ＋
の厚さに、第２の層０としてｉ２０．を１５５ｎｍの厚
さに、更に第３の層（８）としてＭｇＦ、を１ｇ０ｒ＋
＋＋＋の厚さにそれぞれ蒸着した。この場合の設計波長
λ。は１０αＯｎｍであり、第１の層＠）、第２の層（
０及び第３の層（８）の光学膜厚は、それぞれ０．２５
λ。どなる。なお、ＭｇＦ２ノ屈折率は１．３８、ｉ２
０．の屈折率は１．６３テある。
スを用い、 第１の層■としてＭｇＦ２を１８０ｎｏ＋
の厚さに、第２の層０としてｉ２０．を１５５ｎｍの厚
さに、更に第３の層（８）としてＭｇＦ、を１ｇ０ｒ＋
＋＋＋の厚さにそれぞれ蒸着した。この場合の設計波長
λ。は１０αＯｎｍであり、第１の層＠）、第２の層（
０及び第３の層（８）の光学膜厚は、それぞれ０．２５
λ。どなる。なお、ＭｇＦ２ノ屈折率は１．３８、ｉ２
０．の屈折率は１．６３テある。
第２図に、この反射防止膜の入射角を６０度としたとき
の分光反射特性を示す。また第３図に入射角度特性を示
す。両図において、一点鎖線（１２）はＳ偏光成分、破
線（１４）はＰ偏光成分、また実線（１Ｇ）はＳ偏光成
分とＰ偏光成分との平均値の反射率をそれぞれ示す。第
２図から明らかなように７８０ ｎｍの光に対して反射
率が最低となる。
の分光反射特性を示す。また第３図に入射角度特性を示
す。両図において、一点鎖線（１２）はＳ偏光成分、破
線（１４）はＰ偏光成分、また実線（１Ｇ）はＳ偏光成
分とＰ偏光成分との平均値の反射率をそれぞれ示す。第
２図から明らかなように７８０ ｎｍの光に対して反射
率が最低となる。
第６図及び第７図は、比較例の反射防止膜における、入
射角６０度の場合の分光反射特性及び入射角度特性を示
す。この比較例は屈折率１．５１の基板上に、順次ｉ、
０． 、 ＺｒＯ２，ＭｇＦ２を光学１模厚がそれぞれ
０．２５λ、、０．５０λ、、０．２５λ。どなるよう
に形成したものである。なお、 ＺｒＯ，の屈折率は２
．ｌＯである。両図において、一点鎖線（１８）はＳ偏
光成分。
射角６０度の場合の分光反射特性及び入射角度特性を示
す。この比較例は屈折率１．５１の基板上に、順次ｉ、
０． 、 ＺｒＯ２，ＭｇＦ２を光学１模厚がそれぞれ
０．２５λ、、０．５０λ、、０．２５λ。どなるよう
に形成したものである。なお、 ＺｒＯ，の屈折率は２
．ｌＯである。両図において、一点鎖線（１８）はＳ偏
光成分。
破ａ （２（１）はＰ偏光成分、また実線（２２）はＳ
偏光成分とＰ偏光成分との平均値の反射率をそれぞれ示
す。
偏光成分とＰ偏光成分との平均値の反射率をそれぞれ示
す。
さて、本実施例と比較例とを比へると、比較例では、入
射角６０度の７８０ ｎｍの光に対する反射率は２．５
％近くあり、 また特にＰ偏光成分の反射率は５％以上
にもなる。これに対し本発明の実施例では、反射率を１
％近くまで下げることができ、またＳ偏光成分とＰ偏光
成分の反射率の差も小さくできる。
射角６０度の７８０ ｎｍの光に対する反射率は２．５
％近くあり、 また特にＰ偏光成分の反射率は５％以上
にもなる。これに対し本発明の実施例では、反射率を１
％近くまで下げることができ、またＳ偏光成分とＰ偏光
成分の反射率の差も小さくできる。
また入射角度特性を比べても、本発明のものでは入射角
が５０度を越えると反射率が小さくなっており、入射角
が７０度近くになったときには、比較例に比へ約３％反
射率が低くなっている。
が５０度を越えると反射率が小さくなっており、入射角
が７０度近くになったときには、比較例に比へ約３％反
射率が低くなっている。
次に本発明の反射防止膜の応用例を説明する。
第４図は本発明の反射防止膜をビームスプリッタに用い
た光ピツクアップヘットの構成図を示す。
た光ピツクアップヘットの構成図を示す。
即ち、半導体レーザ（３（１）からの出射光（３２）は
、ビームスプリッタ（３４）へ入射し、ビームスプリン
タで反射された光（３５）はコリメータレンズ（３６）
により平行光になり、更に対物レンズ（３８）により情
報記録媒体（４（１）に焦点を結ぶ。情報記録媒体（４
（１）で反射され情報信号を含んだ反射光（４２）は、
光路を逆行し、ビームスプリッタ（３４）を通過して信
号検出系（４４）へと導びかれ、電気信号に変換される
。
、ビームスプリッタ（３４）へ入射し、ビームスプリン
タで反射された光（３５）はコリメータレンズ（３６）
により平行光になり、更に対物レンズ（３８）により情
報記録媒体（４（１）に焦点を結ぶ。情報記録媒体（４
（１）で反射され情報信号を含んだ反射光（４２）は、
光路を逆行し、ビームスプリッタ（３４）を通過して信
号検出系（４４）へと導びかれ、電気信号に変換される
。
このようにして、光ピツクアップヘットでは情報記録媒
体（４（１）に記録された情報を読み取る。
体（４（１）に記録された情報を読み取る。
さて、 ビームスプリンタ（３４）の面（３４□）には
本発明による反射防止膜が形成されており、面（３４，
）による反射光（４６）を極めて少なくすることができ
、信号検出に与える悪影響をなくすことが可能となる。
本発明による反射防止膜が形成されており、面（３４，
）による反射光（４６）を極めて少なくすることができ
、信号検出に与える悪影響をなくすことが可能となる。
なお、第５図に示すように、半導体レーザ（３ｏ）から
の出射光（３２）をビームスプリッタ（３４）を透過さ
せて情報記録媒体（４（１）に導びき、反射信号光のう
ちビームスプリッタ（３４）で反射された光を検出系（
４４）へ導びく光学系においても、ビームスプリンタ（
３４）の面（３４，）に本発明の反射防止膜を使用する
ことができる。
の出射光（３２）をビームスプリッタ（３４）を透過さ
せて情報記録媒体（４（１）に導びき、反射信号光のう
ちビームスプリッタ（３４）で反射された光を検出系（
４４）へ導びく光学系においても、ビームスプリンタ（
３４）の面（３４，）に本発明の反射防止膜を使用する
ことができる。
以上説明したように、本発明によれば、基板の屈折率及
び第１．第２及び第３の層の屈折率をそれぞれ所定の値
に規定したので、光の入射角が大きい場合、特に５０度
乃至７０度の範囲で効果的な反射防止膜が得られる。ま
た本発明によれば、Ｓ偏光成分とＰ偏光成分の反射率の
差が小さい反射防止膜が得られる。
び第１．第２及び第３の層の屈折率をそれぞれ所定の値
に規定したので、光の入射角が大きい場合、特に５０度
乃至７０度の範囲で効果的な反射防止膜が得られる。ま
た本発明によれば、Ｓ偏光成分とＰ偏光成分の反射率の
差が小さい反射防止膜が得られる。
第１図は本発明の反射防止膜の断面図、第２図及び第３
図は本発明の一実施例における反射防止膜の分光反射率
特性及び入射角度特性を示す図、第４図及び第５図は本
発明の反射防止膜を適用した光ピツクアップヘッドの光
学系を示す図、第６図及び第７図は比較例の反射防止膜
の分光反射率特性及び入射角度特性を示す図である。 ■・・・基板、 ａ）・・・低屈折率物質からなる第１の層。 ０・・・高屈折率物質からなる第２の層、（８）・・・
低屈折率物質からなる第３の層、（１（１）・・・反射
防止膜。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 大 胡 典 夫第 ４
区 第５図 ｙｔ 表 （ｍｌ 第６図 第 ７ 図
図は本発明の一実施例における反射防止膜の分光反射率
特性及び入射角度特性を示す図、第４図及び第５図は本
発明の反射防止膜を適用した光ピツクアップヘッドの光
学系を示す図、第６図及び第７図は比較例の反射防止膜
の分光反射率特性及び入射角度特性を示す図である。 ■・・・基板、 ａ）・・・低屈折率物質からなる第１の層。 ０・・・高屈折率物質からなる第２の層、（８）・・・
低屈折率物質からなる第３の層、（１（１）・・・反射
防止膜。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 大 胡 典 夫第 ４
区 第５図 ｙｔ 表 （ｍｌ 第６図 第 ７ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）屈折率が１．４５乃至１．６０の範囲にある基板
の表面に設けられた反射防止膜において、前記反射防止
膜は前記基板側より第１の層、第２の層及び第３の層か
らなる３層構造からなり、前記第１の層は屈折率が１．
３５乃至１．４０の範囲にある物質、前記第２の層は屈
折率が１．５５乃至１．７０の範囲にある物質、また前
記第３の層は屈折率が１．３５乃至１．４０の範囲にあ
る物質より形成されていることを特徴とする反射防止膜
。 （２）前記第１の層、第２の層及び第３の層の光学的膜
厚をそれぞれｎ＿１ｄ＿１、ｎ＿２ｄ＿２及びｎ＿３ｄ
＿３また設計波長をλ＿０としたとき、 ０．１０λ＿０≦ｎ＿１ｄ＿１≦０．４０λ＿００．１
０λ＿０≦ｎ＿２ｄ＿２≦０．４５λ＿００．１５λ＿
０≦ｎ＿３ｄ＿３≦０．４５λ＿０を満足することを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の反射防止膜。 （３）前記第１の層及び第３の層が、ＭｇＦ＿２、Ｌｉ
Ｆ、及びＡｌＦ＿３のいずれかの物質からなることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の反射防止膜。 （４）前記第２の層が、Ａｌ＿２Ｏ＿３、ＣｅＦ＿３、
及びＡｌ＿２Ｏ＿３とＺｒＯ＿２との混合物のいずれか
の物質からなることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60267207A JPS62127701A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60267207A JPS62127701A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | 反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62127701A true JPS62127701A (ja) | 1987-06-10 |
Family
ID=17441616
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60267207A Pending JPS62127701A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62127701A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000058761A1 (fr) * | 1999-03-29 | 2000-10-05 | Nikon Corporation | Film multicouche antireflechissant, composant optique, et systeme reduisant l'exposition a des projections |
| JP2008209923A (ja) * | 2008-02-18 | 2008-09-11 | Olympus Corp | 画像表示装置 |
| JP2009217030A (ja) * | 2008-03-11 | 2009-09-24 | Konica Minolta Opto Inc | 光学系ならびに該光学系を用いた撮像装置およびデジタル機器 |
| WO2009119370A1 (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-01 | コニカミノルタオプト株式会社 | 撮像装置 |
-
1985
- 1985-11-29 JP JP60267207A patent/JPS62127701A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000058761A1 (fr) * | 1999-03-29 | 2000-10-05 | Nikon Corporation | Film multicouche antireflechissant, composant optique, et systeme reduisant l'exposition a des projections |
| US6590702B1 (en) | 1999-03-29 | 2003-07-08 | Nikon Corporation | Multilayer antireflection film, optical member, and reduction projection exposure apparatus |
| JP2008209923A (ja) * | 2008-02-18 | 2008-09-11 | Olympus Corp | 画像表示装置 |
| JP2009217030A (ja) * | 2008-03-11 | 2009-09-24 | Konica Minolta Opto Inc | 光学系ならびに該光学系を用いた撮像装置およびデジタル機器 |
| WO2009119370A1 (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-01 | コニカミノルタオプト株式会社 | 撮像装置 |
| CN101981915A (zh) * | 2008-03-26 | 2011-02-23 | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 | 摄像装置 |
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