JPH02113202A - 中性濃度フィルター - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、中性濃度フィルターに関するものである。さ
らに詳しくは、反射防止膜を有する中性濃度フィルター
に関するものである。

［発明の技術的背景および従来技術］ 中性濃度フィルター（ＮＤフィルターあるいは非選択性
灰色フィルターともいう）は、入射光を物質の吸収、反
射または散乱などによって減光するために用いられる光
学フィルターであり、従来より多くのものが知られてい
る。

入射光の光束が十分大きくて光量の落ち方が場所により
不均一でも構わない場合には、網状のものが用いられる
し、ガラス板を適当な枚数重ねたもの、二枚の偏光子を
相対角度を変化させて所望の透過率になるように重ねた
ものなどがある。さらに、ゼラチンやプラスチック素材
に色素、黒鉛、銀の微粒子を分散含有させたものや、微
粒子写真乾板に適当な露出を与えて現像したものも知ら
れている。

現在最も広く利用されている金属膜を用いた中性濃度フ
ィルターの断面図を第７図に示す。このようなフィルタ
ーは、銀、ロジウム、白金、アンチモン、パラジウム、
タングステン、ニッケル、クロム、およびこれらの合金
などの金属膜を、支持体となる透明基板上に真空蒸着法
あるいはスパッタリングなどで付設することによって製
造される。第７図において、金属膜７５は支持体である
透明基板７９上に設けられていて空気７１の方向から、
あるいはその逆方向から基板７９を通して入射してくる
光を減光する働きをしている。第７図に示したように、
金属膜を用いた中性濃度フィルターは、一般に支持体で
ある透明基板と該透明基板の表面上に形成された主とし
て透過率を決定する金属膜とからなる。上記のように光
を吸収と反射によって減光する働きをするのは金属膜で
あるから、金属膜のみからなる中性濃度フィルターも考
えられるが一般的ではない。

上記の金属膜を用いた中性濃度フィルターは、分光透過
率が紫外域から赤外域の広い波長領域に渡りて平坦であ
るという特性（中庸性という）を有しており、減光用フ
ィルターとして光学分野において広く使われている。特
に、上記の金属の内、クロム、ニッケルおよびその両者
の合金であるクロメルの金属膜を用いた中性濃度フィル
ターは、中庸性が優れているので最もよく使用されてい
る。

近年、レーザーの発達に伴ない、レーザー光の減光用フ
ィルターとして中性濃度フィルターを使用する機会が多
くなっている。レーザー光を入射光として中性濃度フィ
ルターを使用する場合、フィルターからの反射光はレー
ザー光源に逆入射してレーザーの異常発振をひき起す原
因となるので、反射のない中性濃度フィルターが必要と
なる。

さらに、最近では複数のレーザー光、たとえば、アルゴ
ンイオン・レーザー、ヘリウムネオン・レーザー、半導
体レーザーおよび色素レーザーなどを光源とするレーザ
ー光を入射光として中性濃度フィルターを使用する機会
が増し、−枚の中性濃度フィルターで各種レーザー光の
減光ができる、広帯域（広い波長領域）で反射のない中
性濃度フィルターが必要となっている。

金属膜を用いた中性濃度フィルターは、上記のように優
れた中庸性を有しているが、金属膜を用いているため、
比較的高い反射率を有している。

そのため、このようなフィルターでは、レーザー光を入
射光として使用する場合でも上記のような悪影響がでな
いようするために、フィルター表面に反射防止膜を設け
ることが行なわれている。

反射防ＩＩ：膜は、めがねレンズなどの透明基板に付設
する場合には単層あるいは多層の透明誘電体膜よりなる
ものが知られているが、金属膜を用いた中性濃度フィル
ターのような金属表面に付設する場合には、吸収性誘電
体である酸化クロム（ｃｒ２ｏ３）の膜よりなるものの
みが知られている。たとえば、ｒ光学技術Ｊ　（１９８
２）　ｖｏｌ、１：１ｐ９２１には酸化クロム（ｃｒ２
ｏ３）の反射防止膜を有するクロム金属膜中性濃度フィ
ルターの反射特性が記載されている。

第９図に、上記の酸化クロム（Ｃｒ２０：＋）の反射防
止膜を有するクロム金属膜中性濃度フィルターの断面図
を示す。第９図において、９１は空気、９４．９６は酸
化クロム（ｃｒ２０ｓ）の反射防止膜、９５は主として
透過率を決定するクロム金属膜、９９は支持体であるガ
ラス基板である。

空気９１の方向から入射してくる光は、酸化クロム（ｃ
ｒ２ｏ３）反射防止膜９４を通り、クロム金属膜９５に
入射し減光される。クロム金属膜９５で反射した光は、
反射防止膜９４内の干渉現象によって減衰させられる。

また、上記とは逆に、ガラス基板９９、反射防止膜９６
を通って入射してくる光も、同様にクロム金属膜９５に
入射し減光される。この場合、クロム金属膜９５で反射
した光は、反射防止膜９６内によって減衰させられる。

ところが、上記の酸化クロム（ＣｒｚＯ３）の反射防止
膜を設けた中性濃度フィルターでは、まだ反射率が数パ
ーセント残っており、前記の問題点を解決するのに充分
な反射防止がされているとはいえない。さらにまた、酸
化クロム（ＣｒｚＯ３）膜の屈折率は、蒸着条件により
大きく変化するために、再現性のよい安定した特性を得
ることが困難である。従って、蒸着条件によっては、上
記の値より反射率が更に増大することもある。

このような問題を解決するために、本願出願人は、透明
誘電体膜と金属薄膜とからなる二層の反射防止膜を有す
る中性濃度フィルターを既に出願している（特願昭６３
−３３５９８号）。この中性濃度フィルターは設計波長
において、反射がほとんどない、極めて優れたものであ
るが、上記した広帯域での反射防止という点では、必ず
しも充分満足のいくものではなかった。

［発明の要旨］ 本発明は、広い波長領域において反射がほとんどなく、
しかも安定した特性を持つ中性濃度フィルターを提供す
ることを目的とするものである。

上記の目的は、本発明の、支持体と支持体上に形成され
た金属膜とからなる中性濃度フィルターであって、該金
属膜面に接して透明誘電体膜が設けられ、さらに該透明
誘電体膜面に接して上記金属膜とは反対側に金属薄膜が
設けられ、また該金属薄膜面に接して上記透明誘電体膜
とは反対側にも透明誘電体膜が設けられていること特徴
とする中性濃度フィルターによって達成することができ
る。

ただし、ここで金属膜とは、主としてこの中性濃度フィ
ルターの透過率を決定する減光用金属膜のことをいい、
金属薄膜とは反射防止膜を構成する界面用金属薄膜のこ
とをいう。

本発明における好ましい態様を以下に示す。

（１）上記金属膜の両方の面が透明誘電体膜に接してい
て、一方の側から、透明誘電体膜、金属薄膜、透明誘電
体膜、主として透過率を決定する金属膜、透明誘電体膜
、金属薄膜、透明誘電体膜、支持体である透明基板の順
で積層されて構成されていることを特徴とする中性濃度
フィルター（２）上記金属膜および金属薄膜が同一の金
属からなっており、さらに該金属がクロム（Ｃｒ）また
はニッケル（Ｎｉ）またはこれらの合金、のいずれか一
つであることを特徴とする中性濃度フィルター （３）上記金属薄膜の幾何学的膜厚ｄがｌｎｍ≦ｄ≦１
０ｎｍであることを特徴とする中性濃度フィルター なお、上記（３＞で幾何学的膜厚とは実際の膜厚をいい
、これに対して幾何学的膜厚に膜を構成する物質の屈折
率を乗じたものを光学的膜厚という。

本発明の中性濃度フィルターは、公知の金属膜を用いた
中性濃度フィルターに、二枚の透明誘電体膜が金属薄膜
をはさんで（すなわち、一方の側から透明誘電体膜、金
属薄膜、透明誘電体膜の順で）積層してなる三層の反射
防止膜を、主として透過率を決定する上記金属膜の少な
くとも一つの而（光が入射する面、すなわち入射面）に
上記透明誘電体膜のいずれか一方が接するように付設し
たものである。

［発明の構成］ 添付図面を参照しながら、本発明の構成について説明す
る。

第１図に、本発明の中性濃度フィルターの一例の断面図
を示す。第１図において、１１は空気、１２は反射防止
膜を構成する透明誘電体であるフッ化マグネシウム（ｕ
ｇＦ２）膜、１３はフッ化マグネシウム膜１２とともに
反射防止膜を構成するクロム金属薄膜、１４はフッ化マ
グネシウム膜１２およびクロム金属薄膜１３とともに三
層の反射防止膜を構成するフッ化マグネシウム（ＭｇＦ
２）膜、１５は主として透過率を決定するクロム金属膜
、１９は支持体であるガラス基板である。

第１図において、ガラス基板１９とクロム金属１漠１５
は公知の金属膜を用いた中性濃度フィルターと同じ構成
をしており、クロム金属薄膜１３、フッ化マグネシウム
膜１２および１４は三層の反射防止膜を構成している。

本発明の中性濃度フィルターの特徴的な要件であるこの
三層の反射防止膜は、第１図に示したように、二枚の透
明誘電体膜が金属薄膜をはさんで積層されるサンドイッ
チ構造をとっている。

第１図に示したフィルターは空気１１の方向から光が入
射するように使用されるものである。空気１１の方向か
ら入射してきた光は、フッ化マグネシウム膜１２、クロ
ム金属薄膜１３およびフッ化マグネシウム膜１４の反射
防止膜を通り、クロム金属膜１５で吸収、反射によって
減光され、ガラス基板１９を通って透過して行く。クロ
ム金属＠１５で反射された光は、フッ化マグネシウム膜
ｌ２、クロム金属薄膜１３およびフッ化マグネシウム膜
１４の三層反射防止膜内の干渉現象によって消失させら
れる。

第３図には、第１図とは別の例の本発明の中性濃度フィ
ルターの断面図を示す。第３図において、３１は空気、
３５は主として透過率を決定するクロム金属膜、３６は
反射防止膜を構成する透明誘電体膜であるフッ化マグネ
シウム膜、３７はフッ化マグネシウム膜３６とともに反
射防止膜を構成するクロム金属薄膜、３８はフッ化マグ
ネシウム膜３６およびクロム金属薄膜３７とともに反射
防止膜を構成する透明誘電体膜である酸化チタニウム（
ＴｉＯ２）膜、３９は支持体であるガラス基板である。

第３図においては、第１図の例とは異なり、三層の反射
防止膜は主として透過率を決定するクロム金属膜３５の
ガラス基板３９側の面に付設されている。このフィルタ
ーは、入射光がガラス基板３９を通って該フィルターに
入射するように使用される。ガラス基板３９を通って入
射してきた光は、酸化チタニウム膜３８、クロム金属薄
膜３７およびフッ化マグネシウム膜３６の反射防止膜の
ため反射することなく、金属膜３５によって減光され空
気３１側へ透過して行く。

上記の例のように三層の反射防止膜は、主として透過率
を決定する上記金属膜の片面だけに設けられているだけ
でなく両面共に設けられてもよい。

第５図には、三層の反射防止膜が、主として透過率を決
定する上記金属膜の両面共に設けられている本発明の中
性濃度フィルターの断面図を示す。

第５図において、５１は空気、５２は空気側の三層反射
防止膜を構成する透明誘電体であるフッ化マグネシウム
膜、５３はフッ化マグネシウム膜５２とともに空気側の
反射防止膜を構成するクロム金属薄膜、５４はフッ化マ
グネシウム＠５２およびクロム金属薄膜５３とともに空
気側の三層反射防止膜を構成する透明誘電体であるフッ
化マグネシウム膜、５５は主として透過率を決定するク
ロム金属膜、５６は基板側の三層反射防止膜を構成する
透明誘電体であるフッ化マグネシウム膜、５７はフッ化
マグネシウム膜５６とともに基板側の反射防止膜を構成
するクロム金属薄膜、５８はフッ化マグネシウム膜５６
およびクロム金属薄膜５７とともに基板側の三層反射防
止膜を構成する透明誘電体である酸化チタニウム膜であ
り、５９は支持体であるガラス基板である。

第５図に示した本発明の中性濃度フィルターは、第１図
および第３図の例とは異なり、三層反射防止膜は主とし
て透過率を決定する金属膜５５の両側の面に付設されて
いる。この場合、フィルターのどちらの面から、光が入
射するように使用してもよい。

フィルターを透過した光が試料、検知器などで反射し該
フィルターに再入射する場合でも、再入射光の該フィル
ター面での反射を防止できるので、第５図に示したよう
に反射防止膜は上記金属膜の両面に設けられていること
が好ましい。さらに、反射防止膜が上記金属膜の両面に
設けられていると、使用の際、フィルターの裏表に注意
をしなくともよいので取扱いの上からも好都合である。

本発明の中性濃度フィルターは、一般に透明基板と金属
膜からなる公知の金属膜を用いた中性濃度フィルターに
、金属薄膜とそれをはさんで積層される二枚の透明誘電
体膜とからなる互層反射防止膜を設けたものである。す
なわち、一般に、本発明の中性濃度フィルタは支持体で
ある透明基板、主として透過率を決定する金属膜、三層
反射防止膜を構成する二枚の透明誘電体膜および金属薄
膜よりなる。

次に、本発明の中性濃度フィルターの材料について述べ
る。

透明基板の材料は、石英ガラス、ホウケイ酸ガラスなど
の各種ガラスおよびアクリル樹脂、ポリエチレン樹脂な
どの各種プラスチックなど、従来の金属膜を用いた中性
濃度フィルターの支持基板に用いることのできるもので
あれば、いかなるものでもよい。

主として透過率を決定する金属膜の材料は、銀、ロジウ
ム、白金、アンチモン、パラジウム、タングステン、ニ
ッケル、クロム、およびこれらの合金など、従来の金属
膜を用いた中性濃度フィルターの金属膜に用いることの
できるものであればいかなるものでもよいが、中庸性が
よいので、クロム、ニッケルおよびその両者の合金であ
るクロメルが好ましい。

三層反射防止膜を構成する二枚の透明誘電体膜の材料と
しては、フッ化マツグネシウム（ＭｇＦ２）、二酸化シ
リコン（ＳｉＯ□）、フッ化セリウム（ＣｅＦ３）、酸
化アルミニウム（ＡＩＬ２０３）、二酸化ジルコニウム
（ＺｒＯ□）、五酸化タンタル（Ｔａ２０ｓ）、二酸化
チタニウム（ＴｉＯ２）およびこれらのうちのいくつか
の混合物など、従来、光学技術分野で使用される透明誘
電体膜に用いられるものを使用することができる。また
、二枚の透明誘電体膜は必ずしも同じ材料である必要は
なく、他の構成要素の条件（金属膜、金属薄膜、透明基
板などの材料、膜厚など）あるいは媒質（外界二通常は
空気または真空）によって、各々最適の材料を選択する
。

二枚の透明誘電体膜の間にはさまれて、これらとともに
反射防止膜を構成する金属薄膜の材料は、銀、ロジウム
、白金、アンチモン、パラジウム、タングステン、ニッ
ケル、クロム、およびこれらの合金など、上記の主とし
て透過率を決定する金属膜の材料として用いられるもの
であればいかなるものでもよい。この金属薄膜と上記の
主として透過率を決定する金属膜の材料は必ずしも同じ
である必要はないが、製作工程が簡単になるので、同じ
材料であることが好ましい。

次に膜厚について述べる。

上記の主として透過率を決定する金属膜の膜厚は、設計
波長を中心とする広範囲の波長領域で目標透過率となる
ように、また上記の三層反射防止膜を構成する二枚の透
明誘電体膜と金属薄膜の膜厚は、設計波長を中心とする
広範囲の波長領域で反射率が最低となるように決定され
る。理論的には、一般にレンズ表面のコーティングなど
で用いられている透明基板に対して反射が零となるよう
な三層反射防止膜の解（各膜厚）を応用して、金属表面
に対して反射が零となるような二枚の透明誘電体膜と金
属薄膜とからなる三層反射防止膜の近似解（各膜厚）を
求める。実際の膜厚の算出はコンピュタ−によるシュミ
レーションによって行なわれ、各膜厚は、シュミレーシ
ョンの結果による逐次近似によって決定される。一般に
、上記三層反射防止膜の透明誘電体膜の光学的膜厚は、
設計波長λに対して、金属膜と金属ｇＩＨとに接してい
る透明誘電体膜がλ／４程度であり、金属薄膜と媒質（
外界）または基板とに接している透明誘電体膜がλ／８
〜λ／４程度である。また、金属薄膜の幾何学的膜厚は
、ｌｎｍ〜１０ｎｍ程度である。

本発明の中性濃度フィルターの製作は、常法により行な
う。すなわち、基板上に目的とする膜を順に、所定膜厚
となるまで成膜する。成膜は真空蒸着、スパッタリング
など一般に行なわれる方法によフて行ない、膜厚の制御
は光学モニターまたは水晶振動子モニターまたはこれら
を併用することで容易に行なえる。

次に本発明の実施例および比較例を記載する。

ただし、これらの各側は本発明を限定するものではない
。なお、以下の実施例および比較例は、すべて上記の真
空蒸着法による常法によって作成した。

［実施例１］ 第１図に断面図を示したような、主として透過率を決定
する金属膜の片面（空気側）に、二枚の透明誘電体膜と
金属薄膜とからなる三層反射防止膜が設けられている本
発明の中性濃度フィルターを製作した。

第１表には、このフィルターの構成を示した。

クロム金属薄膜１３およびフッ化マグネシウム膜１２．
１４の各膜厚は、設計波長５２０ｎｍを中心とする広範
囲の波長領域（可視域）で空気側の反射が最低になるよ
うな、また、クロム金属膜１５の膜厚は上記可視域で透
過率が１％となる厚さである。

この中性濃度フィルターの分光反射特性を第２図に示す
。第２図に示されているように、空気側の反射率は４０
０ｎｍ　〜７００ｎｍで０．５％以下であった。また、
透過光は灰色であり、波長によらず一定である（すなわ
ち、本実施例のフィルターの中庸性がよい）ことを示し
ていた。

［実施例２］ 第３図に断面図を示したような、主として透過率を決定
する金属膜の片面（基板側）に、二枚の透明誘電体膜と
金属薄膜とからなる三層反射防止膜が設けられている本
発明の中性濃度フィルターを製作した。

第２表には、このフィルターの構成を示した。

フッ化マグネシウム膜３６、クロム金属薄膜３７および
酸化チタニウム膜３８の各膜厚は、設計波長５２０ｎｍ
を中心とする広範囲の波長領域（可視域）で基板側の反
射が最低になるような、また、クロム金属膜３５の膜厚
は上記可視域で透過率が１％となる厚さである。このフ
ィルターは基板側から光が入射するように設計されてい
るため、クロム金属膜３５の膜厚は実施例１とは若干具
っている。また、この三層反射防止膜（３６，３７，３
８で構成されている）は、ガラス基板３９を通って入射
してくる光に対するため、入射光が直接入射してくる実
施例１（第１図）の三層反射防止膜（１２，１３，１４
で構成されている）とは違った材料、膜厚となっている
。

この中性濃度フィルターの分光反射特性を第４図に示す
。第４図に示されているように、基板側の反射率は４０
０ｎｍ〜７００ｎｍで１．０％以下であった。また、透
過光は灰色であり、波長によらず一定である（すなわち
、本実施例のフィルターの中庸性がよい）ことを示して
いた。

［実施例３］ 第５図に断面図を示したような、主として透過率を決定
する金属膜の両面に、二枚の透明誘電体膜と金属薄膜と
からなる三層反射防止膜が設けられている本発明の中性
濃度フィルターを製作した。

第３表には、このフィルターの構成を示した。

クロム金属薄膜５３およびフッ化マグネシウム膜５２．
５４の各膜厚は、実施例１．２と同様に設計波長５２０
ｎｍを中心とする可視域で空気側からの入射光の反射が
最低になるような、また、クロム金属膜５５の膜厚は、
上記可視域で透過率が１％となる厚さである。フッ化マ
グネシウム膜５６、クロム金属薄膜５７および酸化チタ
ニウム膜５８の各膜厚もまた、上記可視域で基板側から
の入射光の反射が最低になるような膜厚である。

このフィルターではクロム金属膜５５の両側に反射防止
膜を設けたために、クロム金属膜５５の膜厚は実施例！
および実施例２とは異なっている。

また、基板側の三層反射防止膜（５６，５７，５８で構
成されている）は、入射光がガラス基板５９を通って入
射してくるので、入射光が直接入射してくる反対側（空
気側）の三層反射防止膜（５２，５３，５４で構成され
ている）とは違った材料、膜厚となっている。

この中性濃度フィルターの分光反射特性を第６図に示す
。第６図に示されているように、空気側、基板側の反射
率は４００ｎｍ〜７００ｎｍでそれぞれ０．５％以下と
１．０％以下であった。

また、実施例１．２と同様に、透過光は灰色であり、波
長によらず一定である（すなわち、本実施例のフィルタ
ーの中庸性がよい）ことを示していた。

［比較例１］ 第７図に断面図を示したような、反射防止膜を有しない
クロム金属膜を用いた中性濃度フィルターを製作した。

第４表には、この中性濃度フィルターの構成を示した。

クロム金属膜７５の膜厚は、実施例１〜３と同様に５２
０ｎｍを中心とした可視域で透過率が１％となる厚さと
した。本比較例１のフィルターは反射防止膜を有してい
ないので、クロム金属膜７５の膜厚は実施例１．２およ
び３とは異っている。

この中性濃度フィルターの分光反射特性を第８図に示す
。第８図に示されているように、反射率は測定波長全域
おいて５０％以上であフた。

［比較例２コ 第９図に断面図を示したような、従来の酸化クロム（Ｃ
ｒｚＯ３）の反射防止膜を設けたクロム金属膜を用いた
中性濃度フィルターを製作した。

第５表には、このフィルターの構成を示した。

クロム金属膜８５の膜厚は、実施例１〜３および比較例
１と同様に５２０ｎｍを中心とした可視域で透過率が１
％となる厚さである。酸化クロム（Ｃｒｚ０３）の反射
防止膜を設けたため、クロム金属膜８５の膜厚は、比較
例１とは若干具っている。

この中性濃度フィルターの分光反射特性を第１０図に示
す。第１０図に示されているように、反射率は最低でも
約４％であった。

構成物質 １１　　　空気 １２　　ｕｇＦ２ １３　　　Ｃｒ １４　　ＭｇＦ２ １５　　　Ｃｒ １９ガラス基板 第１表（実施例１） 屈折率 吸収係数 膜厚 （ｎｍ） ３　。

第２表（実施例２） 第３表（実施例３） 構成物質　屈折率 吸収係数　膜厚（ｎｍ） 構成物質 屈折率 吸収係数 膜厚 （ｎｍ） ３１　　　空気 ３５　　　Ｃｒ ６ＭｇＦ２ ３７　　　Ｃｒ ８ＴｉＯ２ ３９ガラス基板 ４　、８２ ４、８２ ６、３ 以下余白 ５１　　　空気 ５２　　ＭｇＦ。

５３　　　Ｃｒ ５４　　ＭｇＦ２ ５５　　　Ｃｒ ５６　　ＭｇＦ。

５７　　　Ｃｒ ８ＴｉＯ２ ５９ガラス基板 ３　。

６　。

以下余白 ７１４表（比較例１ 構成物質　屈折率 吸収係数　膜厚（ｎｍ） ７１　　　空気　　１０ ７５　　　　　Ｃｒ　　　　　３．４６　　４．８２７
９ガラス基板　１．５２０ 第５表（比較例２） 構成物質　屈折率 ９１　　　空気 ９４Ｃｒ２０３ ９５　　　　　Ｃｒ ９６Ｃｒ２０３ ９９ガラス基板 吸収係数　膜厚（ｎｍ） ０、４５ ４　、８２ ０　、４５ 以上の各実施例および比較例より、明らかに本発明の中
性濃度フィルターは広い波長領域において反射がほとん
どなく、特性の安定した中性濃度フィルターであること
がわかる。

【図面の簡単な説明】

第１図、第３図および第５図は本発明に従う中性濃度フ
ィルターの例の断面図である。 第２図、第４図および第６図は本発明に従う中性濃度フ
ィルターの分光反射特性の例を示すグラフである。 第７図および第９図は従来の中性濃度フィルターの例の
断面図である。 第８図および第１０図は従来の中性濃度フィルターの分
光反射特性の例を示すグラフである。 １１：空気　１２．１４：フッ化マグネシウム膜１３ニ
クロム金属薄膜　１５ニクロム金属膜１９ニガラス基板 ：空気　　　　　　３５ニクロム金属膜：フッ化マグネ
シウム膜 ニクロム金属薄膜 ：酸化チタニウム膜　３９ニガラス基板第 図 ／′７１ ５１：空気　５２．５４：フッ化マグネシウム膜５３ニ
クロム金属薄膜　　５５ニクロム金属膜５６：フッ化マ
グネシウム膜 ５７ニクロム金属薄膜　５８二酸化チタニウム膜５９ニ
ガラス基板 第 図 ７１：空気 ７９ニガラス基板 ７５ニクロム金属膜 ９１：空気　　　９４．９６：酸化クロム膜９５ニクロ
ム金属膜　　９９ニガラス基板特許出願人　日本真空光
学株式会社

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １。支持体と支持体上に形成された金属膜とからなる中
   性濃度フィルターであって、該金属膜面に接して透明誘
   電体膜が設けられ、さらに該透明誘電体膜面に接して上
   記金属膜とは反対側に金属薄膜が設けられ、また該金属
   薄膜面に接して上記透明誘電体膜とは反対側にも透明誘
   電体膜が設けられていること特徴とする中性濃度フィル
   ター。