JPH077126B2 - 合成樹脂部材の反射鏡 - Google Patents
合成樹脂部材の反射鏡Info
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- JPH077126B2 JPH077126B2 JP15173186A JP15173186A JPH077126B2 JP H077126 B2 JPH077126 B2 JP H077126B2 JP 15173186 A JP15173186 A JP 15173186A JP 15173186 A JP15173186 A JP 15173186A JP H077126 B2 JPH077126 B2 JP H077126B2
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- layer
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- synthetic resin
- oxide
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はレーザビームプリンター、特にレーザ光学系な
どの45゜ミラーおよびポリゴンミラー等に用いうる、合
成樹脂部材の反射鏡に関するものである。
どの45゜ミラーおよびポリゴンミラー等に用いうる、合
成樹脂部材の反射鏡に関するものである。
従来、光学系部材としての反射鏡、特に45゜ミラー、ポ
リゴンミラーは、ガラス部材の表面に第１層としてCrを
第２層として銅を蒸着したものが用いられており、蒸着
させた銅の耐腐食性向上のために、高温に加熱し、銅の
上層部に増反射を兼ねた保護膜を形成していた。
リゴンミラーは、ガラス部材の表面に第１層としてCrを
第２層として銅を蒸着したものが用いられており、蒸着
させた銅の耐腐食性向上のために、高温に加熱し、銅の
上層部に増反射を兼ねた保護膜を形成していた。
反射鏡の製作コストダウンのために、ガラスにかえて合
成樹脂部材を基板としてその表面に銅を真空蒸着したも
のを使用することが試みられたが、この場合は基板を高
温に加熱しておいて蒸着することが出来ず、低温で真空
蒸着する必要があり、成膜された銅の耐腐食性が充分で
なく、これが実用化をさまたげるネックとなっていた。
成樹脂部材を基板としてその表面に銅を真空蒸着したも
のを使用することが試みられたが、この場合は基板を高
温に加熱しておいて蒸着することが出来ず、低温で真空
蒸着する必要があり、成膜された銅の耐腐食性が充分で
なく、これが実用化をさまたげるネックとなっていた。
また、合成樹脂基板の表面を精密仕上げしておいても、
その表面に直接銅を真空蒸着した場合、銅の密着性が充
分ではなく、耐久性に問題があった。
その表面に直接銅を真空蒸着した場合、銅の密着性が充
分ではなく、耐久性に問題があった。
本発明は上記問題点を解決して、合成樹脂部材を用いな
がら密着性および耐腐食性の充分な反射鏡を提供するこ
とにより、反射鏡の製作コストダウンを可能とすること
を目的とするものである。
がら密着性および耐腐食性の充分な反射鏡を提供するこ
とにより、反射鏡の製作コストダウンを可能とすること
を目的とするものである。
本発明は合成樹脂部材よりなる基板面上に、SiO,Crおよ
びCuの各層がこの順序に形成されており、かつ少くとも
Cu層の上層として更にCuの酸化物層が形成されているこ
とを特徴とする合成樹脂部材の反射鏡である。
びCuの各層がこの順序に形成されており、かつ少くとも
Cu層の上層として更にCuの酸化物層が形成されているこ
とを特徴とする合成樹脂部材の反射鏡である。
本発明の反射鏡はレーザ光学系の45゜ミラー、ポリゴン
ミラー等の近赤外反射ミラーなどに特に適している。
ミラー等の近赤外反射ミラーなどに特に適している。
本発明で用いる合成樹脂部材は、キャスティング精密成
形またはインジェクション精密成形されたポリスチレ
ン、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリメチル
メタクリレート、ポリカーボネートなどが好ましく、更
に通常その基板面は超研削してから積層に供する。
形またはインジェクション精密成形されたポリスチレ
ン、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリメチル
メタクリレート、ポリカーボネートなどが好ましく、更
に通常その基板面は超研削してから積層に供する。
積層される第１層はSiO層、第２層はCr層であり、これ
らは第３層とて積層するCuの基板面への密着性を向上す
るためのものであり、SiO層は光学的膜厚約0.5λ程度の
ものを真空蒸着法により積層するのが好ましい。また、
Cr層は機械的膜厚300〜500Å程度のものを真空蒸着法に
より積層するのが好ましい。
らは第３層とて積層するCuの基板面への密着性を向上す
るためのものであり、SiO層は光学的膜厚約0.5λ程度の
ものを真空蒸着法により積層するのが好ましい。また、
Cr層は機械的膜厚300〜500Å程度のものを真空蒸着法に
より積層するのが好ましい。
本発明においてはCu層はCr層よりも上に積層されてお
り、かつCu層の上層として少くともCuの酸化物層が形成
されていることが必要であり、Cuの酸化物層はCu層の耐
腐食性向上の目的で設けるものであり、この目的は、Cr
層とCu層との間にもCuの酸化物層が形成されていると更
に効果的に達成される。
り、かつCu層の上層として少くともCuの酸化物層が形成
されていることが必要であり、Cuの酸化物層はCu層の耐
腐食性向上の目的で設けるものであり、この目的は、Cr
層とCu層との間にもCuの酸化物層が形成されていると更
に効果的に達成される。
Cu層は、機械的膜厚約1000Å程度のものを真空蒸着法に
より形成するのが好ましく、Cuの酸化物層は機械的膜厚
50乃至400Å程度のものが好ましく、その形成手段は真
空度１〜３×10-4Torr程度の酸素環境の高周波プラズマ
雰囲気にてCuの活性化反応性蒸着によるのが好ましい
が、Cu層の上層として形成する場合は、Cu層の成膜後、
その表面を真空度２〜４×10-4Torr程度の酸素環境の高
周波プラズマ雰囲気に数分間晒すと、Cu層の表面が酸化
されて酸化物層を形成するので、上述のCuの活性化反応
性蒸着法に代えて好適に採用しうる。
より形成するのが好ましく、Cuの酸化物層は機械的膜厚
50乃至400Å程度のものが好ましく、その形成手段は真
空度１〜３×10-4Torr程度の酸素環境の高周波プラズマ
雰囲気にてCuの活性化反応性蒸着によるのが好ましい
が、Cu層の上層として形成する場合は、Cu層の成膜後、
その表面を真空度２〜４×10-4Torr程度の酸素環境の高
周波プラズマ雰囲気に数分間晒すと、Cu層の表面が酸化
されて酸化物層を形成するので、上述のCuの活性化反応
性蒸着法に代えて好適に採用しうる。
本発明の反射鏡は、上記の如く形成したCuの酸化物層の
上に、更に増反射の目的で、低屈折率で の金属酸化物被膜および高屈折率で の金属酸化物被膜をこの順序に積層し、更に最上層とし
て表面硬化の目的で、低屈折率で光学的膜厚約0.05λの
金属酸化物被膜を形成すると、より品質のすぐれた反射
鏡となるので好ましい。低屈折率で の金属酸化物はAl2O3またはSiO2、高屈折率で の金属酸化物はTiO2,CeO2,ZrO2,Ta2O5またはZrO2とTiO2
の混合物、最上部の表面硬化層はSiO2が好ましく、これ
らの酸化物被膜の形成手段はCuの酸化物被膜形成の場合
と同様に、１×10-4〜３×10-4Torrの酸化環境の高周波
プラズマ雰囲気において、それぞれ対応する金属もしく
は低次酸化物の活性化反応性蒸着により行うのが好まし
い。
上に、更に増反射の目的で、低屈折率で の金属酸化物被膜および高屈折率で の金属酸化物被膜をこの順序に積層し、更に最上層とし
て表面硬化の目的で、低屈折率で光学的膜厚約0.05λの
金属酸化物被膜を形成すると、より品質のすぐれた反射
鏡となるので好ましい。低屈折率で の金属酸化物はAl2O3またはSiO2、高屈折率で の金属酸化物はTiO2,CeO2,ZrO2,Ta2O5またはZrO2とTiO2
の混合物、最上部の表面硬化層はSiO2が好ましく、これ
らの酸化物被膜の形成手段はCuの酸化物被膜形成の場合
と同様に、１×10-4〜３×10-4Torrの酸化環境の高周波
プラズマ雰囲気において、それぞれ対応する金属もしく
は低次酸化物の活性化反応性蒸着により行うのが好まし
い。
本発明は元来合成樹脂部材の反射鏡であるが、これを製
造するために採用する成膜手段は、部材がガラスまたは
アルミニウムなどの軽金属である場合にも適用可能であ
り、成膜手段がすべて低温で行われるので、合成樹脂以
外の部材を用いた反射鏡の製造に適用した場合、成膜後
すぐに成膜装置よりとり出すことが出来るので、その製
造コストの低減が可能である。
造するために採用する成膜手段は、部材がガラスまたは
アルミニウムなどの軽金属である場合にも適用可能であ
り、成膜手段がすべて低温で行われるので、合成樹脂以
外の部材を用いた反射鏡の製造に適用した場合、成膜後
すぐに成膜装置よりとり出すことが出来るので、その製
造コストの低減が可能である。
本発明の反射鏡は耐腐食性に秀れ、反射面の密着性に秀
れている上に、合成樹脂部材上に形成されているので低
コストで製造可能である。また、Cuの酸化物層上に更に
増反射層および表面硬化層を設けることにより耐摩耗
性、耐溶剤性にすぐれ、且特に近赤外領域にすぐれた反
射特性を有するものとすることが出来る。
れている上に、合成樹脂部材上に形成されているので低
コストで製造可能である。また、Cuの酸化物層上に更に
増反射層および表面硬化層を設けることにより耐摩耗
性、耐溶剤性にすぐれ、且特に近赤外領域にすぐれた反
射特性を有するものとすることが出来る。
以下に図面を参照しながら実施例をあげて更に本発明を
説明する。
説明する。
実施例１ 第１図にその構造断面図を示すポリゴンミラーを、下記
の成膜手段で作製した。
の成膜手段で作製した。
キャスティング精密成形して得られたポリカーボネート
のポリゴンミラー用部材1.1の表面を超研削したのち、
真空度２×10-5TorrにおいてSiOを光学的膜厚が0.5λ
（設計波長λ＝480nm）になるまで蒸着してSiO層2.1を
成膜した。次いで同じ真空度において機械的膜厚が400
Åに達するまでCrを蒸着してCr層3.1を成膜した。次い
で同じ真空度において機械的膜厚が1000Åに達するまで
Cuを蒸着してCu層4.1を成膜した。
のポリゴンミラー用部材1.1の表面を超研削したのち、
真空度２×10-5TorrにおいてSiOを光学的膜厚が0.5λ
（設計波長λ＝480nm）になるまで蒸着してSiO層2.1を
成膜した。次いで同じ真空度において機械的膜厚が400
Åに達するまでCrを蒸着してCr層3.1を成膜した。次い
で同じ真空度において機械的膜厚が1000Åに達するまで
Cuを蒸着してCu層4.1を成膜した。
次に酸素を蒸着装置内に導入することにより真空度を２
×10-4Torrとし、酸素環境の高周波プラズマ（印加高周
波13.56MHz,100W）雰囲気にてCuの活性化反応性蒸着を
機械的膜厚150Åに達するまで行い、Cuの酸化物層5.1を
成膜することにより本発明のポリゴンミラーを得た。
×10-4Torrとし、酸素環境の高周波プラズマ（印加高周
波13.56MHz,100W）雰囲気にてCuの活性化反応性蒸着を
機械的膜厚150Åに達するまで行い、Cuの酸化物層5.1を
成膜することにより本発明のポリゴンミラーを得た。
実施例２ 第２図にその構造断面図を示すポリゴンミラーを、下記
の成膜手段で作製した。
の成膜手段で作製した。
インジェクション精密成形して得られたポリメチルメタ
クリレートのポリゴンミラー用部材1.1の表面を超研削
したのち、実施例１と同じ方法でSiO層2.1およびCr層3.
1を順次成膜した。
クリレートのポリゴンミラー用部材1.1の表面を超研削
したのち、実施例１と同じ方法でSiO層2.1およびCr層3.
1を順次成膜した。
次に酸素を蒸着装置内に導入することにより真空度を２
×10-4Torrとし、酸素環境の高周波プラズマ（印加高周
波13.56MHz,100W）雰囲気にてCuの活性化反応性蒸着を
機械的膜厚150Åに達する迄行い、Cuの酸化物層3.2を成
膜した。
×10-4Torrとし、酸素環境の高周波プラズマ（印加高周
波13.56MHz,100W）雰囲気にてCuの活性化反応性蒸着を
機械的膜厚150Åに達する迄行い、Cuの酸化物層3.2を成
膜した。
次いで再び実施例１と同じ方法でCu層4.1およびCuの酸
化物層5.1を順次積層することによりCu層4.1がCuの酸化
物層3.2および5.1によってサンドイッチされた本発明の
ポリゴンミラーを得た。
化物層5.1を順次積層することによりCu層4.1がCuの酸化
物層3.2および5.1によってサンドイッチされた本発明の
ポリゴンミラーを得た。
実施例３ 第１図にその構造断面図を示すポリゴンミラーを、下記
の成膜手段で作製した。
の成膜手段で作製した。
インジェクション精密成形して得られたアクリロニトリ
ル−スチレン共重合体のポリゴンミラー用部材1.1の表
面を超研削したのち、実施例１と同じ方法でSiO層2.1,C
r層3.1およびCu層4.1を順次成膜した。
ル−スチレン共重合体のポリゴンミラー用部材1.1の表
面を超研削したのち、実施例１と同じ方法でSiO層2.1,C
r層3.1およびCu層4.1を順次成膜した。
次に酸素を蒸着装置内に導入することにより真空度を３
×10-4Torrとしておいて、酸素環境の高周波プラズマ
（印加高周波13.56MHz,150W）雰囲気に4.5分間晒すこと
により、先に成膜したCu層4.1のうち表面から約100Åを
酸化銅層5.1に変えて、本発明のポリゴンミラーを得
た。
×10-4Torrとしておいて、酸素環境の高周波プラズマ
（印加高周波13.56MHz,150W）雰囲気に4.5分間晒すこと
により、先に成膜したCu層4.1のうち表面から約100Åを
酸化銅層5.1に変えて、本発明のポリゴンミラーを得
た。
実施例４ 第３図にその構造断面図を示すポリゴンミラーを、下記
の成膜手段で作製した。
の成膜手段で作製した。
キャスティング精密成形して得られたポリスチレンのポ
リゴンミラー用部材1.1の表面を超研削したのち、実施
例１と同じ方法でSiO層2.1,Cr層3.1,Cu層4.1およびCuの
酸化物層5.1を順次成膜した。
リゴンミラー用部材1.1の表面を超研削したのち、実施
例１と同じ方法でSiO層2.1,Cr層3.1,Cu層4.1およびCuの
酸化物層5.1を順次成膜した。
次いで３×10-4Torrの酸素環境の高周波プラズマ（印加
高周波13.56MHz,100W）雰囲気にて低次のAl2O3の活性化
反応性蒸着を （設計波長λ＝700nm）に達するまで行い、高次のAl2O3
層6.1を成膜し、更に３×10-4Torrの酸素環境の高周波
プラズマ（印加高周波13.56MHz,100W）雰囲気にて低次
のTiOの活性化反応性蒸着を （設計波長λ＝450nm）に達するまで行い、高次のTiO2
層7.1を成膜し、最後に1.5×10-4Torrの酸素環境の高周
波プラズマ（印加高周波13.56MHz,100W）雰囲気にて低
次のSiOの活性化反応性蒸着を光学的膜厚0.05λ（設計
波長λ＝400nm）に達するまで行ってSiO2層8.1の表面硬
化膜を形成し、本発明のポリゴンミラーを得た。
高周波13.56MHz,100W）雰囲気にて低次のAl2O3の活性化
反応性蒸着を （設計波長λ＝700nm）に達するまで行い、高次のAl2O3
層6.1を成膜し、更に３×10-4Torrの酸素環境の高周波
プラズマ（印加高周波13.56MHz,100W）雰囲気にて低次
のTiOの活性化反応性蒸着を （設計波長λ＝450nm）に達するまで行い、高次のTiO2
層7.1を成膜し、最後に1.5×10-4Torrの酸素環境の高周
波プラズマ（印加高周波13.56MHz,100W）雰囲気にて低
次のSiOの活性化反応性蒸着を光学的膜厚0.05λ（設計
波長λ＝400nm）に達するまで行ってSiO2層8.1の表面硬
化膜を形成し、本発明のポリゴンミラーを得た。
実施例５ 実施例４において、TiO2層7.1の代りに、CeO2,ZrO2,Ta2
O5またはZrO2とTiO2との混合物よりなる層7.1を、真空
度１×10-4〜３×10-4Torrの酸素環境の高周波プラズマ
（印加高周波13.56MHz,100W）雰囲気にて、それぞれの
金属または低次酸化物の活性化反応性蒸着を光学的膜厚
λ/2（設計波長λ＝450nm）に達するまでそれぞれ行う
ことにより成膜した以外は、実施例４と同様に積層膜を
形成することにより、本発明のポリゴンミラーを得た。
O5またはZrO2とTiO2との混合物よりなる層7.1を、真空
度１×10-4〜３×10-4Torrの酸素環境の高周波プラズマ
（印加高周波13.56MHz,100W）雰囲気にて、それぞれの
金属または低次酸化物の活性化反応性蒸着を光学的膜厚
λ/2（設計波長λ＝450nm）に達するまでそれぞれ行う
ことにより成膜した以外は、実施例４と同様に積層膜を
形成することにより、本発明のポリゴンミラーを得た。
第４図は実施例４および５で得られた反射鏡の分光反射
率特性（Ｓ偏光）を示したもので、図を見てわかるよう
に該反射鏡は近赤外波長域において高反射率を有してい
る。又、従来の近赤外反射鏡の増反射膜が光学部材を25
0℃前後に加熱し、その後成膜し、数時間徐冷後蒸着装
置より取り出しているのに対し、実施例４および５では
低温で成膜処理が行われるため成膜後即時蒸着装置より
取り出すことが出来るため、コストの大幅な低減が出来
ると同時に従来の光学部材（ガラス材、軽金属研削部
材）に対しても本発明が適用できる。
率特性（Ｓ偏光）を示したもので、図を見てわかるよう
に該反射鏡は近赤外波長域において高反射率を有してい
る。又、従来の近赤外反射鏡の増反射膜が光学部材を25
0℃前後に加熱し、その後成膜し、数時間徐冷後蒸着装
置より取り出しているのに対し、実施例４および５では
低温で成膜処理が行われるため成膜後即時蒸着装置より
取り出すことが出来るため、コストの大幅な低減が出来
ると同時に従来の光学部材（ガラス材、軽金属研削部
材）に対しても本発明が適用できる。
実施例４および５で得た合成樹脂部材の反射鏡の強度を
調べるために、密着性テスト、耐摩耗テスト、耐溶剤性
テスト、耐環境性テストの４つのテストを行った。各テ
ストの内容は以下に示すとおりである。
調べるために、密着性テスト、耐摩耗テスト、耐溶剤性
テスト、耐環境性テストの４つのテストを行った。各テ
ストの内容は以下に示すとおりである。
１） 密着性テスト：上記反射鏡の表面にセロハンテー
プ（ニチバン）を接着させた後この表面にほぼ垂直な角
度で、すばやくとりのぞくテストを15回繰返し、蒸着膜
の剥離が生ずるかを調べる。
プ（ニチバン）を接着させた後この表面にほぼ垂直な角
度で、すばやくとりのぞくテストを15回繰返し、蒸着膜
の剥離が生ずるかを調べる。
２） 耐摩耗テスト：上記反射鏡の表面をレンズ拭き紙
（シルボン紙）で包んだ測定子で耐摩耗往復動試験機を
用い3kg/cm2の圧で50往復こすり、異状が生ずるか調べ
る。
（シルボン紙）で包んだ測定子で耐摩耗往復動試験機を
用い3kg/cm2の圧で50往復こすり、異状が生ずるか調べ
る。
３） 耐溶剤テスト：上記反射鏡の表面をエーテル、ア
ルコール（7:3）混合液をふくんだレンズ拭き紙（シル
ボン紙）で500g/cm2圧で50往復こすり、異状が生ずるか
調べる。
ルコール（7:3）混合液をふくんだレンズ拭き紙（シル
ボン紙）で500g/cm2圧で50往復こすり、異状が生ずるか
調べる。
４） 耐環境テスト：上記反射鏡を温度45℃、相対湿度
95％の恒温恒湿槽中に1000時間放置し、異状が生ずるか
調べる。
95％の恒温恒湿槽中に1000時間放置し、異状が生ずるか
調べる。
この４テストの結果はどのテストにおいても異状がみら
れず、従来のガラス部材及軽金属（主としてアルミ）に
対する高温成膜法で作られた膜に比べて、実施例４およ
び５で得た反射鏡の膜は、極めて強い膜であることが判
明した。
れず、従来のガラス部材及軽金属（主としてアルミ）に
対する高温成膜法で作られた膜に比べて、実施例４およ
び５で得た反射鏡の膜は、極めて強い膜であることが判
明した。
第１乃至第３図は本発明の反射鏡の構造断面図であり、
第４図は本発明の実施例４および５で得られた反射鏡の
分光反射率特性を示すグラフで、横軸は波長、たて軸は
反射率、θは光の入射角を表わす。 1.1:合成樹脂部材の基板 2.1:SiO 3.1:Cr 3.2:Cuの酸化物 4.1:Cu 5.1:Cuの酸化物 6.1:低屈折率の金属酸化物 7.1:高屈折率の金属酸化物 8.1:低屈折率の金属酸化物
第４図は本発明の実施例４および５で得られた反射鏡の
分光反射率特性を示すグラフで、横軸は波長、たて軸は
反射率、θは光の入射角を表わす。 1.1:合成樹脂部材の基板 2.1:SiO 3.1:Cr 3.2:Cuの酸化物 4.1:Cu 5.1:Cuの酸化物 6.1:低屈折率の金属酸化物 7.1:高屈折率の金属酸化物 8.1:低屈折率の金属酸化物
Claims (4)
- 【請求項１】合成樹脂部材よりなる基板面上に、SiO,Cr
およびCuの各層がこの順序に形成されており、かつ少く
ともCu層の上層として更にCuの酸化物層が形成されてい
ることを特徴とする合成樹脂部材の反射鏡。 - 【請求項２】Cr層とCu層との間にもCuの酸化物層が更に
形成されている特許請求の範囲第１項記載の反射鏡。 - 【請求項３】Cu層の上層として形成されているCuの酸化
物層の上に、更に低屈折率で の金属酸化物被膜、高屈折率で の金属酸化物被膜、および低屈折率で光学的膜厚約0.05
λの金属酸化物被膜よりなる各層がこの順序に形成され
ている特許請求の範囲第１項または第２項記載の反射
鏡。 - 【請求項４】上記低屈折率で の金属酸化物がAl2O3またはSiO2であり、上記高屈折率
で の金属酸化物がTiO2,CeO2,ZrO2,Ta2O5またはZrO2とTiO2
の混合物であり、上記低屈折率で光学的膜厚約0.05λの
金属酸化物がSiO2である特許請求の範囲第３項記載の反
射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15173186A JPH077126B2 (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 合成樹脂部材の反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15173186A JPH077126B2 (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 合成樹脂部材の反射鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS638605A JPS638605A (ja) | 1988-01-14 |
| JPH077126B2 true JPH077126B2 (ja) | 1995-01-30 |
Family
ID=15525057
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15173186A Expired - Fee Related JPH077126B2 (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 合成樹脂部材の反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH077126B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0469603A (ja) * | 1990-07-10 | 1992-03-04 | Copal Co Ltd | 多層膜反射鏡 |
| JPH04253001A (ja) * | 1991-01-30 | 1992-09-08 | Seikosha Co Ltd | 赤外線反射ミラー |
| JP3005971B2 (ja) * | 1992-05-09 | 2000-02-07 | 株式会社堀場製作所 | 多層膜光学フイルタ |
| JP5659190B2 (ja) * | 2011-09-30 | 2015-01-28 | 富士フイルム株式会社 | 液晶表示装置及び光学フィルム |
-
1986
- 1986-06-30 JP JP15173186A patent/JPH077126B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS638605A (ja) | 1988-01-14 |
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