JPS62134601A - 光学部品用反射防止膜およびその製造法 - Google Patents
光学部品用反射防止膜およびその製造法Info
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- JPS62134601A JPS62134601A JP60275717A JP27571785A JPS62134601A JP S62134601 A JPS62134601 A JP S62134601A JP 60275717 A JP60275717 A JP 60275717A JP 27571785 A JP27571785 A JP 27571785A JP S62134601 A JPS62134601 A JP S62134601A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野］
本発明は合成樹脂製光学部品上に形成した反射防止膜並
びにその製造法に関するものである。
びにその製造法に関するものである。
し従来技術］
合成樹脂製光学部品としては、主としてジエチレングリ
コールビスアリルカーボネート（ＣＲ−３９，熱硬化性
樹脂）、ポリカーボネート（ｐｃ 、熱可塑性樹脂）等
よりなる低光学特性の眼鏡等に用いるグレードから、主
としてポリメチルメタクリレ−） （ＰＭＭＡ 、熱可
塑性樹脂、射出成形加工）茅よりなる高光学特性の非球
面加圧された光学レンズ等に用いるグレードまでの幅広
い応用範囲がある。これら合成樹脂製光学部品にも、光
学特性上反射防止効果を有する通用誘電体膜を被覆する
。しかし、光学部品が合成樹脂よりなるため、ガラスに
比べ物理性能（耐熱性、耐変形性、耐硬度’？） 、化
学性俺（耐溶剤性等）が劣り、その結果反射防止膜の被
覆に制約を余儀なされている。従って、使用目的および
範囲を限定して下記に示すように反射防止膜の被覆が行
われているのが現状である。
コールビスアリルカーボネート（ＣＲ−３９，熱硬化性
樹脂）、ポリカーボネート（ｐｃ 、熱可塑性樹脂）等
よりなる低光学特性の眼鏡等に用いるグレードから、主
としてポリメチルメタクリレ−） （ＰＭＭＡ 、熱可
塑性樹脂、射出成形加工）茅よりなる高光学特性の非球
面加圧された光学レンズ等に用いるグレードまでの幅広
い応用範囲がある。これら合成樹脂製光学部品にも、光
学特性上反射防止効果を有する通用誘電体膜を被覆する
。しかし、光学部品が合成樹脂よりなるため、ガラスに
比べ物理性能（耐熱性、耐変形性、耐硬度’？） 、化
学性俺（耐溶剤性等）が劣り、その結果反射防止膜の被
覆に制約を余儀なされている。従って、使用目的および
範囲を限定して下記に示すように反射防止膜の被覆が行
われているのが現状である。
（１） Ｐ Ｍ Ｍ Ａ製光学部品］二にｎｄ＝λｌ
／４（入、−４００ｎｍ） ＭｇＦ２を第一層として、
その北にｎｄ＝入２入日７８２ ＝ １６０ｎｍ ）の
ＳｉＯ２を第２層として被覆する。
／４（入、−４００ｎｍ） ＭｇＦ２を第一層として、
その北にｎｄ＝入２入日７８２ ＝ １６０ｎｍ ）の
ＳｉＯ２を第２層として被覆する。
（２：） ＰＭＭＡ製光学部品を水溶性溶剤中に浸漬
して該部品表面の水分を除去し、フロン系溶剤で洗浄し
た後約２ｐｍの熱硬化性Ｓ１系硬化膜を塗布する。
して該部品表面の水分を除去し、フロン系溶剤で洗浄し
た後約２ｐｍの熱硬化性Ｓ１系硬化膜を塗布する。
（３）前記第２項と同様に洗浄したＰＭＭＡ製光学部品
上に約０．１μ重のＭｇＦ２を真空き着法により被覆す
る。
上に約０．１μ重のＭｇＦ２を真空き着法により被覆す
る。
（４） ＰＭＭＡ製光学レンズを７５℃前後の温度に保
持した状態でｎｄ＝入１／２のＳｉＯ７を第１層として
、ｎｄ＝入２／４のＭ ｇ Ｆ ２を第２層として真空
蒸着するか、または常温下で第１層としてｎｄ＝入ｌ／
２０のＳｉＯ２を、第２層としてｎｄ＝λ２／４のＭｇ
Ｆ２を真空蒸着する。
持した状態でｎｄ＝入１／２のＳｉＯ７を第１層として
、ｎｄ＝入２／４のＭ ｇ Ｆ ２を第２層として真空
蒸着するか、または常温下で第１層としてｎｄ＝入ｌ／
２０のＳｉＯ２を、第２層としてｎｄ＝λ２／４のＭｇ
Ｆ２を真空蒸着する。
＠ ＰＭＭＡ製光学レンズを真空チャンバ内に入れ、
ＳｉＯを抵抗加熱蒸発源として、Ｓ ｉ０２を電子銃蒸
発源として入れ、まず約１Ｏ−６Ｔｏｒｒまで排気して
光学レンズの脱水を行った後、約２０久／秒の蒸着速度
でＳｉＯを、５〜１０久／秒の蒸着速度でＳ ｉ０２を
それぞれｎｄ＝ｄ＝２（入＝ ８０Ｏｎ＋ｓ ）で蒸着
させ、生成した被着物を約１０分間アニールして真空度
を大気に開放する。
ＳｉＯを抵抗加熱蒸発源として、Ｓ ｉ０２を電子銃蒸
発源として入れ、まず約１Ｏ−６Ｔｏｒｒまで排気して
光学レンズの脱水を行った後、約２０久／秒の蒸着速度
でＳｉＯを、５〜１０久／秒の蒸着速度でＳ ｉ０２を
それぞれｎｄ＝ｄ＝２（入＝ ８０Ｏｎ＋ｓ ）で蒸着
させ、生成した被着物を約１０分間アニールして真空度
を大気に開放する。
（６） ＰＭＭＡ製光学レンズを真空チャンバ内に入
れ、電子銃蒸発源としてＳｉＯ２とＣｅＣｈと別々にハ
ースに入れ、まず約１Ｏ−６Ｔｏｒｒまで排気して脱水
した後、５〜１０久／秒の蒸着速度で第１層目にｎｄ＝
λ／４のＳｉＯ２を、第２層目にｎｄ＝ｄ＝４のＣｅＯ
２を、第３層目にｎｄ＝ｄ＝２のＳｉＯ２を蒸着する。
れ、電子銃蒸発源としてＳｉＯ２とＣｅＣｈと別々にハ
ースに入れ、まず約１Ｏ−６Ｔｏｒｒまで排気して脱水
した後、５〜１０久／秒の蒸着速度で第１層目にｎｄ＝
λ／４のＳｉＯ２を、第２層目にｎｄ＝ｄ＝４のＣｅＯ
２を、第３層目にｎｄ＝ｄ＝２のＳｉＯ２を蒸着する。
この場合、Ｃｅ０７のほかに高屈折率蒸着材料としてＴ
ｉＯ２、ＺｒＯ２等を用いることができるが、これらは
融点が高く、輻射熱が大きいため、ＰＭＭＡに熱による
変形損傷を与えて特性保持に問題がある。
ｉＯ２、ＺｒＯ２等を用いることができるが、これらは
融点が高く、輻射熱が大きいため、ＰＭＭＡに熱による
変形損傷を与えて特性保持に問題がある。
［発明が解決しようとする開題点］
従来の合成樹脂製光学部品における反射防止膜は使用波
長域が入：４００〜７００ｒ＋＋ｓで１反射率の極小値
が約１％と低い、また、低温被覆により形成した場合、
４０℃・９０〜９５％で１０００時間。
長域が入：４００〜７００ｒ＋＋ｓで１反射率の極小値
が約１％と低い、また、低温被覆により形成した場合、
４０℃・９０〜９５％で１０００時間。
５０℃・９５％で１００時間の耐湿・湿度試験による第
１層目の５ｉＯｚ膜には耐クラツク効果に限度がある。
１層目の５ｉＯｚ膜には耐クラツク効果に限度がある。
膜表面のキズ防止のために、硬質の膜を形成するが、厚
膜のため多層構成の干渉効果により分光反射率曲線が波
打ち１分光特性が悪くなる。
膜のため多層構成の干渉効果により分光反射率曲線が波
打ち１分光特性が悪くなる。
さらに、厚膜の場合、膜応力が大きくなって合成樹脂製
光学部品の成形形状精度を損なうことになる。
光学部品の成形形状精度を損なうことになる。
本発明の目的は、入−７８０〜８２０ｎｍで０．５％以
下の反射率を保持し、形状精度の優れた合成樹脂製光学
部品の反射防止膜を提供せんとするにある。また、他の
目的は耐環境テスト（耐湿・湿テスト等）での耐クラツ
ク性並びに耐剥離性に優れ、実用的に充分な硬度と光学
部品に対する良好な密着性とを有する反射防止膜を提供
せんとするにある。
下の反射率を保持し、形状精度の優れた合成樹脂製光学
部品の反射防止膜を提供せんとするにある。また、他の
目的は耐環境テスト（耐湿・湿テスト等）での耐クラツ
ク性並びに耐剥離性に優れ、実用的に充分な硬度と光学
部品に対する良好な密着性とを有する反射防止膜を提供
せんとするにある。
［間届点を解決する手段および作用］
本発明によれば、合成樹脂製光学部品の基板ににｉ１層
としての反射防止効果を有するＳｉＯ層と、中間層とし
てのＣｅＯとＳｉＯ２との混合層と、最終層としてのＳ
ｉＯ層との３層構成よりなり、７８０〜８２０ｎｍの波
長領域を有する反射防止膜を形成する。
としての反射防止効果を有するＳｉＯ層と、中間層とし
てのＣｅＯとＳｉＯ２との混合層と、最終層としてのＳ
ｉＯ層との３層構成よりなり、７８０〜８２０ｎｍの波
長領域を有する反射防止膜を形成する。
ＳｉＯ層は非晶質構造の成膜を作るため、ＳｉＯ２より
も耐クラツク性が良好で、基板への密着性も良く、低温
被覆でも！＆密な膜成長を助長できる。
も耐クラツク性が良好で、基板への密着性も良く、低温
被覆でも！＆密な膜成長を助長できる。
従って、基板側から第１層および第３層に耐熱衝撃性の
高いＳｉＯを薄着する一方、中間の第２層目に高屈折率
（１：ｒＣｅＯ＋ ＳｉＯ２（１〜１０ ｗｔ％）の混
合物を７５７２する。このＣｅＯとＳｉＯ２の混合物は
第１および３層目のＳｉＯ膜の圧縮応力を緩和する引張
応力作用を有するので、形状精度変化を防止することが
できる。しかも、反射率の経時変化を抑えるため、酸化
作用がおこっても屈折率の変化が少ない高屈折率のＣｅ
Ｏ＋ ＳｉＯ２膜を中間層としているので、第３層目の
ＳｉＯで反射防止効果が達成される。
高いＳｉＯを薄着する一方、中間の第２層目に高屈折率
（１：ｒＣｅＯ＋ ＳｉＯ２（１〜１０ ｗｔ％）の混
合物を７５７２する。このＣｅＯとＳｉＯ２の混合物は
第１および３層目のＳｉＯ膜の圧縮応力を緩和する引張
応力作用を有するので、形状精度変化を防止することが
できる。しかも、反射率の経時変化を抑えるため、酸化
作用がおこっても屈折率の変化が少ない高屈折率のＣｅ
Ｏ＋ ＳｉＯ２膜を中間層としているので、第３層目の
ＳｉＯで反射防止効果が達成される。
本発明の光学部品を構成する合成樹脂としては、ポリメ
チルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ジエチレングリコー
ルビスアリルカーボネート（ＣＲ−３９）、ポリカーボ
ネート（ｐｃ）、ポリサル７オン（ＰＳＦ）、ポリスチ
レン（ＰＳ） 、スチレン−アクリロニトリル共重合体
（ＡＳ）、スチレン−アクリロニトリル−ブタジェン共
重合体（ＡＢＳ）等がある。これら合成樹脂を光学部品
の使用目的に応じて適宜選択して使用する。
チルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ジエチレングリコー
ルビスアリルカーボネート（ＣＲ−３９）、ポリカーボ
ネート（ｐｃ）、ポリサル７オン（ＰＳＦ）、ポリスチ
レン（ＰＳ） 、スチレン−アクリロニトリル共重合体
（ＡＳ）、スチレン−アクリロニトリル−ブタジェン共
重合体（ＡＢＳ）等がある。これら合成樹脂を光学部品
の使用目的に応じて適宜選択して使用する。
［実施例］
実施例１
本例においては、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ
）の光学部品基板（レンズ、プリズム等）に第１図に示
す装置を用いて反射防止膜の被覆処理を行った。
）の光学部品基板（レンズ、プリズム等）に第１図に示
す装置を用いて反射防止膜の被覆処理を行った。
ＰＭＭＡの基板７をまず十分に洗浄して第１図に示す装
置の真空チャンバｌの回転ドーム２に所定の位置でセッ
トした。真空チャンバ１のベースプレート上の左右に位
こする各蒸発源に後述する蒸着材料を入れた。すなわち
、抵抗加熱蒸発源３ （１０Ｖ、４００Ａ） に取付ケ
タ箱状ボート（蓋付）４内にＳｉＯを７〜８分目入れて
セットした。−・方、電子銃蒸発ｒＡ５に取付けた銅製
ハース６内に９５ｗｔ％のＧｅＯと５賛ｔ％のＳｉＯと
の混合物よりなるタブレットを入れてセットした。
置の真空チャンバｌの回転ドーム２に所定の位置でセッ
トした。真空チャンバ１のベースプレート上の左右に位
こする各蒸発源に後述する蒸着材料を入れた。すなわち
、抵抗加熱蒸発源３ （１０Ｖ、４００Ａ） に取付ケ
タ箱状ボート（蓋付）４内にＳｉＯを７〜８分目入れて
セットした。−・方、電子銃蒸発ｒＡ５に取付けた銅製
ハース６内に９５ｗｔ％のＧｅＯと５賛ｔ％のＳｉＯと
の混合物よりなるタブレットを入れてセットした。
全てのセツティングが実子した後、真空チャンバｌ内を
排気管８を介して排気した。十分な水分の除去を行ない
ながら真空チャンバ１内が約１０＝Ｔｏｒｒの到達真空
度に達したら、次の薄青処理を行った。なお、基若終了
まで基板は加熱することなく常温下に保持した。
排気管８を介して排気した。十分な水分の除去を行ない
ながら真空チャンバ１内が約１０＝Ｔｏｒｒの到達真空
度に達したら、次の薄青処理を行った。なお、基若終了
まで基板は加熱することなく常温下に保持した。
まず、回転ドーム２を回転させ、ガス導入口９からガス
を導入しながら抵抗加熱源３に入れたＳｉＯおよび電子
銃蒸発源５に入れたＣｅＯ＋ ＳｉＯ２混合物のガス出
しをシャッター１０の開閉により行ない、次いで基板側
からみて第１層目のＳｉＯ１１Ｑ、第２層［１のＣｅＯ
＋ＳｉＯ７（７）混合物膜、第３層目のＳｉＯ膜の３層
構造よりなる反射防止膜を蒸着により形成した。
を導入しながら抵抗加熱源３に入れたＳｉＯおよび電子
銃蒸発源５に入れたＣｅＯ＋ ＳｉＯ２混合物のガス出
しをシャッター１０の開閉により行ない、次いで基板側
からみて第１層目のＳｉＯ１１Ｑ、第２層［１のＣｅＯ
＋ＳｉＯ７（７）混合物膜、第３層目のＳｉＯ膜の３層
構造よりなる反射防止膜を蒸着により形成した。
第１層： ガス出し後、Ｉ Ｘ １０−５Ｔｏｒｒ以上
の真空度を保持しながら抵抗加熱１１Ａ３をスイッチオ
ンし、ＳｉＯを１〜３久／秒の蒸着速度で蒸着した（４
１械的膜厚 ｄ ＝ ７３．３内ｍ、屈折率ｎ＝ １．５８５ ）
。
の真空度を保持しながら抵抗加熱１１Ａ３をスイッチオ
ンし、ＳｉＯを１〜３久／秒の蒸着速度で蒸着した（４
１械的膜厚 ｄ ＝ ７３．３内ｍ、屈折率ｎ＝ １．５８５ ）
。
第２層： 第１層形成後抵抗加熱源３をスイッチオフし
、真空度を１〜２Ｘ１０−５ Ｔｏｒｒまで戻し、電子銃蒸発源５をスイッチオンし、
ＣｅＯ＋ ＳｉＯ２混合物を５〜１０＾／秒の蒸着速度
で蒸着した （ｄ ＝ ５７．３内ｍ、 ｎ＝２．０３）。
、真空度を１〜２Ｘ１０−５ Ｔｏｒｒまで戻し、電子銃蒸発源５をスイッチオンし、
ＣｅＯ＋ ＳｉＯ２混合物を５〜１０＾／秒の蒸着速度
で蒸着した （ｄ ＝ ５７．３内ｍ、 ｎ＝２．０３）。
第３層： 最後に、電子銃蒸発源をスイッチオフして第
１層の形成と同じ処理を再び 繰返してＳｉＯを蒸着した（ ｄ＝１４８．７内ｍ、
ｎ ＝ １．５８５） 。
１層の形成と同じ処理を再び 繰返してＳｉＯを蒸着した（ ｄ＝１４８．７内ｍ、
ｎ ＝ １．５８５） 。
このようにして得た反射防止膜の分光反射率を第２図に
曲線Ａにより示す、また、この反射防止１１りの耐性試
験後の各特性における有意差を比較例ｌ（従来法により
製造したＳｉＯ膜とＳｉＯ２膜との２層構造の反射防止
膜）および比較例２（従来法により製造したＳｉＯ膜、
ＣｅＯ２膜、 ＳｉＯ２膜の順よりなる３層構造の反射
防止膜）と共にｒ記の第１表に示す。
曲線Ａにより示す、また、この反射防止１１りの耐性試
験後の各特性における有意差を比較例ｌ（従来法により
製造したＳｉＯ膜とＳｉＯ２膜との２層構造の反射防止
膜）および比較例２（従来法により製造したＳｉＯ膜、
ＣｅＯ２膜、 ＳｉＯ２膜の順よりなる３層構造の反射
防止膜）と共にｒ記の第１表に示す。
実施例２
実施例１の処理を繰返した。ただし、第３層の形成時に
ガス導入口９より０２を１〜２Ｘ１０−’Ｔａｒｒにな
るまで供給した。このようにして形成した反射防止膜は
第１層にＳｉＯ膜（ｄ ＝ ７２．５５ｎｍ、ｎ ＝
１．５８５）、第２層にＣｅＯ＋ ＳｉＯ７混合物膜（
ｄ＝５６．４ｉｎｓ、ｎ ＝２．０３） 、第３層にＳ
ｉＯ膜（ｄ＝ １５２．７ｎｍ、 ｎ ＝ １．５０
６）の３層構造よりなり、第２図に曲線Ｂにより示され
る分光反射率および第１表に示される耐性試験による特
性を有する。
ガス導入口９より０２を１〜２Ｘ１０−’Ｔａｒｒにな
るまで供給した。このようにして形成した反射防止膜は
第１層にＳｉＯ膜（ｄ ＝ ７２．５５ｎｍ、ｎ ＝
１．５８５）、第２層にＣｅＯ＋ ＳｉＯ７混合物膜（
ｄ＝５６．４ｉｎｓ、ｎ ＝２．０３） 、第３層にＳ
ｉＯ膜（ｄ＝ １５２．７ｎｍ、 ｎ ＝ １．５０
６）の３層構造よりなり、第２図に曲線Ｂにより示され
る分光反射率および第１表に示される耐性試験による特
性を有する。
１直輿ｌ
実施例１の処理を繰返した。ただし、第３層の形成に際
し、ＳｉＯの代りにＳｉＯ２（溶融結晶）を１〜２ Ｘ
１０−’Ｔｏｒｒの真空上電子銃蒸発源５のスイッチ
オンにより５〜１０＾／秒の蒸着速度で蒸着した。この
ようにして得た反射防止膜は第１層にＳｉＯ膜（ｄ ＝
７１．８ｎｍ、 ｎ ＝ １．５８５ ） 、第２層
にＣｅＯ＋５ｉＣＬ＋Ｒ合物＋１！２（ｄ ＝ ５８．
Ｏｎｍ、ｎ ＝ ２．０３ ）、第３層にＳｉＯ＋膜（
ｄ ＝ １５３．７ｎ＋ｍ、 ｎ ＝ １．４８ ）の
３層構造よりなり、第２図に曲線Ｃにより示される分光
反射率および第１表に示される耐性試験による特性を有
する。
し、ＳｉＯの代りにＳｉＯ２（溶融結晶）を１〜２ Ｘ
１０−’Ｔｏｒｒの真空上電子銃蒸発源５のスイッチ
オンにより５〜１０＾／秒の蒸着速度で蒸着した。この
ようにして得た反射防止膜は第１層にＳｉＯ膜（ｄ ＝
７１．８ｎｍ、 ｎ ＝ １．５８５ ） 、第２層
にＣｅＯ＋５ｉＣＬ＋Ｒ合物＋１！２（ｄ ＝ ５８．
Ｏｎｍ、ｎ ＝ ２．０３ ）、第３層にＳｉＯ＋膜（
ｄ ＝ １５３．７ｎ＋ｍ、 ｎ ＝ １．４８ ）の
３層構造よりなり、第２図に曲線Ｃにより示される分光
反射率および第１表に示される耐性試験による特性を有
する。
第１表から明らかな如く、実施例１〜３は比較例１およ
び２に比べて耐性試験後の光学性能（面形状精度、反射
率）および外観性能（＃クラック性）が特に向にしてい
る。膜の耐クラツク性に関しては、第１層目にＳｉＯ膜
を形成し、第２層目にＣｅＯ＋ ＳｉＯ２混合物膜を形
成することにより６０℃、７０℃の高温側で耐クラツク
性の著しい白玉が得られる。
び２に比べて耐性試験後の光学性能（面形状精度、反射
率）および外観性能（＃クラック性）が特に向にしてい
る。膜の耐クラツク性に関しては、第１層目にＳｉＯ膜
を形成し、第２層目にＣｅＯ＋ ＳｉＯ２混合物膜を形
成することにより６０℃、７０℃の高温側で耐クラツク
性の著しい白玉が得られる。
基板の合成樹脂として、熱硬化性注型重合で得られるＣ
Ｒ−３９、また、８町塑性射出成形で（！）られるＰＣ
、ＰＳＦ 、ＰＳ 、ＡＢＳ’″ｇを用いても実施例１
〜３とほぼ同等の性能を得ることができた。
Ｒ−３９、また、８町塑性射出成形で（！）られるＰＣ
、ＰＳＦ 、ＰＳ 、ＡＢＳ’″ｇを用いても実施例１
〜３とほぼ同等の性能を得ることができた。
第２層のＣｅＯ＋ ＳｉＯ２混合物膜において、Ｓ ｉ
０７の混合比が実施例１〜３では５−改に％であるが、
この混合比は１〜１０屯量％の範囲内であれば第１表に
示した特性が充分に得られる。しかし、混合比が１０重
量％を越えると、ｆ記第２表に比較例３ （Ｓｉ（Ｌ＋
： １１ｇＬ量％）として示すように、（Ｉ）７０℃、
８０％、１００時間、（ＩＩ）６０℃、９５％、１００
時間の耐性試験による経時変化として反射率が規格値０
．５％（入＝７８０〜８２０ｎｍ ）を越え、合格反射
−（イを得ることができないことが分る。
０７の混合比が実施例１〜３では５−改に％であるが、
この混合比は１〜１０屯量％の範囲内であれば第１表に
示した特性が充分に得られる。しかし、混合比が１０重
量％を越えると、ｆ記第２表に比較例３ （Ｓｉ（Ｌ＋
： １１ｇＬ量％）として示すように、（Ｉ）７０℃、
８０％、１００時間、（ＩＩ）６０℃、９５％、１００
時間の耐性試験による経時変化として反射率が規格値０
．５％（入＝７８０〜８２０ｎｍ ）を越え、合格反射
−（イを得ることができないことが分る。
第２表
［発明の効果］
本発明の反射防１１：膜においては、初期および耐性試
験後の反射率が入＝７８０〜８２０ｎｍで０．５％以Ｆ
を保持することができ、また形状精度としてもｏ、ｏ５
人思量のＡ合波＋ｆｉｊ収Ｍ （ＷＦＡ −ＦＭＳ −
ＶＡＬＵＥ）および１５ｍ５以ドのスポット値を有する
。さらに、膜の耐クラツク性に関しても初期性能のみな
らず７０℃、８０％、１００時間又６０℃、９５％、１
００時ｐｒ＋ １７）耐性試験後テモＩ＋！；！割れは
生じず基板への密着性に問題がなく、テープ２１ｇ１テ
スト（ｌｌｌｌｉｌ １８■、 ４５°の角度から瞬時
にテープを剥す、２０回繰返す）でも膜′Ａ藻を生じな
い。
験後の反射率が入＝７８０〜８２０ｎｍで０．５％以Ｆ
を保持することができ、また形状精度としてもｏ、ｏ５
人思量のＡ合波＋ｆｉｊ収Ｍ （ＷＦＡ −ＦＭＳ −
ＶＡＬＵＥ）および１５ｍ５以ドのスポット値を有する
。さらに、膜の耐クラツク性に関しても初期性能のみな
らず７０℃、８０％、１００時間又６０℃、９５％、１
００時ｐｒ＋ １７）耐性試験後テモＩ＋！；！割れは
生じず基板への密着性に問題がなく、テープ２１ｇ１テ
スト（ｌｌｌｌｉｌ １８■、 ４５°の角度から瞬時
にテープを剥す、２０回繰返す）でも膜′Ａ藻を生じな
い。
第１図は本発明の合成樹脂製光学部品用反射防ＩＪ：膜
を製造するのに用いる装置の説明図、第２図は実施例１
〜３の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである・ １・・・真空チャン八 ２・・・回転ドーム ３・・・抵抗加熱ノ入発源 ４・・・箱状ポート ５・・・電ｆ−銃ノ入発源 ６・・・ｆ＃４製ハース ７・・・合成樹脂製基板 ８・・・排気管 ９・・・ガス導入「１ １０・・・シャッター 特許出願人 オリンパス光学下業株式会社代理人 弁
理上 奈 良 武７基板 第９図 （”／、） 波 長 （λ） 手続−ｆ：ｆｊ正−Ｆ椋（自発） 昭和６１年２月５［１ １、・バ件の表示 昭和６０年特許願第２７５７１７号 ２、発明の名称 光学部品用反射防止膜およびその製造法３、補正をする
者 事件との関係 特 許 出 願 人 任 所 東京都渋谷区幡ケ谷２丁目４３番２号４、代理
人 明細、（Ｊ全文 ：６７・２． （’＋ ”。 ｌ 喚７へ ＼ ・ ７ ７、補正の内容 （１）明細書全文を別紙訂正明細１！）の通り補正する
。 ８、添付３類の目録 （１）訂正明細、！： １ 通 用 細 １１； １、発明の名称 光学部品用反射防＋Ｌ Ｉｔりおよびその製造υ。 ２、特許請求の範囲 （１） 合成樹脂製光学部品の基板りに形成した該基
板側からみて第１層として反射防止効果を有する Ｓｉ
Ｏ層、中間層としてＣｅＯ２とＳｉＯ２との混合層、最
終層としてＳｉＯ層からなる３層構成で、７８０〜８２
０ ｎｍの波長領成人を有する反射防ＩＩ： ＩＩ！２
− （２光学部品を構成する合成樹脂はポリメチルメタクリ
レート、ジエチレングリコールビスアリルカーポネート
、ポリカーボネート、ポリサルフォン、ポリスチレン、
スチレン−アクリロニトリル八重：合体およびスチレン
−アクリロニトリル−ブタジェン共重合体から選択した
ものである特許請求の範囲第１項記・戒の反射防止膜。 （３）中間層としてのＣｅＯ２と５１０２との混合層は
１〜１０重量％のＳｉＯ２を含有する特許請求の範囲第
１項記載の反射防止膜。 （４）合成樹脂製光学部品の基板上に反射防止効果を形
成するに当り、前記基板側からみて第１層として反射防
止効果を有するＳｉＯを、中間層としてＣｅＯ２とＳｉ
Ｏ２との混合物を、最終層としてＳｉＯを基板の加熱な
しに常温でＳｉＯの抵抗加熱、ＣｅＣｈとＳ ｉＯ２の
混合物の電子ビーム加熱によりそれぞれ真空蒸着して３
層構成の反射防止膜を形成することを特徴とする光学部
品用反射防１ト膜の製造法。 （５） 光学部品を構成する合成樹脂としてポリメチル
メタクリレート、ジエチレングリコールビスアリルカー
ボネート、ポリカーボネート、ポリサルフォン、ポリス
チレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体又はスチ
レン−アクリロニトリル−ブタジェン共重合体を用いる
特許請求の範囲第４項記載の光学部品用反射防止膜の製
造法。 （６） ＣｅＯ２とＳｉＯ７との混合物は１−１０％
量％のＳ ｉＯ；＋を含有する特許１１１１求の範囲第
４項記載の光学部品用反射防＋Ｌ ＩＩ！２の製造法。 ３、発明の詳細な説明 ［産業上の利用分野］ 本発明は合成樹脂製光学部吊上に形成した反射防止膜並
びにその製造法に関するものである。 ［従来技術］ 合成樹脂製光学部品としては、■としてジエチレングリ
コールビスアリルカーポネー）（ＣＲ−３９，熱硬化性
樹脂）、ポリカーボネート（ＰＣ，熱可塑性樹脂）等よ
りなる低光学特性の眼鏡等に用いるグレードから、主と
してポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ 、熱可塑性
樹脂、射出成形加工）等よりなる高光学特性の非球面加
工された光学レンズ等に用いるグレードまでの幅広い応
用範囲がある。これら合成樹脂製光学部品にも、光学特
性り反射防止効果を有する透明誘゛屯体１１りを被覆す
る。しかし、光学部品が合成樹脂よりなるため、ガラス
に比べ物理性億（耐熱性、耐変形性、耐硬度等）、化学
性能（耐溶剤性′ｆＰ）が劣り、その結果反射防止膜の
被覆に制約を余儀なされている。従って、使用目的およ
び範囲を限定して下記に示すように反射防ＩＬ Ｉ！２
の被覆が行われているのが現状である。 （１） Ｐ Ｍ Ｍ Ａ製光学部品上にｎｄ＝入１／
４（入、＝４００ｎｎ） ＭｇＦ２を第一層として、そ
の上にｎｄ＝入２／８（入２ ＝ １６０ｎｍ ）のＳ
ｉＯ，＋を第２層として被覆する。 （２） ＰＭＭＡ製光学部品を水溶性溶剤中に浸漬し
て該部品表面の水分を除去し、フロン系溶剤で洗浄した
後約２μ層の熱硬化性Ｓｉ系硬化股を塗ｒｕする。 （３）前記第２項と同様に洗浄したＰＭＭＡ製光学部品
上に約０．１μｍのＭｇＦ２を真空蒸着法により被覆す
る。 （４） Ｐ Ｍ Ｍ Ａ製光学レンズを７５℃前後の
温度に保持した状態でｎｄ＝入＋／２のＳｉＯ２を第１
層として、ｎｄ＝入２／４のＭｇＦ２を第２層として真
空蒸着するか、または常温下で′：ＪＳ１層としてｎｄ
＝入１／２０のＳｉＯ２を、第２層としてｎｄ＝入２／
４のＭｇＦ２を真空蒸着する。 （５） ＰＭＭＡ製光学レンズを真空チャンバ内に入
れ、５ｉ（ＩＩを抵抗加熱）入発源として、Ｓ１勧を電
子銃蒸発源として入れ、まず約１Ｏ−ｂＴｏｒｒまで排
気して光学レンズの脱水を行った後、約２０ス／秒のノ
ヘ着速度でＳｉＯを、５〜１０又／秒の蒸着速度でＳｉ
Ｏ；＋をそれぞれｎｄ＝入／２（入＝ ８００ｎｓ ）
で蒸着させ、生成した被着物を約１０分間アニールして
真空度を大気に開放する。 （６’ｌ ＰＭＭＡ製光学レンズを真空チャンバ内に
入れ、電子銃蒸発源としてＳｉＯ２とＣｅＯ２と別々に
ハースに入れ、まず約１０＝Ｔｏｒｒまで排気して脱水
した後、５〜１０＾／秒の蒸着速度で第１層口にｎｄ＝
入／４のＳｉＯ２を、第２層目にｎｄ＝入／４（７）Ｇ
ｅ０２を、第３層目にｎｄ＝入／２の５１０２を蒸着す
る。この場合、ＣｅＯ２のほかに高屈折率蒸着材料とし
てＴｉＯ２、ＺｒＯ２等を用いることができるが、これ
らは融点が高く、輻射熱が大きいため、ＰＭＭＡに熱に
よる変形損傷を午えて特性保持に問題がある。 ［発明が解決しようとする問題点］ 従来の合成樹脂製光学部品における反射防止膜は使用波
長域が入＝４００〜７００ｎ＋＊で、反射率の極小値が
約１％と高い。また、低温被覆により形成した場合、４
０℃・９０〜９５％で１０００時間、５０℃−９５％で
１００時間の耐湿・湿度試験による第１層［ＪのＳｉＯ
７膜には耐クラツク効果に限度がある。膜表面のキズ防
止のために、硬質の膜を形成するが、厚膜のため多層構
成の上渉効果により分光反射率曲線が波打ち、分光特性
が悪くなる。 さら１こ、厚１１りの場合、膜応力が大きくなって合成
樹脂製光学部品の成形形状精度を損なうことになる。 本発明（７） ［１的は、入＝ ７８０〜８２０ｒ＋＋
ｓで０．５％以）゛の反射率を保持し、形状精度の優れ
た合成樹脂製光学部品の反射防止）模を提供せんとする
にある。また、他の［１的は耐環境テスト（耐湿・湿テ
ス）・１）での耐クラック性並びに耐剥離性に優れ、実
用的に充分な硬度と光学部品に対する良好な密着性とを
右する反射防１１膜を提供せんとするにある。 ［問題点を解決する手段および作用］ 本発明によれば、合成樹脂製光学部品の基板上に第１層
としての反射防＋ｈ効果を有するＳｉＯ層と、中間層と
してのＣｅＯ２とＳ ｉ０２との混合層と、最終層とし
てのＳｉＯ層との３層構成よりなり、７８０〜８２０ｎ
ｍの波長領域を有する反射防止膜を形成する。 ＳｉＯ層は非晶質構造の成膜を作るため、５１０２より
も耐クラツク性が良好で、基板への密着性も良く、低温
被覆でもｍ密な膜成長を助長できる。 従って、基板側から第１層および第３層に耐熱衝撃性の
高いＳｉＯを薄着する一方、中間の第２層口に高屈折率
のＣｅＯ＋ ＋ ＳｉＯ２（１〜１０ ｗｔ％）ノ混合
物を蒸着する。このＣｅｎ２とＳｉＯ２の混合物は第１
および３層目のＳ１０膜の圧縮応力を緩和する引張応力
作用を有するので、形状精度変化を防止することができ
る。しかも、反射率の経時変化を抑えるため、酸化作用
がおこっても屈折率の変化が少ない高屈折率のＣｅ０７
＋ Ｓ ｉＯ？膜を中間層としているので、第３層目
のＳｉＯで反射防止効果が達成される。 本発明の光学部品を構成する合成樹脂としては、ポリメ
チルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、 ジエチレングリコ
ールビスアリルカーボネート（ＣＲ−３９）、ポリカー
ポネー） （ＰＣ）、ポリサルフォン（ＰＳＦ）、ポリ
スチレン（ｐｓ）、 スチレン−アクリロニトリル共
重合体（ＡＳ）、 スチレン−アクリロニトリル−ブ
タジェン共重合体（ＡＢＳ）等がある。これら合成樹脂
を光学部品の使用［１的に応じて適宜選択して使用する
。 ［実施例］ 実施例１ 本例においては、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ
）の光学部品基板（レンズ、プリズム笠）に第１図に示
す装置を用いて反射防止膜の被ｍ処理を行った。 ＰＭＭＡの基板７をまず十分に洗浄して第１図に示す装
置の真空チャンバ１の回転ドーム２に所定の位置でセッ
トした。真空チャンバｌのベースプレートｌ二の左右に
位置する各ノヘ発源に後述する蒸着材料を入れた。すな
わち、抵抗加熱へ発源３ （ＩＯＶ、４０ＯＡ） に取
付けた箱状ポート（蓋付）４内にＳｉＯを７〜８分「１
人れてセ−／［・シた。一方、電子銃蒸発ＩＱ５に取付
けた銅製ハース６内に９５ｗｔ％のＣｅＯ２と５ｗｔ％
のＳ ｉｏ２と）’Ｊ４合物よりなるタブレットを入れ
てセットした。 全てのセツティングが完了した後、真空チャン／へ１内
を排気管８を介して排気した。ヒ分な水分の除去を行な
いながら真空チャン八ｌ内が約１Ｏ−６Ｔｏｒｒの到達
真空度に達したら、次の蒸着処理を行った。なお、蒸着
終了まで基板は加熱することなく常温下に保持した。 まず、回転ドーム２を回転させ、抵抗加熱源３に入れた
ＳｉＯおよび電子銃蒸発源５に入れたＣｅＯ７＋ＳｉＯ
２混合物のカス出しをシャッター１０を閉じた状態で行
ない、次いでノ、（板側からみて第１層目のＳｉＯ膜、
第２層目のＣｅＯ２＋ ＳｉＯ２の混合物膜、第３層目
のＳｉＯ膜の３層構造よりなる反射防止膜を蒸着により
形成した。 第１層： ガス出し後、ｌ Ｘ １０ ”Ｔｏｒｒ以り
の真空度を保持しながら抵抗加熱源３を スイッチオンし、ＳｉＯを１〜３＾／秒の蒸着速度で蒸
着した（機械的膜厚 −ｄ ＝ ７３．３ｎｍ、屈折率ｎ＝ １．５８５ ）
。 第２層： 第１層形成後抵抗加熱源３をスイッチオフし
、真空度を１〜２Ｘ１０−５ Ｔｏｒｒまで戻し、電子銃蒸発源５をスイッチオンし、
ＣｅＯ２＋ＳｉＯ２混合物を５〜１０＾／秒の蒸着速度
で蒸着した （ｄ ＝５７．３ｎｍ、 ｎ ＝ ２．０３ ）。 第３層： 最後に、電子銃蒸発源をスイッチオフして第
１層の形成と同じ処理を再び 繰返してＳｉＯを蒸着した（ ｄ＝ １４６．？ｎｍ、
ｎ ＝ １．５８５）。 このようにして得た反射防止膜の分光反射率を第２図に
曲線Ａにより示す。また、この反射防止膜の耐性試験後
の各特性における右、・ユ差を比較例１（従来法により
製造した５ｉＯＩＶ２とＳｉＯ；＋膜との２層構造の反
射防止膜）および比較例２（従来法により製造したＳｉ
ＯＩｌ！２、ＣｅＯ２膜、 ＳｉＯ２膜の順よりなる３
層構造の反射防止膜）と共に下記の第１表に示す。 実施例２ 実施例１の処理を繰返した。ただし、第３層の形成時に
ガス導入口９より０２を１〜２ＸＩＯ−’Ｔｏｒｒにな
るまで供給した。このようにして形成した反射防１ｈｒ
ｆ２は第１層にＳｉＯ膜（ｄ ＝ ７２．５５ｎｍ、ｎ
＝ １．５８５）、第２層にＧｅ０７ ＋ ＳｉＯ２
膜合物１）２（ｄ＝５８．８ｎｍ、 ｎ ＝ ２．０３
） 、第３層にＳｉＯ膜（ｄ＝ １５２．７ｎｍ、ｎ
＝ １．５０６） （７）３層構造よりなり、第２図
に曲線Ｂにより示される分光反射率および第１表に示さ
れる耐性試験による特性を有する。 実施例３ 実施例１の処理を繰返した。ただし、第３層の形成に際
し、ＳｉＯの代りにＳｉＯ；＋ （溶融結晶）を１〜２
Ｘ １０−５Ｔｏｒｒの真空下′市ｆ銃蒸発源５のス
イッチオンにより５〜１０久／秒のノヘ着速度で、き着
した。このようにして得た反射防止膜は第１層にＳｉＯ
１１Ｑ （ｄ ＝ ７１．８ｎｍ、ｎ ＝ １．５８５
） 、第２層にＣｅＯ，＋ ＋ ＳｉＯ？混合物膜（
ｄ ＝ ５６．Ｏｎ＋ｍ、ｎ ＝ ２．０３ ）、第３
層に５ｉＯｒｌｌ！２ （ｄ ＝ １５３．７ｒ＋＋ａ
、 ｎ ＝ １．４８ ）の３層構造よりなり、第２図
に曲ｙｉｃにより示される分光反射率および第１表に示
される耐性試験による特性を有する。 第１表から明らかな如く、実施例１〜３は比較例１およ
び２に比へて耐性試験後の光学性能（面形状精度、反射
率）および外観性能（耐クラツク性）が特に向−１−シ
ている。膜の耐クラック性に関しては、第１層［１にＳ
ｉＯ１１２を形成し、第２層目にＣｅ０７ ＋ Ｓｉｇ
ｈ混合物膜を形成することにより６０℃、７０℃の高温
側で耐タラ−２り性の著しい向」二が得られる。 基板の合成樹脂として、熱硬化性注型重合で得られるＣ
Ｒ−３９、また熱可塑性射出成形で得られるＰＣ，ＰＳ
Ｆ、ＰＳ、ＡＢＳ等を用いても実施例１〜３とほぼ同等
の外観性能（耐クラツク性）を得ることができた。 第２層のＣｅＣｈ ＋ ＳｉＯ２混合物膜において、Ｓ
ｉＯ２の混合比が実施例１〜３では５重量％であるが、
この混合比は１〜１０重量％の範囲内であれば第１表に
示した特性が充分に１１）られる、しかし。 混合比が１０屯量％を越えると、下記第２表に比較例３
（ＳｉＯ２： １１重量％）として示すように、ＣＩ
）７０℃、８０％、１００時間、（ＩＴ）６０℃、９５
％、１００時間の耐性試験による紅時変化として反射率
が規格値０．５％（入＝７８０〜８２０ｎｍ ）を越え
、合格反射率を得ることができないことが分る。 第２表 ［発明の効果］ 本発明の反射防止膜においては、初期および耐性試験後
の反射率が入ニア８０〜８２０ｎｓで０．５％以下を保
持することができ、また形状精度としても０．０５Å以
下の透過波面収差（ＷＦＡ−ＲＭＳ・ＶＡＬＵＥ）およ
び１５ｔａ以下のスポット値を有する。さらに、膜の耐
クラツク性に関しても初期性能のみならず７０℃、８０
％、１００時間又６０℃、９５％、１００時間の耐性試
験後でも膜割れは生じず基板への密着性に問題がなく、
テープ２４Ｍテスト（＠１８１．４５°（７） 角Ｗ
からｍ 時にテープを剥す、２０回繰返す）でも膜剥離
を生じない。 ４、図面の簡単な説明 第１図は本発明の合成樹脂製光学部品用反射防止膜を製
造するのに用いる装置の説ｌＪ１図、第２１Ａは実施例
１〜３の反射防市膜の分光反射率を示すグラフである。 ｌ・・・真空チャンパ ２・・・回転ドーム ３・・・抵抗加熱ノ入発源 ４・・・箱状ポート ５・・パ、＋ｉ Ｔ−銃蒸発源 ６・・・４４製ハース ７・・・合成樹脂製基板 ８・・・排気管 ９・・・カス導入［１ １Ｏ・・・シャッター
を製造するのに用いる装置の説明図、第２図は実施例１
〜３の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである・ １・・・真空チャン八 ２・・・回転ドーム ３・・・抵抗加熱ノ入発源 ４・・・箱状ポート ５・・・電ｆ−銃ノ入発源 ６・・・ｆ＃４製ハース ７・・・合成樹脂製基板 ８・・・排気管 ９・・・ガス導入「１ １０・・・シャッター 特許出願人 オリンパス光学下業株式会社代理人 弁
理上 奈 良 武７基板 第９図 （”／、） 波 長 （λ） 手続−ｆ：ｆｊ正−Ｆ椋（自発） 昭和６１年２月５［１ １、・バ件の表示 昭和６０年特許願第２７５７１７号 ２、発明の名称 光学部品用反射防止膜およびその製造法３、補正をする
者 事件との関係 特 許 出 願 人 任 所 東京都渋谷区幡ケ谷２丁目４３番２号４、代理
人 明細、（Ｊ全文 ：６７・２． （’＋ ”。 ｌ 喚７へ ＼ ・ ７ ７、補正の内容 （１）明細書全文を別紙訂正明細１！）の通り補正する
。 ８、添付３類の目録 （１）訂正明細、！： １ 通 用 細 １１； １、発明の名称 光学部品用反射防＋Ｌ Ｉｔりおよびその製造υ。 ２、特許請求の範囲 （１） 合成樹脂製光学部品の基板りに形成した該基
板側からみて第１層として反射防止効果を有する Ｓｉ
Ｏ層、中間層としてＣｅＯ２とＳｉＯ２との混合層、最
終層としてＳｉＯ層からなる３層構成で、７８０〜８２
０ ｎｍの波長領成人を有する反射防ＩＩ： ＩＩ！２
− （２光学部品を構成する合成樹脂はポリメチルメタクリ
レート、ジエチレングリコールビスアリルカーポネート
、ポリカーボネート、ポリサルフォン、ポリスチレン、
スチレン−アクリロニトリル八重：合体およびスチレン
−アクリロニトリル−ブタジェン共重合体から選択した
ものである特許請求の範囲第１項記・戒の反射防止膜。 （３）中間層としてのＣｅＯ２と５１０２との混合層は
１〜１０重量％のＳｉＯ２を含有する特許請求の範囲第
１項記載の反射防止膜。 （４）合成樹脂製光学部品の基板上に反射防止効果を形
成するに当り、前記基板側からみて第１層として反射防
止効果を有するＳｉＯを、中間層としてＣｅＯ２とＳｉ
Ｏ２との混合物を、最終層としてＳｉＯを基板の加熱な
しに常温でＳｉＯの抵抗加熱、ＣｅＣｈとＳ ｉＯ２の
混合物の電子ビーム加熱によりそれぞれ真空蒸着して３
層構成の反射防止膜を形成することを特徴とする光学部
品用反射防１ト膜の製造法。 （５） 光学部品を構成する合成樹脂としてポリメチル
メタクリレート、ジエチレングリコールビスアリルカー
ボネート、ポリカーボネート、ポリサルフォン、ポリス
チレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体又はスチ
レン−アクリロニトリル−ブタジェン共重合体を用いる
特許請求の範囲第４項記載の光学部品用反射防止膜の製
造法。 （６） ＣｅＯ２とＳｉＯ７との混合物は１−１０％
量％のＳ ｉＯ；＋を含有する特許１１１１求の範囲第
４項記載の光学部品用反射防＋Ｌ ＩＩ！２の製造法。 ３、発明の詳細な説明 ［産業上の利用分野］ 本発明は合成樹脂製光学部吊上に形成した反射防止膜並
びにその製造法に関するものである。 ［従来技術］ 合成樹脂製光学部品としては、■としてジエチレングリ
コールビスアリルカーポネー）（ＣＲ−３９，熱硬化性
樹脂）、ポリカーボネート（ＰＣ，熱可塑性樹脂）等よ
りなる低光学特性の眼鏡等に用いるグレードから、主と
してポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ 、熱可塑性
樹脂、射出成形加工）等よりなる高光学特性の非球面加
工された光学レンズ等に用いるグレードまでの幅広い応
用範囲がある。これら合成樹脂製光学部品にも、光学特
性り反射防止効果を有する透明誘゛屯体１１りを被覆す
る。しかし、光学部品が合成樹脂よりなるため、ガラス
に比べ物理性億（耐熱性、耐変形性、耐硬度等）、化学
性能（耐溶剤性′ｆＰ）が劣り、その結果反射防止膜の
被覆に制約を余儀なされている。従って、使用目的およ
び範囲を限定して下記に示すように反射防ＩＬ Ｉ！２
の被覆が行われているのが現状である。 （１） Ｐ Ｍ Ｍ Ａ製光学部品上にｎｄ＝入１／
４（入、＝４００ｎｎ） ＭｇＦ２を第一層として、そ
の上にｎｄ＝入２／８（入２ ＝ １６０ｎｍ ）のＳ
ｉＯ，＋を第２層として被覆する。 （２） ＰＭＭＡ製光学部品を水溶性溶剤中に浸漬し
て該部品表面の水分を除去し、フロン系溶剤で洗浄した
後約２μ層の熱硬化性Ｓｉ系硬化股を塗ｒｕする。 （３）前記第２項と同様に洗浄したＰＭＭＡ製光学部品
上に約０．１μｍのＭｇＦ２を真空蒸着法により被覆す
る。 （４） Ｐ Ｍ Ｍ Ａ製光学レンズを７５℃前後の
温度に保持した状態でｎｄ＝入＋／２のＳｉＯ２を第１
層として、ｎｄ＝入２／４のＭｇＦ２を第２層として真
空蒸着するか、または常温下で′：ＪＳ１層としてｎｄ
＝入１／２０のＳｉＯ２を、第２層としてｎｄ＝入２／
４のＭｇＦ２を真空蒸着する。 （５） ＰＭＭＡ製光学レンズを真空チャンバ内に入
れ、５ｉ（ＩＩを抵抗加熱）入発源として、Ｓ１勧を電
子銃蒸発源として入れ、まず約１Ｏ−ｂＴｏｒｒまで排
気して光学レンズの脱水を行った後、約２０ス／秒のノ
ヘ着速度でＳｉＯを、５〜１０又／秒の蒸着速度でＳｉ
Ｏ；＋をそれぞれｎｄ＝入／２（入＝ ８００ｎｓ ）
で蒸着させ、生成した被着物を約１０分間アニールして
真空度を大気に開放する。 （６’ｌ ＰＭＭＡ製光学レンズを真空チャンバ内に
入れ、電子銃蒸発源としてＳｉＯ２とＣｅＯ２と別々に
ハースに入れ、まず約１０＝Ｔｏｒｒまで排気して脱水
した後、５〜１０＾／秒の蒸着速度で第１層口にｎｄ＝
入／４のＳｉＯ２を、第２層目にｎｄ＝入／４（７）Ｇ
ｅ０２を、第３層目にｎｄ＝入／２の５１０２を蒸着す
る。この場合、ＣｅＯ２のほかに高屈折率蒸着材料とし
てＴｉＯ２、ＺｒＯ２等を用いることができるが、これ
らは融点が高く、輻射熱が大きいため、ＰＭＭＡに熱に
よる変形損傷を午えて特性保持に問題がある。 ［発明が解決しようとする問題点］ 従来の合成樹脂製光学部品における反射防止膜は使用波
長域が入＝４００〜７００ｎ＋＊で、反射率の極小値が
約１％と高い。また、低温被覆により形成した場合、４
０℃・９０〜９５％で１０００時間、５０℃−９５％で
１００時間の耐湿・湿度試験による第１層［ＪのＳｉＯ
７膜には耐クラツク効果に限度がある。膜表面のキズ防
止のために、硬質の膜を形成するが、厚膜のため多層構
成の上渉効果により分光反射率曲線が波打ち、分光特性
が悪くなる。 さら１こ、厚１１りの場合、膜応力が大きくなって合成
樹脂製光学部品の成形形状精度を損なうことになる。 本発明（７） ［１的は、入＝ ７８０〜８２０ｒ＋＋
ｓで０．５％以）゛の反射率を保持し、形状精度の優れ
た合成樹脂製光学部品の反射防止）模を提供せんとする
にある。また、他の［１的は耐環境テスト（耐湿・湿テ
ス）・１）での耐クラック性並びに耐剥離性に優れ、実
用的に充分な硬度と光学部品に対する良好な密着性とを
右する反射防１１膜を提供せんとするにある。 ［問題点を解決する手段および作用］ 本発明によれば、合成樹脂製光学部品の基板上に第１層
としての反射防＋ｈ効果を有するＳｉＯ層と、中間層と
してのＣｅＯ２とＳ ｉ０２との混合層と、最終層とし
てのＳｉＯ層との３層構成よりなり、７８０〜８２０ｎ
ｍの波長領域を有する反射防止膜を形成する。 ＳｉＯ層は非晶質構造の成膜を作るため、５１０２より
も耐クラツク性が良好で、基板への密着性も良く、低温
被覆でもｍ密な膜成長を助長できる。 従って、基板側から第１層および第３層に耐熱衝撃性の
高いＳｉＯを薄着する一方、中間の第２層口に高屈折率
のＣｅＯ＋ ＋ ＳｉＯ２（１〜１０ ｗｔ％）ノ混合
物を蒸着する。このＣｅｎ２とＳｉＯ２の混合物は第１
および３層目のＳ１０膜の圧縮応力を緩和する引張応力
作用を有するので、形状精度変化を防止することができ
る。しかも、反射率の経時変化を抑えるため、酸化作用
がおこっても屈折率の変化が少ない高屈折率のＣｅ０７
＋ Ｓ ｉＯ？膜を中間層としているので、第３層目
のＳｉＯで反射防止効果が達成される。 本発明の光学部品を構成する合成樹脂としては、ポリメ
チルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、 ジエチレングリコ
ールビスアリルカーボネート（ＣＲ−３９）、ポリカー
ポネー） （ＰＣ）、ポリサルフォン（ＰＳＦ）、ポリ
スチレン（ｐｓ）、 スチレン−アクリロニトリル共
重合体（ＡＳ）、 スチレン−アクリロニトリル−ブ
タジェン共重合体（ＡＢＳ）等がある。これら合成樹脂
を光学部品の使用［１的に応じて適宜選択して使用する
。 ［実施例］ 実施例１ 本例においては、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ
）の光学部品基板（レンズ、プリズム笠）に第１図に示
す装置を用いて反射防止膜の被ｍ処理を行った。 ＰＭＭＡの基板７をまず十分に洗浄して第１図に示す装
置の真空チャンバ１の回転ドーム２に所定の位置でセッ
トした。真空チャンバｌのベースプレートｌ二の左右に
位置する各ノヘ発源に後述する蒸着材料を入れた。すな
わち、抵抗加熱へ発源３ （ＩＯＶ、４０ＯＡ） に取
付けた箱状ポート（蓋付）４内にＳｉＯを７〜８分「１
人れてセ−／［・シた。一方、電子銃蒸発ＩＱ５に取付
けた銅製ハース６内に９５ｗｔ％のＣｅＯ２と５ｗｔ％
のＳ ｉｏ２と）’Ｊ４合物よりなるタブレットを入れ
てセットした。 全てのセツティングが完了した後、真空チャン／へ１内
を排気管８を介して排気した。ヒ分な水分の除去を行な
いながら真空チャン八ｌ内が約１Ｏ−６Ｔｏｒｒの到達
真空度に達したら、次の蒸着処理を行った。なお、蒸着
終了まで基板は加熱することなく常温下に保持した。 まず、回転ドーム２を回転させ、抵抗加熱源３に入れた
ＳｉＯおよび電子銃蒸発源５に入れたＣｅＯ７＋ＳｉＯ
２混合物のカス出しをシャッター１０を閉じた状態で行
ない、次いでノ、（板側からみて第１層目のＳｉＯ膜、
第２層目のＣｅＯ２＋ ＳｉＯ２の混合物膜、第３層目
のＳｉＯ膜の３層構造よりなる反射防止膜を蒸着により
形成した。 第１層： ガス出し後、ｌ Ｘ １０ ”Ｔｏｒｒ以り
の真空度を保持しながら抵抗加熱源３を スイッチオンし、ＳｉＯを１〜３＾／秒の蒸着速度で蒸
着した（機械的膜厚 −ｄ ＝ ７３．３ｎｍ、屈折率ｎ＝ １．５８５ ）
。 第２層： 第１層形成後抵抗加熱源３をスイッチオフし
、真空度を１〜２Ｘ１０−５ Ｔｏｒｒまで戻し、電子銃蒸発源５をスイッチオンし、
ＣｅＯ２＋ＳｉＯ２混合物を５〜１０＾／秒の蒸着速度
で蒸着した （ｄ ＝５７．３ｎｍ、 ｎ ＝ ２．０３ ）。 第３層： 最後に、電子銃蒸発源をスイッチオフして第
１層の形成と同じ処理を再び 繰返してＳｉＯを蒸着した（ ｄ＝ １４６．？ｎｍ、
ｎ ＝ １．５８５）。 このようにして得た反射防止膜の分光反射率を第２図に
曲線Ａにより示す。また、この反射防止膜の耐性試験後
の各特性における右、・ユ差を比較例１（従来法により
製造した５ｉＯＩＶ２とＳｉＯ；＋膜との２層構造の反
射防止膜）および比較例２（従来法により製造したＳｉ
ＯＩｌ！２、ＣｅＯ２膜、 ＳｉＯ２膜の順よりなる３
層構造の反射防止膜）と共に下記の第１表に示す。 実施例２ 実施例１の処理を繰返した。ただし、第３層の形成時に
ガス導入口９より０２を１〜２ＸＩＯ−’Ｔｏｒｒにな
るまで供給した。このようにして形成した反射防１ｈｒ
ｆ２は第１層にＳｉＯ膜（ｄ ＝ ７２．５５ｎｍ、ｎ
＝ １．５８５）、第２層にＧｅ０７ ＋ ＳｉＯ２
膜合物１）２（ｄ＝５８．８ｎｍ、 ｎ ＝ ２．０３
） 、第３層にＳｉＯ膜（ｄ＝ １５２．７ｎｍ、ｎ
＝ １．５０６） （７）３層構造よりなり、第２図
に曲線Ｂにより示される分光反射率および第１表に示さ
れる耐性試験による特性を有する。 実施例３ 実施例１の処理を繰返した。ただし、第３層の形成に際
し、ＳｉＯの代りにＳｉＯ；＋ （溶融結晶）を１〜２
Ｘ １０−５Ｔｏｒｒの真空下′市ｆ銃蒸発源５のス
イッチオンにより５〜１０久／秒のノヘ着速度で、き着
した。このようにして得た反射防止膜は第１層にＳｉＯ
１１Ｑ （ｄ ＝ ７１．８ｎｍ、ｎ ＝ １．５８５
） 、第２層にＣｅＯ，＋ ＋ ＳｉＯ？混合物膜（
ｄ ＝ ５６．Ｏｎ＋ｍ、ｎ ＝ ２．０３ ）、第３
層に５ｉＯｒｌｌ！２ （ｄ ＝ １５３．７ｒ＋＋ａ
、 ｎ ＝ １．４８ ）の３層構造よりなり、第２図
に曲ｙｉｃにより示される分光反射率および第１表に示
される耐性試験による特性を有する。 第１表から明らかな如く、実施例１〜３は比較例１およ
び２に比へて耐性試験後の光学性能（面形状精度、反射
率）および外観性能（耐クラツク性）が特に向−１−シ
ている。膜の耐クラック性に関しては、第１層［１にＳ
ｉＯ１１２を形成し、第２層目にＣｅ０７ ＋ Ｓｉｇ
ｈ混合物膜を形成することにより６０℃、７０℃の高温
側で耐タラ−２り性の著しい向」二が得られる。 基板の合成樹脂として、熱硬化性注型重合で得られるＣ
Ｒ−３９、また熱可塑性射出成形で得られるＰＣ，ＰＳ
Ｆ、ＰＳ、ＡＢＳ等を用いても実施例１〜３とほぼ同等
の外観性能（耐クラツク性）を得ることができた。 第２層のＣｅＣｈ ＋ ＳｉＯ２混合物膜において、Ｓ
ｉＯ２の混合比が実施例１〜３では５重量％であるが、
この混合比は１〜１０重量％の範囲内であれば第１表に
示した特性が充分に１１）られる、しかし。 混合比が１０屯量％を越えると、下記第２表に比較例３
（ＳｉＯ２： １１重量％）として示すように、ＣＩ
）７０℃、８０％、１００時間、（ＩＴ）６０℃、９５
％、１００時間の耐性試験による紅時変化として反射率
が規格値０．５％（入＝７８０〜８２０ｎｍ ）を越え
、合格反射率を得ることができないことが分る。 第２表 ［発明の効果］ 本発明の反射防止膜においては、初期および耐性試験後
の反射率が入ニア８０〜８２０ｎｓで０．５％以下を保
持することができ、また形状精度としても０．０５Å以
下の透過波面収差（ＷＦＡ−ＲＭＳ・ＶＡＬＵＥ）およ
び１５ｔａ以下のスポット値を有する。さらに、膜の耐
クラツク性に関しても初期性能のみならず７０℃、８０
％、１００時間又６０℃、９５％、１００時間の耐性試
験後でも膜割れは生じず基板への密着性に問題がなく、
テープ２４Ｍテスト（＠１８１．４５°（７） 角Ｗ
からｍ 時にテープを剥す、２０回繰返す）でも膜剥離
を生じない。 ４、図面の簡単な説明 第１図は本発明の合成樹脂製光学部品用反射防止膜を製
造するのに用いる装置の説ｌＪ１図、第２１Ａは実施例
１〜３の反射防市膜の分光反射率を示すグラフである。 ｌ・・・真空チャンパ ２・・・回転ドーム ３・・・抵抗加熱ノ入発源 ４・・・箱状ポート ５・・パ、＋ｉ Ｔ−銃蒸発源 ６・・・４４製ハース ７・・・合成樹脂製基板 ８・・・排気管 ９・・・カス導入［１ １Ｏ・・・シャッター
Claims (6)
- （１）合成樹脂製光学部品の基板上に形成した該基板側
からみて第１層として反射防止効果を有するＳｉＯ層、
中間層としてＣｅＯとＳｉＯ＿２との混合層、最終層と
してＳｉＯ層からなる３層構成で、７８０〜８２０ｎｍ
の波長領域λを有する反射防止膜。 - （２）光学部品を構成する合成樹脂はポリメチルメタク
リレート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネー
ト、ポリカーボネート、ポリサルフォン、ポリスチレン
、スチレン−アクリロニトリル共重合体およびスチレン
−アクリロニトリル−ブタジェン共重合体から選択した
ものである特許請求の範囲第１項記載の反射防止膜。 - （３）中間層としてのＣｅＯとＳｉＯ＿２との混合層は
１〜１０重量％のＳｉＯ＿２を含有する特許請求の範囲
第１項記載の反射防止膜。 - （４）合成樹脂製光学部品の基板上に反射防止膜を形成
するに当り、前記基板側からみて第１層として反射防止
効果を有するＳｉＯを、中間層としてＣｅＯとＳｉＯ＿
２との混合物を、最終層としてＳｉＯを基板の加熱なし
に常温でＳｉＯの抵抗加熱、ＣｅＯとＳｉＯ＿２の混合
物の電子ビーム加熱によりそれぞれ真空蒸着して３層構
成の反射防止膜を形成することを特徴とする光学部品用
反射防止膜の製造法。 - （５）光学部品を構成する合成樹脂としてポリメチルメ
タクリレート、ジエチレングリコールビスアリルカーボ
ネート、ポリカーボネート、ポリサルフォン、ポリスチ
レン、スチレン−アクリロニトリル共重合体又はスチレ
ン−アクリロニトリル−ブタジェン共重合体を用いる特
許請求の範囲第４項記載の光学部品用反射防止膜の製造
法。 - （６）ＣｅＯとＳｉＯ＿２との混合物は１〜１０重量％
のＳｉＯ＿２を含有する特許請求の範囲第４項記載の光
学部品用反射防止膜の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60275717A JPS62134601A (ja) | 1985-12-06 | 1985-12-06 | 光学部品用反射防止膜およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60275717A JPS62134601A (ja) | 1985-12-06 | 1985-12-06 | 光学部品用反射防止膜およびその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62134601A true JPS62134601A (ja) | 1987-06-17 |
Family
ID=17559391
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60275717A Pending JPS62134601A (ja) | 1985-12-06 | 1985-12-06 | 光学部品用反射防止膜およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62134601A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0285353A (ja) * | 1988-09-19 | 1990-03-26 | Sekinosu Kk | プラスチックのコーティング方法 |
| JPH02230101A (ja) * | 1989-03-02 | 1990-09-12 | Kyocera Corp | 合成樹脂光学部品の反射防止膜 |
| WO2024053125A1 (ja) * | 2022-09-09 | 2024-03-14 | キヤノンオプトロン株式会社 | 多層膜、多層膜を有する光学部材、および多層膜の製造方法 |
-
1985
- 1985-12-06 JP JP60275717A patent/JPS62134601A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0285353A (ja) * | 1988-09-19 | 1990-03-26 | Sekinosu Kk | プラスチックのコーティング方法 |
| JPH02230101A (ja) * | 1989-03-02 | 1990-09-12 | Kyocera Corp | 合成樹脂光学部品の反射防止膜 |
| WO2024053125A1 (ja) * | 2022-09-09 | 2024-03-14 | キヤノンオプトロン株式会社 | 多層膜、多層膜を有する光学部材、および多層膜の製造方法 |
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