JPS62165601A - レ−ザビ−ム用反射鏡 - Google Patents

レ−ザビ−ム用反射鏡

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JPS62165601A
JPS62165601A JP845186A JP845186A JPS62165601A JP S62165601 A JPS62165601 A JP S62165601A JP 845186 A JP845186 A JP 845186A JP 845186 A JP845186 A JP 845186A JP S62165601 A JPS62165601 A JP S62165601A
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JP
Japan
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copper
laser beam
bonding layer
aluminum alloy
reflective film
Prior art date
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Pending
Application number
JP845186A
Other languages
English (en)
Inventor
Kozo Nishimura
耕造 西村
Tsutomu Ikeda
池田 孜
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kobe Steel Ltd
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Kobe Steel Ltd filed Critical Kobe Steel Ltd
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Publication of JPS62165601A publication Critical patent/JPS62165601A/ja
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  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は高速レーザビームプリンター等に使用されるレ
ーザビーム用反射鏡に関し、特に赤外領域(波長0.8
μm程度)のレーザビームに対して優れた反射率を示し
、且つ基板に対する反射膜の密着性及び熱放散性が良好
でしかも安価に提供することのできるレーザビーム用反
射鏡に関するものである。
[従来の技術] 電子工業技術の発展はめざましいものがあり、それにつ
れて直進性及び集束性の優れたレーザビームの応用範囲
は急激に増大してきている0例えばコンピューターの超
高速演算に対応する高速印字能を備えたレーザビームプ
リンター、高速ファクシミリやインテリジェントコピー
、ワードプロセッサー等の高速、高解像、低騒音のレー
ザスキャニング用等としての用途等が代表的なものであ
る。この様なレーザビーム応用技術を実用化していくう
えで、レーザビーム反射鏡は極めて重要な部品の1つと
される。即ちレーザビーム反射鏡とは、レーザビーム発
生装置から発生されるレーザビームを目的とする方向に
指向させるうえで欠くことのできないものであり、該反
射鏡に求められる特許としては:■レーザビームの反射
ロスをできる限り少なくすべく0.8μm程度の赤外領
域で高い反射率を有すること、■反射鏡自体の昇熱を抑
制すべく放熱特性が優れたものであること、■超高速回
転を実現する為にはできるだけ軽量であり、且つ反射膜
と基板の密着性が良好であること、等が挙げられる。
こうした要求特性を一応溝足するものとじて既にいくつ
かの複合反射鏡が開発され、一部は実用化されている。
例えばG、Hass等(フィジックス オブ シン フ
ィルム第12巻第1号、1982)は、ガラス基板上に
ニクロム製又はクロム類の接合層を介して銀又は金より
なる反射膜を設けたレーザビーム用反射鏡を提唱し、ま
た同じ(G、HaSS等(アプライド オプティクス第
14巻第2号、1975)は、ガラス基板上に酸化アル
ミニウムよりなる接合層を介して銀製反射膜を設け、更
に該反射膜の表面を酸化アルミニウム製保護膜で被覆し
たレーザビーム用反射鏡を提案している。更に特開昭5
6−129645号公報には、ガラス基板上に、(SL
又は5in)製のアンダーコート層と(St又は5in
2+反射膜物質の単体)からなる中間混合層を介して金
(又は銅、インジウム)製の反射膜を接合した反射鏡が
開示されている。
[発明が解決しようとする問題点] ところが上記G、Hass等が開発した反射鏡は、反射
膜として金や銀の如き貴金属を使用している為材料コス
トが非常に高くつき、しかも基板としてガラスを用いて
いる為に重く、軽量化及び超高速回転の要請に十分答え
ることができない。また特開昭56−129645号に
開示された反射鏡にしても上記と同様の難点があり、し
かもこの反射鏡を得る為にはガラス基板と反射膜の間に
アンダーコート層と中間混合層からなる2層の接合層を
形成しなければならないので生産性が低い。しかもこの
接合層は耐吸湿性が乏しく長期使用に耐えないという問
題もある。但しこの発明で反射膜として使用することの
できる銅は、赤外領域で高レベルの反射率を示し且つ放
熱特性も良好であるところからミ反射膜素材として非常
に適したものといえる。
本発明はこうした状況のもとで、反射膜構成素材として
銅を8選択し、安価且つ軽量で超高速回転にも十分に耐
え得る接合力を有するレーザビーム用反射鏡を提供しよ
うとするものである。
[問題点を解決する為の手段] 本発明に係るレーザビーム用反射鏡の構成は、アルミニ
ウム合金製基板上に、酸化アルミニウムを主成分とする
接合層を介して銅製反射膜が形成され、該反射膜の表面
を保護膜で被覆してなるところに要旨を有するものであ
る。
[作用] 前述の如く銅はレーザビームに対して高レベルの反射率
を示し、しかも放熱特性も非常に優れたものであり、加
えて金や銀に比べて格安であるところから、反射膜素材
として非常に適したものといえる。ちなみに第1図は、
金、銀、銅及びアルミニウムについて入射光の波長(λ
:μm)と反射率の関係を示したものであり、約0.8
μmの赤外領域における銅の反射率は金や銀とほぼ同等
であり、アルミニウムの反射率は極端に低い。また銅の
熱伝導率は約400W/m−にであって銀の熱伝導率と
ほぼ同等であり、金(約300W/m−K)やアルミニ
ウム(約240W/m−K)に比べるとむしろ優れた放
熱特性を有していることが分かる。こうした物性からも
明らかな様に銅はコスト的にみてもまた性能的にみても
反射膜素材として非常に優れたものと思われる。しかも
上記公報記載の反射鏡は、前述の如く基板がガラスであ
る為軽量化の要求を満たすことができず、しかも接合層
が2層構造である為生産性が低いばかりでなく、接合層
の耐吸湿性にも問題がある。
そこで本発明者等は、銅を反射膜素材として設定し、軽
量で生産性や耐吸湿性においても優れた性能を有するレ
ーザビーム用反射鏡を開発すべく研究を進めた。
そしてまず基板としては、代表的な軽金属であるアルミ
ニウムを使用すれば軽量化が推進され超高速回転への適
性が高められるであろうと考えた。ところかアルミニウ
ムは機械的強度が乏しい為、基板としての適性を欠く。
そして軽量化の目的を達成しつつ強度面の要請をも満足
させる為には、アルミニウムーマグネシウムの如きアル
ミニウム合金を使用すべきであるとの結論に到達した。
但しアルミニウム合金製基板上に銅製の反射膜を直接被
覆若しくは積層圧着しても両者を強固に接合させること
ができず、使用時の超高速回転で反射膜が簡単に剥離し
てしまう為実用化できない。そこで両者の接合力を強化
すべく更に研究を重ねた結果、アルミニウム合金製基板
と銅製反射膜の間に接合層として酸化アルミニウムを介
在させてやれば両者が強固に接合され、本発明の目的に
かなう反射鏡が得られることを知った。
この様に酸化アルミニウムを介在させることによってア
ルミニウム合金基板と銅製反射膜の接合力が強化される
理由は次の様に考えられる。
■接合力の要因と考えられるファンデアヮールス力を比
較した場合、アルミニウムー銅間の力よりもアルミニウ
ムー酸化アルミニウム間及び酸化アルミニウムー銅間の
力の方が大きく、また酸化アルミニウム層を介在させる
ことによって凹凸面が形成され接合有効面積が拡大する
為、両者間の接合力が高まる。
■金属の表面に絶縁物が付着すると、金属の表面状態(
特に仕事関数)が変化し、このとき界面で電荷の移動が
あると電気2重層ができて結合力が増すと言われている
が、本発明でも電気絶縁性の酸化アルミニウムの介在に
よって接合界面に電気2重層ができ、接合力が高まった
ものと考えられる。Derjagain & Simi
lgaの計算によると、電気2重層によって生ずる接合
力は108〜109dyne/cm2程度と推定される
何れにしても本発明ではアルミニウム合金製基板の表面
に酸化アルミニウム製の接合層を介して銅製反射膜を接
合することによって、高い反射率を示し且つ軽量で高い
層間接合力を示す反射鏡を安価に製造することができる
。尚本発明の反射鏡を構成する各層及び膜の肉厚は用途
によっても若干違ってくるので一部に決めることはでき
ないが、一般的な基準として示すならば、銅製反射膜は
700〜100OA程度、酸化アルミニウム製接合層は
300〜500A程度でありアルミニウム合金製基板の
肉厚や形状等は用途に応じて任意に決めることができ、
得られる反射鏡のミラー面数は該基板の形状や構造によ
って決まってくる。
尚銅製反射膜が薄壜ぎる場合は、レーザビームの一部が
反射膜を通過し反射率が低下してくるので、該膜厚は少
なくとも700八以上とすることが望まれる。また酸化
アルミニウム製接合層は熱伝導率が低い為(約21W/
m−K)厚すぎると反射鏡としての放熱特性に悪影響が
現われてくるので、接合層としての機能を果たし得る範
囲でできるだけ薄くするのがよい。
更に本発明では、銅製反射膜の損傷或は酸化劣化を防止
する為表面をA1□03.SiO2゜TiO□等の保護
膜で被覆しておく必要があるが、該保護膜の厚さは、光
学的厚さnd(n:屈折率、d:膜厚)が入射ビームと
反射ビームの間で実質的な位相差を生ずることのない様
1/4λ(λ:波長)となる様に設定すべきである。
尚本発明で基板として使用するアルミニウム合金として
は、優れた機械的強度を有しているアルミニウムーマグ
ネシウム合金が最適である。
また上記の様な積層構造の反射鏡を製造する方法も特に
限定されないが、最も一般的な方法は第2図に示す様な
電子ビーム蒸着装置を用いる方法である。即ち第2図に
示す如く真空容器1内の上方部に被処理面を下向ぎにし
てA1合金基基板を固定し、そ9下部の移動式銅ハース
2内へAl2O,、銅、SiO,などを装入する。そし
て容器1内を高真空状態とし、A1合金基基板を適当な
温度(例えば200℃程度)に加熱しつつ、銅ハース2
内のA1.O,を電子ビーム加熱によって加熱蒸発せし
め、A1合金基基板の下面にAl2O,よりなる接合層
Bを蒸着させる。
Al2O3の蒸着を終えた後は、引き続きハースを移動
させて同様の処理を行ない、接合層B上に銅製反射膜C
を形成する。次いでAl203(又はSiO2,TiO
2等)について同様の処理を行なって銅製反射膜の表面
に保護膜りを形成すればよい。
[実施例コ 第2図に示した方法に準じて第3図に略示する断面構造
のレーザビーム反射鏡を作製した。
即ち真空容器1内の上方部にAt−Mg合金製の基板A
を略水平に固定し、銅ハース上にAt203とCuを装
入する。そして真空容器I内が10−’Torrとなる
まで真空引きした後基板を200℃に加熱し、まず銅ハ
ース2内のAlzOaを電子ビームにより加熱して、基
板上に300Aの厚さとなるまでAl2O3を蒸着させ
て接合層Bを形成する。この間の蒸着速度は20A/5
IICであった。
次いで真空容器内の真空度を10−’Torr以上に高
めた状態でCuを電子ビーム加熱し、100A/sec
の蒸着速度でAI、O,蒸着膜上に1000〜20GO
AのCuを蒸着させ反射膜Cを形成した。
その後最初のAl2O,蒸着と同一の条件でCu蒸着膜
上に1oooAのAl2O,蒸着膜りを形成し、レーザ
ビーム用反射鏡を得た。
得られた反射鏡の眉間密着性をテープ剥離試験により調
べたところ、十分な密着性を有していることが確認され
た。また該反射鏡のレーザビーム反射率は波長800n
mにおいて計算値で97%、実測値で90%と非常に優
れたものであった。
[発明の効果] 本発明は以上の様に構成されており、レーザビームに対
して高い反射率を有するばかりでなく放熱特性の優れた
銅を反射膜素材として用い、また基板としては軽量で且
つ十分な強度をもったアルミニウム合金を使用し、これ
らをA1.O,よりなる接合層によって強固に接合させ
ることにより、安価且つ軽量で優れた性能を有するレー
ザビーム用反射鏡を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
第1図は各種金属を反射膜として用いた場合におけるレ
ーザビームの波長と反射率の関係を示すグラフ、第2図
は本発明に係る反射鏡の製造手順を示す略図:第3図は
本発明に係る反射鏡の断面模式図である。 1・・・真空容器     2・・・銅ハースA・・・
アルミニウム合金基板 B−At、O,製接合層

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. アルミニウム合金製基板上に、酸化アルミニウムを主成
    分とする接合層を介して銅製反射膜が形成され、該反射
    膜の表面を保護膜で被覆してなることを特徴とするレー
    ザビーム用反射鏡。
JP845186A 1986-01-17 1986-01-17 レ−ザビ−ム用反射鏡 Pending JPS62165601A (ja)

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JP845186A JPS62165601A (ja) 1986-01-17 1986-01-17 レ−ザビ−ム用反射鏡

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JP845186A JPS62165601A (ja) 1986-01-17 1986-01-17 レ−ザビ−ム用反射鏡

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JPS62165601A true JPS62165601A (ja) 1987-07-22

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ID=11693489

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63297548A (ja) * 1987-05-28 1988-12-05 Toshinori Takagi 光学保護膜とその製造方法
JPH02109003A (ja) * 1988-10-18 1990-04-20 Konica Corp 反射鏡
JP2009128200A (ja) * 2007-11-26 2009-06-11 Mitsubishi Electric Corp パワープローブ
US7593152B2 (en) 2006-01-05 2009-09-22 Seiko Epson Corporation Optical device

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