JPH02204702A - レーザ高反射鏡 - Google Patents
レーザ高反射鏡Info
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- JPH02204702A JPH02204702A JP2471489A JP2471489A JPH02204702A JP H02204702 A JPH02204702 A JP H02204702A JP 2471489 A JP2471489 A JP 2471489A JP 2471489 A JP2471489 A JP 2471489A JP H02204702 A JPH02204702 A JP H02204702A
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Landscapes
- Lasers (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、レーザ高反射鏡に間し、特に、誘電体多層膜
で形成されるレーザ高反射鏡に間する。
で形成されるレーザ高反射鏡に間する。
（従来の技術）
近年、レーザ装置の高出力化に伴い、高出力レーザの使
用に耐えられるレーザ高反射鏡、反射防止膜等の誘電体
多層膜の研究が進められている。
用に耐えられるレーザ高反射鏡、反射防止膜等の誘電体
多層膜の研究が進められている。
従来の誘電体多層膜タイプのレーザ高反射鏡は、例えば
、光学ガラス、石英の基板上に、１種類の低屈折率物質
と１種類の高屈折率物質とを交互に積層したものである
。低屈折率物質としては、例えば、ＭｇＦ２．ＳｉＯ２
等が用いられ、また高屈折率物質としては、例えば、Ｚ
ｒＯ２、Ｔａ２０５、ＴｉＯ□等が用いられている。ま
た、各物質の膜厚は、光学的膜厚λ／４に設定される（
ここで、λは使用中の波長である）、このように設定す
ると、各膜の位相差がπとなり、すべての境界での反射
光が同相となり、総合的に高い反射率が得られる。また
、希望する高反射率を得るためには、通常２０層以上交
互に積層したものが用いられる。
、光学ガラス、石英の基板上に、１種類の低屈折率物質
と１種類の高屈折率物質とを交互に積層したものである
。低屈折率物質としては、例えば、ＭｇＦ２．ＳｉＯ２
等が用いられ、また高屈折率物質としては、例えば、Ｚ
ｒＯ２、Ｔａ２０５、ＴｉＯ□等が用いられている。ま
た、各物質の膜厚は、光学的膜厚λ／４に設定される（
ここで、λは使用中の波長である）、このように設定す
ると、各膜の位相差がπとなり、すべての境界での反射
光が同相となり、総合的に高い反射率が得られる。また
、希望する高反射率を得るためには、通常２０層以上交
互に積層したものが用いられる。
なお、レーザ高反射鏡の反射率は、一般に、次式で求め
ることができる。
ることができる。
Ｒ＝ ［１−（ｎｏ／ｎＬ＞”（ｎｏ２／ｎｓ）”］”
／［１＋（ｎＨ／ｎＬ）”（ｎＨ”／ｎｓ）”］］２−
−−−−−１＞ここで、膜層の数は（２Ｐ＋１）であり
、ｎＨは高屈折率物質の屈折率であり、ｎ、−は低屈折
率物質の屈折率である。ただし、外界媒質は空気とする
ものである。
／［１＋（ｎＨ／ｎＬ）”（ｎＨ”／ｎｓ）”］］２−
−−−−−１＞ここで、膜層の数は（２Ｐ＋１）であり
、ｎＨは高屈折率物質の屈折率であり、ｎ、−は低屈折
率物質の屈折率である。ただし、外界媒質は空気とする
ものである。
この（１）式から、レーザ高反射鏡の反射率は高屈折率
物質と低屈折率物質との屈折率の差が大きいほど、同一
の膜層の数において、反射率が高くなることが解る。
物質と低屈折率物質との屈折率の差が大きいほど、同一
の膜層の数において、反射率が高くなることが解る。
（１）式を用いて、膜層の数を２１にし、低屈折率物質
としてＳ ｉ Ｏ２（ｎ ｔ ＝ １ 、４５ ）を用
い、高屈折率物質としてＴｉＯ２（ｎｏ ＝２．Ｌ）を
用いた場合およびＺｒＯ２（ｎＨ＝１．ｓ＞を用いた場
合の反射率を計算すると、次のようになる。すなわち、 ＴｉＯ２による反射率は、９９．９％であり、ＺｒＯ２
による反射率は、９７，７％である。
としてＳ ｉ Ｏ２（ｎ ｔ ＝ １ 、４５ ）を用
い、高屈折率物質としてＴｉＯ２（ｎｏ ＝２．Ｌ）を
用いた場合およびＺｒＯ２（ｎＨ＝１．ｓ＞を用いた場
合の反射率を計算すると、次のようになる。すなわち、 ＴｉＯ２による反射率は、９９．９％であり、ＺｒＯ２
による反射率は、９７，７％である。
このように、（１）式に関連して説明したように、高屈
折率物質の屈折率が大きいほど、同−膜層の数に対して
は高い反射率が得られる。
折率物質の屈折率が大きいほど、同−膜層の数に対して
は高い反射率が得られる。
また、（１）式を別の観点から見ると、すなわち、希望
の高反射率（例えば、反射率９９．８％以上）を得るた
めにどれだけの膜層の数が必要かを異なった高屈折率物
質に対して求めると、高屈折率物質として前述と同様な
Ｔ ｉ ０２およびＺｒＯ２の場合には、次のようにな
る。すなわち、ＴｉＯ２では１９層であり、 ＺｒＯ２では３３層である。
の高反射率（例えば、反射率９９．８％以上）を得るた
めにどれだけの膜層の数が必要かを異なった高屈折率物
質に対して求めると、高屈折率物質として前述と同様な
Ｔ ｉ ０２およびＺｒＯ２の場合には、次のようにな
る。すなわち、ＴｉＯ２では１９層であり、 ＺｒＯ２では３３層である。
このように、屈折率の高い物質を用いるほうが少ない膜
層の数ですむ、そして、膜層の数が多ければ、それだけ
余計製作時間がかかり、製造コストもかかる。
層の数ですむ、そして、膜層の数が多ければ、それだけ
余計製作時間がかかり、製造コストもかかる。
以上のことから明らかなように、−ｍに、他の物理的特
性（光学的特性）を考慮しないで単に高反射率の誘電体
多層膜を得るためには、できるだけ高い屈折率の高屈折
率物質と低屈折率物質とを組合わせて用いて、誘電体多
層膜の膜層の数を少なくすることが有利である。
性（光学的特性）を考慮しないで単に高反射率の誘電体
多層膜を得るためには、できるだけ高い屈折率の高屈折
率物質と低屈折率物質とを組合わせて用いて、誘電体多
層膜の膜層の数を少なくすることが有利である。
（発明が解決しようとする課題）
前述のように、高反射率の誘電体多層膜の膜層の数を少
なくするためには、高屈折率物質としてＺｒＯ２よりも
ＴｉＯ２を用いた方がこのましいが、ＴｉＯ２には次の
ような物理的欠点がある。
なくするためには、高屈折率物質としてＺｒＯ２よりも
ＴｉＯ２を用いた方がこのましいが、ＴｉＯ２には次の
ような物理的欠点がある。
すなわち、ＴｉＯ２は、波長１μ付近にも微少な光吸収
特性を有しており、このためレーザの照射に対してそれ
によって製作されたレーザ高反射鏡がレーザダメージを
受ける原因物質となることである。すなわち、パルス幅
が数ｎｓのパルスから連続発振までの使用レーザに対し
てレーザダメージしきい値（スレッシュホルド値）が低
いことである。一方レーザダメージに対して強いＺｒＯ
２は前述のように、高反射率の誘電体多層膜を製作する
には誘電体多層膜の膜層の数が多くなってしまい、生産
コストを増加させる欠点を有する。
特性を有しており、このためレーザの照射に対してそれ
によって製作されたレーザ高反射鏡がレーザダメージを
受ける原因物質となることである。すなわち、パルス幅
が数ｎｓのパルスから連続発振までの使用レーザに対し
てレーザダメージしきい値（スレッシュホルド値）が低
いことである。一方レーザダメージに対して強いＺｒＯ
２は前述のように、高反射率の誘電体多層膜を製作する
には誘電体多層膜の膜層の数が多くなってしまい、生産
コストを増加させる欠点を有する。
したがって、本発明の目的は、高屈折率物質および低屈
折率物質により作成する誘電体多層膜のレーザ高反射鏡
において、欠点となるある物理的特性を持つ高屈折率物
質とそのような欠点となる物理的特性を持たない他の高
屈折率物質とを組合わせることにより、この欠点をほと
んど解消するように構成したレーザ高反射鏡を提供する
ことにある。
折率物質により作成する誘電体多層膜のレーザ高反射鏡
において、欠点となるある物理的特性を持つ高屈折率物
質とそのような欠点となる物理的特性を持たない他の高
屈折率物質とを組合わせることにより、この欠点をほと
んど解消するように構成したレーザ高反射鏡を提供する
ことにある。
本発明の具体的な目的は、高屈折率物質および低屈折率
物質により作成する誘電体多層膜のレーザ高反射鏡にお
いて、ある発振波長においても微少な光吸収特性を持ち
、このためレーザダメージしきい値が低い高屈折率物質
と、レーザダメージに対して強いが、前述の高屈折率物
質より少し低い屈折率を持つ高屈折率物質と、を組合わ
せて用いることにより、レーザダメージしきい値を高く
すると共に、膜層の数を少なくすることのできるレーザ
高反射鏡を提供することにある。
物質により作成する誘電体多層膜のレーザ高反射鏡にお
いて、ある発振波長においても微少な光吸収特性を持ち
、このためレーザダメージしきい値が低い高屈折率物質
と、レーザダメージに対して強いが、前述の高屈折率物
質より少し低い屈折率を持つ高屈折率物質と、を組合わ
せて用いることにより、レーザダメージしきい値を高く
すると共に、膜層の数を少なくすることのできるレーザ
高反射鏡を提供することにある。
（課題を解決するための手段）
前述の目的を達成するなめに、本発明は、基板上に、低
屈折率および高屈折率の誘電体膜を、使用波長に対する
光学的膜厚λ／４で複数交互に積層するレーザ高反射鏡
において、誘電体膜として、少なくとも１種類の低屈折
率物質と少なくとも２種類の高屈折率物質を用いる、こ
とを特徴とするレーザ高反射鏡、を採用するものである
。
屈折率および高屈折率の誘電体膜を、使用波長に対する
光学的膜厚λ／４で複数交互に積層するレーザ高反射鏡
において、誘電体膜として、少なくとも１種類の低屈折
率物質と少なくとも２種類の高屈折率物質を用いる、こ
とを特徴とするレーザ高反射鏡、を採用するものである
。
また、前述の具体的な目的を達成するために、本発明は
、基板上に、低屈折率および高屈折率の誘電体膜を、使
用波長に対する光学的膜厚λ／４で複数交互に積層する
レーザ高反射鏡において、誘電体膜として、少なくとも
１種類の低屈折率物質と少なくとも２種類の高屈折率物
質を用い、前記２種類の内の１つの高屈折率物質の誘電
体膜と低屈折率物質の誘電体膜とを交互に積層した積層
体をレーザ入射側に用い、前記２種類の内の他の１つの
高屈折率物質の誘電体膜と低屈折率物質の誘電体膜とを
交互に積層した積層体を基板側に用い、前記１つの高屈
折率物質が前記他の１つの高屈折率物質よりも光吸収に
よるダメージに対して強い物質である、ことを特徴とす
るレーザ高反射鏡、を採用するものである。
、基板上に、低屈折率および高屈折率の誘電体膜を、使
用波長に対する光学的膜厚λ／４で複数交互に積層する
レーザ高反射鏡において、誘電体膜として、少なくとも
１種類の低屈折率物質と少なくとも２種類の高屈折率物
質を用い、前記２種類の内の１つの高屈折率物質の誘電
体膜と低屈折率物質の誘電体膜とを交互に積層した積層
体をレーザ入射側に用い、前記２種類の内の他の１つの
高屈折率物質の誘電体膜と低屈折率物質の誘電体膜とを
交互に積層した積層体を基板側に用い、前記１つの高屈
折率物質が前記他の１つの高屈折率物質よりも光吸収に
よるダメージに対して強い物質である、ことを特徴とす
るレーザ高反射鏡、を採用するものである。
（実施例）
次に、本発明を図面を参照して説明する。
第１図は、本発明の高反射鏡の好ましい実施例の概略側
面図であり、第２図は、従来の高反射鏡の概略側面図で
ある。
面図であり、第２図は、従来の高反射鏡の概略側面図で
ある。
最初に、本発明の原理を概略すると、従来の高反射鏡で
は、１種類の低屈折率物質と１種類の高屈折率物質とを
用い、誘電体多層膜を製造していたが、本発明の高反射
鏡においては、少なくとも１種類の低屈折率物質と少な
くとも２種類の高屈折率物質とを用い、誘電体多層膜を
製造するものである。このように、２種類の高屈折率物
質を用いる理由は、他の高屈折率物質より屈折率は大き
いが、例えばある波長領域において光吸収の影響が大き
くレーザダメージのしきい値が低い等のある物理的特性
において劣るときに、そのような高屈折率物質だけを用
いる場合には、誘電体多層膜の膜層の数は比較的少なく
できるとしても、レーザダメージしきい値が低いので、
多少屈折率が低いとしてもある波長領域のおいて光吸収
が低く、レーザダメージに対して強い抵抗力を有する高
屈折率物質を前者の高屈折率物質と組合わせて用いてレ
ーザダメージを改善するものである。もちろん、レーザ
ダメージしきい値が高い高屈折率物質の１種類のみで誘
電体多層膜を形成しようとすると、屈折率が前者のもの
より小さいので、膜層の数が極めて多くなり、生産コス
トが増大する等の他の欠点がある。
は、１種類の低屈折率物質と１種類の高屈折率物質とを
用い、誘電体多層膜を製造していたが、本発明の高反射
鏡においては、少なくとも１種類の低屈折率物質と少な
くとも２種類の高屈折率物質とを用い、誘電体多層膜を
製造するものである。このように、２種類の高屈折率物
質を用いる理由は、他の高屈折率物質より屈折率は大き
いが、例えばある波長領域において光吸収の影響が大き
くレーザダメージのしきい値が低い等のある物理的特性
において劣るときに、そのような高屈折率物質だけを用
いる場合には、誘電体多層膜の膜層の数は比較的少なく
できるとしても、レーザダメージしきい値が低いので、
多少屈折率が低いとしてもある波長領域のおいて光吸収
が低く、レーザダメージに対して強い抵抗力を有する高
屈折率物質を前者の高屈折率物質と組合わせて用いてレ
ーザダメージを改善するものである。もちろん、レーザ
ダメージしきい値が高い高屈折率物質の１種類のみで誘
電体多層膜を形成しようとすると、屈折率が前者のもの
より小さいので、膜層の数が極めて多くなり、生産コス
トが増大する等の他の欠点がある。
また、前述のように、本発明の高反射鏡の誘電体多層膜
を構成する場合、レーザダメージのしきい値が高い高屈
折率物質と低屈折率物質とを交互の積層する積層体をレ
ーザ入射側の用いることが奸才しい。その理由は、レー
ザ高反射鏡のレーザ入射側表面付近の数層の積層体でレ
ーザのエネルギーのほとんどが反射されてしまい、それ
以後はエネルギーがかなり弱くなり、光吸収によるレー
ザダメージのしきい値が低い高屈折率物質を用いても差
し支えないからである。また、レーザ入射側に用いる光
吸収によるダメージに対して強い高屈折率物質の膜層の
数を選択する目安は、次式により求めることができる。
を構成する場合、レーザダメージのしきい値が高い高屈
折率物質と低屈折率物質とを交互の積層する積層体をレ
ーザ入射側の用いることが奸才しい。その理由は、レー
ザ高反射鏡のレーザ入射側表面付近の数層の積層体でレ
ーザのエネルギーのほとんどが反射されてしまい、それ
以後はエネルギーがかなり弱くなり、光吸収によるレー
ザダメージのしきい値が低い高屈折率物質を用いても差
し支えないからである。また、レーザ入射側に用いる光
吸収によるダメージに対して強い高屈折率物質の膜層の
数を選択する目安は、次式により求めることができる。
Ｒ表面＞ １− （Ｄ、Ｔ、基板／Ｄ、Ｔ、表面）・・
・・・・（２）ここで、Ｒ表面は入射側層の反射率（入
射側の低屈折率物質の屈折率と高屈折率物質の屈折率と
による反射率）であり、この値は（１）式により求める
。また、Ｄ、Ｔ、基板は基板側の高屈折率物質層のレー
ザダメージしきい値であり、Ｄ、Ｔ。
・・・・（２）ここで、Ｒ表面は入射側層の反射率（入
射側の低屈折率物質の屈折率と高屈折率物質の屈折率と
による反射率）であり、この値は（１）式により求める
。また、Ｄ、Ｔ、基板は基板側の高屈折率物質層のレー
ザダメージしきい値であり、Ｄ、Ｔ。
表面は入射側の高屈折率物質層のレーザダメージしきい
値である。
値である。
次に第１図を参照して、具体的な本発明の実施例につい
て説明する。第１図の本発明の高反射鏡誘導体多層膜は
石英基板１上に真空蒸着法により２９層の積層体を形成
したものであり、各層の内、２はＳｉＯ２！、３はＺｒ
Ｏ２膜、４はＴｉＯ２膜、５はオーバーコートとしての
ＳｉＯ２膜および６はアンダーコートとしてのＳ ｉ
０２膜である。
て説明する。第１図の本発明の高反射鏡誘導体多層膜は
石英基板１上に真空蒸着法により２９層の積層体を形成
したものであり、各層の内、２はＳｉＯ２！、３はＺｒ
Ｏ２膜、４はＴｉＯ２膜、５はオーバーコートとしての
ＳｉＯ２膜および６はアンダーコートとしてのＳ ｉ
０２膜である。
２．３および４の各層の膜厚は、光学的膜厚λ／４であ
り、５および６の膜厚はλ／２である。
り、５および６の膜厚はλ／２である。
波長１．０６μｍにおいて、石英、５ｉｎ２、ＺｒＯ２
，ＴｉＯ２は、それぞれ１．４５．１．８．２．１の屈
折率を有する。図面から明らかなように、レーザ入射側
の１４層の積層体は低屈折率物質のＳｉＯ２膜と高屈折
率物質のＺｒＯ２膜とを交互に積層したものであり、基
板側の１４層の積層体は低屈折率物質のＺｒＯ２膜と高
屈折率物質のＴ ｉ Ｏ２Ｍとを交互に積層したもので
ある、 次に、後述する比較実験例の説明のために、第２図で示
す従来の高反射鏡の誘電体多層膜について概略する。第
２図の誘電体多層膜は、石英基板１の上に真空蒸着法に
より２３層の積層体を形成したものであり、高屈折率物
質としてＴｉＯ２膜のみが用いられている。
，ＴｉＯ２は、それぞれ１．４５．１．８．２．１の屈
折率を有する。図面から明らかなように、レーザ入射側
の１４層の積層体は低屈折率物質のＳｉＯ２膜と高屈折
率物質のＺｒＯ２膜とを交互に積層したものであり、基
板側の１４層の積層体は低屈折率物質のＺｒＯ２膜と高
屈折率物質のＴ ｉ Ｏ２Ｍとを交互に積層したもので
ある、 次に、後述する比較実験例の説明のために、第２図で示
す従来の高反射鏡の誘電体多層膜について概略する。第
２図の誘電体多層膜は、石英基板１の上に真空蒸着法に
より２３層の積層体を形成したものであり、高屈折率物
質としてＴｉＯ２膜のみが用いられている。
次に比較実験例を説明すると、本発明の誘電体多層膜と
して第１図に示す２９層の積層体が作られ、従来の誘電
体多Ｎ膜として第２図に示す２３層の積層体が作られた
。これらはほぼ等しい反射率（計算値９９．９２％）を
有するものである。
して第１図に示す２９層の積層体が作られ、従来の誘電
体多Ｎ膜として第２図に示す２３層の積層体が作られた
。これらはほぼ等しい反射率（計算値９９．９２％）を
有するものである。
なお、参考までに付加えると、もし高屈折率物質として
ＺｒＯ２膜のみを用いで第２図のように積層して高反射
鏡を作る場合には９９．９２％の反射率を得るためには
３９層が必要である。
ＺｒＯ２膜のみを用いで第２図のように積層して高反射
鏡を作る場合には９９．９２％の反射率を得るためには
３９層が必要である。
本発明の高反射鏡においてレーザ入射側の１４層（すな
わちＳｉＯ２とＺｒＯ２との積層体）では約８７％のエ
ネルギーの反射がある。このため前述したように基板側
の１４層（すなわちＳ ｉ Ｏ２とＴｉＯ２との積層体
）にはわずか１３％のエネルギーしか伝達されず、この
なめ、たとえ光吸収のある高屈折率物質（例えばＴｉＯ
２＞を基板側に用いるとしても、光吸収によるレーザダ
メージを抑えることができることになる。
わちＳｉＯ２とＺｒＯ２との積層体）では約８７％のエ
ネルギーの反射がある。このため前述したように基板側
の１４層（すなわちＳ ｉ Ｏ２とＴｉＯ２との積層体
）にはわずか１３％のエネルギーしか伝達されず、この
なめ、たとえ光吸収のある高屈折率物質（例えばＴｉＯ
２＞を基板側に用いるとしても、光吸収によるレーザダ
メージを抑えることができることになる。
前述の本発明の高反射鏡および従来の高反射鏡に対して
レーザダメージしきい値を測定した。レーザは、発振波
長１．０５３μｍ、パルス幅２０ｎｓのを用いた。その
結果、本発明の高反射鏡のレーザダメージしきい値は、
７３Ｊ／ｃｏ？であり、従来の高反射鏡のレーザダメー
ジしきい値は、５０ Ｊ ／ ｃｒｄであった。このよ
うに、本発明の高反射鏡は従来の高反射鏡よりもレーザ
ダメージしきい値が約１．５倍（７３Ｊ／ａｄ１５０
Ｊ／ｃｄ）向上している。
レーザダメージしきい値を測定した。レーザは、発振波
長１．０５３μｍ、パルス幅２０ｎｓのを用いた。その
結果、本発明の高反射鏡のレーザダメージしきい値は、
７３Ｊ／ｃｏ？であり、従来の高反射鏡のレーザダメー
ジしきい値は、５０ Ｊ ／ ｃｒｄであった。このよ
うに、本発明の高反射鏡は従来の高反射鏡よりもレーザ
ダメージしきい値が約１．５倍（７３Ｊ／ａｄ１５０
Ｊ／ｃｄ）向上している。
またＴ ｉ Ｏ□腹およびＺｒＯ２膜の光吸収特性を次
のようにして測定した１合成石英基板上に光学的膜厚λ
／２（λ＝１．０６．ｃｚｍ）のＴｉＯ２膜およびＺｒ
Ｏ２膜をそれぞれ形成し、波長１．０６４μｍのレーザ
（Ｎｄ３＋ドープＹｓ Ａ Ｉ ｓ Ｏ１２レーザ）を
用いて対照するレーザカロリーメータで測定した。この
結果、ＴｉＯ２膜の光吸収は３６ｐｐｍであり、ＺｒＯ
２膜の光吸収は２０ｐｐｍであった。
のようにして測定した１合成石英基板上に光学的膜厚λ
／２（λ＝１．０６．ｃｚｍ）のＴｉＯ２膜およびＺｒ
Ｏ２膜をそれぞれ形成し、波長１．０６４μｍのレーザ
（Ｎｄ３＋ドープＹｓ Ａ Ｉ ｓ Ｏ１２レーザ）を
用いて対照するレーザカロリーメータで測定した。この
結果、ＴｉＯ２膜の光吸収は３６ｐｐｍであり、ＺｒＯ
２膜の光吸収は２０ｐｐｍであった。
前述のことから、本発明の高反射鏡は、従来の高反射鏡
よりも単に６層増すだけで、同一の高反射率を得ること
ができると共に、レーザダメージしきい値が約１．５倍
も向上するものである。
よりも単に６層増すだけで、同一の高反射率を得ること
ができると共に、レーザダメージしきい値が約１．５倍
も向上するものである。
以上、本発明は好ましい実施例について説明してきたが
、他の変形も行い得るものである。
、他の変形も行い得るものである。
例えば、真空蒸着法に代えて、スパッタリング法、ＣＶ
Ｄ法等により誘電体多層膜を作成できる。
Ｄ法等により誘電体多層膜を作成できる。
例えば、ＺｒＯ２の代わりに、高屈折率物質としてＡｌ
１０３ （ｎ＝１．６） 、Ｈｆ０ｚ （ｎ＝１．
８）等も用いられるものである。
１０３ （ｎ＝１．６） 、Ｈｆ０ｚ （ｎ＝１．
８）等も用いられるものである。
例えば、入射角はレーザ入射表面に垂直である必要はな
く、垂直に対しである角度をなしてもよいものである。
く、垂直に対しである角度をなしてもよいものである。
なお、この場合、光学的膜厚（＾／４）を入射角の傾斜
に伴って増加する必要がある。
に伴って増加する必要がある。
さらに、本発明を、主に光吸収特性によるレーザダメー
ジしきい値と、屈折率による積層体の膜層の数と、に着
目して説明してきたが、他の物理的特性を考慮して、少
なくとも２種類の高屈折率を用いて誘電体多層膜を作る
こともできる。
ジしきい値と、屈折率による積層体の膜層の数と、に着
目して説明してきたが、他の物理的特性を考慮して、少
なくとも２種類の高屈折率を用いて誘電体多層膜を作る
こともできる。
（発明の効果）
以上詳細に説明したように、本発明は、基板上に、低屈
折率および高屈折率の誘電体膜を、使用波長に対する光
学的膜厚λ／４で複数交互に積層するレーザ高反射鏡に
おいて、特に、光吸収によるレーザダメージが強い高屈
折率物質と、前者の高屈折率物質より屈折率は低いが光
吸収によるレーザダメージが弱い高屈折率物質と、を用
いているので、レーザダメ−・ジしきい値を向上させる
と共に、誘電体多層膜の膜層の数をわずかに増すだけで
高反射率を得ることができるものである。
折率および高屈折率の誘電体膜を、使用波長に対する光
学的膜厚λ／４で複数交互に積層するレーザ高反射鏡に
おいて、特に、光吸収によるレーザダメージが強い高屈
折率物質と、前者の高屈折率物質より屈折率は低いが光
吸収によるレーザダメージが弱い高屈折率物質と、を用
いているので、レーザダメ−・ジしきい値を向上させる
と共に、誘電体多層膜の膜層の数をわずかに増すだけで
高反射率を得ることができるものである。
第１図は、本発明の高反射鏡の好ましい実施例の概略側
面図である。 第２図は、従来の高反射鏡の概略側面図である。 １・・・石英基板、 ２・・・Ｓ ｉ ０２膜、 ３・・・ＺｒＯ２膜、 ４・・・ＴｉＯ２膜、 ５・・・オーバーコート、 ６・・・アンダーコート。 第１図 第 ２ 図
面図である。 第２図は、従来の高反射鏡の概略側面図である。 １・・・石英基板、 ２・・・Ｓ ｉ ０２膜、 ３・・・ＺｒＯ２膜、 ４・・・ＴｉＯ２膜、 ５・・・オーバーコート、 ６・・・アンダーコート。 第１図 第 ２ 図
Claims (5)
- （１）基板上に、低屈折率および高屈折率の誘電体膜を
、使用波長に対する光学的膜厚λ／４で複数交互に積層
するレーザ高反射鏡において、誘電体膜として、少なく
とも１種類の低屈折率物質と少なくとも２種類の高屈折
率物質を用いる、ことを特徴とするレーザ高反射鏡。 - （２）請求項１記載のレーザ高反射鏡において、前記２
種類の内の１つの高屈折率物質の誘電体膜と低屈折率物
質の誘電体膜とを交互に積層した積層体をレーザ入射側
に用い、前記２種類の内の他の１つの高屈折率物質の誘
電体膜と低屈折率物質の誘電体膜とを交互に積層した積
層体を基板側に用いる、ことを特徴とするレーザ高反射
鏡。 - （３）請求項２記載のレーザ高反射鏡において、前記１
つの高屈折率物質が前記他の１つの高屈折率物質よりも
光吸収によるダメージに対して強い物質である、ことを
特徴とするレーザ高反射鏡。 - （４）請求項３記載のレーザ高反射鏡において、前記１
つの高屈折率物質がＺｒＯ＿２であり、前記他の１つの
高屈折率物質がＴｉＯ＿２であり、前記低屈折率物質が
ＳｉＯ＿２である、ことを特徴とするレーザ高反射鏡。 - （５）請求項１ないし４のいずれか１つに記載のレーザ
高反射鏡において、発振波長が約１μｍであり、レーザ
出力がパルス幅数ｎｓのパルスから連続発振までの高出
力レーザに使用するものである、ことを特徴とするレー
ザ高反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2471489A JPH02204702A (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | レーザ高反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2471489A JPH02204702A (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | レーザ高反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02204702A true JPH02204702A (ja) | 1990-08-14 |
Family
ID=12145837
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2471489A Pending JPH02204702A (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | レーザ高反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02204702A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04145677A (ja) * | 1990-10-08 | 1992-05-19 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 可視レーザ用高反射鏡 |
| JPH0763907A (ja) * | 1993-08-26 | 1995-03-10 | Nec Corp | レーザ用反射鏡 |
| WO2019167123A1 (ja) * | 2018-02-27 | 2019-09-06 | 株式会社島津製作所 | 誘電体多層膜ミラー |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02192189A (ja) * | 1988-12-05 | 1990-07-27 | Honeywell Inc | 耐紫外線性高反射率多層誘電体ミラー |
-
1989
- 1989-02-02 JP JP2471489A patent/JPH02204702A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02192189A (ja) * | 1988-12-05 | 1990-07-27 | Honeywell Inc | 耐紫外線性高反射率多層誘電体ミラー |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04145677A (ja) * | 1990-10-08 | 1992-05-19 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 可視レーザ用高反射鏡 |
| JPH0763907A (ja) * | 1993-08-26 | 1995-03-10 | Nec Corp | レーザ用反射鏡 |
| WO2019167123A1 (ja) * | 2018-02-27 | 2019-09-06 | 株式会社島津製作所 | 誘電体多層膜ミラー |
| JPWO2019167123A1 (ja) * | 2018-02-27 | 2020-08-27 | 株式会社島津製作所 | 誘電体多層膜ミラー |
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