JPH04253001A - 赤外線反射ミラー - Google Patents
赤外線反射ミラーInfo
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- JPH04253001A JPH04253001A JP1010291A JP1010291A JPH04253001A JP H04253001 A JPH04253001 A JP H04253001A JP 1010291 A JP1010291 A JP 1010291A JP 1010291 A JP1010291 A JP 1010291A JP H04253001 A JPH04253001 A JP H04253001A
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Landscapes
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- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、自動焦点カメラの測距
装置などに使用される赤外線反射ミラーに関するもので
ある。
装置などに使用される赤外線反射ミラーに関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】従来の赤外線反射ミラーとしては、銅材
等の金属材料を鏡面研磨したものや、ガラス基板上に金
をコーティングしたものなどが用いられている。
等の金属材料を鏡面研磨したものや、ガラス基板上に金
をコーティングしたものなどが用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】金属材料を鏡面研磨す
る場合には、通常は高純度金属板のラッピング法が用い
られるが、ラッピングは作業に手間がかかり、非常に高
価なものとなる。また、金属材料に銅材を用いると幾分
コストは低下するが、耐食性の点で問題がある。
る場合には、通常は高純度金属板のラッピング法が用い
られるが、ラッピングは作業に手間がかかり、非常に高
価なものとなる。また、金属材料に銅材を用いると幾分
コストは低下するが、耐食性の点で問題がある。
【０００４】また、ガラス基板上に金をコーティングす
るものは、材料に金を用いるのでやはり高価になる。
るものは、材料に金を用いるのでやはり高価になる。
【０００５】そこで本発明の目的は、反射効率が優れて
おり、しかも耐食性に優れた赤外線反射ミラーを低コス
トで提供することにある。
おり、しかも耐食性に優れた赤外線反射ミラーを低コス
トで提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の赤外線反射ミラーは、ガラス基板上に銅を
コーティングし、その上に保護膜として低屈折材をコー
ティングしてなるものである。保護膜としては、好まし
くはＳｉＯ２ が使用され、そのとき保護膜の厚さは、
耐食性の観点から１．０μｍ〜５．０μｍが適している
。 また銅の接合性を良くするためには、ガラス基板と銅と
の中間に、接合層としてＣｒ，Ｎｉ，Ｎｉ−Ｃｒ，Ｓｉ
のいずれか１つをコーティングすると良い。銅の耐食性
の一層の向上には、上記の構成の赤外線反射ミラーに２
５０℃〜４００℃の加熱処理を施すと良い。
に、本発明の赤外線反射ミラーは、ガラス基板上に銅を
コーティングし、その上に保護膜として低屈折材をコー
ティングしてなるものである。保護膜としては、好まし
くはＳｉＯ２ が使用され、そのとき保護膜の厚さは、
耐食性の観点から１．０μｍ〜５．０μｍが適している
。 また銅の接合性を良くするためには、ガラス基板と銅と
の中間に、接合層としてＣｒ，Ｎｉ，Ｎｉ−Ｃｒ，Ｓｉ
のいずれか１つをコーティングすると良い。銅の耐食性
の一層の向上には、上記の構成の赤外線反射ミラーに２
５０℃〜４００℃の加熱処理を施すと良い。
【０００７】
【実施例】まず、低コスト化を達成するためには、コス
トを押し上げる要因であるラッピングを不要とする構成
が望ましく、このために本発明では、ガラス基板上に金
属を蒸着する構成とした。これはガラス面は十分に平滑
であるので、その上に金属を蒸着するとラッピング作業
を要しないで十分に平滑な金属面が得られるからである
。また蒸着された金属面は、反射効率が優れたものであ
ることが必要であるので、この金属を決めるために、ガ
ラス基板上にアルミニウム，銀，金，銅，ロジウムをそ
れぞれ蒸着して各金属面に波長８５０ｎｍ，５０００ｎ
ｍ，１００００ｎｍの赤外線をそれぞれ照射し、その反
射率を調べるとともに、その耐食性とコストについても
評価した。その結果を表１に示す。
トを押し上げる要因であるラッピングを不要とする構成
が望ましく、このために本発明では、ガラス基板上に金
属を蒸着する構成とした。これはガラス面は十分に平滑
であるので、その上に金属を蒸着するとラッピング作業
を要しないで十分に平滑な金属面が得られるからである
。また蒸着された金属面は、反射効率が優れたものであ
ることが必要であるので、この金属を決めるために、ガ
ラス基板上にアルミニウム，銀，金，銅，ロジウムをそ
れぞれ蒸着して各金属面に波長８５０ｎｍ，５０００ｎ
ｍ，１００００ｎｍの赤外線をそれぞれ照射し、その反
射率を調べるとともに、その耐食性とコストについても
評価した。その結果を表１に示す。
【０００８】
【表１】
【０００９】表１に示すように、赤外線反射ミラーとし
て反射率，耐食性，コストの３点を総合的に評価した場
合、蒸着すべき金属として銅が最も優れている。そこで
銅で若干劣っている耐食性を向上するために、銅の上に
低屈折材を保護膜として設けることにした。
て反射率，耐食性，コストの３点を総合的に評価した場
合、蒸着すべき金属として銅が最も優れている。そこで
銅で若干劣っている耐食性を向上するために、銅の上に
低屈折材を保護膜として設けることにした。
【００１０】実施例１◆
図１は本発明の赤外線反射ミラーの一実施例を示す一部
拡大断面図であって、ガラス基板１の表面に、０．０２
μｍの膜厚のクロムを接合層２としてスパッタリング法
によってコーティングし、その上に連続して０．２５μ
ｍの膜厚の銅を反射層３として同様な方法でコーティン
グし、この銅の上に低屈折材を保護膜４として膜厚１．
０μｍのＳｉＯ２ を同様な方法でコーティングしてい
る。
拡大断面図であって、ガラス基板１の表面に、０．０２
μｍの膜厚のクロムを接合層２としてスパッタリング法
によってコーティングし、その上に連続して０．２５μ
ｍの膜厚の銅を反射層３として同様な方法でコーティン
グし、この銅の上に低屈折材を保護膜４として膜厚１．
０μｍのＳｉＯ２ を同様な方法でコーティングしてい
る。
【００１１】保護膜４の膜厚によっては、可視光域での
反射光の干渉が起こるので、膜厚を種々に変化させて観
察した。この結果、膜厚０．１μｍまでは干渉色は現れ
ないが、膜厚０．１５μｍでは４２０ｎｍに干渉のピー
クが現れ、結果として干渉色として紫色が確認され、好
ましくない。膜厚０．３μｍでは４４０ｎｍに干渉のピ
ークが現れ、結果として干渉色として紫色が確認される
。膜厚０．６μｍでは４１０ｎｍと５１０ｎｍに干渉の
ピークが現れ、結果として干渉色は薄くなるが、色むら
として確認される。
反射光の干渉が起こるので、膜厚を種々に変化させて観
察した。この結果、膜厚０．１μｍまでは干渉色は現れ
ないが、膜厚０．１５μｍでは４２０ｎｍに干渉のピー
クが現れ、結果として干渉色として紫色が確認され、好
ましくない。膜厚０．３μｍでは４４０ｎｍに干渉のピ
ークが現れ、結果として干渉色として紫色が確認される
。膜厚０．６μｍでは４１０ｎｍと５１０ｎｍに干渉の
ピークが現れ、結果として干渉色は薄くなるが、色むら
として確認される。
【００１２】図２（Ａ），（Ｂ）に保護膜４が膜厚１．
０μｍ及び１．５μｍの場合の波長ー反射率特性を示し
ているが、この膜厚になると干渉のピークが次第に小刻
みとなり、結果として干渉色が確認されなくなる。
０μｍ及び１．５μｍの場合の波長ー反射率特性を示し
ているが、この膜厚になると干渉のピークが次第に小刻
みとなり、結果として干渉色が確認されなくなる。
【００１３】さらに、保護膜４の膜厚と腐食率との関係
を調べるために、膜厚を０．１μｍ，０．１５μｍ，０
．３μｍ，０．４５μｍ，１．５μｍに変化させた複数
の反射ミラーを形成し、それぞれを塩化第２鉄エッチン
グ液中に５分間浸漬する腐食試験を行なった。その結果
を図３に実線で示している。腐食率は保護膜４を設けな
い場合の腐食面積を１００とした場合の本発明における
ものの腐食面積比率である。すなわち、膜厚０．１μｍ
では腐食率２３．５％、０．１５μｍでは腐食率６．５
％、０．３μｍでは腐食率１．８％、０．４５μｍでは
腐食率０．９％、１．５μｍでは腐食率０．１％であり
、このように膜厚０．１μｍに対し、膜厚１．０μｍで
は２００倍程度の耐食性を示している。
を調べるために、膜厚を０．１μｍ，０．１５μｍ，０
．３μｍ，０．４５μｍ，１．５μｍに変化させた複数
の反射ミラーを形成し、それぞれを塩化第２鉄エッチン
グ液中に５分間浸漬する腐食試験を行なった。その結果
を図３に実線で示している。腐食率は保護膜４を設けな
い場合の腐食面積を１００とした場合の本発明における
ものの腐食面積比率である。すなわち、膜厚０．１μｍ
では腐食率２３．５％、０．１５μｍでは腐食率６．５
％、０．３μｍでは腐食率１．８％、０．４５μｍでは
腐食率０．９％、１．５μｍでは腐食率０．１％であり
、このように膜厚０．１μｍに対し、膜厚１．０μｍで
は２００倍程度の耐食性を示している。
【００１４】したがって、干渉色が確認されず、かつ耐
食性の良好な膜厚として、１．０μｍ以上の膜厚にする
のが望ましい。しかし、膜厚を５．０μｍ以上にすると
、保護膜４の内部応力が接合層２の接合強度より強くな
って、銅３とガラス基板１との間で剥離が起こりやすく
なることが判った。このことから膜厚は１．０μｍ〜５
．０μｍが望ましい。なお、赤外線域での反射率は、保
護膜４であるＳｉＯ２の膜厚には殆ど影響されない。
食性の良好な膜厚として、１．０μｍ以上の膜厚にする
のが望ましい。しかし、膜厚を５．０μｍ以上にすると
、保護膜４の内部応力が接合層２の接合強度より強くな
って、銅３とガラス基板１との間で剥離が起こりやすく
なることが判った。このことから膜厚は１．０μｍ〜５
．０μｍが望ましい。なお、赤外線域での反射率は、保
護膜４であるＳｉＯ２の膜厚には殆ど影響されない。
【００１５】実施例２◆
実施例１において、腐食試験に用いたと同様な種々の膜
厚の保護膜４を形成した各反射ミラーを、３００℃で１
時間の加熱処理を施した。その結果図３に点線で示して
いるように、膜厚０．１μｍでは腐食率２．４％、０．
１５μｍでは腐食率０．６％、０．３μｍでは腐食率０
．３％、０．４５μｍ以上では腐食率０．１％であった
。すなわち、この加熱処理によって、耐食性が１０倍程
度も著しく向上した。しかし加熱温度が４００℃を超え
ると、銅３とガラス基板１との間の接合層２のＣｒが銅
３中に拡散し、ガラス基板１との密着性が急激に低下し
、また銅３中にＣｒが拡散するために反射率も低下する
ことが判った。このことから加熱温度は２５０℃〜４０
０℃が適している。
厚の保護膜４を形成した各反射ミラーを、３００℃で１
時間の加熱処理を施した。その結果図３に点線で示して
いるように、膜厚０．１μｍでは腐食率２．４％、０．
１５μｍでは腐食率０．６％、０．３μｍでは腐食率０
．３％、０．４５μｍ以上では腐食率０．１％であった
。すなわち、この加熱処理によって、耐食性が１０倍程
度も著しく向上した。しかし加熱温度が４００℃を超え
ると、銅３とガラス基板１との間の接合層２のＣｒが銅
３中に拡散し、ガラス基板１との密着性が急激に低下し
、また銅３中にＣｒが拡散するために反射率も低下する
ことが判った。このことから加熱温度は２５０℃〜４０
０℃が適している。
【００１６】他の例として、接合層２として、Ｃｒに代
えてＮｉ，Ｎｉ−Ｃｒ，Ｓｉなどのいずれか１つを用い
ることも可能である。
えてＮｉ，Ｎｉ−Ｃｒ，Ｓｉなどのいずれか１つを用い
ることも可能である。
【００１７】
【発明の効果】このように本発明の赤外線反射ミラーは
、ガラス基板上に銅をコーティングしているので、ラッ
ピング作業が不要となり、低コストで製造でき、しかも
反射効率が優れている。また銅の上に保護膜として低屈
折材をコーティングしているので、耐食性に優れている
。
、ガラス基板上に銅をコーティングしているので、ラッ
ピング作業が不要となり、低コストで製造でき、しかも
反射効率が優れている。また銅の上に保護膜として低屈
折材をコーティングしているので、耐食性に優れている
。
【００１８】ガラス基板と銅との中間に、接合層として
Ｃｒ，Ｎｉ，Ｎｉ−Ｃｒ，Ｓｉのいずれか１つをコーテ
ィングしておけば、両者の密着性を高め、安定した品質
のものが得られる。
Ｃｒ，Ｎｉ，Ｎｉ−Ｃｒ，Ｓｉのいずれか１つをコーテ
ィングしておけば、両者の密着性を高め、安定した品質
のものが得られる。
【００１９】さらに、２５０℃〜４００℃の加熱処理を
施せば、耐食性の一層の向上が達せられる。
施せば、耐食性の一層の向上が達せられる。
【図１】本発明の一実施例を示す拡大断面図
【図２】波
長ー反射率特性図
長ー反射率特性図
【図３】保護膜の膜厚と銅の腐食率との間の関係図
１ ガラス基板
２ 接合層
３ 銅
４ 保護膜
Claims (5)
- 【請求項１】 ガラス基板上に銅をコーティングし、
その上に保護膜として低屈折材をコーティングしてなる
赤外線反射ミラー。 - 【請求項２】 請求項１において、保護膜としてＳｉ
Ｏ２ を用いたことを特徴とする赤外線反射ミラー。 - 【請求項３】 請求項２において、保護膜の膜厚を１
．０μｍ〜５．０μｍとしたことを特徴とする赤外線反
射ミラー。 - 【請求項４】 請求項１において、ガラス基板と銅と
の中間に、接合層としてＣｒ，Ｎｉ，Ｎｉ−Ｃｒ，Ｓｉ
のいずれか１つをコーティングした赤外線反射ミラー。 - 【請求項５】 請求項１乃至請求項４の赤外線用反射
ミラーに、２５０℃〜４００℃の加熱処理を施したこと
を特徴とする赤外線反射ミラー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1010291A JPH04253001A (ja) | 1991-01-30 | 1991-01-30 | 赤外線反射ミラー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1010291A JPH04253001A (ja) | 1991-01-30 | 1991-01-30 | 赤外線反射ミラー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04253001A true JPH04253001A (ja) | 1992-09-08 |
Family
ID=11740958
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1010291A Pending JPH04253001A (ja) | 1991-01-30 | 1991-01-30 | 赤外線反射ミラー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04253001A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6416194B1 (en) * | 1999-02-11 | 2002-07-09 | Turkiye Sise Ve Cam Fabrikalari A.S. | Thermostable back-surface mirrors |
| CN102053288A (zh) * | 2010-11-16 | 2011-05-11 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 用于视频仿生隐身的变色膜 |
| WO2014021411A1 (ja) * | 2012-08-02 | 2014-02-06 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 光導波路及び光導波路用ミラー |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5781215A (en) * | 1980-11-11 | 1982-05-21 | Asahi Glass Co Ltd | Transparent body reflecting heat ray |
| JPS58140566A (ja) * | 1981-10-02 | 1983-08-20 | オプチカル・コ−テイング・ラボラトリ−・インコ−ポレ−テツド | たわみ可能な選択性エネルギ−制御シ−ト及びそれを用いた組立体 |
| JPS6146904A (ja) * | 1984-08-13 | 1986-03-07 | Riboole:Kk | 赤外線反射板 |
| JPS61145501A (ja) * | 1984-12-20 | 1986-07-03 | Fujitsu Ltd | 金属全反射膜 |
| JPS62240903A (ja) * | 1986-04-14 | 1987-10-21 | Toshiba Glass Co Ltd | 多層膜反射鏡 |
| JPS638605A (ja) * | 1986-06-30 | 1988-01-14 | Canon Inc | 合成樹脂部材の反射鏡 |
| JPS6435502A (en) * | 1987-07-31 | 1989-02-06 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Reflecting mirror made of multi-layered films |
-
1991
- 1991-01-30 JP JP1010291A patent/JPH04253001A/ja active Pending
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| WO2014021411A1 (ja) * | 2012-08-02 | 2014-02-06 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 光導波路及び光導波路用ミラー |
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