JPH075298A - Ｘ線多層膜反射鏡 - Google Patents
Ｘ線多層膜反射鏡Info
- Publication number
- JPH075298A JPH075298A JP5143934A JP14393493A JPH075298A JP H075298 A JPH075298 A JP H075298A JP 5143934 A JP5143934 A JP 5143934A JP 14393493 A JP14393493 A JP 14393493A JP H075298 A JPH075298 A JP H075298A
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- ray
- vanadium pentoxide
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 波長２．５〜４．３ｎｍのＸ線領域において
高反射率が得られる多層膜反射鏡を提供する。 【構成】 波長２．５〜４．３ｎｍの波長域のＸ線で使
用され、金属層２と五酸化バナジウム層３とを交互に積
層してなるＸ線多層膜反射鏡Ｍの金属層２と五酸化バナ
ジウム層３との間および五酸化バナジウム層３と金属層
２との間に、ボロン、チタン、アルミニウムおよびシリ
コンのうちいずれか１つの物質の窒化物または酸化物か
らなる酸化防止層１を積層した。
高反射率が得られる多層膜反射鏡を提供する。 【構成】 波長２．５〜４．３ｎｍの波長域のＸ線で使
用され、金属層２と五酸化バナジウム層３とを交互に積
層してなるＸ線多層膜反射鏡Ｍの金属層２と五酸化バナ
ジウム層３との間および五酸化バナジウム層３と金属層
２との間に、ボロン、チタン、アルミニウムおよびシリ
コンのうちいずれか１つの物質の窒化物または酸化物か
らなる酸化防止層１を積層した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｘ線望遠鏡、Ｘ線レー
ザー、Ｘ線リソグラフィー、Ｘ線顕微鏡または各種Ｘ線
分析装置等において、波長２．５〜４．３ｎｍの波長域
のＸ線に対する反射光学系に用いられるＸ線多層膜反射
鏡に関する。
ザー、Ｘ線リソグラフィー、Ｘ線顕微鏡または各種Ｘ線
分析装置等において、波長２．５〜４．３ｎｍの波長域
のＸ線に対する反射光学系に用いられるＸ線多層膜反射
鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｘ線波長域の光に対して物質の屈折率
は、 ｎ＝１−δ−ｉβ（δ，βは正の実数） と表されるが、δ，βともに１に比べて非常に小さい
（屈折率の虚部βはＸ線の吸収を表す）。したがって、
屈折率がほぼ１に近くなるためＸ線をほとんど屈折させ
ることができず、また、物質を透過することによりＸ線
が必ず吸収される。このため、可視光領域のように屈折
を利用したレンズはＸ線波長域の光には使用できない。
は、 ｎ＝１−δ−ｉβ（δ，βは正の実数） と表されるが、δ，βともに１に比べて非常に小さい
（屈折率の虚部βはＸ線の吸収を表す）。したがって、
屈折率がほぼ１に近くなるためＸ線をほとんど屈折させ
ることができず、また、物質を透過することによりＸ線
が必ず吸収される。このため、可視光領域のように屈折
を利用したレンズはＸ線波長域の光には使用できない。
【０００３】そこで、反射を利用した光学系が用いられ
るが、やはり屈折率が１に近いために反射率は非常に低
く、大部分のＸ線は透過するかあるいは吸収されてしま
う。この問題を解決するために、使用するＸ線の波長域
における屈折率と真空の屈折率（＝１）との差が大きい
物質と、差の小さい物質とを交互に何層も積層すること
によりそれらの界面である反射面を多数設け、各々の界
面からの反射波の位相が一致するように光学的干渉理論
に基づいて各層の厚さを調整した多層膜反射鏡が知られ
ている。本発明者の実験結果によれば、波長２．５〜
４．３ｎｍの範囲のＸ線においては、クロム／五酸化バ
ナジウム、ニッケル／五酸化バナジウム等、金属と五酸
化バナジウムとからなる多層膜反射鏡により高い反射率
が得られることが判明した。この波長のＸ線は水に対す
る吸収係数が低いため、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線光電子分光装
置等に用いられている。
るが、やはり屈折率が１に近いために反射率は非常に低
く、大部分のＸ線は透過するかあるいは吸収されてしま
う。この問題を解決するために、使用するＸ線の波長域
における屈折率と真空の屈折率（＝１）との差が大きい
物質と、差の小さい物質とを交互に何層も積層すること
によりそれらの界面である反射面を多数設け、各々の界
面からの反射波の位相が一致するように光学的干渉理論
に基づいて各層の厚さを調整した多層膜反射鏡が知られ
ている。本発明者の実験結果によれば、波長２．５〜
４．３ｎｍの範囲のＸ線においては、クロム／五酸化バ
ナジウム、ニッケル／五酸化バナジウム等、金属と五酸
化バナジウムとからなる多層膜反射鏡により高い反射率
が得られることが判明した。この波長のＸ線は水に対す
る吸収係数が低いため、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線光電子分光装
置等に用いられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たＸ線多層膜反射鏡にあっては、多層膜を構成する五酸
化バナジウムは化学的に不安定な酸化物であるため、金
属と五酸化バナジウムとで構成される多層膜反射鏡にお
いて金属と五酸化バナジウムが直接接するような界面が
存在する場合、金属が酸化されて五酸化バナジウムが還
元されることが本発明者の実験結果により確認された。
このように、金属が酸化されて五酸化バナジウムが還元
されると、多層膜を構成する２つの物質の屈折率の差が
小さくなってしまい、反射率が低下してしまう、という
問題があった。
たＸ線多層膜反射鏡にあっては、多層膜を構成する五酸
化バナジウムは化学的に不安定な酸化物であるため、金
属と五酸化バナジウムとで構成される多層膜反射鏡にお
いて金属と五酸化バナジウムが直接接するような界面が
存在する場合、金属が酸化されて五酸化バナジウムが還
元されることが本発明者の実験結果により確認された。
このように、金属が酸化されて五酸化バナジウムが還元
されると、多層膜を構成する２つの物質の屈折率の差が
小さくなってしまい、反射率が低下してしまう、という
問題があった。
【０００５】一方、多層膜反射鏡を構成する物質の界面
では、加熱により物質相互の拡散および化合物形成が起
こり得るため、物質間に拡散防止層を設けて耐熱性の向
上を図った多層膜反射鏡が従来より提案されていた。例
えば、特開平2-242201号公報には、モリブデンとシリコ
ンからなる多層膜の界面に炭素または酸化シリコンを形
成することによって、物質相互の拡散を防止して耐熱性
を向上させた多層膜反射鏡が開示されている。しかし、
五酸化バナジウムと金属とからなる多層膜反射鏡が使用
される波長２．５〜４．３ｎｍの範囲のＸ線において
は、炭素は吸収が大きいために酸化防止層として用いた
場合には反射率が大きく低下してしまう、という問題が
あった。
では、加熱により物質相互の拡散および化合物形成が起
こり得るため、物質間に拡散防止層を設けて耐熱性の向
上を図った多層膜反射鏡が従来より提案されていた。例
えば、特開平2-242201号公報には、モリブデンとシリコ
ンからなる多層膜の界面に炭素または酸化シリコンを形
成することによって、物質相互の拡散を防止して耐熱性
を向上させた多層膜反射鏡が開示されている。しかし、
五酸化バナジウムと金属とからなる多層膜反射鏡が使用
される波長２．５〜４．３ｎｍの範囲のＸ線において
は、炭素は吸収が大きいために酸化防止層として用いた
場合には反射率が大きく低下してしまう、という問題が
あった。
【０００６】本発明の目的は、金属層と五酸化バナジウ
ム層とが交互に積層されて構成され、波長２．５〜４．
３ｎｍのＸ線領域において高反射率が得られる多層膜反
射鏡を提供することにある。
ム層とが交互に積層されて構成され、波長２．５〜４．
３ｎｍのＸ線領域において高反射率が得られる多層膜反
射鏡を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】一実施例を示す図１に対
応付けて説明すると、本発明は、波長２．５〜４．３ｎ
ｍの波長域のＸ線で使用され、金属層２と五酸化バナジ
ウム層３とを交互に積層してなるＸ線多層膜反射鏡Ｍに
適用され、そして、金属層２と五酸化バナジウム層３と
の間および五酸化バナジウム層３と金属層２との間に、
化学的に安定でかつ波長２．５〜４．３ｎｍの波長域の
Ｘ線に対する吸収が少ないボロン、チタン、アルミニウ
ムおよびシリコンのうちいずれか１つの物質の窒化物ま
たは酸化物からなる酸化防止層１を積層することにより
上述の目的を達成している。酸化防止層１の厚さは０．
５ｎｍ以上および１．５ｎｍ以下であることが好まし
い。また、Ｘ線多層膜反射鏡Ｍを構成する金属層２は、
クロム、ニッケルの単体またはこれらの合金からなるこ
とが好ましい。
応付けて説明すると、本発明は、波長２．５〜４．３ｎ
ｍの波長域のＸ線で使用され、金属層２と五酸化バナジ
ウム層３とを交互に積層してなるＸ線多層膜反射鏡Ｍに
適用され、そして、金属層２と五酸化バナジウム層３と
の間および五酸化バナジウム層３と金属層２との間に、
化学的に安定でかつ波長２．５〜４．３ｎｍの波長域の
Ｘ線に対する吸収が少ないボロン、チタン、アルミニウ
ムおよびシリコンのうちいずれか１つの物質の窒化物ま
たは酸化物からなる酸化防止層１を積層することにより
上述の目的を達成している。酸化防止層１の厚さは０．
５ｎｍ以上および１．５ｎｍ以下であることが好まし
い。また、Ｘ線多層膜反射鏡Ｍを構成する金属層２は、
クロム、ニッケルの単体またはこれらの合金からなるこ
とが好ましい。
【０００８】本発明における酸化防止層１は、上述のご
とくボロン、チタン、アルミニウムおよびシリコンのう
ちいずれか１つの物質の窒化物または酸化物からなるも
のである。通常、酸化防止層１は単一物質からなる１層
だけ設けられるが、複数層設けてもよい。
とくボロン、チタン、アルミニウムおよびシリコンのう
ちいずれか１つの物質の窒化物または酸化物からなるも
のである。通常、酸化防止層１は単一物質からなる１層
だけ設けられるが、複数層設けてもよい。
【０００９】酸化防止層１に用いる物質は、化学的に安
定かつ波長２．５〜４．３ｎｍの波長域のＸ線に対して
吸収の少ない物質を選ぶ必要がある。化学的に安定な物
質としては窒化物、酸化物、炭化物が考えられるが、こ
の波長域では炭素は吸収が大きいために炭素および炭化
物は使用できない。図２は、窒化ボロン（ＢＮ）、酸化
チタン（ＴiＯ2）および比較のために炭素（Ｃ）のＸ線
の吸収を表す屈折率の虚部βと波長との関係を示したグ
ラフである。図２からわかるように、窒化ボロン、酸化
チタンは、金属／五酸化バナジウムの多層膜反射鏡が使
用される波長２．５〜４．３ｎｍのＸ線領域における吸
収が少ないので、酸化防止層１に使用しても反射率の損
失を低く抑えることができる。同様に、図３は、窒化シ
リコン（ＳiＮ4）、酸化シリコン（ＳiＯ2）、酸化アル
ミニウム（Ａl2Ｏ3）およびおよび比較のために炭素
（Ｃ）のＸ線の吸収を表す屈折率の虚部βと波長との関
係を示したグラフである。本発明者の実験結果によれ
ば、ボロン、チタン、アルミニウムおよびシリコンのう
ちいずれか１つの物質の窒化物または酸化物には、波長
２．５〜４．３ｎｍのＸ線に対して必ず炭素より吸収の
小さくなる波長域が存在することが判明している。
定かつ波長２．５〜４．３ｎｍの波長域のＸ線に対して
吸収の少ない物質を選ぶ必要がある。化学的に安定な物
質としては窒化物、酸化物、炭化物が考えられるが、こ
の波長域では炭素は吸収が大きいために炭素および炭化
物は使用できない。図２は、窒化ボロン（ＢＮ）、酸化
チタン（ＴiＯ2）および比較のために炭素（Ｃ）のＸ線
の吸収を表す屈折率の虚部βと波長との関係を示したグ
ラフである。図２からわかるように、窒化ボロン、酸化
チタンは、金属／五酸化バナジウムの多層膜反射鏡が使
用される波長２．５〜４．３ｎｍのＸ線領域における吸
収が少ないので、酸化防止層１に使用しても反射率の損
失を低く抑えることができる。同様に、図３は、窒化シ
リコン（ＳiＮ4）、酸化シリコン（ＳiＯ2）、酸化アル
ミニウム（Ａl2Ｏ3）およびおよび比較のために炭素
（Ｃ）のＸ線の吸収を表す屈折率の虚部βと波長との関
係を示したグラフである。本発明者の実験結果によれ
ば、ボロン、チタン、アルミニウムおよびシリコンのう
ちいずれか１つの物質の窒化物または酸化物には、波長
２．５〜４．３ｎｍのＸ線に対して必ず炭素より吸収の
小さくなる波長域が存在することが判明している。
【００１０】この酸化防止層１は、波長２．５〜４．３
ｎｍのＸ線に用いられるようにその物質、周期数等が定
められた多層膜反射鏡Ｍの金属層２と五酸化バナジウム
層３との間、および五酸化バナジウム層３と金属層２と
の間に介在、積層される。金属層２を構成する金属とし
ては、クロム、ニッケルの単体またはこれらの合金が挙
げられる。酸化防止層１は、多層膜反射鏡Ｍの各層を形
成する場合と同様に、スパッタリング、真空蒸着、ＣＶ
Ｄなどの薄膜形成技術により金属層２と五酸化バナジウ
ム層３との間、および五酸化バナジウム層３と金属層２
との間に積層される。
ｎｍのＸ線に用いられるようにその物質、周期数等が定
められた多層膜反射鏡Ｍの金属層２と五酸化バナジウム
層３との間、および五酸化バナジウム層３と金属層２と
の間に介在、積層される。金属層２を構成する金属とし
ては、クロム、ニッケルの単体またはこれらの合金が挙
げられる。酸化防止層１は、多層膜反射鏡Ｍの各層を形
成する場合と同様に、スパッタリング、真空蒸着、ＣＶ
Ｄなどの薄膜形成技術により金属層２と五酸化バナジウ
ム層３との間、および五酸化バナジウム層３と金属層２
との間に積層される。
【００１１】酸化防止層１の厚さは０．５〜１．５ｎｍ
の範囲内にすることが好ましい。０．５ｎｍを下回ると
酸化防止層１としての効果がなく、逆に、１．５ｎｍを
上回ると多層膜反射鏡Ｍの反射率の損失が大きくなる。
の範囲内にすることが好ましい。０．５ｎｍを下回ると
酸化防止層１としての効果がなく、逆に、１．５ｎｍを
上回ると多層膜反射鏡Ｍの反射率の損失が大きくなる。
【００１２】
【作用】本発明の酸化防止層１は化学的に安定な物質で
あるため五酸化バナジウムによって酸化されにくく、し
かも、Ｘ線多層膜反射鏡Ｍが使用される波長領域のＸ線
に対する吸収が小さいため、反射率の低下を招くことな
く金属層２の酸化を防止することができる。
あるため五酸化バナジウムによって酸化されにくく、し
かも、Ｘ線多層膜反射鏡Ｍが使用される波長領域のＸ線
に対する吸収が小さいため、反射率の低下を招くことな
く金属層２の酸化を防止することができる。
【００１３】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段と作用の項では、本発明を分かり易
くするために実施例の図を用いたが、これにより本発明
が実施例に限定されるものではない。
解決するための手段と作用の項では、本発明を分かり易
くするために実施例の図を用いたが、これにより本発明
が実施例に限定されるものではない。
【００１４】
−実験例１− 図１に示すように、イオンビームスパッタ法により、溶
融石英基板４上に膜厚２ｎｍのクロム層２、膜厚０．５
ｎｍの酸化チタン層１、膜厚２．５ｎｍの五酸化バナジ
ウム層３、膜厚０．５ｎｍの酸化チタン層１の順で１０
０回成膜を行い（図では中間の層を省略している）、図
１のような周期長５．５ｎｍ、積層数１００組の多層膜
反射鏡Ｍを形成した。なお、本実験例では五酸化バナジ
ウム層３を最上層とした。以上のようにして作製した多
層膜反射鏡Ｍの波長３．４ｎｍのＸ線における反射率を
測定したところ１７％であった。
融石英基板４上に膜厚２ｎｍのクロム層２、膜厚０．５
ｎｍの酸化チタン層１、膜厚２．５ｎｍの五酸化バナジ
ウム層３、膜厚０．５ｎｍの酸化チタン層１の順で１０
０回成膜を行い（図では中間の層を省略している）、図
１のような周期長５．５ｎｍ、積層数１００組の多層膜
反射鏡Ｍを形成した。なお、本実験例では五酸化バナジ
ウム層３を最上層とした。以上のようにして作製した多
層膜反射鏡Ｍの波長３．４ｎｍのＸ線における反射率を
測定したところ１７％であった。
【００１５】−実験例２− 実験例１と同様に、イオンビームスパッタ法により、溶
融石英基板４上に膜厚２ｎｍのクロム層２、膜厚０．５
ｎｍの窒化ボロン層１、膜厚２．５ｎｍの五酸化バナジ
ウム層３、膜厚０．５ｎｍの窒化ボロン層１の順で１０
０回成膜を行い（図では中間の層を省略している）、図
１のような周期長５．５ｎｍ、積層数１００組の多層膜
反射鏡Ｍを形成した。なお、本実験例では五酸化バナジ
ウム層３を最上層とした。以上のようにして作製した多
層膜反射鏡Ｍの波長３．４ｎｍのＸ線における反射率を
測定したところ１７％であった。
融石英基板４上に膜厚２ｎｍのクロム層２、膜厚０．５
ｎｍの窒化ボロン層１、膜厚２．５ｎｍの五酸化バナジ
ウム層３、膜厚０．５ｎｍの窒化ボロン層１の順で１０
０回成膜を行い（図では中間の層を省略している）、図
１のような周期長５．５ｎｍ、積層数１００組の多層膜
反射鏡Ｍを形成した。なお、本実験例では五酸化バナジ
ウム層３を最上層とした。以上のようにして作製した多
層膜反射鏡Ｍの波長３．４ｎｍのＸ線における反射率を
測定したところ１７％であった。
【００１６】−比較例− 比較例として、実験例１、２と同様にイオンビームスパ
ッタ法により、溶融石英基板４上に膜厚２ｎｍのクロム
層と膜厚３．５ｎｍの五酸化バナジウム層とを交互に１
００層づつ積層して多層膜を作製し、同様に波長３．４
ｎｍのＸ線に対する反射率を測定したところ１０％であ
った。
ッタ法により、溶融石英基板４上に膜厚２ｎｍのクロム
層と膜厚３．５ｎｍの五酸化バナジウム層とを交互に１
００層づつ積層して多層膜を作製し、同様に波長３．４
ｎｍのＸ線に対する反射率を測定したところ１０％であ
った。
【００１７】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、金属層と
五酸化バナジウム層とからなるＸ線多層膜反射鏡の金属
層と五酸化バナジウム層との間、および五酸化バナジウ
ム層と金属層との間に、化学的に安定でかつ波長２．５
〜４．３ｎｍの波長域のＸ線に対する吸収が少ないボロ
ン、チタン、アルミニウムおよびシリコンのうちいずれ
か１つの物質の窒化物または酸化物からなる酸化防止層
１を積層したので、波長２．５〜４．３ｎｍのＸ線領域
において高反射率を有するＸ線多層膜反射鏡を実現する
ことができる。
五酸化バナジウム層とからなるＸ線多層膜反射鏡の金属
層と五酸化バナジウム層との間、および五酸化バナジウ
ム層と金属層との間に、化学的に安定でかつ波長２．５
〜４．３ｎｍの波長域のＸ線に対する吸収が少ないボロ
ン、チタン、アルミニウムおよびシリコンのうちいずれ
か１つの物質の窒化物または酸化物からなる酸化防止層
１を積層したので、波長２．５〜４．３ｎｍのＸ線領域
において高反射率を有するＸ線多層膜反射鏡を実現する
ことができる。
【図１】本発明の実験例１、２によるＸ線多層膜反射鏡
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図２】窒化ボロン、酸化チタンおよび炭素のＸ線の吸
収を表す屈折率の虚部βと波長との関係を示す図であ
る。
収を表す屈折率の虚部βと波長との関係を示す図であ
る。
【図３】窒化シリコン、酸化シリコン、酸化アルミニウ
ムおよび炭素のＸ線の吸収を表す屈折率の虚部βと波長
との関係を示す図である。
ムおよび炭素のＸ線の吸収を表す屈折率の虚部βと波長
との関係を示す図である。
Ｍ Ｘ線多層膜反射鏡 １ 酸化防止層 ２ 金属層 ３ 五酸化バナジウム層 ４ 溶融石英基板
Claims (3)
- 【請求項１】 波長２．５〜４．３ｎｍの波長域のＸ線
で使用され、金属層と五酸化バナジウム層とを交互に積
層してなるＸ線多層膜反射鏡であって、 金属層と五酸化バナジウム層との間および五酸化バナジ
ウム層と金属層との間に、ボロン、チタン、アルミニウ
ムおよびシリコンのうちいずれか１つの物質の窒化物ま
たは酸化物からなる酸化防止層を積層したことを特徴と
するＸ線多層膜反射鏡。 - 【請求項２】 請求項１に記載のＸ線多層膜反射鏡にお
いて、 前記酸化防止層の厚さが０．５ｎｍ以上および１．５ｎ
ｍ以下であることを特徴とするＸ線多層膜反射鏡。 - 【請求項３】 請求項１または２に記載のＸ線多層膜反
射鏡において、 前記金属層が、クロム、ニッケルの単体またはこれらの
合金からなることを特徴とするＸ線多層膜反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5143934A JPH075298A (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | Ｘ線多層膜反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5143934A JPH075298A (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | Ｘ線多層膜反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH075298A true JPH075298A (ja) | 1995-01-10 |
Family
ID=15350475
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5143934A Pending JPH075298A (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | Ｘ線多層膜反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH075298A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08199342A (ja) * | 1995-01-19 | 1996-08-06 | Rikagaku Kenkyusho | 軟ｘ線光学素子用多層膜構造 |
| EP1278208A1 (de) * | 2001-07-18 | 2003-01-22 | Gkss-Forschungszentrum Geesthacht Gmbh | Einrichtung zur Reflektion von Röntgenstrahlen |
-
1993
- 1993-06-15 JP JP5143934A patent/JPH075298A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08199342A (ja) * | 1995-01-19 | 1996-08-06 | Rikagaku Kenkyusho | 軟ｘ線光学素子用多層膜構造 |
| EP0723273A3 (en) * | 1995-01-19 | 1997-04-09 | Rikagaku Kenkyusho | Multi-layer structures for optical elements in the area of soft X-rays |
| EP1091360A2 (en) * | 1995-01-19 | 2001-04-11 | Rikagaku Kenkyusho | Multilayer film structure for soft X-ray optical elements |
| EP1091360A3 (en) * | 1995-01-19 | 2003-05-07 | Rikagaku Kenkyusho | Multilayer film structure for soft X-ray optical elements |
| EP1278208A1 (de) * | 2001-07-18 | 2003-01-22 | Gkss-Forschungszentrum Geesthacht Gmbh | Einrichtung zur Reflektion von Röntgenstrahlen |
| DE10134267A1 (de) * | 2001-07-18 | 2003-02-06 | Geesthacht Gkss Forschung | Einrichtung zur Reflektion von Röntgenstrahlen |
| DE10134267B4 (de) * | 2001-07-18 | 2007-03-01 | Gkss-Forschungszentrum Geesthacht Gmbh | Einrichtung zur Reflexion von Röntgenstrahlen |
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