JPS6242101A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
- Publication number
- JPS6242101A JPS6242101A JP60182017A JP18201785A JPS6242101A JP S6242101 A JPS6242101 A JP S6242101A JP 60182017 A JP60182017 A JP 60182017A JP 18201785 A JP18201785 A JP 18201785A JP S6242101 A JPS6242101 A JP S6242101A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- refractive index
- film
- lambda0
- film thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、光学機器を構成するレンズあるいはプリズム
等の光学部品の反射防止膜に関するものである。
等の光学部品の反射防止膜に関するものである。
従来の技術
従来の反射防止膜の膜構成は第６図に示すようになって
いた。すなわち、光学ガラスはｎ＃ｊ５１のＢＫ７であ
り、第１層はＡｌ２Ｏ５でその光学的膜反射率特性を第
７図に示す。設計波長λＯ＝８００ｎｍ付近において反
射率が０．１％程度存在している。
いた。すなわち、光学ガラスはｎ＃ｊ５１のＢＫ７であ
り、第１層はＡｌ２Ｏ５でその光学的膜反射率特性を第
７図に示す。設計波長λＯ＝８００ｎｍ付近において反
射率が０．１％程度存在している。
しかし、実際に膜を形成する際、その形成条件により、
屈折率・膜厚がばらつくため実際の反射率は更に増大す
る。屈折率を２％、膜厚を２％ばらつかせた時のシミュ
レーシジン結果を第８図に示す。設計波長付近で反射率
が約０．２０％存在している。
屈折率・膜厚がばらつくため実際の反射率は更に増大す
る。屈折率を２％、膜厚を２％ばらつかせた時のシミュ
レーシジン結果を第８図に示す。設計波長付近で反射率
が約０．２０％存在している。
発明が解決しようとする問題点
最近の情報化社会の発展は著しく、それに伴ない大容量
記憶装置の必要性が高まっており、一部光ディスクファ
イル装置等が実用化されている。
記憶装置の必要性が高まっており、一部光ディスクファ
イル装置等が実用化されている。
このような装置に用いる光学ヘッドにおいて、プリズム
・レンズ等の各種光学部品からの反射光が、わずかでも
存在した場合に、それらの光が干渉しあって検出系に悪
影響を与えることがある。
・レンズ等の各種光学部品からの反射光が、わずかでも
存在した場合に、それらの光が干渉しあって検出系に悪
影響を与えることがある。
従って、高性能な反射防止膜が要望されるわけてあるが
、従来の３層反射防止膜では反射率を更に低限すること
は困難であった。
、従来の３層反射防止膜では反射率を更に低限すること
は困難であった。
本発明は、このような問題を改善するもので屈折率・膜
厚が±２％ばらついたとしても低反射率を実現できるよ
うな膜構成を提供することを目的としている。
厚が±２％ばらついたとしても低反射率を実現できるよ
うな膜構成を提供することを目的としている。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決する本発明の技術的な手段は、成とす
ることである。
ることである。
作用
本発明は上記した膜構成を用いることにより、所望の低
反射率特性を得ることができるものである。
反射率特性を得ることができるものである。
実施例
（実施例１）
本発明の実施例を第１図に示す。基盤はクラウンガラス
の１つであるＢＫ７でその屈折率は約１．６１である。
の１つであるＢＫ７でその屈折率は約１．６１である。
第１層は５１０２であり、第２層はＡｌ２Ｏ５，第３゜
ｉ帝はＴｉＯ２、第４オリはＭｇＦ２である。
ｉ帝はＴｉＯ２、第４オリはＭｇＦ２である。
また設計波長をλ０とすると、その光学的膜厚は、λ０
第４層約−である。
その反射率特性を第２図に示す。設計波長λ０（λｏ＝
ｓｏｏ）近辺においてその特性は０．０２％以下と大き
く改善されている。
ｓｏｏ）近辺においてその特性は０．０２％以下と大き
く改善されている。
屈折率及び膜厚が±２％ばらついた時のシミ。
レーション結果を第３図に示す。設計波長付近において
反射率が０．１％以下であり、３響反射防止膜と比べて
約半分になっている。
反射率が０．１％以下であり、３響反射防止膜と比べて
約半分になっている。
（実施例２）
第４図に、基盤の屈折率を１．５８とした場合の透過率
特性を示す。ばらつきは±２％与えている。
特性を示す。ばらつきは±２％与えている。
反射率は設計波長（λ０＝ｓｏｏｎｍ）近辺において約
０゜３％以下である。
０゜３％以下である。
第５図に、従来の３層防止膜で基盤の屈折率が１．５８
の場合を示す。反射率は設計波長（λｏ−”８００ｎＴ
ｒ、）付近において約０．５％存在する１゜この様に本
発明の４層反射防止膜は、屈折率１．５８の基盤の場合
でもその性能を大きく向上させる。
の場合を示す。反射率は設計波長（λｏ−”８００ｎＴ
ｒ、）付近において約０．５％存在する１゜この様に本
発明の４層反射防止膜は、屈折率１．５８の基盤の場合
でもその性能を大きく向上させる。
発明の効果
本発明により次のような効果を奏する。
従来の３層反射防止膜と比較して、その広帯域性を保持
しながら更に低反射率特性を実現できる。
しながら更に低反射率特性を実現できる。
また、屈折率、膜厚がばらついたとしても、その反射率
特性は良好である。
特性は良好である。
更に、膜とＢＫ７の付着力を考えてみた場合、ＢＫγと
Ａｌ２Ｏ３よりもＢＫ７とＳｉＯ２の方が付着力が高い
ということが我々の実験でわかっている。
Ａｌ２Ｏ３よりもＢＫ７とＳｉＯ２の方が付着力が高い
ということが我々の実験でわかっている。
従って、本発明のように、第１層にＳｉＯ２を実用する
ことによシ、膜の耐久性が増すという効果も奏する。
ことによシ、膜の耐久性が増すという効果も奏する。
第１図は本発明の一実施例における４層反射防止膜の膜
構成を示す図、第２図はその反射率特性を示す特性図、
第３図、第４図、第６図は屈折率・膜厚を±２％ばらつ
かせた場合のシミュレーション図、第６図は従来の３層
反射防止膜の構成図、第７図はその反射率特性を示す特
性図、第８図は屈折率及び膜厚全±２％ばらつかせた場
合のシミュレーション図である。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１ン１第
１図 九￥約倶 （λ・−−ｊ徒二畜↑シ→ζ、ヲに一ンに巳ＦＬＥＣ，
ＴＡ／’ＪＣＥ ［、Ｘ）ス己ＦＬＥＣＴＡＮＣＩＥ（
％］ ＲＥＦＬＥＣＴＡＮＣＥじノ にヒトＬＥＣＴＡＮＣＥ （〆〕 第６図 （λ０−・狡ｔｆ廣交２ ／べ
構成を示す図、第２図はその反射率特性を示す特性図、
第３図、第４図、第６図は屈折率・膜厚を±２％ばらつ
かせた場合のシミュレーション図、第６図は従来の３層
反射防止膜の構成図、第７図はその反射率特性を示す特
性図、第８図は屈折率及び膜厚全±２％ばらつかせた場
合のシミュレーション図である。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１ン１第
１図 九￥約倶 （λ・−−ｊ徒二畜↑シ→ζ、ヲに一ンに巳ＦＬＥＣ，
ＴＡ／’ＪＣＥ ［、Ｘ）ス己ＦＬＥＣＴＡＮＣＩＥ（
％］ ＲＥＦＬＥＣＴＡＮＣＥじノ にヒトＬＥＣＴＡＮＣＥ （〆〕 第６図 （λ０−・狡ｔｆ廣交２ ／べ
Claims (1)
- クラウンガラスに代表される比較的低屈折率を有する光
学ガラス上にこの光学ガラス側から数えて、第１層はＳ
ｉＯ＿２、第２層はＡｌ＿２Ｏ＿３、第３層はＴｉＯ＿
２、第４層はＭｇＦ＿２よりなる反射防止膜を形成し、
その光学的膜厚が、設計波長をλ＿０とすると第１層約
λ＿０／４、第２層約λ＿０／４、第３層約λ＿０／２
、第４層約λ＿０／４であることを特徴とする反射防止
膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60182017A JPS6242101A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60182017A JPS6242101A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | 反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6242101A true JPS6242101A (ja) | 1987-02-24 |
Family
ID=16110878
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60182017A Pending JPS6242101A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6242101A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6280848B1 (en) | 1998-10-06 | 2001-08-28 | Minolta Co., Ltd. | Antireflection coating |
| CN104076413A (zh) * | 2006-06-28 | 2014-10-01 | 埃西勒国际通用光学公司 | 涂有亚层和耐温多层抗反射涂层的光学制品，其制造方法 |
| CN111095037A (zh) * | 2017-09-21 | 2020-05-01 | 富士胶片株式会社 | 防反射膜、光学元件及光学系统 |
-
1985
- 1985-08-20 JP JP60182017A patent/JPS6242101A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6280848B1 (en) | 1998-10-06 | 2001-08-28 | Minolta Co., Ltd. | Antireflection coating |
| CN104076413A (zh) * | 2006-06-28 | 2014-10-01 | 埃西勒国际通用光学公司 | 涂有亚层和耐温多层抗反射涂层的光学制品，其制造方法 |
| CN111095037A (zh) * | 2017-09-21 | 2020-05-01 | 富士胶片株式会社 | 防反射膜、光学元件及光学系统 |
| CN111095037B (zh) * | 2017-09-21 | 2021-07-30 | 富士胶片株式会社 | 防反射膜、光学元件及光学系统 |
| US11422290B2 (en) | 2017-09-21 | 2022-08-23 | Fujifilm Corporation | Antireflection film, optical element, and optical system |
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