JP3039721B2 - 蒸着材料及び該蒸着材料を用いた光学薄膜の製造方法 - Google Patents
蒸着材料及び該蒸着材料を用いた光学薄膜の製造方法Info
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- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光学薄膜を形成する為
の蒸着材料、該蒸着材料を使用して光学薄膜を形成する
為の製造方法に関するもので、樹脂より成るプラスチッ
クレンズ，ディスク，もしくはガラス基板と樹脂層から
成る光学素子上に、高屈折率の光学薄膜，該光学薄膜を
含む多層膜を形成するのに適する。
の蒸着材料、該蒸着材料を使用して光学薄膜を形成する
為の製造方法に関するもので、樹脂より成るプラスチッ
クレンズ，ディスク，もしくはガラス基板と樹脂層から
成る光学素子上に、高屈折率の光学薄膜，該光学薄膜を
含む多層膜を形成するのに適する。
【０００２】
【従来の技術】従来、光学薄膜を得る方法として、例え
ば米国特許第３９３４９６１号公報に開示された酸化ア
ルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）と酸化ジルコニウム（Ｚｒ
Ｏ2）を混合焼結して得たものを蒸着材料として用いる
か、又は特開昭５０−３５２１１号公報に開示された酸
化ジルコニウム（ＺｒＯ2）と酸化チタン（ＴｉＯ2）を
混合焼結して得たものを蒸着材料として用いるか、又は
特公昭６３−５７２３号公報に開示された酸化タンタル
（Ｔａ2Ｏ5）と酸化ジルコニウムを混合焼結したものを
蒸着材料として用いて、被蒸着体（ガラスやプラスチッ
ク）に真空下で蒸着する方法が知られている。
ば米国特許第３９３４９６１号公報に開示された酸化ア
ルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）と酸化ジルコニウム（Ｚｒ
Ｏ2）を混合焼結して得たものを蒸着材料として用いる
か、又は特開昭５０−３５２１１号公報に開示された酸
化ジルコニウム（ＺｒＯ2）と酸化チタン（ＴｉＯ2）を
混合焼結して得たものを蒸着材料として用いるか、又は
特公昭６３−５７２３号公報に開示された酸化タンタル
（Ｔａ2Ｏ5）と酸化ジルコニウムを混合焼結したものを
蒸着材料として用いて、被蒸着体（ガラスやプラスチッ
ク）に真空下で蒸着する方法が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前述のＡｌ2
Ｏ3−ＺｒＯ2混合焼結物やＺｒＯ2−ＴｉＯ2混合焼結物
を用いて被蒸着体を室温（約２０℃）下の温度から１２
０℃の温度にして蒸着成膜された光学薄膜は、十分に高
い屈折率を示すことがなく、ＺｒＯ2膜とほぼ同程度の
屈折率（１．７〜１．９）である。一方被蒸着体を３０
０℃以上の温度に加熱し、そこに前述の如き光学薄膜を
成膜することによって高屈折率なものとすることが出来
る。しかし、ポリメタクリルアクリレート（ＰＭＭＡ）
樹脂，ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂，ポリスチレン
（ＰＳ）樹脂，硬質塩ビ樹脂，ポリエチレン樹脂などか
らなるプラスチック光学素子または前記樹脂層を含む光
学素子が被蒸着体である場合、その樹脂の軟化点Ｔｇ
（８０〜１２０℃）を超えて加熱すると変形を生じてし
まい、３００℃以上に加熱することは好ましくない。
Ｏ3−ＺｒＯ2混合焼結物やＺｒＯ2−ＴｉＯ2混合焼結物
を用いて被蒸着体を室温（約２０℃）下の温度から１２
０℃の温度にして蒸着成膜された光学薄膜は、十分に高
い屈折率を示すことがなく、ＺｒＯ2膜とほぼ同程度の
屈折率（１．７〜１．９）である。一方被蒸着体を３０
０℃以上の温度に加熱し、そこに前述の如き光学薄膜を
成膜することによって高屈折率なものとすることが出来
る。しかし、ポリメタクリルアクリレート（ＰＭＭＡ）
樹脂，ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂，ポリスチレン
（ＰＳ）樹脂，硬質塩ビ樹脂，ポリエチレン樹脂などか
らなるプラスチック光学素子または前記樹脂層を含む光
学素子が被蒸着体である場合、その樹脂の軟化点Ｔｇ
（８０〜１２０℃）を超えて加熱すると変形を生じてし
まい、３００℃以上に加熱することは好ましくない。
【０００４】また、特公昭６３−５７２３号公報に開示
された酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）と酸化ジルコニウム
（ＺｒＯ2）を含む焼結ペレットを蒸着材料として用
い、樹脂層を有する被蒸着体の温度を室温から１２０℃
とした状態で、真空下で蒸着する方法により、高屈折率
の光学薄膜を得ることが出来る。しかし、前述の光学薄
膜の屈折率は１．９〜２．０程度であり十分ではない。
された酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）と酸化ジルコニウム
（ＺｒＯ2）を含む焼結ペレットを蒸着材料として用
い、樹脂層を有する被蒸着体の温度を室温から１２０℃
とした状態で、真空下で蒸着する方法により、高屈折率
の光学薄膜を得ることが出来る。しかし、前述の光学薄
膜の屈折率は１．９〜２．０程度であり十分ではない。
【０００５】又、被蒸着体を室温下から１２０℃の温度
にした蒸着法により成膜した光学薄膜のうち、２．０〜
２．１の十分に高い屈折率を示すものとしては、酸化タ
ンタル（Ｔａ2Ｏ5）または酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）また
は酸化チタン（ＴｉＯ2）の単一材料を蒸着材料として
用い、真空下で電子銃を用いて電子を照射することによ
って被蒸着体の上に成膜することが出来る。しかし前述
した材料は十分な蒸着速度を得る為に必要な飽和蒸気圧
温度がそれぞれの材料の融点よりも高く、蒸着時に蒸着
材料は全体が溶融し、蒸着材料が飛散してしまう。その
飛散したものが膜の上に微細な粒状物となって付着し、
製造時の、高い不良率の原因となっている。
にした蒸着法により成膜した光学薄膜のうち、２．０〜
２．１の十分に高い屈折率を示すものとしては、酸化タ
ンタル（Ｔａ2Ｏ5）または酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）また
は酸化チタン（ＴｉＯ2）の単一材料を蒸着材料として
用い、真空下で電子銃を用いて電子を照射することによ
って被蒸着体の上に成膜することが出来る。しかし前述
した材料は十分な蒸着速度を得る為に必要な飽和蒸気圧
温度がそれぞれの材料の融点よりも高く、蒸着時に蒸着
材料は全体が溶融し、蒸着材料が飛散してしまう。その
飛散したものが膜の上に微細な粒状物となって付着し、
製造時の、高い不良率の原因となっている。
【０００６】本発明の目的は、上述した従来例の欠点を
鑑み、（１）プラスチックもしくは樹脂等の、蒸着時に
温度を上げられない基板に対しても屈折率が２．０以上
の高屈折率な光学薄膜が得られ、（２）蒸着時に生じる
蒸着材料の飛散によって、蒸着された光学薄膜に付着す
る微細な粒状物の発生を防止、することが可能な、蒸着
材料を提供することにある。
鑑み、（１）プラスチックもしくは樹脂等の、蒸着時に
温度を上げられない基板に対しても屈折率が２．０以上
の高屈折率な光学薄膜が得られ、（２）蒸着時に生じる
蒸着材料の飛散によって、蒸着された光学薄膜に付着す
る微細な粒状物の発生を防止、することが可能な、蒸着
材料を提供することにある。
【０００７】本発明の更なる目的は、高屈折率で、良好
な品質の光学薄膜、及び該光学薄膜を他の屈折率の光学
薄膜と組み合わせた多層干渉薄膜を提供することにあ
る。
な品質の光学薄膜、及び該光学薄膜を他の屈折率の光学
薄膜と組み合わせた多層干渉薄膜を提供することにあ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明に係る蒸着材料に
於いては、チタニウム（Ｔｉ）と酸素（Ｏ）のモル比Ａ
（Ｏ／Ｔｉ）が１．０〜１．７５の酸化チタン（ＴｉＯ
A）と酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）を含み、チタンＴｉ
とジルコニウムＺｒのモル比（Ｔｉ／Ｚｒ）が、１．０
〜４．０になる様に混合し、焼結或は溶融固化して形成
する。これにより、酸化チタンと酸化ジルコニウムを含
む屈折率２．０以上で薬品の飛散による微細な粒状物の
発生を防止した光学薄膜を得ることが出来る。
於いては、チタニウム（Ｔｉ）と酸素（Ｏ）のモル比Ａ
（Ｏ／Ｔｉ）が１．０〜１．７５の酸化チタン（ＴｉＯ
A）と酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）を含み、チタンＴｉ
とジルコニウムＺｒのモル比（Ｔｉ／Ｚｒ）が、１．０
〜４．０になる様に混合し、焼結或は溶融固化して形成
する。これにより、酸化チタンと酸化ジルコニウムを含
む屈折率２．０以上で薬品の飛散による微細な粒状物の
発生を防止した光学薄膜を得ることが出来る。
【０００９】前記光学薄膜において高い屈折率が得られ
る理由は、膜中に含まれるＴｉＯ2の組成比がＺｒＯ2に
比べ多いことにある。蒸着において膜の組成比を決定す
る要因は、酸化チタン、酸化ジルコニウムの蒸気圧と、
蒸着材料に含まれるチタンＴｉとジルコニウムＺｒのモ
ル比Ｂ（Ｔｉ／Ｚｒ）である。ここで酸化チタンの蒸気
圧をＰTi，酸化ジルコニウムの蒸気圧をＰZrとし、得ら
れる光学薄膜の酸化チタンと酸化ジルコニウムの組成比
をＫ（Ｔｉ／Ｚｒ）とすると、 Ｋ∝Ｂ×ＰTi／ＰZr の関係がある。
る理由は、膜中に含まれるＴｉＯ2の組成比がＺｒＯ2に
比べ多いことにある。蒸着において膜の組成比を決定す
る要因は、酸化チタン、酸化ジルコニウムの蒸気圧と、
蒸着材料に含まれるチタンＴｉとジルコニウムＺｒのモ
ル比Ｂ（Ｔｉ／Ｚｒ）である。ここで酸化チタンの蒸気
圧をＰTi，酸化ジルコニウムの蒸気圧をＰZrとし、得ら
れる光学薄膜の酸化チタンと酸化ジルコニウムの組成比
をＫ（Ｔｉ／Ｚｒ）とすると、 Ｋ∝Ｂ×ＰTi／ＰZr の関係がある。
【００１０】すなわち酸化チタンと酸化ジルコニウムの
蒸気圧比ＰTi／ＰZrが大きくなればなるほど、また蒸着
材料に含まれるチタンのモル比Ｂが大きくなればなるほ
ど、光学薄膜に含まれる酸化チタンの組成比Ｋは大きく
なり、結果として光学薄膜の屈折率を高くすることが出
来る。
蒸気圧比ＰTi／ＰZrが大きくなればなるほど、また蒸着
材料に含まれるチタンのモル比Ｂが大きくなればなるほ
ど、光学薄膜に含まれる酸化チタンの組成比Ｋは大きく
なり、結果として光学薄膜の屈折率を高くすることが出
来る。
【００１１】酸化チタンの蒸気圧はチタニウム（Ｔｉ）
と酸素のモル比Ａ（Ｏ／Ｔｉ）で変化する。一方モル比
Ａは０〜２の範囲で変化可能であり、モル比Ａが小さく
なればなるほど酸化チタンの蒸気圧ＰTiは大きくなる。
と酸素のモル比Ａ（Ｏ／Ｔｉ）で変化する。一方モル比
Ａは０〜２の範囲で変化可能であり、モル比Ａが小さく
なればなるほど酸化チタンの蒸気圧ＰTiは大きくなる。
【００１２】しかしＡが１．０を下まわると得られる光
学薄膜に光学的な吸収が発生し好ましくない。またモル
比Ａが１．７５を越えると十分な蒸気圧が得られず、従
ってモル比Ａは１．０〜１．７５の範囲が好ましい。
学薄膜に光学的な吸収が発生し好ましくない。またモル
比Ａが１．７５を越えると十分な蒸気圧が得られず、従
ってモル比Ａは１．０〜１．７５の範囲が好ましい。
【００１３】又、蒸着材料中の酸化チタンの組成比を表
わす、チタニウムとジルコニウムのモル比Ｂ（Ｔｉ／Ｚ
ｒ）が大きくなれば、光学薄膜中の酸化チタンの組成比
は大きくなり、従って屈折率の高い光学薄膜が得られ
る。ここでモル比Ｂが１．０より小さい場合は光学薄膜
の屈折率が２．０を越えることは出来ず、モル比Ｂが
１．０以上で屈折率が２．０以上の光学薄膜を得ること
が出来る。
わす、チタニウムとジルコニウムのモル比Ｂ（Ｔｉ／Ｚ
ｒ）が大きくなれば、光学薄膜中の酸化チタンの組成比
は大きくなり、従って屈折率の高い光学薄膜が得られ
る。ここでモル比Ｂが１．０より小さい場合は光学薄膜
の屈折率が２．０を越えることは出来ず、モル比Ｂが
１．０以上で屈折率が２．０以上の光学薄膜を得ること
が出来る。
【００１４】又、モル比Ｂが４．０を越えると、蒸着材
料の融点が下り、蒸着時に蒸着材料全体が溶融してしま
い、蒸着材料が飛散し、その結果微細な粒状物が光学薄
膜に付着し、光学薄膜を不良なものにしてしまう。従っ
てモル比Ｂは１．０〜４．０の範囲が好ましい。
料の融点が下り、蒸着時に蒸着材料全体が溶融してしま
い、蒸着材料が飛散し、その結果微細な粒状物が光学薄
膜に付着し、光学薄膜を不良なものにしてしまう。従っ
てモル比Ｂは１．０〜４．０の範囲が好ましい。
【００１５】本発明に於いては、上述した如きモル比で
混合した酸化チタン粉末と酸化ジルコニウム粉末を高圧
プレスによって成形した後、これを約１０-4Ｔｏｒｒ．
以下の真空炉中もしくは数Ｔｏｒｒ．の不活性ガス雰囲
気中でホットプレス処理して焼結タブレットを作成す
る。このタブレットを蒸着用ハースにセットした蒸着装
置を１×１０-5Ｔｏｒｒ．程度の真空度に引いた後、５
×１０-5〜２×１０-4Ｔｏｒｒ．程度酸素を導入し、被
蒸着体の温度を室温（２０℃）から１２０℃までの温度
に設定し、前記焼結タブレットを蒸着材料として電子銃
加熱することによって、微細な粒状物を付着させること
なく、高屈折率の光学薄膜を比蒸着体上に形成すること
が出来る。
混合した酸化チタン粉末と酸化ジルコニウム粉末を高圧
プレスによって成形した後、これを約１０-4Ｔｏｒｒ．
以下の真空炉中もしくは数Ｔｏｒｒ．の不活性ガス雰囲
気中でホットプレス処理して焼結タブレットを作成す
る。このタブレットを蒸着用ハースにセットした蒸着装
置を１×１０-5Ｔｏｒｒ．程度の真空度に引いた後、５
×１０-5〜２×１０-4Ｔｏｒｒ．程度酸素を導入し、被
蒸着体の温度を室温（２０℃）から１２０℃までの温度
に設定し、前記焼結タブレットを蒸着材料として電子銃
加熱することによって、微細な粒状物を付着させること
なく、高屈折率の光学薄膜を比蒸着体上に形成すること
が出来る。
【００１６】この光学薄膜は、好ましい具体例ではプラ
スチック製レンズまたは樹脂層を含む光学素子用の反射
防止膜として有効なものである。例えば本発明の光学薄
膜を高屈折率層に用い多層反射防止膜を前述プラスチッ
ク製レンズまたは樹脂層を含む光学素子の上に設ける場
合、その被蒸着体の温度を軟化点Ｔｇ以下の室温から１
２０℃下で成膜出来る為に、面変形等の問題が発生せず
有効である。
スチック製レンズまたは樹脂層を含む光学素子用の反射
防止膜として有効なものである。例えば本発明の光学薄
膜を高屈折率層に用い多層反射防止膜を前述プラスチッ
ク製レンズまたは樹脂層を含む光学素子の上に設ける場
合、その被蒸着体の温度を軟化点Ｔｇ以下の室温から１
２０℃下で成膜出来る為に、面変形等の問題が発生せず
有効である。
【００１７】本発明に係る光学薄膜は、Ｍｇ−ＫαのＸ
線源を用いたＥＳＣＡ（ｅｌｅｃｔｒｏ ｓｐｅｃｔｒ
ｏｓｃｏｐｙ ｆｏｒ ｃｈｅｍｉｃａｌ ａｎａｌｙ
ｚｅｒ）分析を行うと、Ｔｉの２ｐピークとＺｒの３ｄ
ピークの比率（Ｚｒ−３ｄ／Ｔｉ−２ｐ）が０．１以下
になっており、ＴｉＯ2を多量に含む光学薄膜となって
いることが分る。
線源を用いたＥＳＣＡ（ｅｌｅｃｔｒｏ ｓｐｅｃｔｒ
ｏｓｃｏｐｙ ｆｏｒ ｃｈｅｍｉｃａｌ ａｎａｌｙ
ｚｅｒ）分析を行うと、Ｔｉの２ｐピークとＺｒの３ｄ
ピークの比率（Ｚｒ−３ｄ／Ｔｉ−２ｐ）が０．１以下
になっており、ＴｉＯ2を多量に含む光学薄膜となって
いることが分る。
【００１８】この光学薄膜は、その光学薄膜を所望の厚
さ、例えばλ0／４或いはλ0／２（λ0：設計波長）と
し、ＳｉＯ2等の低屈折率の光学薄膜との組み合わせに
より多層反射防止膜の様な多層干渉薄膜を形成すること
ができる。
さ、例えばλ0／４或いはλ0／２（λ0：設計波長）と
し、ＳｉＯ2等の低屈折率の光学薄膜との組み合わせに
より多層反射防止膜の様な多層干渉薄膜を形成すること
ができる。
【００１９】
実施例 １ 酸素とチタニウムとのモル比（Ｏ／Ｔｉ）が１．５で、
粒子サイズが１ｍｍ以下で平均粒子サイズが約２０μｍ
の酸化チタン（Ｔｉ2Ｏ3）粉末と粒子サイズが６０μｍ
以下で平均粒子サイズが約１２μｍの酸化ジルコニウム
（ＺｒＯ2）粉末とをＴｉとＺｒのモル比（Ｔｉ／Ｚ
ｒ）で２．５になる様に混合し、プレス成形した後、１
０-4Ｔｏｒｒ．以下の真空中で約３時間１４５０℃で焼
結を行ない、直径φ１８ｍｍ×厚さ１２ｍｍｔの蒸着用
ペレットを作成した。次に真空蒸着機中に配置された電
子ビーム蒸着用ハースに前記ペレットをセットし、装置
内を１×１０-5Ｔｏｒｒ．の圧力まで排気した後、酸素
ガスを１×１０-4Ｔｏｒｒ．装置内に導入し、加速電圧
８ＫＶ，エミッション電流１５０ｍＡの電子ビームによ
って前記ペレットを加熱し、装置内にあらかじめセッテ
ィングしておいた室温下の温度になっているガラスから
なる被蒸着体に、光学膜厚がλ／４（λ：４５０，５５
０，６５０ｎｍ）の３種類の膜厚の光学薄膜を約５Å／
秒の蒸着速度で蒸着した。これらの光学薄膜の屈折率を
分光特性のピーク値より算出しプロットしたもの（実
線）を図１に示す。図１は縦軸に屈折率，横軸に波長λ
（単位ｎｍ）が取られている。尚図１には、本発明に対
する比較例として、酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）と酸化ジ
ルコニウム（ＺｒＯ2）より成る蒸着材料を使用して形
成した光学薄膜の屈折率を破線で示している。即ち比較
例は酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）粉末と酸化ジルコニウム
（ＺｒＯ2）粉末をモル比（Ｔａ／Ｚｒ）１で混合し、
プレス成形した後、これを、１０-2Ｔｏｒｒ．の真空度
で、１０００℃で約３時間焼結を行い、φ１８ｍｍ×１
２ｍｍｔの蒸着用ペレットを作成した。
粒子サイズが１ｍｍ以下で平均粒子サイズが約２０μｍ
の酸化チタン（Ｔｉ2Ｏ3）粉末と粒子サイズが６０μｍ
以下で平均粒子サイズが約１２μｍの酸化ジルコニウム
（ＺｒＯ2）粉末とをＴｉとＺｒのモル比（Ｔｉ／Ｚ
ｒ）で２．５になる様に混合し、プレス成形した後、１
０-4Ｔｏｒｒ．以下の真空中で約３時間１４５０℃で焼
結を行ない、直径φ１８ｍｍ×厚さ１２ｍｍｔの蒸着用
ペレットを作成した。次に真空蒸着機中に配置された電
子ビーム蒸着用ハースに前記ペレットをセットし、装置
内を１×１０-5Ｔｏｒｒ．の圧力まで排気した後、酸素
ガスを１×１０-4Ｔｏｒｒ．装置内に導入し、加速電圧
８ＫＶ，エミッション電流１５０ｍＡの電子ビームによ
って前記ペレットを加熱し、装置内にあらかじめセッテ
ィングしておいた室温下の温度になっているガラスから
なる被蒸着体に、光学膜厚がλ／４（λ：４５０，５５
０，６５０ｎｍ）の３種類の膜厚の光学薄膜を約５Å／
秒の蒸着速度で蒸着した。これらの光学薄膜の屈折率を
分光特性のピーク値より算出しプロットしたもの（実
線）を図１に示す。図１は縦軸に屈折率，横軸に波長λ
（単位ｎｍ）が取られている。尚図１には、本発明に対
する比較例として、酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）と酸化ジ
ルコニウム（ＺｒＯ2）より成る蒸着材料を使用して形
成した光学薄膜の屈折率を破線で示している。即ち比較
例は酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）粉末と酸化ジルコニウム
（ＺｒＯ2）粉末をモル比（Ｔａ／Ｚｒ）１で混合し、
プレス成形した後、これを、１０-2Ｔｏｒｒ．の真空度
で、１０００℃で約３時間焼結を行い、φ１８ｍｍ×１
２ｍｍｔの蒸着用ペレットを作成した。
【００２０】以下、上記実施例と同様の方法で蒸着を行
った。これによって得られた光学薄膜の屈折率を図１の
比較例として破線でプロットした。図１から明白な様
に、本発明に係る蒸着材料を使用して形成した光学薄膜
は、被蒸着体を加熱することなく、可視光領域（４００
ｎｍ〜７００ｎｍ）で２．０以上の高い屈折率が得られ
た。これに対して比較例で示す従来の光学薄膜は屈折率
２．０を越えることは出来なかった。
った。これによって得られた光学薄膜の屈折率を図１の
比較例として破線でプロットした。図１から明白な様
に、本発明に係る蒸着材料を使用して形成した光学薄膜
は、被蒸着体を加熱することなく、可視光領域（４００
ｎｍ〜７００ｎｍ）で２．０以上の高い屈折率が得られ
た。これに対して比較例で示す従来の光学薄膜は屈折率
２．０を越えることは出来なかった。
【００２１】また蒸着後のペレットの断面形状を模式的
に図２に示した。本実施例のペレットは電子ビームの照
射部近傍のみが溶融し、蒸発しているが、全体形状は変
化していない。これにより蒸着材料の飛散現象はみられ
ず、微小粒子の光学薄膜への付着もなかった。また本実
施例のペレットは電子ビーム加熱によってペレットから
発生するアウトガスが少なく、蒸着前のガス出し工程を
省略することが出来た。
に図２に示した。本実施例のペレットは電子ビームの照
射部近傍のみが溶融し、蒸発しているが、全体形状は変
化していない。これにより蒸着材料の飛散現象はみられ
ず、微小粒子の光学薄膜への付着もなかった。また本実
施例のペレットは電子ビーム加熱によってペレットから
発生するアウトガスが少なく、蒸着前のガス出し工程を
省略することが出来た。
【００２２】実施例２ 酸素とチタニウムのモル比（Ｏ／Ｔｉ）が０，０．５，
０．８，１．０，１．５，１．６７，１．７５，１．８
０，１．９０，２．０の１０種類のチタン粉末及び酸化
チタン粉末を用意し、それらと酸化ジルコニウム（Ｚｒ
Ｏ2）粉末とをそれぞれチタンとジルコニウムのモル比
（Ｔｉ／Ｚｒ）が２．５になる様に混合し、プレス成形
した後、真空中で約３時間、１４５０℃で燒結を行い、
φ１８ｍｍ×１２ｍｍｔの蒸着用ペレットを１０種類作
成した。
０．８，１．０，１．５，１．６７，１．７５，１．８
０，１．９０，２．０の１０種類のチタン粉末及び酸化
チタン粉末を用意し、それらと酸化ジルコニウム（Ｚｒ
Ｏ2）粉末とをそれぞれチタンとジルコニウムのモル比
（Ｔｉ／Ｚｒ）が２．５になる様に混合し、プレス成形
した後、真空中で約３時間、１４５０℃で燒結を行い、
φ１８ｍｍ×１２ｍｍｔの蒸着用ペレットを１０種類作
成した。
【００２３】次にそれぞれのペレットを実施例１に記述
した方法で蒸着を行い、その蒸着時の成膜速度を水晶振
動子法によって測定した。又、その時の電子ビームのパ
ワーは、ペレット全体が溶解しない程度の値、即ち加速
電圧が８ｋＶで、エミッション電流が１５０ｍＡ〜２０
０ｍＡ内の最適な一つの値を選択して使用した。結果は
図３で示す様な結果となった。図３は縦軸に単位時間に
於ける成膜速度（Å／秒）を示し、横軸に酸素とチタン
とのモル比（Ｏ／Ｔｉ）の値を示す。図３に示す様に各
モル比と成膜速度の値は以下の如くであった。
した方法で蒸着を行い、その蒸着時の成膜速度を水晶振
動子法によって測定した。又、その時の電子ビームのパ
ワーは、ペレット全体が溶解しない程度の値、即ち加速
電圧が８ｋＶで、エミッション電流が１５０ｍＡ〜２０
０ｍＡ内の最適な一つの値を選択して使用した。結果は
図３で示す様な結果となった。図３は縦軸に単位時間に
於ける成膜速度（Å／秒）を示し、横軸に酸素とチタン
とのモル比（Ｏ／Ｔｉ）の値を示す。図３に示す様に各
モル比と成膜速度の値は以下の如くであった。
【００２４】
【外１】
【００２５】この結果より明らかな様に、酸素とチタン
のモル比（Ｏ／Ｔｉ）が、１．８，１．９，２．０のも
のはいずれも３Å／秒の実用的な成膜速度が得られなか
った。これは、上記モル比の酸化チタンの蒸気圧が低い
ことに起因しているものと考えられる。尚、上記成膜速
度の値に幅があるのは、エミッション電流値が蒸着中に
所定の値より変動することに起因するものである。
のモル比（Ｏ／Ｔｉ）が、１．８，１．９，２．０のも
のはいずれも３Å／秒の実用的な成膜速度が得られなか
った。これは、上記モル比の酸化チタンの蒸気圧が低い
ことに起因しているものと考えられる。尚、上記成膜速
度の値に幅があるのは、エミッション電流値が蒸着中に
所定の値より変動することに起因するものである。
【００２６】また実用的な成膜速度が得られたもので光
学膜厚がλ／４（λ＝５５０ｎｍ）の光学薄膜の分光透
過率Ｔ及び分光反射率Ｒを測定し、そのＴとＲより吸収
率を算出した。吸収率は１００−（Ｔ＋Ｒ）％で表わさ
れる。その結果を図４に示す。図４の縦軸は波長４００
ｎｍに於ける吸収率、横軸は酸素とチタンのモル比（Ｏ
／Ｔｉ）である。モル比（Ｏ／Ｔｉ）が０，０．５，
０．８の光学薄膜には数％の吸収が発生してしまい光学
薄膜としては好ましくない。またモル比（Ｏ／Ｔｉ）が
１．０，１．５，１．６７，１．７５のものは０．５％
以下で好ましい。尚モル比が１．０，１．５，１．６
７，１．７５の光学薄膜は、波長５００ｎｍに於いてい
ずれも屈折率が約２．２であった。
学膜厚がλ／４（λ＝５５０ｎｍ）の光学薄膜の分光透
過率Ｔ及び分光反射率Ｒを測定し、そのＴとＲより吸収
率を算出した。吸収率は１００−（Ｔ＋Ｒ）％で表わさ
れる。その結果を図４に示す。図４の縦軸は波長４００
ｎｍに於ける吸収率、横軸は酸素とチタンのモル比（Ｏ
／Ｔｉ）である。モル比（Ｏ／Ｔｉ）が０，０．５，
０．８の光学薄膜には数％の吸収が発生してしまい光学
薄膜としては好ましくない。またモル比（Ｏ／Ｔｉ）が
１．０，１．５，１．６７，１．７５のものは０．５％
以下で好ましい。尚モル比が１．０，１．５，１．６
７，１．７５の光学薄膜は、波長５００ｎｍに於いてい
ずれも屈折率が約２．２であった。
【００２７】実施例３ 酸素とチタニウムとのモル比（Ｏ／Ｔｉ）が１．５の酸
化チタン（Ｔｉ2Ｏ3）粉末と酸化ジルコニウム（ＺｒＯ
2）粉末とをＴｉとＺｒのモル比（Ｔｉ／Ｚｒ）が、
０．２，０．７，１．０，２．０，２．５，３．０，
４．０，４．５になる様にそれぞれ混合し、プレス成形
した後、真空中で約３時間１４５０℃で燒結を行ない、
φ１８ｍｍ×１２ｍｍｔの蒸着用ペレットを６種類作成
した。
化チタン（Ｔｉ2Ｏ3）粉末と酸化ジルコニウム（ＺｒＯ
2）粉末とをＴｉとＺｒのモル比（Ｔｉ／Ｚｒ）が、
０．２，０．７，１．０，２．０，２．５，３．０，
４．０，４．５になる様にそれぞれ混合し、プレス成形
した後、真空中で約３時間１４５０℃で燒結を行ない、
φ１８ｍｍ×１２ｍｍｔの蒸着用ペレットを６種類作成
した。
【００２８】次に実施例１に記述した方法と同様にして
光学薄膜を作成した。得られた光学薄膜の分光特性より
５５０ｎｍ波長での屈折率を算出し、ＴｉとＺｒのモル
比（Ｔｉ／Ｚｒ）との関係を図５に示した。図５の縦軸
は屈折率、横軸はＴｉとＺｒとのモル比（Ｔｉ／Ｚｒ）
である。図５で示す如く、モル比（Ｔｉ／Ｚｒ）が１．
０以上の蒸着材料を使用した光学薄膜は、屈折率が２．
１以上の高い値を示した。しかし、モル比が４．５のも
のは、蒸着後のペレットが図６に示す如く、直径１８ｍ
ｍのものが２５ｍｍ〜３０ｍｍ程度に、厚さ１２ｍｍの
ものが３ｍｍ〜５ｍｍ程度に溶融変形し、蒸着材料の飛
散現象が見られた。そして、光学濃度の表面には、微小
な粒状物の付着が観察された。これに対して、モル比が
１．０，２．０，２．５，３．０及び４．０の蒸着材料
は、蒸着後のペレットの形状が図２に示す如く溶融変形
がなく、又光学薄膜の表面に微小な粒状物の付着は観察
されなかった。
光学薄膜を作成した。得られた光学薄膜の分光特性より
５５０ｎｍ波長での屈折率を算出し、ＴｉとＺｒのモル
比（Ｔｉ／Ｚｒ）との関係を図５に示した。図５の縦軸
は屈折率、横軸はＴｉとＺｒとのモル比（Ｔｉ／Ｚｒ）
である。図５で示す如く、モル比（Ｔｉ／Ｚｒ）が１．
０以上の蒸着材料を使用した光学薄膜は、屈折率が２．
１以上の高い値を示した。しかし、モル比が４．５のも
のは、蒸着後のペレットが図６に示す如く、直径１８ｍ
ｍのものが２５ｍｍ〜３０ｍｍ程度に、厚さ１２ｍｍの
ものが３ｍｍ〜５ｍｍ程度に溶融変形し、蒸着材料の飛
散現象が見られた。そして、光学濃度の表面には、微小
な粒状物の付着が観察された。これに対して、モル比が
１．０，２．０，２．５，３．０及び４．０の蒸着材料
は、蒸着後のペレットの形状が図２に示す如く溶融変形
がなく、又光学薄膜の表面に微小な粒状物の付着は観察
されなかった。
【００２９】又、エレクトロンビーム照射部の溶融安定
性はモル比（Ｔｉ／Ｚｒ）２．０〜３．０が特に優れて
いた。溶融安定性が良いという事は、エレクトロンビー
ムを照射した際、蒸着材料の表面の溶融領域が経時的に
あまり変化せず、表面の溶融領域を保持したままで、材
料の深さ方向の溶融領域が変化することである。特に、
使用後の蒸着材料にあいた孔の断面形状が、筒状に近け
れば近いほど望ましい。図２を用いて説明すると蒸着材
料の表面での溶融孔の平均直径をφA、溶融孔の深さｄ
の半分の深さｄ／２に於ける溶融孔の平均直径をφBと
すると、φB／φAの値が１に近ければ近い程、溶融安定
性が良く、蒸着材料としては好ましい。モル比２．０〜
３．０ではこのφB／φAの値が約０．７以上であり、特
にモル比２．５に於いてはほぼ０．９に近い値が得られ
た。
性はモル比（Ｔｉ／Ｚｒ）２．０〜３．０が特に優れて
いた。溶融安定性が良いという事は、エレクトロンビー
ムを照射した際、蒸着材料の表面の溶融領域が経時的に
あまり変化せず、表面の溶融領域を保持したままで、材
料の深さ方向の溶融領域が変化することである。特に、
使用後の蒸着材料にあいた孔の断面形状が、筒状に近け
れば近いほど望ましい。図２を用いて説明すると蒸着材
料の表面での溶融孔の平均直径をφA、溶融孔の深さｄ
の半分の深さｄ／２に於ける溶融孔の平均直径をφBと
すると、φB／φAの値が１に近ければ近い程、溶融安定
性が良く、蒸着材料としては好ましい。モル比２．０〜
３．０ではこのφB／φAの値が約０．７以上であり、特
にモル比２．５に於いてはほぼ０．９に近い値が得られ
た。
【００３０】実施例４ 被蒸着材料を加熱して光学薄膜を形成した場合の実施例
である、上述した実施例では、被蒸着体の温度は室温下
で蒸着を行い、蒸発源からの幅射熱で被蒸着体の温度は
７０℃程度に上昇することはあったが８０℃を越えるこ
とはなかった。そこで、ガラスからなる被蒸着体を３０
０℃に加熱しその他は実施例１と同様にして光学薄膜を
作成した。得られた光学薄膜の屈折率は波長５５０ｎｍ
で２．３〜２．４の高い値を示した。被蒸着体の温度に
制限のない光学素子においては、被蒸着体を加熱するこ
とは高屈折の光学薄膜を得る上で有効である。また、本
実施例の蒸着において蒸着薬品からの電子ビーム加熱に
よるアウトガスはほとんどなく、安定な蒸着を行うこと
が出来た。
である、上述した実施例では、被蒸着体の温度は室温下
で蒸着を行い、蒸発源からの幅射熱で被蒸着体の温度は
７０℃程度に上昇することはあったが８０℃を越えるこ
とはなかった。そこで、ガラスからなる被蒸着体を３０
０℃に加熱しその他は実施例１と同様にして光学薄膜を
作成した。得られた光学薄膜の屈折率は波長５５０ｎｍ
で２．３〜２．４の高い値を示した。被蒸着体の温度に
制限のない光学素子においては、被蒸着体を加熱するこ
とは高屈折の光学薄膜を得る上で有効である。また、本
実施例の蒸着において蒸着薬品からの電子ビーム加熱に
よるアウトガスはほとんどなく、安定な蒸着を行うこと
が出来た。
【００３１】実施例５ ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート），ＰＣ（ポリカ
ーボネート），ＰＳ（ポリスチレン）からなる、φ３０
ｍｍのレンズをそれぞれ射出成形法により作成した。ま
たガラス基板上に紫外線硬化タイプのアクリル系樹脂を
石英型を用い厚さ約２０μｍ形成し、レプリカレンズを
作成した。以上の４種類の樹脂からなる光学素子を被蒸
着体として、蒸着装置内にセッティングし、実施例１に
示す方法で光学薄膜を蒸着した。その際の蒸着前後での
レンズの面精度の変化を干渉計を用いて測定した。ＰＭ
ＭＡ成形レンズの例を図７に示す。成膜前後で面精度は
変化していない。他のレンズに対しても同様の結果を得
た。
ーボネート），ＰＳ（ポリスチレン）からなる、φ３０
ｍｍのレンズをそれぞれ射出成形法により作成した。ま
たガラス基板上に紫外線硬化タイプのアクリル系樹脂を
石英型を用い厚さ約２０μｍ形成し、レプリカレンズを
作成した。以上の４種類の樹脂からなる光学素子を被蒸
着体として、蒸着装置内にセッティングし、実施例１に
示す方法で光学薄膜を蒸着した。その際の蒸着前後での
レンズの面精度の変化を干渉計を用いて測定した。ＰＭ
ＭＡ成形レンズの例を図７に示す。成膜前後で面精度は
変化していない。他のレンズに対しても同様の結果を得
た。
【００３２】実施例６ 以上の実施例では蒸着中の酸素導入量を１×１０-4Ｔｏ
ｒｒに設定して、成膜を行った。本実施例では酸素導入
量を３×１０-5Ｔｏｒｒ，５×１０-5Ｔｏｒｒ，１．５
×１０-4Ｔｏｒｒ，２．０×１０-4Ｔｏｒｒ，２．５×
１０-4Ｔｏｒｒの５条件で、他は実施例１に記述した蒸
着材料及び製造方法で光学薄膜を作成した。その結果、
酸素導入量が３×１０-5Ｔｏｒｒのものは酸化不足が原
因と考えられる吸収が波長４００で３〜５％発生した。
他の酸素導入量で形成した光学薄膜の吸収は０．５％以
下であった。
ｒｒに設定して、成膜を行った。本実施例では酸素導入
量を３×１０-5Ｔｏｒｒ，５×１０-5Ｔｏｒｒ，１．５
×１０-4Ｔｏｒｒ，２．０×１０-4Ｔｏｒｒ，２．５×
１０-4Ｔｏｒｒの５条件で、他は実施例１に記述した蒸
着材料及び製造方法で光学薄膜を作成した。その結果、
酸素導入量が３×１０-5Ｔｏｒｒのものは酸化不足が原
因と考えられる吸収が波長４００で３〜５％発生した。
他の酸素導入量で形成した光学薄膜の吸収は０．５％以
下であった。
【００３３】また２．５×１０-4Ｔｏｒｒ酸素を導入し
て形成した光学薄膜の屈折率は、波長５５０ｎｍで１．
９５〜２．０程度に減少してしまった。他の酸素導入量
で形成された光学薄膜は２．０以上の屈折率値を示し
た。
て形成した光学薄膜の屈折率は、波長５５０ｎｍで１．
９５〜２．０程度に減少してしまった。他の酸素導入量
で形成された光学薄膜は２．０以上の屈折率値を示し
た。
【００３４】実施例１の方法で得られた光学薄膜のＥＳ
ＣＡ（Ｘ線源Ｍｇ−ｋα）分析の結果を図８に示す。図
８の縦軸は光電子の数、横軸結合エネルギー（Ｂｉｎｄ
ｉｎｇ Ｅｎｅｒｇｙ；単位ｅＶ）を示す。図８に示す
如くＴｉ2ｐピーク値とＺｒ3ｄピーク値との比（Ｚｒ／
Ｔｉ）は０．０６であり、Ｔｉの含有率の高い光学薄膜
が得られている。尚、チタンとジルコニウムのモル比
（Ｔｉ／Ｚｒ）を０．２，０．７，２．５及び４に取っ
た時の、波長５５０ｎｍでの屈折率、前記ピーク値の比
を下記に示す。尚、酸化チタンのチタンと酸素のモル比
は実施例１で示す材料と同じ１．５（Ｏ／Ｔｉ）であ
る。
ＣＡ（Ｘ線源Ｍｇ−ｋα）分析の結果を図８に示す。図
８の縦軸は光電子の数、横軸結合エネルギー（Ｂｉｎｄ
ｉｎｇ Ｅｎｅｒｇｙ；単位ｅＶ）を示す。図８に示す
如くＴｉ2ｐピーク値とＺｒ3ｄピーク値との比（Ｚｒ／
Ｔｉ）は０．０６であり、Ｔｉの含有率の高い光学薄膜
が得られている。尚、チタンとジルコニウムのモル比
（Ｔｉ／Ｚｒ）を０．２，０．７，２．５及び４に取っ
た時の、波長５５０ｎｍでの屈折率、前記ピーク値の比
を下記に示す。尚、酸化チタンのチタンと酸素のモル比
は実施例１で示す材料と同じ１．５（Ｏ／Ｔｉ）であ
る。
【００３５】
【外２】
【００３６】他の本発明に係る蒸着材料で形成された光
学薄膜をＥＳＣＡで測定した時のＴｉ2ｐピークとＺｒ3
ｄピークの比（Ｚｒ／Ｔｉ）は０．１以下であり、Ｔｉ
の含有率が高いことが分った。
学薄膜をＥＳＣＡで測定した時のＴｉ2ｐピークとＺｒ3
ｄピークの比（Ｚｒ／Ｔｉ）は０．１以下であり、Ｔｉ
の含有率が高いことが分った。
【００３７】次に、本発明に係る蒸着材料による光学薄
膜を用いた多層反射防止膜について述べる。屈折率が
１．４９のＰＭＭＡ成形レンズを被蒸着体に用い、その
上に実施例１で述べた蒸着材料と製造方法で高屈折率層
として光学薄膜（ｎｄ）でｎｄ＝３０ｎｍ形成し、次に
低屈折率層としてＳｉＯ2を電子ビーム加熱により１×
１０-4Ｔｏｒｒの酸素を導入し、成膜速度約１０Å／秒
でｎｄ＝５０ｎｍ形成し、次に実施例１で述べた蒸着材
料と製造方法でｎｄ＝２６７ｎｍの高屈折率層を形成
し、次にＳｉＯ2を電子ビーム加熱により１×１０-4Ｔ
ｏｒｒの酸素を導入し、成膜速度約１０Å／秒でｎｄ＝
１２５ｎｍの低屈折率層を形成した。この多層反射防止
膜の分光反射率を図９に示す。図９の縦軸は反射率、横
軸は波長を示す。図９に示す如く、波長４００ｎｍ〜７
００ｎｍの広い波長領域で反射率が０．５％以下の反射
防止膜を、プラスチックレンズにコンバートすることが
できた。
膜を用いた多層反射防止膜について述べる。屈折率が
１．４９のＰＭＭＡ成形レンズを被蒸着体に用い、その
上に実施例１で述べた蒸着材料と製造方法で高屈折率層
として光学薄膜（ｎｄ）でｎｄ＝３０ｎｍ形成し、次に
低屈折率層としてＳｉＯ2を電子ビーム加熱により１×
１０-4Ｔｏｒｒの酸素を導入し、成膜速度約１０Å／秒
でｎｄ＝５０ｎｍ形成し、次に実施例１で述べた蒸着材
料と製造方法でｎｄ＝２６７ｎｍの高屈折率層を形成
し、次にＳｉＯ2を電子ビーム加熱により１×１０-4Ｔ
ｏｒｒの酸素を導入し、成膜速度約１０Å／秒でｎｄ＝
１２５ｎｍの低屈折率層を形成した。この多層反射防止
膜の分光反射率を図９に示す。図９の縦軸は反射率、横
軸は波長を示す。図９に示す如く、波長４００ｎｍ〜７
００ｎｍの広い波長領域で反射率が０．５％以下の反射
防止膜を、プラスチックレンズにコンバートすることが
できた。
【００３８】上記多層反射防止膜と同じ蒸着材料、及び
製造方法で、光学的膜厚ｎｄのみを変化させて反射防止
膜を形成した。各層の光学的膜厚は下記の如くであっ
た。
製造方法で、光学的膜厚ｎｄのみを変化させて反射防止
膜を形成した。各層の光学的膜厚は下記の如くであっ
た。
【００３９】基 板 ＰＭＭＡ成形レンズ 第１層 酸化チタン＋ＺｒＯ2 ｎｄ：２９ｎｍ 第２層 ＳｉＯ2 ｎｄ：２７ｎｍ 第３層 酸化チタン＋ＺｒＯ2 ｎｄ：２０６ｎｍ 第４層 ＳｉＯ2 ｎｄ：１１４ｎｍ この反射防止膜の分光特性を図１０に示す。この反射防
止膜の特性は図９に示す反射防止膜の特性に比して反射
防止領域は狭いが、反射率の低いＵ型の反射防止膜が得
られた。
止膜の特性は図９に示す反射防止膜の特性に比して反射
防止領域は狭いが、反射率の低いＵ型の反射防止膜が得
られた。
【００４０】上記各多層反射防止膜の密着性、耐摩耗性
等の信頼性は問題のない良好なものであった。
等の信頼性は問題のない良好なものであった。
【００４１】
【発明の効果】以上説明した様に酸素とチタニウムのモ
ル比（Ｏ／Ｔｉ）が１．０〜１．７５の酸化チタンと酸
化ジルコニウムの混合によって得られる蒸着用材料はＴ
ｉとＺｒのモル比で１．０〜４．０の範囲で、飛散現象
を防止することが出来るとともに、良好な光学薄膜を得
ることができる。しかも、本発明では、被蒸着体の温度
を低温（室温下〜１２０℃）に設定しても、高屈折率の
光学薄膜が形成出来る為、プラスチックレンズ等の樹脂
を含む光学素子の光学薄膜として特に適している。さら
に被着体の温度を３００℃程度に加熱した場合にはさら
に高屈折率なものとなり良好な特性が得られる。
ル比（Ｏ／Ｔｉ）が１．０〜１．７５の酸化チタンと酸
化ジルコニウムの混合によって得られる蒸着用材料はＴ
ｉとＺｒのモル比で１．０〜４．０の範囲で、飛散現象
を防止することが出来るとともに、良好な光学薄膜を得
ることができる。しかも、本発明では、被蒸着体の温度
を低温（室温下〜１２０℃）に設定しても、高屈折率の
光学薄膜が形成出来る為、プラスチックレンズ等の樹脂
を含む光学素子の光学薄膜として特に適している。さら
に被着体の温度を３００℃程度に加熱した場合にはさら
に高屈折率なものとなり良好な特性が得られる。
【図１】本発明に係る蒸着材料で形成した光学薄膜の屈
折率の一例を示す図。
折率の一例を示す図。
【図２】本発明に係る蒸着ペレットの、蒸着後の断面模
式図。
式図。
【図３】本発明に係る蒸着材料の成膜速度を示す図。
【図４】本発明に係る蒸着材料で形成した光学薄膜の吸
収率を示す図。
収率を示す図。
【図５】本発明に係る蒸着材料で形成した光学薄膜の屈
折率を示す図。
折率を示す図。
【図６】本発明以外の蒸着材料で形成した蒸着ペレット
の蒸着後の断面模式図。
の蒸着後の断面模式図。
【図７】本発明を用いて、プラスチックレンズに光学薄
膜を形成した際の、プラスチックレンズの面精度を示す
図。
膜を形成した際の、プラスチックレンズの面精度を示す
図。
【図８】本発明の蒸着材料で形成した光学薄膜の一例
の、ＥＳＣＡ分析の結果を示す図。
の、ＥＳＣＡ分析の結果を示す図。
【図９】本発明の蒸着材料で形成した光学薄膜を含有す
る多層反射防止膜の一実施例の分光特性図。
る多層反射防止膜の一実施例の分光特性図。
【図１０】本発明の蒸着材料で形成した光学薄膜を含有
する多層反射防止膜の他の実施例の分光特性図。
する多層反射防止膜の他の実施例の分光特性図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 寺田 順司 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 坂本 淳一 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 菅原 登 茨城県取手市白山７丁目５番16号株式会 社オプトロン内 (56)参考文献 特開 昭60−197867（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−38920（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C23C 14/00 - 14/58 G02B 1/10
Claims (4)
- 【請求項１】 チタニウム（Ｔｉ）と酸素（Ｏ）のモル
比Ａ（Ｏ／Ｔｉ）が１．０〜１．７５の酸化チタン（Ｔ
ｉＯA）と、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）とを、チタニ
ウム（Ｔｉ）とジルコニウム（Ｚｒ）とのモル比（Ｔｉ
／Ｚｒ）が１．０〜４．０の割合で混合し、焼結又は溶
融固化してなることを特徴とする蒸着材料。 - 【請求項２】 請求項１の蒸着材料を用い、蒸着形成さ
れた事を特徴とする光学薄膜。 - 【請求項３】 請求項２に記載の光学薄膜を少なくとも
一層含む事を特徴とする多層薄膜。 - 【請求項４】 請求項１に記載の蒸着材料を用い、蒸着
時の被蒸着体の温度を室温から１２０℃とし、光学薄膜
を形成する事を特徴とする光学薄膜の製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4066041A JP3039721B2 (ja) | 1992-03-24 | 1992-03-24 | 蒸着材料及び該蒸着材料を用いた光学薄膜の製造方法 |
| TW082101871A TW245745B (ja) | 1992-03-24 | 1993-03-13 | |
| EP93104289A EP0562421B1 (en) | 1992-03-24 | 1993-03-16 | Evaporating material and method of producing optical thin film utilizing the same |
| DE69312540T DE69312540T2 (de) | 1992-03-24 | 1993-03-16 | Verdampfungsmaterial sowie dieses verwendendes Verfahren zur Herstellung optischer Dünnschichten |
| CN93103371A CN1030864C (zh) | 1992-03-24 | 1993-03-24 | 蒸镀材料及其利用该材料制造的光学薄膜 |
| US08/428,800 US5578536A (en) | 1992-03-24 | 1995-04-24 | Evaporating material for producing optical thin film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4066041A JP3039721B2 (ja) | 1992-03-24 | 1992-03-24 | 蒸着材料及び該蒸着材料を用いた光学薄膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05264804A JPH05264804A (ja) | 1993-10-15 |
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Family
ID=13304401
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4066041A Expired - Lifetime JP3039721B2 (ja) | 1992-03-24 | 1992-03-24 | 蒸着材料及び該蒸着材料を用いた光学薄膜の製造方法 |
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|---|---|
| US (1) | US5578536A (ja) |
| EP (1) | EP0562421B1 (ja) |
| JP (1) | JP3039721B2 (ja) |
| CN (1) | CN1030864C (ja) |
| DE (1) | DE69312540T2 (ja) |
| TW (1) | TW245745B (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6670105B2 (en) | 1998-09-18 | 2003-12-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing diffractive optical element |
| FR2793889B1 (fr) * | 1999-05-20 | 2002-06-28 | Saint Gobain Vitrage | Substrat transparent a revetement anti-reflets |
| NO20030254L (no) * | 2002-01-18 | 2003-07-21 | Ngk Spark Plug Co | Sintret zirkondioksydlegeme, slitasjebestandig element, lagerkule og element for optisk koblingsstykke |
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