JPS6126768A - 光学装置の反射鏡 - Google Patents
光学装置の反射鏡Info
- Publication number
- JPS6126768A JPS6126768A JP14563084A JP14563084A JPS6126768A JP S6126768 A JPS6126768 A JP S6126768A JP 14563084 A JP14563084 A JP 14563084A JP 14563084 A JP14563084 A JP 14563084A JP S6126768 A JPS6126768 A JP S6126768A
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- Japan
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- film
- under vacuum
- reflection mirror
- deposited under
- vapor deposited
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/09—Multifaceted or polygonal mirrors, e.g. polygonal scanning mirrors; Fresnel mirrors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/024—Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating
- C23C14/025—Metallic sublayers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
この発明は、光学装置の反射鏡、特にレーザプリッタ等
に用いられろポリゴンミラーの製造技術に関する。
に用いられろポリゴンミラーの製造技術に関する。
（従来技術）
レーザプリ／り等に使用されるポリゴンミラーは、ｊ・
４図に示すような形状の回転多面鏡で、その鏡面ＳＩＪ
′−精度良く仕上げられていることが必要であるととも
に、萬速で回転するため高度の耐久性が要求される。従
来のポリゴンミラーは、牙５図または、Ｎ７６図に示す
ような製造工程を経て作製されていた。、第５図に示す
方法は、鏡面Ｓとなる面がラッピングで仕上げられた後
、反射膜および保護膜が蒸着され、矛６図に示す方法は
、超精密切削により仕上げられた後、保護膜を蒸着され
て、それぞれ鏡面Ｓが形成される。
４図に示すような形状の回転多面鏡で、その鏡面ＳＩＪ
′−精度良く仕上げられていることが必要であるととも
に、萬速で回転するため高度の耐久性が要求される。従
来のポリゴンミラーは、牙５図または、Ｎ７６図に示す
ような製造工程を経て作製されていた。、第５図に示す
方法は、鏡面Ｓとなる面がラッピングで仕上げられた後
、反射膜および保護膜が蒸着され、矛６図に示す方法は
、超精密切削により仕上げられた後、保護膜を蒸着され
て、それぞれ鏡面Ｓが形成される。
ところで、従来のレーザプリンタ、レーザディスク等に
使用されるレーザは、波長が６５２．８ ｍμのＨｅ−
Ｎｅレーザが主流であったが、コンパクト化および低コ
スト化等の要請から最近では、波長が７９０ｍμ 付近
の半導体レーザが使用されるようになってきた。Ｈｅ
−Ｎｅレーザであれば、従来のようにアルミニウム反射
面と酸化硅素保護膜としてより十分な反射率および耐久
性が得られるが、波長が７９０ｍμ 付近の半導体レー
ザを使用する場合は、第６図に示す↓うに、Ａｅ 反
射面では反射率不足を否めない。そこでこの波長領域で
はＡｄよりも反射率の建い銅（Ｃｕ ） を使用して
反射面を形成することが考えられるが、ポリゴンミラー
の素材として一般に使用されるＡｅとＣｕとは密着性が
悪いので、何らかのアンダーコーティング層が必要とな
る。反射鏡のアンダーコーティング層としては、一般に
はＳｉＯ膜が使用されているが、このＳｉＯ膜はＡ／
素材およびＣｕ 反射膜に対する密着性が悪いので
不適当である。
使用されるレーザは、波長が６５２．８ ｍμのＨｅ−
Ｎｅレーザが主流であったが、コンパクト化および低コ
スト化等の要請から最近では、波長が７９０ｍμ 付近
の半導体レーザが使用されるようになってきた。Ｈｅ
−Ｎｅレーザであれば、従来のようにアルミニウム反射
面と酸化硅素保護膜としてより十分な反射率および耐久
性が得られるが、波長が７９０ｍμ 付近の半導体レー
ザを使用する場合は、第６図に示す↓うに、Ａｅ 反
射面では反射率不足を否めない。そこでこの波長領域で
はＡｄよりも反射率の建い銅（Ｃｕ ） を使用して
反射面を形成することが考えられるが、ポリゴンミラー
の素材として一般に使用されるＡｅとＣｕとは密着性が
悪いので、何らかのアンダーコーティング層が必要とな
る。反射鏡のアンダーコーティング層としては、一般に
はＳｉＯ膜が使用されているが、このＳｉＯ膜はＡ／
素材およびＣｕ 反射膜に対する密着性が悪いので
不適当である。
（発明の目的）
この発明の目的は、したがってＡｄ 素材上にＣｕ反
射膜を形成する反射鏡において、Ａｄ 素材とＣｕ反
射膜との間の密着性を高めた改良された反射鏡を提供す
ることにある。
射膜を形成する反射鏡において、Ａｄ 素材とＣｕ反
射膜との間の密着性を高めた改良された反射鏡を提供す
ることにある。
（発明の構成）
この発明による反射鏡は、矛１図に示すようにＡｅ
素材（アルミニウム合金を含む）１１上に下層から下地
膜としてのニッケルクロム合金膜１２、反射膜としての
銅膜１６、保頗膜としての酸化硅素膜１４ を順に形
成して構成される。
素材（アルミニウム合金を含む）１１上に下層から下地
膜としてのニッケルクロム合金膜１２、反射膜としての
銅膜１６、保頗膜としての酸化硅素膜１４ を順に形
成して構成される。
以下、この発明による反射鏡の製造方法の一例な、ポリ
ゴンミラーを例にとって説明する。まずアルミニウム素
材１１の外周を切削して矛４図に示すような形状の多面
体を形成し、その鏡面Ｓとなる面なダイヤモンド工具で
平滑に仕上げる。この多面体なきれいに洗浄した後、真
空蒸着装置内に取り付け、まずペルジャー内な真空度的
５×＝５ １０ Ｔｏｒｒまで排気した後、アルゴンガスを導入
して約Ｉ Ｘ １０ Ｔｏｒｒで５分間イオンボ／バ
ードを捲し、次に５ Ｘ １０ Ｔｏｒｒ以下まで排
気して、タングステンボートに入れたニッケルクロム合
金を速度１０〜１５ Ａ ／ ｓｅｃで膜厚１５０〜２
５０ Ａ Ｋ蒸着する。次いで、真空度２ ｘ １０
Ｔｏｒｒ以下でセラミックボートに入れた銅を速度２
５〜４０Ａ／ｓｅｃで膜厚５００〜７５０ＡＫ蒸着する
。最後に、真空度９ Ｘ １０ Ｔｏｒｒ以下でタン
タルるつぼに入れた酸化硅素を速度２〜３Ａ／ｓｅｃで
膜厚２６００〜２６００１ Ａ に蒸着する。酸化硅
素膜の厚さは、矛２図に示すように、その屈折率なｎ、
幾何学的膜１厚ｌｄ、基準波長をλ０ とすると、その
光学的膜厚ｎｄ は、ｎｄ ＝λ０／４になるが、λ
ｏ ／ ２ のときに最も反射率が高くなるので、そ
のように定める。
ゴンミラーを例にとって説明する。まずアルミニウム素
材１１の外周を切削して矛４図に示すような形状の多面
体を形成し、その鏡面Ｓとなる面なダイヤモンド工具で
平滑に仕上げる。この多面体なきれいに洗浄した後、真
空蒸着装置内に取り付け、まずペルジャー内な真空度的
５×＝５ １０ Ｔｏｒｒまで排気した後、アルゴンガスを導入
して約Ｉ Ｘ １０ Ｔｏｒｒで５分間イオンボ／バ
ードを捲し、次に５ Ｘ １０ Ｔｏｒｒ以下まで排
気して、タングステンボートに入れたニッケルクロム合
金を速度１０〜１５ Ａ ／ ｓｅｃで膜厚１５０〜２
５０ Ａ Ｋ蒸着する。次いで、真空度２ ｘ １０
Ｔｏｒｒ以下でセラミックボートに入れた銅を速度２
５〜４０Ａ／ｓｅｃで膜厚５００〜７５０ＡＫ蒸着する
。最後に、真空度９ Ｘ １０ Ｔｏｒｒ以下でタン
タルるつぼに入れた酸化硅素を速度２〜３Ａ／ｓｅｃで
膜厚２６００〜２６００１ Ａ に蒸着する。酸化硅
素膜の厚さは、矛２図に示すように、その屈折率なｎ、
幾何学的膜１厚ｌｄ、基準波長をλ０ とすると、その
光学的膜厚ｎｄ は、ｎｄ ＝λ０／４になるが、λ
ｏ ／ ２ のときに最も反射率が高くなるので、そ
のように定める。
このようにして作製されたポリゴンミラーは、波長７９
０ ｍμ の赤外域で反射率９５％以上を有し、またモ
ータに取り付けて６００Ｏｒｐｍ で回転させても、
その鏡面には何らの異常も認められなかっ・た、この発
明において、銅膜１６０代りにアルミニウム膜な形成す
れば、従来と同様な反射鏡を作製することができる。ま
た真空蒸着法の代りにスパッタリング法やイオンプレー
ティング法シ膜形成のために使用することができる。さ
らにポリゴンミラーだけでなく、他のレーザ応用機器、
計測機器、医療用機器、複写様等の光学装置の反射鏡に
も応用することができる。
０ ｍμ の赤外域で反射率９５％以上を有し、またモ
ータに取り付けて６００Ｏｒｐｍ で回転させても、
その鏡面には何らの異常も認められなかっ・た、この発
明において、銅膜１６０代りにアルミニウム膜な形成す
れば、従来と同様な反射鏡を作製することができる。ま
た真空蒸着法の代りにスパッタリング法やイオンプレー
ティング法シ膜形成のために使用することができる。さ
らにポリゴンミラーだけでなく、他のレーザ応用機器、
計測機器、医療用機器、複写様等の光学装置の反射鏡に
も応用することができる。
（発明の効果）
以上のように、この発明による反射鏡は、アルミニウム
素材上に下から下地膜としてのニッケルクロム合金膜、
反射膜としての銅膜、保護膜とし′Ｃの酸化硅素膜とを
順に形成しであるので、長波長域での反射率が高く、し
かも下地膜としてニッケルクロム合金膜を使用している
ので、アルミニウム素材と銅膜に対する密着性が良く、
耐久性の高い反射鏡な得ることができる。
素材上に下から下地膜としてのニッケルクロム合金膜、
反射膜としての銅膜、保護膜とし′Ｃの酸化硅素膜とを
順に形成しであるので、長波長域での反射率が高く、し
かも下地膜としてニッケルクロム合金膜を使用している
ので、アルミニウム素材と銅膜に対する密着性が良く、
耐久性の高い反射鏡な得ることができる。
牙１図は、この発明による反射鏡の部分断面図、牙２図
は、この発明における酸化硅素膜の光学的膜厚と反射率
との関係を示す図、矛６図は、アルミニウム膜と銅膜と
における波長と反射率と′の関係を示す図、矛４図は、
ポリゴンミラーの斜視図、矛５図お↓び矛６図は、従来
のポリゴンミラーの製造工程を示す図である。 １１・・・アルミニウム累Ｉｔ、１２・・・ニッケルク
ロ、ム・自・金膜、１６・・・銅膜、１４・・・酸化硅
素膜、Ｓ・・・鏡面気 １ 図 備 ？ 図 悌う図 ：Ｌｈ （ａｆｉ ） 第４図 第Ｇ図
は、この発明における酸化硅素膜の光学的膜厚と反射率
との関係を示す図、矛６図は、アルミニウム膜と銅膜と
における波長と反射率と′の関係を示す図、矛４図は、
ポリゴンミラーの斜視図、矛５図お↓び矛６図は、従来
のポリゴンミラーの製造工程を示す図である。 １１・・・アルミニウム累Ｉｔ、１２・・・ニッケルク
ロ、ム・自・金膜、１６・・・銅膜、１４・・・酸化硅
素膜、Ｓ・・・鏡面気 １ 図 備 ？ 図 悌う図 ：Ｌｈ （ａｆｉ ） 第４図 第Ｇ図
Claims (1)
- アルミニウム素材に平滑面を形成し、前記平滑面に下層
からニッケルクロム合金膜、銅膜および酸化硅素膜を順
に形成した光学装置の反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14563084A JPS6126768A (ja) | 1984-07-13 | 1984-07-13 | 光学装置の反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14563084A JPS6126768A (ja) | 1984-07-13 | 1984-07-13 | 光学装置の反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6126768A true JPS6126768A (ja) | 1986-02-06 |
Family
ID=15389445
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14563084A Pending JPS6126768A (ja) | 1984-07-13 | 1984-07-13 | 光学装置の反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6126768A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62238504A (ja) * | 1986-04-10 | 1987-10-19 | Nachi Fujikoshi Corp | レ−ザ−反射ミラ− |
| JPS63297548A (ja) * | 1987-05-28 | 1988-12-05 | Toshinori Takagi | 光学保護膜とその製造方法 |
| US5582863A (en) * | 1991-01-11 | 1996-12-10 | Alusuisse-Lonza Services Ltd. | Process for forming a reflective surface |
| WO1999064900A1 (en) * | 1998-06-09 | 1999-12-16 | The Regents Of The University Of California | Durable silver coating for mirrors |
| WO2018110176A1 (ja) * | 2016-12-14 | 2018-06-21 | 三菱電機株式会社 | 赤外レーザ用反射部材、レーザ発振器、レーザ加工装置および赤外レーザ用反射部材の製造方法 |
-
1984
- 1984-07-13 JP JP14563084A patent/JPS6126768A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62238504A (ja) * | 1986-04-10 | 1987-10-19 | Nachi Fujikoshi Corp | レ−ザ−反射ミラ− |
| JPS63297548A (ja) * | 1987-05-28 | 1988-12-05 | Toshinori Takagi | 光学保護膜とその製造方法 |
| US5582863A (en) * | 1991-01-11 | 1996-12-10 | Alusuisse-Lonza Services Ltd. | Process for forming a reflective surface |
| WO1999064900A1 (en) * | 1998-06-09 | 1999-12-16 | The Regents Of The University Of California | Durable silver coating for mirrors |
| WO2018110176A1 (ja) * | 2016-12-14 | 2018-06-21 | 三菱電機株式会社 | 赤外レーザ用反射部材、レーザ発振器、レーザ加工装置および赤外レーザ用反射部材の製造方法 |
| JPWO2018110176A1 (ja) * | 2016-12-14 | 2019-04-18 | 三菱電機株式会社 | レーザ発振器およびレーザ加工装置 |
| KR20190075117A (ko) * | 2016-12-14 | 2019-06-28 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 레이저 발진기 및 레이저 가공 장치 |
| CN110036316A (zh) * | 2016-12-14 | 2019-07-19 | 三菱电机株式会社 | 红外激光用反射部件、激光振荡器、激光加工装置及红外激光用反射部件的制造方法 |
| TWI673929B (zh) * | 2016-12-14 | 2019-10-01 | 日商三菱電機股份有限公司 | 雷射震盪器及雷射加工裝置 |
| CN110036316B (zh) * | 2016-12-14 | 2021-06-01 | 三菱电机株式会社 | 激光振荡器及激光加工装置 |
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