JPH0474681B2 - - Google Patents
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- JPH0474681B2 JPH0474681B2 JP58130522A JP13052283A JPH0474681B2 JP H0474681 B2 JPH0474681 B2 JP H0474681B2 JP 58130522 A JP58130522 A JP 58130522A JP 13052283 A JP13052283 A JP 13052283A JP H0474681 B2 JPH0474681 B2 JP H0474681B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
Description
〔発明の目的〕
本発明はプロジエクシヨンテレビ、ビデオカメ
ラ、スチルカメラなどの光学系に使用されるプラ
スチツク製光学部品の反射防止膜に関するもので
あつて、その目的とするところは、耐久性および
耐熱性にすぐれ、硬度が高く、かつ、量産に適し
たプラスチツク製光学部品の反射防止膜を提供す
ることにある。 光学部品には無機ガラスが多く使用されてきた
が、近年、軽量で加工が容易でありかつ量産に適
している点ですぐれているプラスチツクが光学部
品の素材として用いられるようになつてきた。と
ころで、プラスチツクレンズなどのプラスチツク
製光学部品は無機ガラスと同様に、表面での光の
反射が大きく分光透過特性が悪いために、無機ガ
ラスの表面に形成される反射防止膜と同様な反射
防止膜をプラスチツクの表面に形成することが行
なわれる。 以下、従来のプラスチツク製光学部品の反射防
止膜を第１図について説明する。同図において１
はプラスチツク基板、２は弗化マグネシウム
（MgF2）よりなる反射防止膜である。この反射
防止膜２は一般には真空蒸着法によつて形成され
るが、プラスチツクは流動温度、熱変形温度が低
いため、〔例えばメタクリル樹脂（アクリペツト
VH三菱レーヨン〓商品名）で熱変形温度100℃、
流動温度170℃〕、無機ガラス基板に蒸着膜を形成
する時のような基板加熱（通常200℃〜400℃）を
行なうことができない。そのために従来は、50℃
以下の低温でプラスチツクの表面に弗化マグネシ
ウムの反射防止膜を形成していたが、この低温で
形成された反射防止膜は耐久性、耐熱性および硬
度が非常に低い。そこで耐久性、耐熱性および硬
度を向上させるために基板を50℃〜80℃に加熱し
て反射防止膜を形成する方法やRFイオンプレー
テイング法を用いて反射防止膜を形成する方法が
行なわれているが、これらの方法による反射防止
膜は、第２図に示すようなクラツク４が反射防止
膜全体に亘つて生ずることがある。このようなク
ラツクは耐久性、特に経時変化による反射防止膜
のくもりおよび剥離の原因になるので好ましくな
い。また、これらの方法は反射防止膜の形成条件
を一定にしてプラスチツクの表面の物理的状態を
均一に管理するのが困難なため量産に適しない。 本発明は、上記従来技術のもつ以上のような問
題点を解決することを意図するものであつて、ク
ラツクの発生がなく、耐久性および耐熱性にすぐ
れ、硬度が高く、かつ、量産に適したプラスチツ
ク製光学部品の反射防止膜を提供することを目的
とするものである。 〔発明の構成〕 本発明のプラスチツク製光学部品の反射防止膜
は、ポリメチルメタクリレートからなるプラスチ
ツク製光学部品の表面に二酸化ケイ素（SiO2）
よりなる第１層が形成され、該第１層の上に弗化
マグネシウム（MgF2）よりなる第２層が形成さ
れて反射防止膜を構成する構造において前記第１
層および第２層はその屈折率をN1、N2、幾可学
的膜厚をd1、d2、設計基準波長をλ0としたとき、
各層の光学的膜厚N1d1およびN2d2が設計基準波
長λ0に対し、 0.050λ0＜N1d1＜0.520λ0 0.125λ0＜N2d2＜0.375λ0 の範囲内にあることを特徴とするものであつて、
前記第１層および第２層はプラスチツク製光学部
品を70℃〜100℃に加熱した状態で真空蒸着法に
より、あるいはその他の方法によつて形成され
る。 本発明において、第１層の光学的膜厚N1d1を
0.050λ0＜N1d1＜0.520λ0としたのは、反射防止膜
のクラツク防止と耐熱性向上のためであり、第１
層の光学的膜厚が、0.050λ0以下では、第２層を
形成した後クラツクが発生し易く、また0.520λ0
以上では反射防止の効果と光学部品の形状変動の
点から好ましくないからである。また、第２層の
光学的膜厚N2d2を0.125λ0＜N2d2＜0.375λ0とした
のは第１層と第２層とによつて反射防止の効果を
もたせるときに、第１層の光学的膜厚の相違によ
り反射防止の特性に変動があつても第２層の光学
的膜厚を0.125λ0から0.375λ0の範囲内で適当な値
を選択することによつて実用上必要な特性をもつ
反射防止膜をうることができるからである。な
お、以上の数字は実験によつて確認したものであ
る。 〔発明の効果〕 本発明の反射防止膜の作用効果を確認するため
に下記の２実施例による本発明の反射防止膜と従
来の反射防止膜との特性を比較する実験を行なつ
た。 第３図イは本発明の第１実施例、ロは第２実施
例である。同図において、１はプラスチツク製光
学部品としてのポリメチルメタクリレート
（PMMA）製光学レンズで、その表面には二酸化
ケイ素の第１層３と弗化マグネシウムの第２層２
が反射防止膜として形成されている。その具体的
内容は下記の第１表および第２表に示すとおりで
ある。なお、設計基準波長λ0は560nｍで、反射
防止膜は、第１実施例においては光学レンズを75
℃前後の温度に保持した状態の下で、第２実施例
は室温の下で、それぞれ真空蒸着法により形成し
た。
ラ、スチルカメラなどの光学系に使用されるプラ
スチツク製光学部品の反射防止膜に関するもので
あつて、その目的とするところは、耐久性および
耐熱性にすぐれ、硬度が高く、かつ、量産に適し
たプラスチツク製光学部品の反射防止膜を提供す
ることにある。 光学部品には無機ガラスが多く使用されてきた
が、近年、軽量で加工が容易でありかつ量産に適
している点ですぐれているプラスチツクが光学部
品の素材として用いられるようになつてきた。と
ころで、プラスチツクレンズなどのプラスチツク
製光学部品は無機ガラスと同様に、表面での光の
反射が大きく分光透過特性が悪いために、無機ガ
ラスの表面に形成される反射防止膜と同様な反射
防止膜をプラスチツクの表面に形成することが行
なわれる。 以下、従来のプラスチツク製光学部品の反射防
止膜を第１図について説明する。同図において１
はプラスチツク基板、２は弗化マグネシウム
（MgF2）よりなる反射防止膜である。この反射
防止膜２は一般には真空蒸着法によつて形成され
るが、プラスチツクは流動温度、熱変形温度が低
いため、〔例えばメタクリル樹脂（アクリペツト
VH三菱レーヨン〓商品名）で熱変形温度100℃、
流動温度170℃〕、無機ガラス基板に蒸着膜を形成
する時のような基板加熱（通常200℃〜400℃）を
行なうことができない。そのために従来は、50℃
以下の低温でプラスチツクの表面に弗化マグネシ
ウムの反射防止膜を形成していたが、この低温で
形成された反射防止膜は耐久性、耐熱性および硬
度が非常に低い。そこで耐久性、耐熱性および硬
度を向上させるために基板を50℃〜80℃に加熱し
て反射防止膜を形成する方法やRFイオンプレー
テイング法を用いて反射防止膜を形成する方法が
行なわれているが、これらの方法による反射防止
膜は、第２図に示すようなクラツク４が反射防止
膜全体に亘つて生ずることがある。このようなク
ラツクは耐久性、特に経時変化による反射防止膜
のくもりおよび剥離の原因になるので好ましくな
い。また、これらの方法は反射防止膜の形成条件
を一定にしてプラスチツクの表面の物理的状態を
均一に管理するのが困難なため量産に適しない。 本発明は、上記従来技術のもつ以上のような問
題点を解決することを意図するものであつて、ク
ラツクの発生がなく、耐久性および耐熱性にすぐ
れ、硬度が高く、かつ、量産に適したプラスチツ
ク製光学部品の反射防止膜を提供することを目的
とするものである。 〔発明の構成〕 本発明のプラスチツク製光学部品の反射防止膜
は、ポリメチルメタクリレートからなるプラスチ
ツク製光学部品の表面に二酸化ケイ素（SiO2）
よりなる第１層が形成され、該第１層の上に弗化
マグネシウム（MgF2）よりなる第２層が形成さ
れて反射防止膜を構成する構造において前記第１
層および第２層はその屈折率をN1、N2、幾可学
的膜厚をd1、d2、設計基準波長をλ0としたとき、
各層の光学的膜厚N1d1およびN2d2が設計基準波
長λ0に対し、 0.050λ0＜N1d1＜0.520λ0 0.125λ0＜N2d2＜0.375λ0 の範囲内にあることを特徴とするものであつて、
前記第１層および第２層はプラスチツク製光学部
品を70℃〜100℃に加熱した状態で真空蒸着法に
より、あるいはその他の方法によつて形成され
る。 本発明において、第１層の光学的膜厚N1d1を
0.050λ0＜N1d1＜0.520λ0としたのは、反射防止膜
のクラツク防止と耐熱性向上のためであり、第１
層の光学的膜厚が、0.050λ0以下では、第２層を
形成した後クラツクが発生し易く、また0.520λ0
以上では反射防止の効果と光学部品の形状変動の
点から好ましくないからである。また、第２層の
光学的膜厚N2d2を0.125λ0＜N2d2＜0.375λ0とした
のは第１層と第２層とによつて反射防止の効果を
もたせるときに、第１層の光学的膜厚の相違によ
り反射防止の特性に変動があつても第２層の光学
的膜厚を0.125λ0から0.375λ0の範囲内で適当な値
を選択することによつて実用上必要な特性をもつ
反射防止膜をうることができるからである。な
お、以上の数字は実験によつて確認したものであ
る。 〔発明の効果〕 本発明の反射防止膜の作用効果を確認するため
に下記の２実施例による本発明の反射防止膜と従
来の反射防止膜との特性を比較する実験を行なつ
た。 第３図イは本発明の第１実施例、ロは第２実施
例である。同図において、１はプラスチツク製光
学部品としてのポリメチルメタクリレート
（PMMA）製光学レンズで、その表面には二酸化
ケイ素の第１層３と弗化マグネシウムの第２層２
が反射防止膜として形成されている。その具体的
内容は下記の第１表および第２表に示すとおりで
ある。なお、設計基準波長λ0は560nｍで、反射
防止膜は、第１実施例においては光学レンズを75
℃前後の温度に保持した状態の下で、第２実施例
は室温の下で、それぞれ真空蒸着法により形成し
た。
【表】
【表】
上記第１実施例および第２実施例の本発明の反
射防止膜と従来の反射防止膜との特性を比較する
ために行なつた実験は、(1)耐久性の試験（温度40
℃、相対湿度95％の高温・高湿雰囲気中に約1000
時間放置、(2)耐熱性の試験（室温から10℃づゝ温
度をあげ、一定温度で２時間放置した後、光学レ
ンズの表面を倍率200倍の顕微鏡で観察し、クラ
ツクの発生した温度を耐熱温度とした）(3)鉛筆硬
度試験（JISK5400）で、比較のための従来の反
射防止膜はポリメチルメタクリレート製光学レン
ズの表面に弗化マグネシウムの反射防止膜を真空
蒸着法によつて形成した。試験の結果は第３表に
示すとおりである。
射防止膜と従来の反射防止膜との特性を比較する
ために行なつた実験は、(1)耐久性の試験（温度40
℃、相対湿度95％の高温・高湿雰囲気中に約1000
時間放置、(2)耐熱性の試験（室温から10℃づゝ温
度をあげ、一定温度で２時間放置した後、光学レ
ンズの表面を倍率200倍の顕微鏡で観察し、クラ
ツクの発生した温度を耐熱温度とした）(3)鉛筆硬
度試験（JISK5400）で、比較のための従来の反
射防止膜はポリメチルメタクリレート製光学レン
ズの表面に弗化マグネシウムの反射防止膜を真空
蒸着法によつて形成した。試験の結果は第３表に
示すとおりである。
【表】
上記第３表からわかるように本発明の反射防止
膜は第１図の従来の反射防止膜より耐久性、耐熱
性および硬度の点ですぐれている。また、従来例
は、反射防止膜形成時にクラツクが発生すること
があつたが本発明の実施例においては反射防止膜
は常時安定していた。 第４図は分光反射率を比較するグラフで、ａは
反射防止膜のないPMMA製光学レンズ、ｂは従
来の反射防止膜を有するPMMA製光学レンズ、
ｃは第１実施例の反射防止膜を有するPMMA製
光学レンズ、ｄは第２実施例の反射防止膜を有す
るPMMA製光学レンズの分光反射率を示してい
る。同図からわかるように本発明の反射防止膜を
備えたPMMA製光学レンズの分光反射率は従来
例に比べてなんら遜色はなく、特に第１実施例の
場合は急峻な特性を有する点で色調改善の面から
むしろ有利である。 以上述べたように本発明においては二酸化ケイ
素の第１層を設けることによつて反射防止膜を有
するプラスチツク光学部品の耐久性および耐熱性
を向上すると共にクラツクの発生を阻止するので
従来例のもつ欠点を解消する効果を有し、その実
用的価値はきわめて大である。
膜は第１図の従来の反射防止膜より耐久性、耐熱
性および硬度の点ですぐれている。また、従来例
は、反射防止膜形成時にクラツクが発生すること
があつたが本発明の実施例においては反射防止膜
は常時安定していた。 第４図は分光反射率を比較するグラフで、ａは
反射防止膜のないPMMA製光学レンズ、ｂは従
来の反射防止膜を有するPMMA製光学レンズ、
ｃは第１実施例の反射防止膜を有するPMMA製
光学レンズ、ｄは第２実施例の反射防止膜を有す
るPMMA製光学レンズの分光反射率を示してい
る。同図からわかるように本発明の反射防止膜を
備えたPMMA製光学レンズの分光反射率は従来
例に比べてなんら遜色はなく、特に第１実施例の
場合は急峻な特性を有する点で色調改善の面から
むしろ有利である。 以上述べたように本発明においては二酸化ケイ
素の第１層を設けることによつて反射防止膜を有
するプラスチツク光学部品の耐久性および耐熱性
を向上すると共にクラツクの発生を阻止するので
従来例のもつ欠点を解消する効果を有し、その実
用的価値はきわめて大である。
第１図：従来のプラスチツク製光学部品の反射
防止膜を示す図、第２図：第１図の反射防止膜に
発生したクラツクを示す図、第３図：本発明のプ
ラスチツク製光学部品の反射防止膜を示す図で、
イは第１実施例、ロは第２実施例、第４図：本発
明および従来の反射防止膜を備えたプラスチツク
光学レンズの分光反射率を示すグラフ、 １……
プラスチツク基板（光学レンズ）、２……第２層
（弗化マグネシウム）、３……第１層（二酸化ケイ
素）、４……クラツク。
防止膜を示す図、第２図：第１図の反射防止膜に
発生したクラツクを示す図、第３図：本発明のプ
ラスチツク製光学部品の反射防止膜を示す図で、
イは第１実施例、ロは第２実施例、第４図：本発
明および従来の反射防止膜を備えたプラスチツク
光学レンズの分光反射率を示すグラフ、 １……
プラスチツク基板（光学レンズ）、２……第２層
（弗化マグネシウム）、３……第１層（二酸化ケイ
素）、４……クラツク。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ポリメチルメタクリレートからなるプラスチ
ツク製光学部品の表面に二酸化ケイ素（SiO2）
よりなる第１層が形成され、該第１層の上に弗化
マグネシウム（MgF2）よりなる第２層が形成さ
れて反射防止膜を構成する構造であつて、前記第
１層および第２層はその屈折率をN1、N2、幾何
学的膜厚をd1、d2、設計基準波長をλ0とすると
き、各層の光学的膜厚N1d1およびN2d2が設計基
準波長λ0に対し 0.050λ0＜N1d1＜0.520λ0 0.125λ0＜N2d2＜0.375λ0 の範囲内にあることを特徴とするプラスチツク製
光学部品の反射防止膜。 ２ 前記第１層および第２層はプラスチツク製光
学部品を70℃〜100℃に保持した状態で形成され
たものであることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載のプラスチツク製光学部品の反射防止
膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58130522A JPS6022101A (ja) | 1983-07-18 | 1983-07-18 | プラスチツク製光学部品の反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58130522A JPS6022101A (ja) | 1983-07-18 | 1983-07-18 | プラスチツク製光学部品の反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6022101A JPS6022101A (ja) | 1985-02-04 |
| JPH0474681B2 true JPH0474681B2 (ja) | 1992-11-26 |
Family
ID=15036306
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58130522A Granted JPS6022101A (ja) | 1983-07-18 | 1983-07-18 | プラスチツク製光学部品の反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6022101A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1057611C (zh) * | 1993-08-31 | 2000-10-18 | 住友水泥株式会社 | 抗反射膜 |
| JPH0926501A (ja) * | 1995-07-11 | 1997-01-28 | Konica Corp | 反射防止膜を有する合成樹脂光学部品 |
| FR2817267B1 (fr) * | 2000-11-28 | 2003-08-29 | Essilor Int | Procede de depot de couche anti-reflets a froid sur substrat organique |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54183360U (ja) * | 1978-06-15 | 1979-12-26 | ||
| JPS5881501U (ja) * | 1981-11-27 | 1983-06-02 | 東京光学機械株式会社 | 液浸用先端レンズ |
-
1983
- 1983-07-18 JP JP58130522A patent/JPS6022101A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6022101A (ja) | 1985-02-04 |
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