JPS61145501A - 金属全反射膜 - Google Patents
金属全反射膜Info
- Publication number
- JPS61145501A JPS61145501A JP26736984A JP26736984A JPS61145501A JP S61145501 A JPS61145501 A JP S61145501A JP 26736984 A JP26736984 A JP 26736984A JP 26736984 A JP26736984 A JP 26736984A JP S61145501 A JPS61145501 A JP S61145501A
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- JP
- Japan
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- film
- thickness
- copper
- titanium
- total reflection
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、波長依存性が少なく、且つ安定な高反射率が
得られる金属全反射膜に関するものである。
得られる金属全反射膜に関するものである。
各種の光学系に於いては、光路変更の為等にミラー等を
用いるものであり一１又反射率の大きい金属として、銀
（Ａｇ）、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（／
ｌ）等が知られている。このような金属を単に反射膜と
して用いた場合は、ガラス等の基板に対する接着強度が
小さく且つ安定性が低いものであった。
用いるものであり一１又反射率の大きい金属として、銀
（Ａｇ）、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（／
ｌ）等が知られている。このような金属を単に反射膜と
して用いた場合は、ガラス等の基板に対する接着強度が
小さく且つ安定性が低いものであった。
そこで、従来の全反射膜としては、５ｔＯ２とＴ ｉ
Ｏ２とを交互に蒸着等によって積層した誘電体多層膜が
用いられていた。
Ｏ２とを交互に蒸着等によって積層した誘電体多層膜が
用いられていた。
前述の誘電体多層膜は、反射率を大きくする為に２０層
以上とすることが必要となるものであるから、その製造
が容易でない欠点があワた。又反射率の波長依存性が大
きいものであり、例えば、前述の５ｉ０２とＴ ｉ Ｏ
２とを交互に積層した誘電体多層膜について、積層数に
よる波長〔μｍ〕と反射率〔％〕との関係は、第５図に
示すものとなる０曲線ａは積層数１２、曲線すは積層数
２０、曲線Ｃは積層数３５の場合を示し、積層数１２の
場合には、反射率が５０％程度の低いものとなり、又積
層数３５の場合には反射率がほぼ１００％となるが、中
心波長１．３μｍに対して±０．０５μｍの帯域が得ら
れるに過ぎないものどなる。
以上とすることが必要となるものであるから、その製造
が容易でない欠点があワた。又反射率の波長依存性が大
きいものであり、例えば、前述の５ｉ０２とＴ ｉ Ｏ
２とを交互に積層した誘電体多層膜について、積層数に
よる波長〔μｍ〕と反射率〔％〕との関係は、第５図に
示すものとなる０曲線ａは積層数１２、曲線すは積層数
２０、曲線Ｃは積層数３５の場合を示し、積層数１２の
場合には、反射率が５０％程度の低いものとなり、又積
層数３５の場合には反射率がほぼ１００％となるが、中
心波長１．３μｍに対して±０．０５μｍの帯域が得ら
れるに過ぎないものどなる。
このように、誘電体多層膜を用いた場合は、積層数を多
くすることにより、所望の反射率が得られるが、帯域が
狭くなり、且つ積層数に対応して製造工程が長くなるか
ら、コストアップとなる欠点がある。
くすることにより、所望の反射率が得られるが、帯域が
狭くなり、且つ積層数に対応して製造工程が長くなるか
ら、コストアップとなる欠点がある。
又反射率の大きい金属を反射膜として単に用いることも
考えられるが、ガラス等の基板との密着性が小さく、長
期間安定に使用することが困難である欠点があった。
考えられるが、ガラス等の基板との密着性が小さく、長
期間安定に使用することが困難である欠点があった。
本発明は、前述のような従来の欠点を改善することを目
的とするものである。
的とするものである。
本発明の金属全反射膜は、ガラス基板等の透明基板に、
チタン（Ｔｉ）を５Å〜５０人の厚さに蒸着等により形
成し、その上に銅（Ｃｕ）を蒸着等により２０００Å以
上の厚さに形成したものである。
チタン（Ｔｉ）を５Å〜５０人の厚さに蒸着等により形
成し、その上に銅（Ｃｕ）を蒸着等により２０００Å以
上の厚さに形成したものである。
チタンを介して銅をガラス等の透明基板に形成したこと
により、銅と透明基板との密着性が良くなり、その場合
のチタンの膜厚を５人より薄くすると、チタンを形成し
た効果が現れず、又５０人より厚くすると、チタンによ
る損失が大きくなるので、チタンの膜厚５Å〜５０人の
範囲とすることにより、銅による反射を有効に利用する
ことができる。又銅を２０００人より薄くすると、酸化
等による反射率の変化が生じるが、銅の膜厚を、２００
０Å以上とすることにより、長期間安定に反射膜として
作用させることができる。
により、銅と透明基板との密着性が良くなり、その場合
のチタンの膜厚を５人より薄くすると、チタンを形成し
た効果が現れず、又５０人より厚くすると、チタンによ
る損失が大きくなるので、チタンの膜厚５Å〜５０人の
範囲とすることにより、銅による反射を有効に利用する
ことができる。又銅を２０００人より薄くすると、酸化
等による反射率の変化が生じるが、銅の膜厚を、２００
０Å以上とすることにより、長期間安定に反射膜として
作用させることができる。
以下図面を参照して、本発明の実施例について詳細に説
明する。
明する。
第１図は本発明の詳細な説明図であり、ガラス基板３の
上に蒸着等によりチタン（Ｔｉ）膜２を形成し、その上
に蒸着等により銅（Ｃｕ）膜１を形成したものであり、
ガラス基板３を透過した入射光４は、銅膜１の界面で全
反射され、ガラス基板３を透過して反射光５として出射
されるものである。チタン膜２の膜厚ｄ２は５Å〜５０
人に選定し、銅膜１の膜厚ｄ１は２０００Å以上とする
ものである。
上に蒸着等によりチタン（Ｔｉ）膜２を形成し、その上
に蒸着等により銅（Ｃｕ）膜１を形成したものであり、
ガラス基板３を透過した入射光４は、銅膜１の界面で全
反射され、ガラス基板３を透過して反射光５として出射
されるものである。チタン膜２の膜厚ｄ２は５Å〜５０
人に選定し、銅膜１の膜厚ｄ１は２０００Å以上とする
ものである。
第２図はチタン（Ｔｉ）膜２の膜厚〔人〕と反射率〔％
〕との関係を、波長１．３μｍの光の場合について示す
ものである。又曲線ａｌはＳ偏光、曲線ｂ１はＰ偏光に
対するものであり、チタン膜２の膜厚が厚くなると、そ
れによる光の損失が大きくなって、金属全反射膜として
の反射率が低下することになる。その場合、偏光方向に
よる反射率が曲線ａｌ、ｂｌに示すように異なるものと
なるが、通常、反射率は８０％以上必要であり、このよ
うな点からチタン膜２の膜厚は、５０人より薄くするこ
とが必要となる。又チタン膜２の膜厚を５人より薄くす
ると、チタン膜２による銅膜１の密着強度の増大の効果
が得られなくなるから、少なくともチタン膜２は５Å以
上の膜厚とすることが必要である。
〕との関係を、波長１．３μｍの光の場合について示す
ものである。又曲線ａｌはＳ偏光、曲線ｂ１はＰ偏光に
対するものであり、チタン膜２の膜厚が厚くなると、そ
れによる光の損失が大きくなって、金属全反射膜として
の反射率が低下することになる。その場合、偏光方向に
よる反射率が曲線ａｌ、ｂｌに示すように異なるものと
なるが、通常、反射率は８０％以上必要であり、このよ
うな点からチタン膜２の膜厚は、５０人より薄くするこ
とが必要となる。又チタン膜２の膜厚を５人より薄くす
ると、チタン膜２による銅膜１の密着強度の増大の効果
が得られなくなるから、少なくともチタン膜２は５Å以
上の膜厚とすることが必要である。
第３図は銅（Ｃｕ）膜１の膜厚〔人〕と反射率〔％〕と
の関係の実測値及び計算値を示し、波長１．３μｍにつ
いてのものである。又Ｏ印はＳ偏光、ｘ印はＰ偏光の実
測値を示し、Ａ、ＢはＳ偏光及びＰ偏光についての反射
率の計算値を示す。この第３図から判るように、約９７
％以上の反射率が得られ、銅膜１の膜厚による反射率の
波長依存性は殆どないものである。この銅膜１の膜厚は
、２０００人より薄くすると、酸化等により銅膜１にピ
ンホールが発生したりして、反射率が低下することにな
る。従って、２０００Å以上の膜厚とすることが必要と
なる。又反射率の点からは、銅膜１の膜厚の上限はない
ものであり、蒸着等の作業性や経済性等を考慮して、銅
膜１の膜厚が選定されることになる。例えば、１０００
０人程度以下色することが好適である。
の関係の実測値及び計算値を示し、波長１．３μｍにつ
いてのものである。又Ｏ印はＳ偏光、ｘ印はＰ偏光の実
測値を示し、Ａ、ＢはＳ偏光及びＰ偏光についての反射
率の計算値を示す。この第３図から判るように、約９７
％以上の反射率が得られ、銅膜１の膜厚による反射率の
波長依存性は殆どないものである。この銅膜１の膜厚は
、２０００人より薄くすると、酸化等により銅膜１にピ
ンホールが発生したりして、反射率が低下することにな
る。従って、２０００Å以上の膜厚とすることが必要と
なる。又反射率の点からは、銅膜１の膜厚の上限はない
ものであり、蒸着等の作業性や経済性等を考慮して、銅
膜１の膜厚が選定されることになる。例えば、１０００
０人程度以下色することが好適である。
第４図は、ガラス基板３上のチタン膜２の膜厚を１０人
とし、銅膜１の膜厚を約５０００人として、波長１．１
μｍから１．５μｍに於ける反射率を測定した結果を示
すものであり、曲線ａ２はＳ偏光、曲線ｂ２はＰ偏光に
対するものである。同図からも判るように、偏光方向が
異なることによる反射率の差はあるが、前述の波長範囲
に於いて反射率は１％以下の変化となるから、波長依存
性はないと言えるものである。
とし、銅膜１の膜厚を約５０００人として、波長１．１
μｍから１．５μｍに於ける反射率を測定した結果を示
すものであり、曲線ａ２はＳ偏光、曲線ｂ２はＰ偏光に
対するものである。同図からも判るように、偏光方向が
異なることによる反射率の差はあるが、前述の波長範囲
に於いて反射率は１％以下の変化となるから、波長依存
性はないと言えるものである。
従って、各種の光学系に於ける光路変更の為の全反射膜
として使用することができ、その製作も容易であるから
、経済的な装置を構成することができる。
として使用することができ、その製作も容易であるから
、経済的な装置を構成することができる。
以上説明したように、本発明は、ガラス基板３等の透明
基板を介して入射した光４を全反射させる金属全反射膜
に於いて、ガラス基板３等の透明基板に、５λ〜５０人
の膜厚を有するチタン（Ｔｉ）膜２を介して全反射膜と
なる銅（Ｃｕ）を２０００Å以上の膜厚で形成したもの
であり、ｗ４（Ｃｕ）の反射率を有効に利用し、且つチ
タン膜２によってガラス基板３等の透明基板に対する密
着性を良くし、それによって、長期間安定に高反射率を
維持することができる。又波長依存性がないことにより
、各種の光学系に広く使用することが可能となる。更に
、チタン膜２と銅膜１との２Ｊｉ構成であるから、その
製作も容易である利点がある。
基板を介して入射した光４を全反射させる金属全反射膜
に於いて、ガラス基板３等の透明基板に、５λ〜５０人
の膜厚を有するチタン（Ｔｉ）膜２を介して全反射膜と
なる銅（Ｃｕ）を２０００Å以上の膜厚で形成したもの
であり、ｗ４（Ｃｕ）の反射率を有効に利用し、且つチ
タン膜２によってガラス基板３等の透明基板に対する密
着性を良くし、それによって、長期間安定に高反射率を
維持することができる。又波長依存性がないことにより
、各種の光学系に広く使用することが可能となる。更に
、チタン膜２と銅膜１との２Ｊｉ構成であるから、その
製作も容易である利点がある。
第１図は本発明の詳細な説明図、第２図はチタン膜の膜
厚と反射率との関係を示す曲線図、第３図は銅膜の膜厚
と反射率との関係を示す実測値及び計算値を示す図、第
４図は波長と反射率との関係を示す曲線図、第５図は従
来の誘電多層膜の波長と反射率との関係を示す曲線図で
ある。 １は銅（ＣｕｒＷｌ！、２はチタン（Ｔｉ）膜、３はガ
ラス基板である。
厚と反射率との関係を示す曲線図、第３図は銅膜の膜厚
と反射率との関係を示す実測値及び計算値を示す図、第
４図は波長と反射率との関係を示す曲線図、第５図は従
来の誘電多層膜の波長と反射率との関係を示す曲線図で
ある。 １は銅（ＣｕｒＷｌ！、２はチタン（Ｔｉ）膜、３はガ
ラス基板である。
Claims (1)
- 透明基板を介して入射した光を全反射させる金属全反射
膜に於いて、前記透明基板に５Å〜５０Åの膜厚を有す
るチタンを介して全反射膜となる銅を２０００Å以上の
膜厚で形成したことを特徴とする金属全反射膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26736984A JPS61145501A (ja) | 1984-12-20 | 1984-12-20 | 金属全反射膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26736984A JPS61145501A (ja) | 1984-12-20 | 1984-12-20 | 金属全反射膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61145501A true JPS61145501A (ja) | 1986-07-03 |
Family
ID=17443872
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26736984A Pending JPS61145501A (ja) | 1984-12-20 | 1984-12-20 | 金属全反射膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61145501A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5058098A (en) * | 1988-02-17 | 1991-10-15 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Optical record medium having an improved reflection thin film |
| JPH04253001A (ja) * | 1991-01-30 | 1992-09-08 | Seikosha Co Ltd | 赤外線反射ミラー |
| JPH075309A (ja) * | 1993-04-28 | 1995-01-10 | Boc Group Inc:The | 耐久第１面ミラーおよび第２面ミラー |
-
1984
- 1984-12-20 JP JP26736984A patent/JPS61145501A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5058098A (en) * | 1988-02-17 | 1991-10-15 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Optical record medium having an improved reflection thin film |
| JPH04253001A (ja) * | 1991-01-30 | 1992-09-08 | Seikosha Co Ltd | 赤外線反射ミラー |
| JPH075309A (ja) * | 1993-04-28 | 1995-01-10 | Boc Group Inc:The | 耐久第１面ミラーおよび第２面ミラー |
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