JPH03107801A - プラスチック基材の反射防止膜 - Google Patents
プラスチック基材の反射防止膜Info
- Publication number
- JPH03107801A JPH03107801A JP1243547A JP24354789A JPH03107801A JP H03107801 A JPH03107801 A JP H03107801A JP 1243547 A JP1243547 A JP 1243547A JP 24354789 A JP24354789 A JP 24354789A JP H03107801 A JPH03107801 A JP H03107801A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- film
- base material
- total
- film thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 title claims abstract description 23
- 239000004033 plastic Substances 0.000 title claims abstract description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 4
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 37
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 21
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 9
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 3
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910020187 CeF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- WHOPEPSOPUIRQQ-UHFFFAOYSA-N oxoaluminum Chemical compound O1[Al]O[Al]1 WHOPEPSOPUIRQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はプラスチック光学部品の多層膜コーティングに
よる広帯域反射防止膜に関し、さらに詳しくは真空蒸着
法を用いて3層以上の多層膜を形成させた、特に耐熱性
および耐湿性に優れた広帯1或反躬防止膜に関する。
よる広帯域反射防止膜に関し、さらに詳しくは真空蒸着
法を用いて3層以上の多層膜を形成させた、特に耐熱性
および耐湿性に優れた広帯1或反躬防止膜に関する。
[従来の技術およびその課題]
透光性に優れたプラスチック材料は、軽量で機械的強度
に優れていると共に、加工性がよく、かつ自由にデザイ
ンができることから、特にガラスの代替用として、光学
分野等において幅広く用いられている。
に優れていると共に、加工性がよく、かつ自由にデザイ
ンができることから、特にガラスの代替用として、光学
分野等において幅広く用いられている。
現在多く使用されている透明プラスチックとしては、熱
可塑性のポリ塩化ビニル(PVC) 、ポリスチレン(
PS)、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタク
リレート(PMMA)等や、熱硬化性のポリジエチレン
グリコールビスアリルカーボネート(CR−39>等が
ある。
可塑性のポリ塩化ビニル(PVC) 、ポリスチレン(
PS)、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタク
リレート(PMMA)等や、熱硬化性のポリジエチレン
グリコールビスアリルカーボネート(CR−39>等が
ある。
これらのプラスチック類のうち、ポリメチルメタクリレ
ート(PMMA)は、光学部品として透明性、軽量性、
易加工性、耐衝撃性等に優れており、特に光の透過率は
他の樹脂と比べて最もよい。
ート(PMMA)は、光学部品として透明性、軽量性、
易加工性、耐衝撃性等に優れており、特に光の透過率は
他の樹脂と比べて最もよい。
しかしながら、このプラスチック基材には大きな欠点が
2つあり、その第1は表面硬度が低いため、摩擦や引っ
かきなどによってその表面が損傷を受けやすいことであ
る。また第2は、光学特性を与えるために、真空蒸着に
て金属膜を数層形成させた場合、密着性、耐ヒート試験
において、剥離クラック(膜のひびわれ)等が発生する
という問題が起きることである。
2つあり、その第1は表面硬度が低いため、摩擦や引っ
かきなどによってその表面が損傷を受けやすいことであ
る。また第2は、光学特性を与えるために、真空蒸着に
て金属膜を数層形成させた場合、密着性、耐ヒート試験
において、剥離クラック(膜のひびわれ)等が発生する
という問題が起きることである。
そこで、これらの欠点を改善するために、種々の方法が
提案されている。
提案されている。
例えば、第2の蒸着膜については、金属を真空中で気化
させて薄膜を形成する際、基材と金属薄膜との相性によ
り密着性が違ってくる。そこで通常、基材がガラスの場
合には、表面を洗浄水、アルコール等で洗浄して表面に
付いた油脂類を除いた後、真空蒸着を行う。その時、膜
付着性を強めるために、基材温度を300〜500℃ま
で上げ、ハードコート化する。しかし、この方法をその
ままプラスチック基材に適用するわけにはいかず、その
ため、プラスチック基材への蒸着膜の付着性はガラス基
村上の薄膜よりも弱く、剥離しやすい。
させて薄膜を形成する際、基材と金属薄膜との相性によ
り密着性が違ってくる。そこで通常、基材がガラスの場
合には、表面を洗浄水、アルコール等で洗浄して表面に
付いた油脂類を除いた後、真空蒸着を行う。その時、膜
付着性を強めるために、基材温度を300〜500℃ま
で上げ、ハードコート化する。しかし、この方法をその
ままプラスチック基材に適用するわけにはいかず、その
ため、プラスチック基材への蒸着膜の付着性はガラス基
村上の薄膜よりも弱く、剥離しやすい。
そこで、蒸着膜の耐ヒート試験による剥離等を改善する
方法として、真空蒸着にて金属物質を1000〜200
0人蒸着しためと、保護膜とされる塗料(架橋硬化樹脂
)をスピンコードもしくはディッピングにて塗布し、ざ
らに光(紫外線、波長:365 nm )照射にて硬化
させるという方法がおり、このとき用いられる光源は、
高圧水銀灯もしくはメタルハライド(80〜120W/
cm)でおる。
方法として、真空蒸着にて金属物質を1000〜200
0人蒸着しためと、保護膜とされる塗料(架橋硬化樹脂
)をスピンコードもしくはディッピングにて塗布し、ざ
らに光(紫外線、波長:365 nm )照射にて硬化
させるという方法がおり、このとき用いられる光源は、
高圧水銀灯もしくはメタルハライド(80〜120W/
cm)でおる。
しかしながらこの場合には、蒸着される金属は光の干渉
を利用しない全反射金属(アルミニウム。
を利用しない全反射金属(アルミニウム。
銅、クロム等)のものが多く、蒸着膜の上に数層の厚み
で塗料を塗布しても光学的に何ら影響はないが、光の干
渉を利用する反射防止膜上にはこの方法は適用すること
ができない。
で塗料を塗布しても光学的に何ら影響はないが、光の干
渉を利用する反射防止膜上にはこの方法は適用すること
ができない。
その他、別の方法として、シリコン系樹脂や架橋性硬化
樹脂をプライマーとして考え、基材と蒸着膜の間に介在
させることにより、密着性、耐熱性を向上させる方法も
ある。しかしこの時のアンダーコート被膜の膜厚は、通
常3〜5塵の範囲で塗膜化されているため、光学用とし
て表面精度を必要とするものには適さない。
樹脂をプライマーとして考え、基材と蒸着膜の間に介在
させることにより、密着性、耐熱性を向上させる方法も
ある。しかしこの時のアンダーコート被膜の膜厚は、通
常3〜5塵の範囲で塗膜化されているため、光学用とし
て表面精度を必要とするものには適さない。
ここで、目的とする光学特性が反射防止膜とされる場合
、その特性は、単層コート、■コート(特定波長反射防
止〉、マルチコート(広帯域反射防止膜)の3種に分け
られる。その3種の光学特性図を第3図に示す。図中、
Aは単層コート、Bはコート、Cはマルチコートの場合
をそれぞれ示す。
、その特性は、単層コート、■コート(特定波長反射防
止〉、マルチコート(広帯域反射防止膜)の3種に分け
られる。その3種の光学特性図を第3図に示す。図中、
Aは単層コート、Bはコート、Cはマルチコートの場合
をそれぞれ示す。
これらの光学特性を満足することと、耐熱性。
密着性を向上させるため、アンダーコート(架橋性硬化
樹脂)を使わずに、蒸着膜の物性を考えてそのまま真空
蒸着にて薄膜を形成させる方法が知られている。これら
の実用化されている膜構成の一例を第4図に示す。同図
において、第4図(a)は単層コートの場合を示し、第
4図(b)は■コートの場合を示す。なお図中、1はP
MMA基材、2はSiO2,3はMoF3.4はceo
2である。しかしながら、第4図(a)の構造では十分
な反射防止ができず、第4図(b)の構造では設定波長
ポイントのみの反射防止である。
樹脂)を使わずに、蒸着膜の物性を考えてそのまま真空
蒸着にて薄膜を形成させる方法が知られている。これら
の実用化されている膜構成の一例を第4図に示す。同図
において、第4図(a)は単層コートの場合を示し、第
4図(b)は■コートの場合を示す。なお図中、1はP
MMA基材、2はSiO2,3はMoF3.4はceo
2である。しかしながら、第4図(a)の構造では十分
な反射防止ができず、第4図(b)の構造では設定波長
ポイントのみの反射防止である。
そこで、これらの光学特性を改善して、単層。
■コート膜から広帯域マルチ反射防止膜とするための膜
構成が種々考案されてはいるが、膜構成上、問題とされ
る点が残されている。また最近では透明プラスチック材
料の耐熱グレードが市場にだされ、それに加えて薄膜の
強度化も検討されつつある。
構成が種々考案されてはいるが、膜構成上、問題とされ
る点が残されている。また最近では透明プラスチック材
料の耐熱グレードが市場にだされ、それに加えて薄膜の
強度化も検討されつつある。
第5図は、通常のガラス基材に対する広帯域反射防止膜
の膜構成を示したものであり、図中、5はガラス基材、
6はAl2O2,7はZrO2,8はCeF3.9はT
i 02をそれぞれ示す。この構成をそのままプラス
チックに適用すると、信頼性試験に問題が生じ、耐熱性
が悪く、50 ’Cはとでクランクが発生する。これは
プラスチック基材と膜物質との相性等が悪いためで、通
常ガラス基材に用いられている膜構成はプラスチック基
材には適用されない。
の膜構成を示したものであり、図中、5はガラス基材、
6はAl2O2,7はZrO2,8はCeF3.9はT
i 02をそれぞれ示す。この構成をそのままプラス
チックに適用すると、信頼性試験に問題が生じ、耐熱性
が悪く、50 ’Cはとでクランクが発生する。これは
プラスチック基材と膜物質との相性等が悪いためで、通
常ガラス基材に用いられている膜構成はプラスチック基
材には適用されない。
そこで、プラスチック基材に相性がよいと思われるSi
O2をベース膜や低屈折率層として形成させたり、1種
の物質を等価膜としてSiO2を含めた2種の物質に置
き換える方法も提案され、実用化されている。例えば、
第6図(a)は、第5図(a)の低屈折率層にS i
02を形成させ、2層目の物質を等価膜に置き換えたも
のであり、また第6図(b)は第5図(b)の1層目を
等価膜に置き換えたものである。
O2をベース膜や低屈折率層として形成させたり、1種
の物質を等価膜としてSiO2を含めた2種の物質に置
き換える方法も提案され、実用化されている。例えば、
第6図(a)は、第5図(a)の低屈折率層にS i
02を形成させ、2層目の物質を等価膜に置き換えたも
のであり、また第6図(b)は第5図(b)の1層目を
等価膜に置き換えたものである。
しかしながら、これらS i 02をベースとして改善
された広帯域反射防止膜は、一部のプラスチック基材、
即ちCR−39にしか適用されず、特に光学用として最
も多くの分野で利用されているポリメチルメタクリレー
ト(PMMA)基材上には形成できない。これは、広帯
域反射防止膜の条件とぎれるλ/2層が存在しているた
め、基材の膨張係数との違いにより、ヒート試験時のク
ラック発生の原因となるためである。
された広帯域反射防止膜は、一部のプラスチック基材、
即ちCR−39にしか適用されず、特に光学用として最
も多くの分野で利用されているポリメチルメタクリレー
ト(PMMA)基材上には形成できない。これは、広帯
域反射防止膜の条件とぎれるλ/2層が存在しているた
め、基材の膨張係数との違いにより、ヒート試験時のク
ラック発生の原因となるためである。
[課題を解決するための手段]
本発明者は、最近ガラスの代替用として需要の急増しつ
つあるプラスチック板およびレンズに、耐熱性に優れた
広帯域反射防止膜を形成させることを目的として鋭意研
究の結果、所望の光学特性を考えたうえで各層の膜厚を
薄膜化すること、つまり最上層以外の膜の合計を1/2
λ。以下とすることで光学膜の耐熱性を著しく向上し得
ることを見い出して本発明を完成した。
つあるプラスチック板およびレンズに、耐熱性に優れた
広帯域反射防止膜を形成させることを目的として鋭意研
究の結果、所望の光学特性を考えたうえで各層の膜厚を
薄膜化すること、つまり最上層以外の膜の合計を1/2
λ。以下とすることで光学膜の耐熱性を著しく向上し得
ることを見い出して本発明を完成した。
すなわち本発明は、基準設計の中心波長をλ。
とじ、プラスチック基材側から順に第1M、第2層、・
・・、第N層とする時、第1層から(N−1)層までに
ついてその膜厚の合計を1/2λ0以下とし、かつ最上
層の第N層を3 i Q2 60 wt%以上含有する
物質で、その膜厚を115λ0〜1/3λ0の範囲に形
成することを特徴とするプラスチック基材の反射防止膜
である。
・・、第N層とする時、第1層から(N−1)層までに
ついてその膜厚の合計を1/2λ0以下とし、かつ最上
層の第N層を3 i Q2 60 wt%以上含有する
物質で、その膜厚を115λ0〜1/3λ0の範囲に形
成することを特徴とするプラスチック基材の反射防止膜
である。
本発明は各層における膜の内部応力をできるだけ最小限
に抑えること、つまり膜厚の増加に伴う全応力値の増加
を少なくするという知見から行われたものでおる。
に抑えること、つまり膜厚の増加に伴う全応力値の増加
を少なくするという知見から行われたものでおる。
本発明の方法において用いられるプラスチック基材とし
ては、光学特性に優れた樹脂が良く、例えば熱可塑性樹
脂のポリメチルメタクリレート。
ては、光学特性に優れた樹脂が良く、例えば熱可塑性樹
脂のポリメチルメタクリレート。
ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、メ
チルメタクリレートと他のビニル七ツマ−との共重合体
等、また熱硬化性樹脂のポリジエチレングリコールビス
アリルカーボネート等が挙げられ、これらの樹脂を射出
成形法またはキャスト成形法によって製造された板また
はレンズである。
チルメタクリレートと他のビニル七ツマ−との共重合体
等、また熱硬化性樹脂のポリジエチレングリコールビス
アリルカーボネート等が挙げられ、これらの樹脂を射出
成形法またはキャスト成形法によって製造された板また
はレンズである。
このうち、透光性に優れたポリメチルメタクリレートは
特に好ましいものである。
特に好ましいものである。
これらのプラスチック基材の表面に真空蒸着にて膜を形
成する際には、基材表面上にやけ、指紋、油等の汚れが
存在する場合があるため、中性洗剤やフロン等にて洗浄
し、脱脂、および表面の水の脱水を行う。また、プラス
チック基材の種類によっては吸水率の非常に高いものが
あるため、洗浄終了後、予備乾燥をしてあくことが望ま
しい。
成する際には、基材表面上にやけ、指紋、油等の汚れが
存在する場合があるため、中性洗剤やフロン等にて洗浄
し、脱脂、および表面の水の脱水を行う。また、プラス
チック基材の種類によっては吸水率の非常に高いものが
あるため、洗浄終了後、予備乾燥をしてあくことが望ま
しい。
こうして前工程を終えた基材を真空蒸着するわ(プであ
るが、このとき用いる蒸着装置は公知のものでよく、排
気系については拡散ポンプ、クライオポンプどちらでも
よく、特に指定はない。
るが、このとき用いる蒸着装置は公知のものでよく、排
気系については拡散ポンプ、クライオポンプどちらでも
よく、特に指定はない。
以上のように配備された基材をチャンバ内にセットし、
排気する。このとき蒸着開始真空度は2×1叶5 To
rr以下が望ましい。
排気する。このとき蒸着開始真空度は2×1叶5 To
rr以下が望ましい。
最上層の第N層以外の層を形成する物質としては、高屈
折率層に例えば酸化セリウム(Ce02 )、酸化チタ
ン(TiO2)、Il化ジルコニウム(ZrO2)、五
酸化タンタル(Ta205 )等、またはこれらの混合
物が挙げられる。また、低屈折率層に3 i 02 、
MgF2等、またはこれらの混合物が挙げられる。
折率層に例えば酸化セリウム(Ce02 )、酸化チタ
ン(TiO2)、Il化ジルコニウム(ZrO2)、五
酸化タンタル(Ta205 )等、またはこれらの混合
物が挙げられる。また、低屈折率層に3 i 02 、
MgF2等、またはこれらの混合物が挙げられる。
[実施例]
次に本発明の実施例について説明する。
実施例1〜4.比較例1〜2
本実施例においては、ポリメチルメタクリレート(PM
MA)屈折率1.492、およびポリカーボネート(P
C)屈折率1.59に本発明による反射防止膜を適用し
た例を示す。
MA)屈折率1.492、およびポリカーボネート(P
C)屈折率1.59に本発明による反射防止膜を適用し
た例を示す。
上記の各基材を超音波洗浄後、蒸着槽に入れ、真空度1
.5X10−5TOrrまで排気し、第1表に示す膜構
成でそれぞれ蒸着した。
.5X10−5TOrrまで排気し、第1表に示す膜構
成でそれぞれ蒸着した。
(以下余白)
机) n −n3の合計0.40105λ。−1
1/2.5λ0
木2)n 〜n の合計0.35841λo’3
1/2゜8λ0
*3)n 〜n2の合計0.42342λ。−1 /2
.36λ。
.36λ。
帽 n−n3の合計0.38451λ0−1/2.6λ
。
。
基準設計波長を550 nmとした時の分光反射特性を
第1図および第2図に示す。第1図においてaは実施例
1の場合、bは実施例2の場合、Cは実施例3の場合で
おり、第2図は実施例4の場合でおる。いずれも広帯域
でしかも緑色の反射特性を持った良好な反射防止膜であ
る。
第1図および第2図に示す。第1図においてaは実施例
1の場合、bは実施例2の場合、Cは実施例3の場合で
おり、第2図は実施例4の場合でおる。いずれも広帯域
でしかも緑色の反射特性を持った良好な反射防止膜であ
る。
次にこれらの膜構成を3 i 0.Ce02S i 0
2の蒸着物質を使いコートした。
2の蒸着物質を使いコートした。
(以下余白)
得られた反射防止膜について、次に記載する条件でヒー
トサイクルテストおよび高温テストを行ったが、いずれ
の場合もクラック発生はなかった。
トサイクルテストおよび高温テストを行ったが、いずれ
の場合もクラック発生はなかった。
ヒートサイクルテスト条件;
−10〜+85°CXl0サイクル
上記ヒートサイクルテスト条件を図示すると第7図のよ
うになる。同図は、縦軸に温度、横軸に時間をとったも
のである。
うになる。同図は、縦軸に温度、横軸に時間をとったも
のである。
高温テスト条件:90°Cにて120時間次に比較例と
して下記の第3表に示す反射防止膜を作製し、実施例1
,2の反射防止膜と共に、その高温高湿テストを行った
。その結果、85°C/95%、120時間の高温高湿
条件下で実施例1゜2は異常なし、比較例1,2は全面
剥離であった。
して下記の第3表に示す反射防止膜を作製し、実施例1
,2の反射防止膜と共に、その高温高湿テストを行った
。その結果、85°C/95%、120時間の高温高湿
条件下で実施例1゜2は異常なし、比較例1,2は全面
剥離であった。
(以下余白〉
第3表
7・・・Zr02
9・・・T l 02
8・・・CeF3
Claims (1)
- (1)基準設計の中心波長をλ_0とし、プラスチック
基材側から順に第1層、第2層、・・・、第N層とする
時、第1層から(N−1)層までについてその膜厚の合
計を1/2λ_0以下とし、かつ最上層の第N層をSi
O_260wt%以上含有する物質で、その膜厚を1/
5λ_0〜1/3λ_0の範囲に形成することを特徴と
するプラスチック基材の反射防止膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1243547A JPH03107801A (ja) | 1989-09-21 | 1989-09-21 | プラスチック基材の反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1243547A JPH03107801A (ja) | 1989-09-21 | 1989-09-21 | プラスチック基材の反射防止膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03107801A true JPH03107801A (ja) | 1991-05-08 |
Family
ID=17105498
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1243547A Pending JPH03107801A (ja) | 1989-09-21 | 1989-09-21 | プラスチック基材の反射防止膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03107801A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0772329A (ja) * | 1993-05-25 | 1995-03-17 | Litton Syst Inc | 光学要素のための多層コーティング |
US6166405A (en) * | 1998-04-23 | 2000-12-26 | Matsushita Electronics Corporation | Solid-state imaging device |
-
1989
- 1989-09-21 JP JP1243547A patent/JPH03107801A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0772329A (ja) * | 1993-05-25 | 1995-03-17 | Litton Syst Inc | 光学要素のための多層コーティング |
US6166405A (en) * | 1998-04-23 | 2000-12-26 | Matsushita Electronics Corporation | Solid-state imaging device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5725959A (en) | Antireflection film for plastic optical element | |
JPH0282201A (ja) | 合成樹脂製光学部品の多層膜裏面反射鏡 | |
JPS6135521B2 (ja) | ||
JP3221764B2 (ja) | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 | |
JPH03107801A (ja) | プラスチック基材の反射防止膜 | |
JPS60131501A (ja) | 合成樹脂基板の反射鏡 | |
JP3068252B2 (ja) | 反射防止膜を有する光学部材 | |
JP3012712B2 (ja) | 反射防止膜を有する光学部材 | |
JPS5835501A (ja) | 合成樹脂製レンズ | |
JPS60130704A (ja) | 合成樹脂基板の反射防止膜 | |
JPH02303828A (ja) | プラスチック基材の広帯域反射防止膜 | |
JPH10123303A (ja) | 反射防止光学部品 | |
JPH01303401A (ja) | プラスチック光学部品の多層膜コーティング製造法 | |
JP3068243B2 (ja) | 反射防止膜を有する光学部材 | |
JPH02291502A (ja) | プラスチックレンズ用多層反射防止膜 | |
JPH01295203A (ja) | プラスチックの多層膜コーティング製造法 | |
JP3167033B2 (ja) | 反射防止膜を有する光学部材 | |
JPH10311902A (ja) | 防曇反射防止光学物品及び光学機器 | |
JPS6326603A (ja) | 合成樹脂部材の反射鏡 | |
JPH0266157A (ja) | プラスチック部品の金属コーティングおよび増反射金属ミラーコーティング製造法 | |
JPS62134601A (ja) | 光学部品用反射防止膜およびその製造法 | |
JP2712235B2 (ja) | 合成樹脂製レンズ | |
JPS6296901A (ja) | 合成樹脂製レンズ | |
JP2983329B2 (ja) | 反射防止膜を有する光学部材 | |
JPS60130703A (ja) | 合成樹脂基板の反射防止膜 |