JPH0685002B2 - プラスチツク光学部品の反射防止膜 - Google Patents

プラスチツク光学部品の反射防止膜

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JPH0685002B2 JP61034885A JP3488586A JPH0685002B2 JP H0685002 B2 JPH0685002 B2 JP H0685002B2 JP 61034885 A JP61034885 A JP 61034885A JP 3488586 A JP3488586 A JP 3488586A JP H0685002 B2 JPH0685002 B2 JP H0685002B2
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    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115—Multilayers

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、カメラのファインダ用レンズなどのプラスチ
ック光学部品に適用される反射防止膜に関する。
従来、プラスチック光学部品の反射防止膜としては、本
願出願人が先に提案した特開昭56−110901号公報に記載
されたように、空気側からプラスチック基板側へ順に、
MgF2からなり光学的膜厚が約λ/4の第１層と、Al2O3か
らなり光学的膜厚が約λ/16の第２層との２層構成から
なる反射防止膜が知られている。
しかしながら、このような反射防止膜においては、十分
な反射防止効果は得られるものの、耐久性が充分ではな
いので、カメラのファインダ接眼レンズなど外部に露呈
されるレンズの表面に施されると経時的に光学的性能が
劣化する可能性がある。
そこで、本発明は、上記従来のプラスチック用反射防止
膜に比べて耐久性が更に向上された反射防止膜を提供す
ることを目的とするものである。
そして、上記目的を達成するたるに、本願発明者たちは
試行錯誤を繰り返した結果、基板となるプラスチック光
学部品の表面にプラスチックとの密着性が良くて耐久性
の向上に有効なSiOまたはSiO2を介在層として厚くコー
トし、その介在層の上に、介在層の屈折率及び光学的膜
厚に応じて２層の高屈折率層と１層の低屈折率層とを順
次積層することによって、耐久性に優れるとともに反射
防止効果も向上させられた反射防止膜を得た。ここで、
２層の高屈折率層の間に屈折率勾配を設けることによっ
て反射防止効果を更に向上させることができる。
従って、第１図に示されるように、本発明にかかるプラ
スチック光学部品の反射防止膜は、基準波長をλとする
ときに、空気（Ａ）側からプラスチックからなる基板
（Ｂ）側へ順に、SiO2からなり光学的膜厚が約0.25λの
第１層（１）と、ZrO2とTiO2との混合物からなり光学的
膜厚が約0.25λの第２層（２）と、ZrO2からなり光学的
膜厚が約0.25λの第３層（３）と、SiOまたはSiO2から
なり光学的膜厚が0.5λ〜2.0λの第４層（４）との４層
構成からなることを特徴とする。
更に、本発明において、反射防止効果を向上させるため
には、以下の条件を満足することが望ましい。
（１）1.45＜n1＜1.52 （２）1.80＜n2＜2.15 （３）1.75＜n3＜1.95 （４）1.45＜n4＜1.6 （５）0.22λ＜n1d1＜0.28λ （６）0.22λ＜n2d2＜0.28λ （７）0.22λ＜n3d3＜0.28λ （８）0.5λ＜n4d4＜2.0λ 但し、ここで、n1は第１層（１）の屈折率、n2は第２層
（２）の屈折率、n3は第３層（３）の屈折率、n4は第４
層（４）の屈折率、n1d1は第１層（１）の光学的膜厚、
n2d2は第２層（２）の光学的膜厚、n3d3は第３層（３）
の光学的膜厚、n4d4は第４層（４）の光学的膜厚であ
る。
上記条件（１）〜（８）は、本発明にかかる反射防止膜
の構成をより具体的に示したものであり、この条件を満
足することによって反射防止効果を向上させることがで
きる。
以下、本発明の各実施例について説明する。まず、各実
施例１〜５の構成を第１表〜第５表に順に示す。
上記各実施例の表において、「真空度」は真空蒸着時の
真空度を示し、基準波長λは510nmである。次に各実施
例の製造方法について説明すると、まず、プラスチック
（アクリルもしくはポリカーボネート）の基板の表面
に、SiOをMoボートによる抵抗加熱法を用いてそれぞれ
表に示された酸素雰囲気中でコートしてSiO2の第４層を
形成し、その上に電子ビーム法によってZrO2を表に示さ
れた酸素雰囲気中でコートして第３層を形成し、更にそ
の上に、電子ビーム法によってZrO2とTiO2との混合物を
表に示された酸素雰囲気中でコートして第２層を形成
し、最後に、第４層と同じ条件もしくは電子ビーム法に
よってSiO2をコートして第１層を形成して完成する。
ここで、第３層の真空蒸着中の酸素雰囲気を調節するこ
とによって第３層の屈折率を調節することができる。
各実施例１〜５の分光反射率特性を、それぞれ第２図〜
第６図に示す。実施例１、２、３はそれぞれ第３層蒸着
時の真空度が異なるだけであり、このように第３層蒸着
時の真空度を調節することによって第３層の屈折率を調
節し、第２図、第３図、第４図にそれぞれ示されるよう
に、全体としての分光反射率特性を変化させることがで
きる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の構成を示す断面図、第２図〜第６図
は、それぞれ本発明実施例１〜５の分光反射率特性を示
すグラフである。 （Ａ）；空気、 （１）；第１層、 （２）；第２層、 （３）；第３層、 （４）；第４層、 （Ｂ）；基板。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】基準波長をλとするときに、空気側からプ
    ラスチックからなる基板側へ順に、 SiO2からなり光学的膜厚が約0.25λの第１層と、 ZrO2とTiO2との混合物からなり光学的膜厚が約0.25λの
    第２層と、 ZrO2からなり光学的膜厚が約0.25λの第３層と、 SiOまたはSiO2からなり光学的膜厚が約0.5λ〜2.0λの
    第４層と の４層構成からなることを特徴とするプラスチック光学
    部品の反射防止膜。
  2. 【請求項２】更に以下の条件を満足することを特徴とす
    る特許請求の範囲第１項記載のプラスチック光学部品の
    反射防止膜； 1.45＜n1＜1.52 1.80＜n2＜2.15 1.75＜n3＜1.95 1.45＜n4＜1.6 0.22λ＜n1d1＜0.28λ 0.22λ＜n2d2＜0.28λ 0.22λ＜n3d3＜0.28λ 0.5λ＜n4d4＜2.0λ 但し、ここで、 n1;第１層の屈折率、 n2;第２層の屈折率、 n3;第３層の屈折率、 n4;第４層の屈折率、 n1d1;第１層の光学的膜厚、 n2d2;第２層の光学的膜厚、 n3d3;第３層の光学的膜厚、 n4d4;第４層の光学的膜厚、 である。
  3. 【請求項３】第３層は、その蒸着工程中に酸素ガスが導
    入されることによって任意の屈折率に設定されることを
    特徴とする特許請求の範囲第１項記載のプラスチック光
    学部品の反射防止膜。
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