JPS62191801A - プラスチツク光学部品の反射防止膜 - Google Patents
プラスチツク光学部品の反射防止膜Info
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- JPS62191801A JPS62191801A JP61034885A JP3488586A JPS62191801A JP S62191801 A JPS62191801 A JP S62191801A JP 61034885 A JP61034885 A JP 61034885A JP 3488586 A JP3488586 A JP 3488586A JP S62191801 A JPS62191801 A JP S62191801A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 31
- 239000004033 plastic Substances 0.000 title claims abstract description 15
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 title claims abstract description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 4
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 7
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 5
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000012788 optical film Substances 0.000 abstract description 3
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 abstract 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 241000283973 Oryctolagus cuniculus Species 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、カメうの7アイング用レンズなどのプラスチ
ック光学部品に適用される又射防止膜に関する。
ック光学部品に適用される又射防止膜に関する。
従来、プラスチック光学部品の反射防止設としては、本
願出願人が先に提案した特開昭56−110901号公
報に記載されたように、空気側からプラスチック基板側
へ順に、MgF 2からなり光学的膜厚が約λ/4の第
1層と、A I 203からなり光学的膜厚が約λ/1
6の第2層との2Fti構成からなる反射防止設が知ら
れている。
願出願人が先に提案した特開昭56−110901号公
報に記載されたように、空気側からプラスチック基板側
へ順に、MgF 2からなり光学的膜厚が約λ/4の第
1層と、A I 203からなり光学的膜厚が約λ/1
6の第2層との2Fti構成からなる反射防止設が知ら
れている。
しかしながら、このような反射防止設においては、充分
な反射防止効果は得られるものの、耐久性が充分ではな
いので、カメラの7フイング接匝レンズなど外部に露呈
されるレンズの表面に施されると経時的に光学的性能が
劣化する可能性があそこで、本発明は、上記従来のプラ
スチック用反射防止設に比べて耐久性が更に向上された
反射防止設を提供することを目的とするものである。
な反射防止効果は得られるものの、耐久性が充分ではな
いので、カメラの7フイング接匝レンズなど外部に露呈
されるレンズの表面に施されると経時的に光学的性能が
劣化する可能性があそこで、本発明は、上記従来のプラ
スチック用反射防止設に比べて耐久性が更に向上された
反射防止設を提供することを目的とするものである。
そして、上記目的を達成するなるに、本願発明者たちは
試行vi誤を繰り返した結果、基板となるプラスチック
光学部品の表面にプラスチックとの密着性が良くて耐久
性の向上に有効なSiOまたは5102を介在層として
厚くフートし、その介在層の上に、介在層の屈折率及び
光学的膜厚に応じて2層の高屈折率層と1/ilの低屈
折率層とを順次積層することによって、耐久性に優れる
とともに反射防止効果も向上させられた反射防止設を得
た。
試行vi誤を繰り返した結果、基板となるプラスチック
光学部品の表面にプラスチックとの密着性が良くて耐久
性の向上に有効なSiOまたは5102を介在層として
厚くフートし、その介在層の上に、介在層の屈折率及び
光学的膜厚に応じて2層の高屈折率層と1/ilの低屈
折率層とを順次積層することによって、耐久性に優れる
とともに反射防止効果も向上させられた反射防止設を得
た。
ここで、2層の高屈折率層の間に屈折率勾配を設けるこ
とによって反射防止効果を更に向上させることができる
。
とによって反射防止効果を更に向上させることができる
。
従って、第1図に示されるように、本発明にかかるプラ
スチック光学部品の反射防止設は、基帛波艮をλとする
ときに、空気(A)側からプラスチックからなる基板(
B)側へ順に、SiO2からなり光学的膜厚が約0.2
5Aの1lIVJ(1)と、ZrO2とTiO2との混
合物からなり光学的膜厚が約0.25^のptS21(
2)と、ZrO,からなり光学的膜厚が約0.25Aの
第3/1W(3)ト、5iftたはSiO2からなり光
学的膜厚が0.5λ〜2.0λの第4層(4)との41
構成からなることを′Vf徴とする。
スチック光学部品の反射防止設は、基帛波艮をλとする
ときに、空気(A)側からプラスチックからなる基板(
B)側へ順に、SiO2からなり光学的膜厚が約0.2
5Aの1lIVJ(1)と、ZrO2とTiO2との混
合物からなり光学的膜厚が約0.25^のptS21(
2)と、ZrO,からなり光学的膜厚が約0.25Aの
第3/1W(3)ト、5iftたはSiO2からなり光
学的膜厚が0.5λ〜2.0λの第4層(4)との41
構成からなることを′Vf徴とする。
更に、本発明において、反射防止効果を向上させるため
には、以下の条件を満足することが望ましい。
には、以下の条件を満足することが望ましい。
(1) 1.45<n、<1.52
(2) 1.80<n2<2.15
(3) 1.75<n*<1.95
(4) 1゜□i5<n+< 1 、 6(5)0.2
2λ<n+dl<0.28λ(6)0.22λ< 11
2LI2 < 0 、 28λ(7)0.22人<ny
d、<0. 28λ(8) 0. 51 <n1c
L< 2. OA但し、ここで、111は第1層(1
)の屈折率、II2は第27iづ(2)の屈折率、■、
は第3 J?η(3)の屈折率、n4はff14/W(
4)の屈折率、n、dlは第1層(1)の光学的膜厚、
n2d2は@2層(2)の光学的膜厚、n、d3は第3
層(3)の光学的膜厚、n4d4は第4層(4)の光学
的膜厚である。
2λ<n+dl<0.28λ(6)0.22λ< 11
2LI2 < 0 、 28λ(7)0.22人<ny
d、<0. 28λ(8) 0. 51 <n1c
L< 2. OA但し、ここで、111は第1層(1
)の屈折率、II2は第27iづ(2)の屈折率、■、
は第3 J?η(3)の屈折率、n4はff14/W(
4)の屈折率、n、dlは第1層(1)の光学的膜厚、
n2d2は@2層(2)の光学的膜厚、n、d3は第3
層(3)の光学的膜厚、n4d4は第4層(4)の光学
的膜厚である。
上記条件(1)〜(8)は、本発明にががる反射防止設
の構成をより具体的に示したものであり、この条件を満
足することによって反射防止効果を向上させることがで
きる。
の構成をより具体的に示したものであり、この条件を満
足することによって反射防止効果を向上させることがで
きる。
以下、本発明の各実施例について説明する。
まず、各実施例1〜5の構成を第1表〜第5表に順に示
す。
す。
(以下余白)
fj&1表
第2表
第3表
第4表
第5表
(以下余白)
上記各実施例の表において、「真空度」は真空蒸着時の
真空度を示し、基準波長λは510nmである0次に各
実施例の製造方法について説明すると、まず、プラスチ
ック(アクリルもしくはポリカーボネート)の基板の表
面に、SiOをMOボートによる抵抗加熱法を用いてそ
れぞれ表に示された酸素雰囲気中でコートしてS +
Otの第4Nを形成し、その上に電子ビーム法によって
Z r O2を表に示された酸素雰囲気中でコートして
第3層を形成し、更にその上に、電子ビーム法によって
ZrO2とTiO2との混合物を表に示された酸素雰囲
気中でコートして第2層を形成し、最後に、第4層と同
じ条件もしくは電子ビーム法によってS i O2をコ
ートシて第1層を形成して完成する。
真空度を示し、基準波長λは510nmである0次に各
実施例の製造方法について説明すると、まず、プラスチ
ック(アクリルもしくはポリカーボネート)の基板の表
面に、SiOをMOボートによる抵抗加熱法を用いてそ
れぞれ表に示された酸素雰囲気中でコートしてS +
Otの第4Nを形成し、その上に電子ビーム法によって
Z r O2を表に示された酸素雰囲気中でコートして
第3層を形成し、更にその上に、電子ビーム法によって
ZrO2とTiO2との混合物を表に示された酸素雰囲
気中でコートして第2層を形成し、最後に、第4層と同
じ条件もしくは電子ビーム法によってS i O2をコ
ートシて第1層を形成して完成する。
ここで、第3Rりの真空蒸着中の酸素雰囲気を調節する
ことによって第3Nの屈折率を調節することができる。
ことによって第3Nの屈折率を調節することができる。
各実施例1〜5の分光反射率特性を、それぞれ第2図〜
第6図に示す。実施例1.2.3はそれぞれ第3層蒸着
時の真空度が異なるだけであり、このように第3層蒸着
時の真空度を調節することによって第3層の屈折率を5
1!整し、!#2図、第3図、第4図にそれぞれ示され
るように、全体としての分光反射率特性を変化させるこ
とができる。
第6図に示す。実施例1.2.3はそれぞれ第3層蒸着
時の真空度が異なるだけであり、このように第3層蒸着
時の真空度を調節することによって第3層の屈折率を5
1!整し、!#2図、第3図、第4図にそれぞれ示され
るように、全体としての分光反射率特性を変化させるこ
とができる。
第1図は本発明の構成を示す断面図、第2図〜第6図は
、それぞれ本発明実施例1〜5の分光反射率特性を示す
グラフである。 (A);空気、 (1);第1層、 (2);第2WJ、 (3);第3層、 (4);第4/l!、 (B);基板。 以上 出願人 ミノルタカメラ株式会社 第7図 鵞 丸(A+ 蟇 枚CB) 第2図 皮表(兎77L) 第3図 第4図 皮表(倶 第5図 文長慎町 第6図 伎Jt(脈〕
、それぞれ本発明実施例1〜5の分光反射率特性を示す
グラフである。 (A);空気、 (1);第1層、 (2);第2WJ、 (3);第3層、 (4);第4/l!、 (B);基板。 以上 出願人 ミノルタカメラ株式会社 第7図 鵞 丸(A+ 蟇 枚CB) 第2図 皮表(兎77L) 第3図 第4図 皮表(倶 第5図 文長慎町 第6図 伎Jt(脈〕
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基準波長をλとするときに、空気側からプラスチッ
クからなる基板側へ順に、 SiO_2からなり光学的膜厚が約0.25λの第1層
と、 ZrO_2とTiO_2との混合物からなり光学的膜厚
が約0.25λの第2層と、 ZrO_2からなり光学的膜厚が約0.25λの第3層
と、 SiOまたはSiO_2からなり光学的膜厚が0.5λ
〜2.0λの第4層と の4層構成からなることを特徴とするプラスチック光学
部品の反射防止設。 2、更に以下の条件を満足することを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載のプラスチック光学部品の反射防止
膜; 1.45<n_1<1.52 1.80<n_2<2.15 1.75<n_3<1.95 1.45<n_4<1.6 0.22λ<n_1d_1<0.28λ 0.22λ<n_2d_2<0.28λ 0.22λ<n_3d_3<0.28λ 0.5λ<n_4d_4<2.0λ 但し、ここで、 n_1;第1層の屈折率、 n_2;第2層の屈折率、 n_3;第3層の屈折率、 n_4;第4層の屈折率、 n_1d_1;第1層の光学的膜厚、 n_2d_2;第2層の光学的膜厚、 n_3d_3;第3層の光学的膜厚、 n_4d_4;第4層の光学的膜厚、 である。 3、第3層は、その蒸着工程中に酸素ガスが導入される
ことによって任意の屈折率に設定されることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載のプラスチック光学部品の
反射防止膜。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61034885A JPH0685002B2 (ja) | 1986-02-18 | 1986-02-18 | プラスチツク光学部品の反射防止膜 |
US07/014,285 US4784467A (en) | 1986-02-18 | 1987-02-13 | Multi-layered anti-reflection coating |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61034885A JPH0685002B2 (ja) | 1986-02-18 | 1986-02-18 | プラスチツク光学部品の反射防止膜 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62191801A true JPS62191801A (ja) | 1987-08-22 |
JPH0685002B2 JPH0685002B2 (ja) | 1994-10-26 |
Family
ID=12426599
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61034885A Expired - Lifetime JPH0685002B2 (ja) | 1986-02-18 | 1986-02-18 | プラスチツク光学部品の反射防止膜 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4784467A (ja) |
JP (1) | JPH0685002B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0926501A (ja) * | 1995-07-11 | 1997-01-28 | Konica Corp | 反射防止膜を有する合成樹脂光学部品 |
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JPH01273001A (ja) * | 1988-04-25 | 1989-10-31 | Olympus Optical Co Ltd | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 |
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