JP3111243B2 - 積層反射防止膜を有する光学部品 - Google Patents
積層反射防止膜を有する光学部品Info
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- JP3111243B2 JP3111243B2 JP03345028A JP34502891A JP3111243B2 JP 3111243 B2 JP3111243 B2 JP 3111243B2 JP 03345028 A JP03345028 A JP 03345028A JP 34502891 A JP34502891 A JP 34502891A JP 3111243 B2 JP3111243 B2 JP 3111243B2
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- optical component
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＯＡ機器、光通信機
器、光情報処理機器、光学応用製造機器、光学的測定
器、カメラなどの光学機器において使用される部品に関
し、さらに詳しくは積層された反射防止膜を有するガラ
ス製および樹脂製の光学部品（以下単に光学部品とい
う）に関する。
器、光情報処理機器、光学応用製造機器、光学的測定
器、カメラなどの光学機器において使用される部品に関
し、さらに詳しくは積層された反射防止膜を有するガラ
ス製および樹脂製の光学部品（以下単に光学部品とい
う）に関する。
【０００２】
【従来技術とその問題点】光学部品には、通常１〜３層
からなる反射防止膜が形成されているが、公知の反射防
止膜には、以下の様な問題点がある。
からなる反射防止膜が形成されているが、公知の反射防
止膜には、以下の様な問題点がある。
【０００３】（ａ）ＭｇＦ2 などの単層膜では、反射率
が１．３％以上にもなり、反射防止効果が十分でない。
が１．３％以上にもなり、反射防止効果が十分でない。
【０００４】（ｂ）２層膜では、反射率を０．２％以下
に押さえることは可能であるが、反射率を抑制できる光
波長の帯域が狭く、分光特性のグラフがＶ型となる。
に押さえることは可能であるが、反射率を抑制できる光
波長の帯域が狭く、分光特性のグラフがＶ型となる。
【０００５】（ｃ）３層膜では、第１層膜として中程度
の屈折率を有する適切な材料がないので、高屈折率材料
と低屈折率材料との積層による等価膜手法が採用されて
いる。そのため、膜制御が複雑である。
の屈折率を有する適切な材料がないので、高屈折率材料
と低屈折率材料との積層による等価膜手法が採用されて
いる。そのため、膜制御が複雑である。
【０００６】（ｄ）光学部品が樹脂製である場合には、
反射防止膜の基材への密着性が不良である。
反射防止膜の基材への密着性が不良である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、全
ての基材への密着性に優れ且つ膜制御が容易である積層
反射防止膜を備え、光学的特性、耐久性などに優れた光
学部品を提供することを目的とする。
ての基材への密着性に優れ且つ膜制御が容易である積層
反射防止膜を備え、光学的特性、耐久性などに優れた光
学部品を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記のよう
な技術の現状に鑑みて鋭意研究を進めた結果、特定の３
層膜の組み合わせからなる反射防止膜を光学部品上に形
成する場合には、従来技術の問題点が実質的に解消乃至
大幅に軽減されることを見出した。
な技術の現状に鑑みて鋭意研究を進めた結果、特定の３
層膜の組み合わせからなる反射防止膜を光学部品上に形
成する場合には、従来技術の問題点が実質的に解消乃至
大幅に軽減されることを見出した。
【０００９】即ち、本発明は、下記の光学部品を提供す
るものである： １．積層反射防止膜を有する光学部品であって、 （１）ＣｅＯ2 およびＭｇＯからなる屈折率１．６３〜
１．７５の第１層、（２）ＴｉＯ2 またはＴｉＯからな
る第２層、および（３）ＭｇＦ2 またはＳｉＯ2 からな
る第３層を順次積層してなる光学部品。
るものである： １．積層反射防止膜を有する光学部品であって、 （１）ＣｅＯ2 およびＭｇＯからなる屈折率１．６３〜
１．７５の第１層、（２）ＴｉＯ2 またはＴｉＯからな
る第２層、および（３）ＭｇＦ2 またはＳｉＯ2 からな
る第３層を順次積層してなる光学部品。
【００１０】本発明が対象とする光学部品は、ガラス製
および樹脂製のいずれでも良い。樹脂としては、光学部
品として一般に使用されているポリカーボネート（Ｐ
Ｃ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリア
ミド、ポリスチレン、ジエチレングリコールビスアリル
カーボネート樹脂などが例示される。
および樹脂製のいずれでも良い。樹脂としては、光学部
品として一般に使用されているポリカーボネート（Ｐ
Ｃ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリア
ミド、ポリスチレン、ジエチレングリコールビスアリル
カーボネート樹脂などが例示される。
【００１１】本発明光学部品において、基材上に形成さ
れる第１層は、ＣｅＯ2 およびＭｇＯの混合物の蒸着層
からなり、屈折率が１．６３〜１．７５の範囲内にある
ことを必須とする。ＣｅＯ2 とＭｇＯの混合割合は、好
ましくはＣｅＯ2 ：ＭｇＯ＝０．７３：１〜０．８６：
１程度（重量比）の範囲内にあり、特に好ましくはＣｅ
Ｏ2 ：ＭｇＯ＝０．８２：１である。第１層の屈折率が
上記の特定範囲外となる場合には、所期の目的が達成さ
れない。第１層の厚さは、基材への密着性などを考慮し
て、光学的膜厚（＝物理的膜厚×屈折率）として１１０
〜１２０nm程度とすることが好ましい。第１層は、Ｃｅ
Ｏ2 とＭｇＯとの混合原料を使用して、蒸着法により形
成することができる。この第１層は、基材であるガラス
製および樹脂製光学部品への密着性に優れていることが
特徴である。
れる第１層は、ＣｅＯ2 およびＭｇＯの混合物の蒸着層
からなり、屈折率が１．６３〜１．７５の範囲内にある
ことを必須とする。ＣｅＯ2 とＭｇＯの混合割合は、好
ましくはＣｅＯ2 ：ＭｇＯ＝０．７３：１〜０．８６：
１程度（重量比）の範囲内にあり、特に好ましくはＣｅ
Ｏ2 ：ＭｇＯ＝０．８２：１である。第１層の屈折率が
上記の特定範囲外となる場合には、所期の目的が達成さ
れない。第１層の厚さは、基材への密着性などを考慮し
て、光学的膜厚（＝物理的膜厚×屈折率）として１１０
〜１２０nm程度とすることが好ましい。第１層は、Ｃｅ
Ｏ2 とＭｇＯとの混合原料を使用して、蒸着法により形
成することができる。この第１層は、基材であるガラス
製および樹脂製光学部品への密着性に優れていることが
特徴である。
【００１２】本発明光学部品において、第１層上に形成
される第２層は、ＴｉＯ2 またはＴｉＯからなってい
る。第２層の厚さは、光学的膜厚として１８０〜２１０
nm程度とすることが好ましい。第２層は、常法に従って
蒸着法により形成することができる。
される第２層は、ＴｉＯ2 またはＴｉＯからなってい
る。第２層の厚さは、光学的膜厚として１８０〜２１０
nm程度とすることが好ましい。第２層は、常法に従って
蒸着法により形成することができる。
【００１３】本発明光学部品において、第２層上に形成
される第３層は、ＭｇＦ2 またはＳｉＯ2 からなってい
る。第３層の厚さは、光学的膜厚として１１０〜１２０
nm程度とすることが好ましい。第３層も、常法に従って
蒸着法により形成することができる。
される第３層は、ＭｇＦ2 またはＳｉＯ2 からなってい
る。第３層の厚さは、光学的膜厚として１１０〜１２０
nm程度とすることが好ましい。第３層も、常法に従って
蒸着法により形成することができる。
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば、以下のような効果が達
成される。
成される。
【００１５】（１）ＣｅＯ2 ／ＭｇＯ混合物を第１層と
するので、膜制御（組成および屈折率の制御）が容易で
ある。
するので、膜制御（組成および屈折率の制御）が容易で
ある。
【００１６】（２）第１層と基材との密着性が良好であ
る。特に従来密着性に劣るとされていた樹脂製基材に対
する第１層の密着性に優れている。
る。特に従来密着性に劣るとされていた樹脂製基材に対
する第１層の密着性に優れている。
【００１７】（３）可視波長域における反射率を１％以
下に押さえることができる。
下に押さえることができる。
【００１８】（４）悪条件下且つ長期にわたる耐久性に
優れている。
優れている。
【００１９】
【実施例】以下に実施例および比較例を示し、本発明の
特徴とするところをより一層明確にする。
特徴とするところをより一層明確にする。
【００２０】実施例１ 厚さ２mmのＰＭＭＡ平板（屈折率ｎＤ＝１．４９）を真
空蒸着装置内に設置し、非加熱下に排気して、真空度５
×１０-5Torrまで減圧した。次いで、電子ビームにより
ＣｅＯ2 ／ＭｇＯ混合物（モル比＝０．８２／１）を蒸
発させ、光学的膜厚が１１３nmとなるように成膜して、
第１層を形成した。
空蒸着装置内に設置し、非加熱下に排気して、真空度５
×１０-5Torrまで減圧した。次いで、電子ビームにより
ＣｅＯ2 ／ＭｇＯ混合物（モル比＝０．８２／１）を蒸
発させ、光学的膜厚が１１３nmとなるように成膜して、
第１層を形成した。
【００２１】次に、同様の条件で真空蒸着装置の減圧を
行ない、酸素を１．２×１０-5Torrまで導入した後、Ｔ
ｉＯ2 を蒸発させて、光学的膜厚１９０nmの第２層を形
成した。
行ない、酸素を１．２×１０-5Torrまで導入した後、Ｔ
ｉＯ2 を蒸発させて、光学的膜厚１９０nmの第２層を形
成した。
【００２２】次に、同様の条件で真空蒸着装置の減圧を
行なった後、ＭｇＦ2 を蒸発させて、光学的膜厚１１０
nmの第３層を形成した。
行なった後、ＭｇＦ2 を蒸発させて、光学的膜厚１１０
nmの第３層を形成した。
【００２３】ＰＭＭＡ平板の両面に上記の第１層乃至第
３層を形成した製品の分光特性を図１に示す。
３層を形成した製品の分光特性を図１に示す。
【００２４】また、形成された被膜層の各種の物性を表
１（所期物性）および表２（温度６０℃×相対湿度８０
％で１６８時間保持後の物性）に示す。なお、表１およ
び表２は、以下の実施例２〜３および比較例１〜４の結
果をも併せて示す。
１（所期物性）および表２（温度６０℃×相対湿度８０
％で１６８時間保持後の物性）に示す。なお、表１およ
び表２は、以下の実施例２〜３および比較例１〜４の結
果をも併せて示す。
【００２５】実施例２ 基材としてＰＣ平板（屈折率ｎＤ＝１．５８）を使用
し、第１層乃至第３層の光学的膜厚を下記の通りとする
以外は実施例１と同様にして、両面に３層被膜を有する
製品を得た。その分光特性を図２に示す。
し、第１層乃至第３層の光学的膜厚を下記の通りとする
以外は実施例１と同様にして、両面に３層被膜を有する
製品を得た。その分光特性を図２に示す。
【００２６】 第１層…１１３nm 第２層…２００nm 第３層…１１０nm
【００２７】比較例１ 第１層としてＡｌ2 Ｏ3 （屈折率ｎＤ＝１．６３）を使
用する以外は実施例１と同様にして、両面に３層被膜を
有する製品を得た。
用する以外は実施例１と同様にして、両面に３層被膜を
有する製品を得た。
【００２８】比較例２ 第１層としてＣｅＦ3 （屈折率ｎＤ＝１．６２）を使用
する以外は実施例１と同様にして、両面に３層被膜を有
する製品を得た。
する以外は実施例１と同様にして、両面に３層被膜を有
する製品を得た。
【００２９】比較例３ 第１層としてＰｂＦ2 （屈折率ｎＤ＝１．７５）を使用
する以外は実施例１と同様にして、両面に３層被膜を有
する製品を得た。
する以外は実施例１と同様にして、両面に３層被膜を有
する製品を得た。
【００３０】比較例４ 第１層としてＳｉＯ（屈折率ｎＤ＝１．６７）を使用す
る以外は実施例１と同様にして、両面に３層被膜を有す
る製品を得た。
る以外は実施例１と同様にして、両面に３層被膜を有す
る製品を得た。
【００３１】 表 １ 密着性 外観 光学特性 実施例１ 良好 良好 良好 実施例２ 良好 良好 良好 比較例１ 不良 不良 不良 比較例２ 良好 良好 不良 比較例３ 良好 良好 不良 比較例４ 不良 良好 不良 注：密着性…セロファンテープにて５回剥離試験する。
【００３２】外観…曇り、クラックなどの有無を肉眼で
判定する。
判定する。
【００３３】光学特性…反射率１％未満を良好とし、１
％以上を不良とする。
％以上を不良とする。
【００３４】 表 ２ 密着性 外観 光学特性 実施例１ 良好 良好 変化なし 実施例２ 良好 良好 変化なし 比較例１ 不良 不良 測定不能 比較例２ 良好 良好 変化大 比較例３ 良好 良好 変化大 比較例４ 不良 良好 変化大 注：比較例１は、クラックが多く、測定不可能であった。
【００３５】実施例４ 第２層としてＴｉＯ膜を形成させる以外は実施例１と同
様にして本発明による光学部品を製造した。
様にして本発明による光学部品を製造した。
【００３６】形成された被膜層の物性は、実施例１のそ
れと殆ど変わりなかった。
れと殆ど変わりなかった。
【００３７】実施例５ 第３層としてＳｉＯ2 膜を形成させる以外は実施例１と
同様にして本発明による光学部品を製造した。
同様にして本発明による光学部品を製造した。
【００３８】形成された被膜層の物性は、実施例１のそ
れと殆ど変わりなかった。
れと殆ど変わりなかった。
【図１】実施例１で得られた製品の分光特性を示すグラ
フである。
フである。
【図２】実施例２で得られた製品の分光特性を示すグラ
フである。
フである。
Claims (1)
- 【請求項１】積層反射防止膜を有する光学部品であっ
て、 （１）ＣｅＯ2およびＭｇＯからなる屈折率１．６３〜
１．７５で、光学的膜厚として１１０〜１２０ｎｍの第
１層、 （２）ＴｉＯ2またはＴｉＯからなる、光学的膜厚とし
て１８０〜２１０ｎｍの第２層、および （３）ＭｇＦ2またはＳｉＯ2からなる、光学的膜厚とし
て１１０〜１２０ｎｍの第３層を順次積層してなる光学
部品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03345028A JP3111243B2 (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 積層反射防止膜を有する光学部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03345028A JP3111243B2 (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 積層反射防止膜を有する光学部品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05173001A JPH05173001A (ja) | 1993-07-13 |
| JP3111243B2 true JP3111243B2 (ja) | 2000-11-20 |
Family
ID=18373798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03345028A Expired - Fee Related JP3111243B2 (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 積層反射防止膜を有する光学部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3111243B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI246460B (en) * | 1999-01-14 | 2006-01-01 | Sumitomo Chemical Co | Anti-reflection film |
| JP2012008297A (ja) * | 2010-06-24 | 2012-01-12 | Nikon Corp | 光学素子および光学装置 |
-
1991
- 1991-12-26 JP JP03345028A patent/JP3111243B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05173001A (ja) | 1993-07-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |