JPS5828708A - ロングパスフイルタ− - Google Patents
ロングパスフイルタ−Info
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- JPS5828708A JPS5828708A JP12639881A JP12639881A JPS5828708A JP S5828708 A JPS5828708 A JP S5828708A JP 12639881 A JP12639881 A JP 12639881A JP 12639881 A JP12639881 A JP 12639881A JP S5828708 A JPS5828708 A JP S5828708A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はロングパスフィルターに係る。更に詳しくけ、
本発明は特異な膜構成に特徴を有する、赤外フィルター
として有用々ロングパスフィルターに関する。
本発明は特異な膜構成に特徴を有する、赤外フィルター
として有用々ロングパスフィルターに関する。
一般的に、赤外ロングパスフィルターはある特定の波長
ケ境として赤外透過率のシャープな立上りを有する。該
特定波長以上の透過領域VCおける透過率ができる限り
高く、かつ該特定波長以下の不透過領域における透過率
ができるだけ低いものが、赤外ロングパスフィルターと
して優れたものといえる。
ケ境として赤外透過率のシャープな立上りを有する。該
特定波長以上の透過領域VCおける透過率ができる限り
高く、かつ該特定波長以下の不透過領域における透過率
ができるだけ低いものが、赤外ロングパスフィルターと
して優れたものといえる。
従来のロング・母スフイルターの構成は基板と、高屈折
率物質層Hおよび低屈折率物質層りの交互多層膜、即ち
式: Lの光学的膜厚が層Hのlであることを示す、で示され
る基本周期層とから構成されていた。しかし々から、こ
のような基本周期層のみでは基板に対する反射防止膜と
しての構成とけ々ってぃない。そのために透過域におけ
るリップルが大きくかつ透過領域VCおける十分な透過
率を達成することけできなかった。
率物質層Hおよび低屈折率物質層りの交互多層膜、即ち
式: Lの光学的膜厚が層Hのlであることを示す、で示され
る基本周期層とから構成されていた。しかし々から、こ
のような基本周期層のみでは基板に対する反射防止膜と
しての構成とけ々ってぃない。そのために透過域におけ
るリップルが大きくかつ透過領域VCおける十分な透過
率を達成することけできなかった。
一方、特公昭51−14052号公報の開示する発明で
は、前記欠点を改善するために、三硫化アンチモン、硫
化亜鉛、臭化タリウム、塩化タリウム、フッ化鉛、−酸
化珪素およびフッ化マグネシウムのうちの任意の2種以
上の物質を屈折率の高い順序で、基本周期層上に蒸着し
ている。
は、前記欠点を改善するために、三硫化アンチモン、硫
化亜鉛、臭化タリウム、塩化タリウム、フッ化鉛、−酸
化珪素およびフッ化マグネシウムのうちの任意の2種以
上の物質を屈折率の高い順序で、基本周期層上に蒸着し
ている。
このような膜を有することにより、透過率の点ではかな
り改善されたが、リップルの点では依然として改良の余
地が残されており、特に透過率の立上りにおけるリップ
ルは基本周期層数の増大(mの増大)に伴って著しく大
きくなり、ロング・母スフイルターとして性能の低下が
まぬがれない。
り改善されたが、リップルの点では依然として改良の余
地が残されており、特に透過率の立上りにおけるリップ
ルは基本周期層数の増大(mの増大)に伴って著しく大
きくなり、ロング・母スフイルターとして性能の低下が
まぬがれない。
史に、この発明では6種もしくけそれ以上の蒸着物質を
必要とするので、製造作業も煩雑であり製造効率の低下
の原因と々っていた。
必要とするので、製造作業も煩雑であり製造効率の低下
の原因と々っていた。
そこで、本発明の目的は前記従来製品の有する諸欠点を
改善したロングパスフィルター、即チリツデルが小さく
、透過領域における透過率が良好で、透過率の立上υが
シャープで、かつ不透過領域における透過率が低いロン
グ・ぐスフイルターf提供することにある。本発明は、
特に、赤外用フィルターの基板として良好なケ゛ルマニ
ウムを基板とするロングパスフィルターを対象とする。
改善したロングパスフィルター、即チリツデルが小さく
、透過領域における透過率が良好で、透過率の立上υが
シャープで、かつ不透過領域における透過率が低いロン
グ・ぐスフイルターf提供することにある。本発明は、
特に、赤外用フィルターの基板として良好なケ゛ルマニ
ウムを基板とするロングパスフィルターを対象とする。
本発明の前記目的は、rルマニウム基板、ゲルマニウム
の高屈折率層(H)と硫化亜鉛またけ一酸化珪素の低屈
折率層(L)との交互層からなり、Lの光学的膜厚がH
の7であることを示す、で示される基本周期層のみから
なる従来のロングパスフィルター上に、α(、H,)な
る5層膜、およびβしなる反射防止用の単層膜を形成し
、α、β全0.75(α(0,85、1,6〈α〈1.
8の範囲内にすることにより達成することができる。
の高屈折率層(H)と硫化亜鉛またけ一酸化珪素の低屈
折率層(L)との交互層からなり、Lの光学的膜厚がH
の7であることを示す、で示される基本周期層のみから
なる従来のロングパスフィルター上に、α(、H,)な
る5層膜、およびβしなる反射防止用の単層膜を形成し
、α、β全0.75(α(0,85、1,6〈α〈1.
8の範囲内にすることにより達成することができる。
本発明のロングパスフィルターの構成において、α(4
H÷)なる5層膜は基本周期層、(於→)m、と反射防
止層としてのβLなる単層膜との適合層ともいうべきも
のであり、これによって得られるロングパスフィルター
のリップルを小さくスルコとが可能となる。
H÷)なる5層膜は基本周期層、(於→)m、と反射防
止層としてのβLなる単層膜との適合層ともいうべきも
のであり、これによって得られるロングパスフィルター
のリップルを小さくスルコとが可能となる。
本発明のロングパスフィルターの膜構成において、鮪配
適合層の光学的膜厚に係る係数α並びに反射防止層の光
学的膜厚に係る係数βの範囲はリップル、透過率に対す
る適切許容範囲であり、各々前述の範囲外ではリップル
の増大、透過率の低下’e招き、ロングパスフィルター
としての性能が低下する(第7図および第8図参照)。
適合層の光学的膜厚に係る係数α並びに反射防止層の光
学的膜厚に係る係数βの範囲はリップル、透過率に対す
る適切許容範囲であり、各々前述の範囲外ではリップル
の増大、透過率の低下’e招き、ロングパスフィルター
としての性能が低下する(第7図および第8図参照)。
更に、本発明においては赤外用フィルター用の蒸着物質
として生産性耐久性の面ですぐれている2種類即ちゲル
マニウムおよび硫化亜鉛または一酸化珪素のみに制限し
、フィルター製造時の蒸着操作の単純化を計ることによ
り製造効率上大きなメリットとなる。また、適合層と1
.て基本周期層と等価彦膜を利用することにより、透過
波長@塚での透過率の改善を計ることができ、高性能な
ロングパスフィルター會得ることができる。
として生産性耐久性の面ですぐれている2種類即ちゲル
マニウムおよび硫化亜鉛または一酸化珪素のみに制限し
、フィルター製造時の蒸着操作の単純化を計ることによ
り製造効率上大きなメリットとなる。また、適合層と1
.て基本周期層と等価彦膜を利用することにより、透過
波長@塚での透過率の改善を計ることができ、高性能な
ロングパスフィルター會得ることができる。
以下実施例により本発明を更に具体的に説明する。
捷ず、第1図は比較のために示した従来の、rルマニウ
ム基板1と2.3.4・・・・・・4.3.2で示され
る基本周期層のみから々るロング・母スフイルターの模
式図を断面図として示すものである。
ム基板1と2.3.4・・・・・・4.3.2で示され
る基本周期層のみから々るロング・母スフイルターの模
式図を断面図として示すものである。
この種のロングパスフィルターの例としては、例えば第
1表に示すような膜構成のものを挙げることができる。
1表に示すような膜構成のものを挙げることができる。
また、その分光透過特性を第2図に示lまた。
第1表
第2図から明らかな如く、基本周期層のみ全便用[、た
場合にはリップルが大きく、かつ透過波長領域での透過
率も十分とけいえない。
場合にはリップルが大きく、かつ透過波長領域での透過
率も十分とけいえない。
そこで、このような構成のフィルター上に、第2図に示
すように適合層5.6.5および反射防止用単層膜7を
この順序で適用した。詳細な膜構成は第2表に示す通り
である。またがくして得られる本発明のロングパスフィ
ルターの分光透過特性全第4図に示した。本実施例にお
いて、α=0.85およびβ=1.6である。
すように適合層5.6.5および反射防止用単層膜7を
この順序で適用した。詳細な膜構成は第2表に示す通り
である。またがくして得られる本発明のロングパスフィ
ルターの分光透過特性全第4図に示した。本実施例にお
いて、α=0.85およびβ=1.6である。
第2表
第2図および第4図の比較から明らかな如く、本発明の
膜構成を有するロングパスフィルターにおいてはリップ
ルが小さく、かつ透過率の立上りも良好で透過率が著し
く改善されたことがわかる。
膜構成を有するロングパスフィルターにおいてはリップ
ルが小さく、かつ透過率の立上りも良好で透過率が著し
く改善されたことがわかる。
また、特公昭51−140’32号の開示するフィルタ
ーと比較しても、本発明のフィルターの方が透過率、リ
ップル両者の点で優れていることがわかる。
ーと比較しても、本発明のフィルターの方が透過率、リ
ップル両者の点で優れていることがわかる。
との美施例では高屈折率物質としてrルマニウム?、低
屈折率物質として硫化亜鉛を使用したが、低屈折率物質
として一酸化珪素を使用l−た場合にも、同様に優れた
性能を有するロングパスフィルター?得ることができる
。−例として、第3表に示スようが膜構成のロングパス
フィルター(α−〇、8、β=1.8)の分光透過特性
を第5図に示す。
屈折率物質として硫化亜鉛を使用したが、低屈折率物質
として一酸化珪素を使用l−た場合にも、同様に優れた
性能を有するロングパスフィルター?得ることができる
。−例として、第3表に示スようが膜構成のロングパス
フィルター(α−〇、8、β=1.8)の分光透過特性
を第5図に示す。
1
第3表
2
前述のように、不透過波長領域の範囲もしくけ透過波長
領域の範囲は基本周期層を適当に組合せることにより変
えることができる。これは例えば分光学的膜厚(nd)
?異にする基本周期層を基板に適用することにより達成
される。その−例として、ゲルマニウムおよび硫化亜鉛
を使用し、第4表に示すような膜構成で光学的膜厚を異
にする5種の基本周期層を適用し、夫々α=0.85T
hよびβ=1.6の適合層と反射防止層と全史に適用し
て、式: で示されるロングパスフィルターを形成できる。
領域の範囲は基本周期層を適当に組合せることにより変
えることができる。これは例えば分光学的膜厚(nd)
?異にする基本周期層を基板に適用することにより達成
される。その−例として、ゲルマニウムおよび硫化亜鉛
を使用し、第4表に示すような膜構成で光学的膜厚を異
にする5種の基本周期層を適用し、夫々α=0.85T
hよびβ=1.6の適合層と反射防止層と全史に適用し
て、式: で示されるロングパスフィルターを形成できる。
その分光透過特性を第6図に示す。
この実施例においてけ全層数が86であり、前記実施例
の全層数の3倍以上となっている。それにもかかわらず
、第6図から理解されるように、透過率の立上りが良好
で、リップルも小さく、かつ透過領域での平均透過率も
90チ以上を達52 している。
の全層数の3倍以上となっている。それにもかかわらず
、第6図から理解されるように、透過率の立上りが良好
で、リップルも小さく、かつ透過領域での平均透過率も
90チ以上を達52 している。
すなわち、本発明の新規な膜構成により、基本周期層数
の大小にかかわらず、透過率、リップル、透過率の立上
り等いずれの点においても著しく改善すれたロング/I
Pスフイルターを得ることができ、これらは赤外フィル
ターとして極めて優れた製品を提供する。また、蒸着物
質f2種類だけで構成することができ製造上の煩雑さも
ない。
の大小にかかわらず、透過率、リップル、透過率の立上
り等いずれの点においても著しく改善すれたロング/I
Pスフイルターを得ることができ、これらは赤外フィル
ターとして極めて優れた製品を提供する。また、蒸着物
質f2種類だけで構成することができ製造上の煩雑さも
ない。
最後に、第7図および第8図は、本発明のロンダミ4ス
フイルターにおける、適合層並びに反射防止層の分光学
的膜厚に係る係数αおよびβが適切許容値の範囲外の場
合を示す。図では特にαについてのみ示す。第7図およ
び第8図において使用した膜構成は、夫々 4 である。ただし、いずれの場合もHけrルマニウムであ
り、しけ硫化亜鉛である。すなわち、第7図、第8図か
られかるように、αを0.75〜0.85の範囲外にし
た場合には、リップルが大きく々リロング・千スフイル
ターとしての性能が著しく低下する。図では、αについ
てのみ示したがβについても同様な結果が得られる。
フイルターにおける、適合層並びに反射防止層の分光学
的膜厚に係る係数αおよびβが適切許容値の範囲外の場
合を示す。図では特にαについてのみ示す。第7図およ
び第8図において使用した膜構成は、夫々 4 である。ただし、いずれの場合もHけrルマニウムであ
り、しけ硫化亜鉛である。すなわち、第7図、第8図か
られかるように、αを0.75〜0.85の範囲外にし
た場合には、リップルが大きく々リロング・千スフイル
ターとしての性能が著しく低下する。図では、αについ
てのみ示したがβについても同様な結果が得られる。
第1図は基板と基本周期層のみからなる従来のロングパ
スフィルターの構成を示す模式的断面図である: 第2図は第1図の構成を有するロング・母スフイルター
の分光透過特性を示す図である;第3図は本発明のロン
グパスフィルターの構成を示す模式的断面図である; 第4図および第5図は夫々本発明の膜構成を有する2つ
の実施例の分光透過特性を示す図である:第6図は更に
別の本発明の実施例の分光透過特性を示す図である:お
よび 第7図および第8図は2つの参考例の分光透過特性を示
す図である。 第1図および第3図における各参照番号は以下の通りで
ある。 層(H)、4・・・低屈折率層(L)、5・・・低屈折
率αL 層())、6・・・高屈折率層(αH)、7・・・反射
防止層(βL)。 7
スフィルターの構成を示す模式的断面図である: 第2図は第1図の構成を有するロング・母スフイルター
の分光透過特性を示す図である;第3図は本発明のロン
グパスフィルターの構成を示す模式的断面図である; 第4図および第5図は夫々本発明の膜構成を有する2つ
の実施例の分光透過特性を示す図である:第6図は更に
別の本発明の実施例の分光透過特性を示す図である:お
よび 第7図および第8図は2つの参考例の分光透過特性を示
す図である。 第1図および第3図における各参照番号は以下の通りで
ある。 層(H)、4・・・低屈折率層(L)、5・・・低屈折
率αL 層())、6・・・高屈折率層(αH)、7・・・反射
防止層(βL)。 7
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ケ・ルマニウムの基板、ゲルマニウムの高屈折率層Hと
硫化亜鉛または一酸化珪素の低屈折率層しとの交互層か
らなり: Lの光学的膜厚がHの−であることを示す、Lからなる 2 で示される5層膜、および紡紀低屈折率層りからなる: βL で示される単層膜を有し、前記α、βけ0.75〈α〈
0.85.1.6〈β〈1.8なることを%lL!:f
ルロンダ・やスフイルター。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12639881A JPS5828708A (ja) | 1981-08-12 | 1981-08-12 | ロングパスフイルタ− |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12639881A JPS5828708A (ja) | 1981-08-12 | 1981-08-12 | ロングパスフイルタ− |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5828708A true JPS5828708A (ja) | 1983-02-19 |
JPH031644B2 JPH031644B2 (ja) | 1991-01-11 |
Family
ID=14934159
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12639881A Granted JPS5828708A (ja) | 1981-08-12 | 1981-08-12 | ロングパスフイルタ− |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5828708A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6039602A (ja) * | 1983-08-12 | 1985-03-01 | Tokyo Optical Co Ltd | 遠赤外用ロングパスフイルタ− |
JPS60225803A (ja) * | 1984-04-24 | 1985-11-11 | Horiba Ltd | ガス分析計用多層膜干渉フイルタ |
EP0231478A2 (de) * | 1985-12-12 | 1987-08-12 | Leybold Aktiengesellschaft | Teildurchlässiges optisches Filter und Verfahren zu seiner Herstellung |
US5243458A (en) * | 1990-12-25 | 1993-09-07 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Antireflection coating for infrared light |
CN100371742C (zh) * | 2004-08-10 | 2008-02-27 | 亚洲光学股份有限公司 | 具有四个信道的cwdm滤光片 |
CN100460895C (zh) * | 2007-07-04 | 2009-02-11 | 中国航空工业第一集团公司第六一三研究所 | 一种锗基底零件表面的红外截止滤光膜膜系及其镀制方法 |
CN103698831A (zh) * | 2013-11-29 | 2014-04-02 | 杭州麦乐克电子科技有限公司 | 通过带为7600-9900nm的红外测温滤光片 |
CN103713345A (zh) * | 2013-11-29 | 2014-04-09 | 杭州麦乐克电子科技有限公司 | 通过带为7600-9300nm的红外测温滤光片 |
-
1981
- 1981-08-12 JP JP12639881A patent/JPS5828708A/ja active Granted
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6039602A (ja) * | 1983-08-12 | 1985-03-01 | Tokyo Optical Co Ltd | 遠赤外用ロングパスフイルタ− |
JPS60225803A (ja) * | 1984-04-24 | 1985-11-11 | Horiba Ltd | ガス分析計用多層膜干渉フイルタ |
EP0231478A2 (de) * | 1985-12-12 | 1987-08-12 | Leybold Aktiengesellschaft | Teildurchlässiges optisches Filter und Verfahren zu seiner Herstellung |
US5243458A (en) * | 1990-12-25 | 1993-09-07 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Antireflection coating for infrared light |
CN100371742C (zh) * | 2004-08-10 | 2008-02-27 | 亚洲光学股份有限公司 | 具有四个信道的cwdm滤光片 |
CN100460895C (zh) * | 2007-07-04 | 2009-02-11 | 中国航空工业第一集团公司第六一三研究所 | 一种锗基底零件表面的红外截止滤光膜膜系及其镀制方法 |
CN103698831A (zh) * | 2013-11-29 | 2014-04-02 | 杭州麦乐克电子科技有限公司 | 通过带为7600-9900nm的红外测温滤光片 |
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