JPS59100405A - 光学干渉薄膜 - Google Patents

光学干渉薄膜

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Publication number
JPS59100405A
JPS59100405A JP57210083A JP21008382A JPS59100405A JP S59100405 A JPS59100405 A JP S59100405A JP 57210083 A JP57210083 A JP 57210083A JP 21008382 A JP21008382 A JP 21008382A JP S59100405 A JPS59100405 A JP S59100405A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
layer
optical
diamond
stable
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57210083A
Other languages
English (en)
Inventor
Kozo Ono
公三 小野
Kenichi Yoshida
健一 吉田
Takeshi Yoshioka
剛 吉岡
Naoharu Fujimori
直治 藤森
Akira Doi
陽 土居
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority to JP57210083A priority Critical patent/JPS59100405A/ja
Publication of JPS59100405A publication Critical patent/JPS59100405A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/28Interference filters
    • G02B5/285Interference filters comprising deposited thin solid films

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)(技術分野) 本発明はし・ンズ、プリズム、光学窓等の光学部品のフ
レネル損失の除去、低減のために用いる光学干渉膜に関
する。
(ロ)(技術の背Wi ) 最近光を利用しに各種光学部品が広いi範囲で実用化き
れつつある。これには可視光、近紫外、赤外及び遠赤外
等使用する光の波長に)、って!′iR々こう光学部品
、(」科があり、第1表に示す如く屈折率、透過波長範
囲が種々あり適宜用途に、LってIK択されろ。
レンズ、プリズム、光学窓等の光学部品に、J、・いて
、光学部品U科から生じるフレネル損失豐≠を除去ある
いは低減するために反躬防Iト1換は重要である。又、
反則鏡や波長選択′訃干渉フィルタ・−・を構成するた
めにも光学薄膜が重要であり、占くから倹1;」されて
いる。第1図は第1表に示す光学部品材料(屈折率ng
 ) ]の上にか〜る光学部1jに2を被覆1〜た[J
(態■1(す1面図である。Ill  は薄膜2の屈折
率dがその厚み、11o  は空気CD屈Jyi率で1
である。ぞして+10 <nl<ng  のとぎは反射
を減少させ(反別防止膜)、その他のときは反1]Jを
増JJI+させる(反射増υ[1膜)。
の3層薄、膜、第:3図1つ多層薄膜として用いられて
きたが、従来のものでは透過波長帯域が狭く、特に赤外
、遠赤外にお・ける透過率が十分でなく、又近紫外〜遠
赤外の広い波長帯域をカバー−Cぎない4という問題が
あ“つな。これらの薄膜+u−qのなかで4)アルカリ
ハライド、ハロゲン化物は比較的上記、[)条1′1を
i’1liRすが潮解性、軟弱質であるため化学的に1
く安定であり、また硬度が低いため二J−チング強度に
間阻がある。また屈折率が2以」−の)゛」1・・1が
極めて少興応用−J−(り制約になっている。
このjコうに化学的強度的に安定でかつ透過波長帯域或
の広く屈折率の太ぎな光学薄膜拐゛1;・Iか強く要望
されている。
Q→(発明CD lt3 ’、;J’: )4(左開の
特alは41訂請求の範囲にも記載Jつ如く、光学部品
(つ干渉薄膜とじ一層その基体表面−りの薄膜j・;・
□:の少、争くとも一層にダ・イヤモンド薄膜を設ける
ことにある。
近年、超硬1位、尺陽市池等・D分野で・イオンブ1〕
−ティング宿・で〕気相合成技術が急速に進み、ダイヤ
モンド薄膜を形成することかできるようになっている。
こ0ダイヤモンド薄膜は屈折率がはマ2、、H1程度で
あり従来の4」料に較べて太きぐ、又硬度が高いことは
勿論化学的にも安定である。
本発明はこのことにi’t’j Ill、で種々検討の
結果なされたものである。
このダイヤモンド薄膜今−第J図の単層=z−1−1第
2図の+3層コートとして主として反射防止膜に用いら
れることかわかつノ5二。
そして特に2層コー 1・においては後述する実施例の
如く外層にダイヤモンドを用いること1ζJ、り硬くて
安定な:z−チングがiiJ能となる。
又内層にダイヤモンド分用いると屈折率か2.・1.:
2と大きく、例えばλ/、1厚みり)場a1なる最通条
件式からn2  か人ぎくなり硬くて安定な他・、つイ
専1摸月料をダトノ・Δに使用することができるように
なる。多層コー トにJo・いて(よ一般にli■J折
率・、p差の太ぎい薄膜物質を交互に組合せるかが反則
強調膜、波長選択性フィルター!!:横或するのに−f
J−利であり、この点でもnの大きなダイヤモンド薄膜
を形成する効果がある、っ 本発明により、特に赤外透過用光学士ρす薄膜どして優
れた光学部品を製造することができるようになった。
次に実施例によって説明すS。
実施例 第3図・Q2層コ−・1・としで、基体とじてAgBt
を用いる赤外ファ・イバ、Zn5e  を用いる赤外透
過(」について述べる。第3表は内層コート材とその屈
折率及び外層にダイヤモンド薄膜(C・て示す)を形成
した時の)換早と反射率との関係を示す図を示づ。第4
、図乃至2ゼ、8図はその結果であり、各々の曲線は次
の膜厚(dl)に相当する。
7 ; dr=o、51trnr 8 ; d1=Q8
μ+71.9 ;旧:]、]01t1ア2+lO;d−
二]、2μ”+IIf、idi:==二1.all”+
l”rう;dl:2.0 /’ ” 。
第9図は上記各試料の波長特性であり、横軸が波長(ナ
ノメーター)、縦軸は反射率(%)を示す。曲線の13
、]、 =1・、15.16.17は各々第8表のAa
 1. s パ2、為3、石44、イア5の試料の波長
特性である。
」ユ記実施例は光学(7ツ料と薄膜刊料の組合せの一実
施例であるが、第1表の各種光学材料と第2表のX!:
 +摸(」料の全ての組合せにダイヤモンド薄膜を介在
させることによって化学的に安定で広い透過波長帯域の
広い高硬度光学薄膜こして効果があり、赤外光用窓材、
赤タト光用光ファイバーは勿論可視光用光学部品(レン
ズ、プリズム、眼鏡レンズ等)への反則防止、反別強調
、波長選択透過性の光−Y干渉薄膜として工業的価値が
高い。
【図面の簡単な説明】
第1図は単層コート、第2図は3層コー ト、第3図は
多!・;クコートの光学読!摸の断面図であり、第4・
図乃至第8図は本発明の実施例による薄膜厚みと反則率
どの関係図、第9図は同じく波長特′訃図である。 ■、基体、)3、・1..5;外層、;3、();内層
。 71冴 72閏 ア3図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) iB紫外、可視、赤ケト、遠赤外域で使用され
    る光学部品のI7渉薄、)僅において、基体(−」別表
    面上に1し成された薄膜層の少なくとも−層にダイ−A
    ・モンド薄膜を設(Jたことを特徴とする光学干渉薄膜
  2. (2)特許KXI求の範囲第(1)項に、!、・いで、
    基11ζ(オ料が赤外透過(イであり、ぞ(′)表面か
    ・一層又は多層薄膜で硬質、安定な赤外充用光学干渉薄
    j俟であること’4”J徴とする光学的干渉層、膜。
  3. (3)特許請求の範囲第(1)頂にj。・いて、基体(
    ・」利が町視光用透渦(」てあり、ぞの表面が一層又は
    多層薄膜で膜質、安定な可視光用1−渉薄膜であること
    を特徴とする光学干渉薄膜。
JP57210083A 1982-11-30 1982-11-30 光学干渉薄膜 Pending JPS59100405A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6436801U (ja) * 1987-08-29 1989-03-06
WO1989008856A1 (en) * 1987-09-30 1989-09-21 Pelt & Hooykaas B.V. Optical device, process for manufacturing such an optical device and laser arrangement comprising such device
JPH05180765A (ja) * 1991-12-26 1993-07-23 Kyoseki Seihin Gijutsu Kenkyusho:Kk 潤滑油の劣化検出装置

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JPS6436801U (ja) * 1987-08-29 1989-03-06
WO1989008856A1 (en) * 1987-09-30 1989-09-21 Pelt & Hooykaas B.V. Optical device, process for manufacturing such an optical device and laser arrangement comprising such device
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