JPH07111484B2 - プラスチック製光学部品の反射防止膜とその形成方法 - Google Patents
プラスチック製光学部品の反射防止膜とその形成方法Info
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- JPH07111484B2 JPH07111484B2 JP2155959A JP15595990A JPH07111484B2 JP H07111484 B2 JPH07111484 B2 JP H07111484B2 JP 2155959 A JP2155959 A JP 2155959A JP 15595990 A JP15595990 A JP 15595990A JP H07111484 B2 JPH07111484 B2 JP H07111484B2
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、プロジェクションテレビ，ビデオカメラ，ス
チルカメラ等の光学系に使用されるプラスチック製光学
部品の反射防止膜とその形成方法に関するものである。
チルカメラ等の光学系に使用されるプラスチック製光学
部品の反射防止膜とその形成方法に関するものである。
従来の技術 従来、レンズなどの光学部品には無機ガラスが多く使用
されてきた。近年、軽量で加工が容易であり、かつ量産
に適しているなどで優れているプラスチックが光学部品
の素材として用いられるようになってきた。しかしなが
ら、プラスチック製光学部品も、無機ガラスと同様に表
面での光の反射が大きいという欠点がある。この欠点を
解消するために、プラスチック製光学部品の表面に無機
ガラスと同様の反射防止膜を形成する。反射防止膜は通
常、真空蒸着法によって形成される。
されてきた。近年、軽量で加工が容易であり、かつ量産
に適しているなどで優れているプラスチックが光学部品
の素材として用いられるようになってきた。しかしなが
ら、プラスチック製光学部品も、無機ガラスと同様に表
面での光の反射が大きいという欠点がある。この欠点を
解消するために、プラスチック製光学部品の表面に無機
ガラスと同様の反射防止膜を形成する。反射防止膜は通
常、真空蒸着法によって形成される。
以下図面を参照しながら従来のプラスチック製光学部品
の反射防止膜とその形成方法について説明する。単層反
射防止膜としてはフッ化マグネシウム（MgF2）からなる
ものが一般的であり、その構造を第５図に示し、プラス
チック製光学部品として屈折率1.49のアクリル樹脂（ポ
リメチルメタクリレート）製プラスチックレンズの表面
に形成したときの分光反射特性を第６図（ａ）に示す。
比較のための第６図（ｂ）は反射防止膜を形成していな
い場合のプラスチックレンズの分光反射特性を示す図で
ある。第５図において、１はプラスチックレンズ、５は
フッ化マグネシウムよりなる反射防止膜である。前記反
射防止膜５は、通常真空蒸着法によって形成される。こ
の反射防止膜は１種類の蒸着物質を使用したものである
が、他に１種類の蒸着物質を用いたものでは一酸化ケイ
素（SiO）のみを用いた反射防止膜も知られている（USP
4497539号公報）。２種類の蒸着物質を用いたもので
は、二酸化ケイ素（SiO2）とフッ化マグネシウムを用い
て３層構造にしたもの（特開昭60−129701号公報）や酸
化セリウム（CeO2）と酸化ケイ素（SiOX）の２層構造の
反射防止膜（特開昭63−172201号公報）などがある。さ
らに、３種類以上の蒸着物質を用いたものとしては、二
酸化ケイ素（SiO2）と酸化アルミニウム（Al2O3）と酸
化セリウムの３層構造の反射防止膜（特開昭63−81402
号公報）などがある。
の反射防止膜とその形成方法について説明する。単層反
射防止膜としてはフッ化マグネシウム（MgF2）からなる
ものが一般的であり、その構造を第５図に示し、プラス
チック製光学部品として屈折率1.49のアクリル樹脂（ポ
リメチルメタクリレート）製プラスチックレンズの表面
に形成したときの分光反射特性を第６図（ａ）に示す。
比較のための第６図（ｂ）は反射防止膜を形成していな
い場合のプラスチックレンズの分光反射特性を示す図で
ある。第５図において、１はプラスチックレンズ、５は
フッ化マグネシウムよりなる反射防止膜である。前記反
射防止膜５は、通常真空蒸着法によって形成される。こ
の反射防止膜は１種類の蒸着物質を使用したものである
が、他に１種類の蒸着物質を用いたものでは一酸化ケイ
素（SiO）のみを用いた反射防止膜も知られている（USP
4497539号公報）。２種類の蒸着物質を用いたもので
は、二酸化ケイ素（SiO2）とフッ化マグネシウムを用い
て３層構造にしたもの（特開昭60−129701号公報）や酸
化セリウム（CeO2）と酸化ケイ素（SiOX）の２層構造の
反射防止膜（特開昭63−172201号公報）などがある。さ
らに、３種類以上の蒸着物質を用いたものとしては、二
酸化ケイ素（SiO2）と酸化アルミニウム（Al2O3）と酸
化セリウムの３層構造の反射防止膜（特開昭63−81402
号公報）などがある。
発明が解決しようとする課題 従来のフッ化マグネシウムからなる反射防止膜を形成す
る例では、プラスチックの流動温度，熱変形温度が低い
ため、無機ガラスに反射防止膜を形成する時のような基
板加熱（通常300℃〜400℃）を行って強固な反射防止膜
が形成できない。従って、50〜60℃以下の低温でプラス
チック製光学部品の表面に反射防止膜の形成を行なう。
しかし、このように低温で形成された反射防止膜はフッ
化マグネシウムの結晶性が低く、非常に柔らかい膜であ
るために傷つきやすく、耐久性も低いものである。その
ため最近では反射防止膜とプラスチック製光学部品表面
との密着性や耐久性を向上させるために、プラスチック
製光学部品を60〜80℃に加熱して真空蒸着する方法や、
RFイオンプレーティング方法を用いて反射防止膜を形成
する方法が行われている。ところがこのような方法は蒸
着条件の制御が微妙であり、形成時に反射防止膜にクラ
ックができやすい。反射防止膜にクラックができないよ
う形成条件を一定に、かつプラスチック表面の状態を一
定に保つことは困難であり量産にも適するものではな
い。さらに、光学部品の素材としてよく使われるポリメ
チルメタクリレート（PMMA），ジアリルグリコールカー
ボネート（CR39）のようなプラスチックでは屈折率がそ
れぞれ約1.49,1.50と低くフッ化マグネシウム（屈折率
約1.38）の単層膜では第６図からもわかるように残留反
射率が約1.5％あり反射防止膜として十分な特性ではな
い。
る例では、プラスチックの流動温度，熱変形温度が低い
ため、無機ガラスに反射防止膜を形成する時のような基
板加熱（通常300℃〜400℃）を行って強固な反射防止膜
が形成できない。従って、50〜60℃以下の低温でプラス
チック製光学部品の表面に反射防止膜の形成を行なう。
しかし、このように低温で形成された反射防止膜はフッ
化マグネシウムの結晶性が低く、非常に柔らかい膜であ
るために傷つきやすく、耐久性も低いものである。その
ため最近では反射防止膜とプラスチック製光学部品表面
との密着性や耐久性を向上させるために、プラスチック
製光学部品を60〜80℃に加熱して真空蒸着する方法や、
RFイオンプレーティング方法を用いて反射防止膜を形成
する方法が行われている。ところがこのような方法は蒸
着条件の制御が微妙であり、形成時に反射防止膜にクラ
ックができやすい。反射防止膜にクラックができないよ
う形成条件を一定に、かつプラスチック表面の状態を一
定に保つことは困難であり量産にも適するものではな
い。さらに、光学部品の素材としてよく使われるポリメ
チルメタクリレート（PMMA），ジアリルグリコールカー
ボネート（CR39）のようなプラスチックでは屈折率がそ
れぞれ約1.49,1.50と低くフッ化マグネシウム（屈折率
約1.38）の単層膜では第６図からもわかるように残留反
射率が約1.5％あり反射防止膜として十分な特性ではな
い。
従来提案されている、一酸化ケイ素のみを用いた３層反
射防止膜（USP4497539号）に関しては、蒸着物質のSiO
は蒸着条件によって屈折率が大きく変化することが知ら
れており、その範囲は約1.50〜1.90である。しかしなが
ら、SiOの屈折率は経時的に変化しやすく、従って反射
防止膜としての光学特性も不安定であるという問題があ
る。
射防止膜（USP4497539号）に関しては、蒸着物質のSiO
は蒸着条件によって屈折率が大きく変化することが知ら
れており、その範囲は約1.50〜1.90である。しかしなが
ら、SiOの屈折率は経時的に変化しやすく、従って反射
防止膜としての光学特性も不安定であるという問題があ
る。
フッ化マグネシウムと二酸化ケイ素の３層反射防止膜
（特開昭60−129701号公報）は、フッ化マグネシウムの
層を二酸化ケイ素の層が挟んでいるためにクラックも生
じなく耐久性も比較的良い。しかし、残留反射率が単層
膜と同程度あり十分な特性ではない。
（特開昭60−129701号公報）は、フッ化マグネシウムの
層を二酸化ケイ素の層が挟んでいるためにクラックも生
じなく耐久性も比較的良い。しかし、残留反射率が単層
膜と同程度あり十分な特性ではない。
酸化セリウムと酸化ケイ素の２層反射防止膜（特開昭63
−172201号公報）は薄膜物質のSiOXの屈折率が経時的に
変化しやすいので光学特性の安定性に問題がある。
−172201号公報）は薄膜物質のSiOXの屈折率が経時的に
変化しやすいので光学特性の安定性に問題がある。
また３種類以上の蒸着物質を使用した反射防止膜（特開
昭63−81402号公報）は材料管理の必要上それだけ製造
コストの上昇を招く。以上のように従来のプラスチック
製光学部品の反射防止膜には、プラスチック表面との密
着性が悪い、耐久性に劣る、反射防止膜としての光学特
性が十分でない、光学特性の安定性に欠ける、あるいは
量産に適していないという課題を有していた。
昭63−81402号公報）は材料管理の必要上それだけ製造
コストの上昇を招く。以上のように従来のプラスチック
製光学部品の反射防止膜には、プラスチック表面との密
着性が悪い、耐久性に劣る、反射防止膜としての光学特
性が十分でない、光学特性の安定性に欠ける、あるいは
量産に適していないという課題を有していた。
本発明は上記課題に鑑み、プラスチック製光学部品に対
しての密着性，耐久性，光学特性および量産性に優れた
反射防止膜を提供するものである。
しての密着性，耐久性，光学特性および量産性に優れた
反射防止膜を提供するものである。
課題を解決するための手段 本発明は前記課題を解決するために、プラスチック製光
学部品の表面に表面側から順に第１層、第２層の２層構
造の蒸着膜を形成して反射防止膜を構成する構造であっ
て、第１層は酸化セリウム（CeO2）、五酸化タンタル
（Ta2O5）、酸化ハフニウム（HfO2）のいずれかの薄膜
材料からなり、さらに第１層は低屈折率層と高屈折率層
からなり、第２層は二酸化ケイ素からなる。また、第１
層目の薄膜層を形成する際、酸素ガスを導入して低屈折
率層を形成し、酸素ガスを停止して高屈折率層を形成す
る。
学部品の表面に表面側から順に第１層、第２層の２層構
造の蒸着膜を形成して反射防止膜を構成する構造であっ
て、第１層は酸化セリウム（CeO2）、五酸化タンタル
（Ta2O5）、酸化ハフニウム（HfO2）のいずれかの薄膜
材料からなり、さらに第１層は低屈折率層と高屈折率層
からなり、第２層は二酸化ケイ素からなる。また、第１
層目の薄膜層を形成する際、酸素ガスを導入して低屈折
率層を形成し、酸素ガスを停止して高屈折率層を形成す
る。
作用 以下、本発明のプラスチック製光学部品の反射防止膜の
作用について説明する。
作用について説明する。
（１） 第１層目の薄膜層を形成するとき酸素ガスを導
入して形成するので、プラスチック表面と密着性の良い
薄膜層が得られる。
入して形成するので、プラスチック表面と密着性の良い
薄膜層が得られる。
（２） 第１層は酸化セリウム（CeO2）、五酸化タンタ
ル（Ta2O5）、酸化ハフニウム（HfO2）のいずれかの薄
膜材料からなる層である第１層形成時に酸素ガスの導入
を制御して低屈折率層と高屈折率層を形成する。そのた
めに、第２層目の膜の屈折率とマッチングさせることに
より２層反射防止膜として良好な特性を持ったものが得
られる。１層目に低屈折率層と同じ薄膜材料からなる高
屈折率層を設け、すなわち充填率を１層目の低屈折率層
に比較して高くし、膜の耐久性の向上を図っている。ま
た、２層目に二酸化ケイ素を使用し、反射防止膜全体の
耐久性向上を図っている。
ル（Ta2O5）、酸化ハフニウム（HfO2）のいずれかの薄
膜材料からなる層である第１層形成時に酸素ガスの導入
を制御して低屈折率層と高屈折率層を形成する。そのた
めに、第２層目の膜の屈折率とマッチングさせることに
より２層反射防止膜として良好な特性を持ったものが得
られる。１層目に低屈折率層と同じ薄膜材料からなる高
屈折率層を設け、すなわち充填率を１層目の低屈折率層
に比較して高くし、膜の耐久性の向上を図っている。ま
た、２層目に二酸化ケイ素を使用し、反射防止膜全体の
耐久性向上を図っている。
密着性，耐久性についてはつぎの項目の試験を行った。
剥離試験：温度40℃，相対湿度85％の高温・高湿度
雰囲気中に1000時間放置した後、粘着テープをプラスチ
ック製光学部品の表面に密着し、引き剥がす。
雰囲気中に1000時間放置した後、粘着テープをプラスチ
ック製光学部品の表面に密着し、引き剥がす。
耐湿試験：温度40℃，相対湿度95％の高温・高湿雰
囲気中に1000時間放置する。
囲気中に1000時間放置する。
熱衝撃試験：温度−30℃,70℃の低温・高湿雰囲気
中に交互に30分間ずつ放置を約100時間くり返す。
中に交互に30分間ずつ放置を約100時間くり返す。
上記試験を行っても全く問題のない反射防止膜が得られ
た。
た。
（３） ２種類の蒸着材料で反射防止膜を形成している
ので材料管理も容易であり量産にも適している。
ので材料管理も容易であり量産にも適している。
実施例 以下本発明の一実施例のプラスチック製光学部品の反射
防止膜とその形成方法について、図面を参照しながら説
明する。第１図は本発明の反射防止膜の構成断面図であ
る。
防止膜とその形成方法について、図面を参照しながら説
明する。第１図は本発明の反射防止膜の構成断面図であ
る。
実施例１ 実施例１の反射防止膜の構成は第１図において１はプラ
スチックレンズ、2,3は酸化セリウムから成る第１層の
低屈折率層と高屈折率層、４は二酸化ケイ素から成る第
２層であり、具体的内容は第１表に示す通りである。第
２図はその分光反射特性を示す。本実施例ではプラスチ
ックレンズはポリメチルメタクリレート（PMMA）であ
る。
スチックレンズ、2,3は酸化セリウムから成る第１層の
低屈折率層と高屈折率層、４は二酸化ケイ素から成る第
２層であり、具体的内容は第１表に示す通りである。第
２図はその分光反射特性を示す。本実施例ではプラスチ
ックレンズはポリメチルメタクリレート（PMMA）であ
る。
各層の形成方法は以下の通りである。第１層の低屈折率
層は真空槽内を1.0×10-5Torrまで排気したのち、酸素
ガスを3.0×10-5Torrないし5.0×10-5Torrまで導入し酸
化セリウムを電子ビーム蒸着法によって光学的膜厚λ/4
（λ＝500nm）の厚さに蒸着速度５〜８Å/secで形成し
た。このときの酸化セリウムの屈折率は1.80であった。
次に酸素ガスの導入を停止し真空度1.5×10-5Torr以下
で酸化セリウムを電子ビーム蒸着法によって光学的膜厚
λ/4（λ＝500nm）の厚さに蒸着速度10〜15Å/secで形
成した。このときの酸化セリウムの屈折率は2.10であっ
た。続けて、二酸化ケイ素を同様に電子ビーム蒸着法に
よって光学的膜厚λ/4（λ＝500nm）の厚さに蒸着速度
７〜15Å/secで形成した。このときの二酸化ケイ素の屈
折率は1.46であった。反射防止膜の密着性，耐久性を確
認するために行った前記の密着性・耐久性試験結果は第
２表に示す通りである。
層は真空槽内を1.0×10-5Torrまで排気したのち、酸素
ガスを3.0×10-5Torrないし5.0×10-5Torrまで導入し酸
化セリウムを電子ビーム蒸着法によって光学的膜厚λ/4
（λ＝500nm）の厚さに蒸着速度５〜８Å/secで形成し
た。このときの酸化セリウムの屈折率は1.80であった。
次に酸素ガスの導入を停止し真空度1.5×10-5Torr以下
で酸化セリウムを電子ビーム蒸着法によって光学的膜厚
λ/4（λ＝500nm）の厚さに蒸着速度10〜15Å/secで形
成した。このときの酸化セリウムの屈折率は2.10であっ
た。続けて、二酸化ケイ素を同様に電子ビーム蒸着法に
よって光学的膜厚λ/4（λ＝500nm）の厚さに蒸着速度
７〜15Å/secで形成した。このときの二酸化ケイ素の屈
折率は1.46であった。反射防止膜の密着性，耐久性を確
認するために行った前記の密着性・耐久性試験結果は第
２表に示す通りである。
第２表からわかるように本発明の反射防止膜は、密着
性，耐久性に優れている。さらに、従来は反射防止膜形
成時にクラックの発生がみられるものもあったが、本発
明の実施例においては反射防止膜は常時安定していた。
分光反射特性に関しても第２図からわかるように中心波
長（λ＝500nm）で反射率は0.1％以下であり、およそ43
0〜600nmの帯域において反射率0.5％以下の特性が得ら
れた。
性，耐久性に優れている。さらに、従来は反射防止膜形
成時にクラックの発生がみられるものもあったが、本発
明の実施例においては反射防止膜は常時安定していた。
分光反射特性に関しても第２図からわかるように中心波
長（λ＝500nm）で反射率は0.1％以下であり、およそ43
0〜600nmの帯域において反射率0.5％以下の特性が得ら
れた。
実施例２ 実施例２の反射防止膜の構成は第１図において１はプラ
スチックレンズ、2,3は五酸化タンタルから成る第１層
の低屈折率層と高屈折率層、４は二酸化ケイ素から成る
第２層であり、具体的内容は第３表に示す通りである。
第３図はその分光反射特性を示す。本実施例ではプラス
チックレンズはジアリルグリコールカーボネート（CR3
9）製である。
スチックレンズ、2,3は五酸化タンタルから成る第１層
の低屈折率層と高屈折率層、４は二酸化ケイ素から成る
第２層であり、具体的内容は第３表に示す通りである。
第３図はその分光反射特性を示す。本実施例ではプラス
チックレンズはジアリルグリコールカーボネート（CR3
9）製である。
各層の形成方法は以下の通りである。第１層の低屈折率
層は真空槽内を1.0×10-5Torrまで排気したのち、酸素
ガスを1.0×10-4Torrまで導入し五酸化タンタルを電子
ビーム蒸着法によって光学的膜厚λ/4（λ＝500nm）の
厚さに蒸着速度５〜８Å/secで形成した。このときの五
酸化タンタルの屈折率は1.80であった。次に酸素ガスの
導入を停止し真空度1.5×10-5Torr以下で五酸化タンタ
ルを電子ビーム蒸着法によって光学的膜厚λ/4（λ＝50
0nm）の厚さに蒸着速度12〜15Å/secで形成した。この
ときの五酸化タンタルの屈折率は2.05であった。続け
て、二酸化ケイ素を同様に電子ビーム蒸着法によって光
学的膜厚λ/4（λ＝500nm）の厚さに蒸着速度７〜15Å/
secで形成した。このときの二酸化ケイ素の屈折率は1.4
6であった。本発明の実施例２の反射防止膜の密着性，
耐久性を確認するために行った前記の密着性・耐久性試
験結果は第４表に示す通りである。
層は真空槽内を1.0×10-5Torrまで排気したのち、酸素
ガスを1.0×10-4Torrまで導入し五酸化タンタルを電子
ビーム蒸着法によって光学的膜厚λ/4（λ＝500nm）の
厚さに蒸着速度５〜８Å/secで形成した。このときの五
酸化タンタルの屈折率は1.80であった。次に酸素ガスの
導入を停止し真空度1.5×10-5Torr以下で五酸化タンタ
ルを電子ビーム蒸着法によって光学的膜厚λ/4（λ＝50
0nm）の厚さに蒸着速度12〜15Å/secで形成した。この
ときの五酸化タンタルの屈折率は2.05であった。続け
て、二酸化ケイ素を同様に電子ビーム蒸着法によって光
学的膜厚λ/4（λ＝500nm）の厚さに蒸着速度７〜15Å/
secで形成した。このときの二酸化ケイ素の屈折率は1.4
6であった。本発明の実施例２の反射防止膜の密着性，
耐久性を確認するために行った前記の密着性・耐久性試
験結果は第４表に示す通りである。
第４表からわかるように本発明の反射防止膜は、密着
性．耐久性に優れている。さらに、従来は反射防止膜形
成時にクラックの発生がみられるものもあったが、本発
明の実施例においては反射防止膜は常時安定していた。
分光反射特性に関しても第３図からわかるように中心波
長（λ＝500nm）で反射率は0.3％以下であり、およそ42
0〜620nmの帯域において反射率0.5％以下の特性が得ら
れた。
性．耐久性に優れている。さらに、従来は反射防止膜形
成時にクラックの発生がみられるものもあったが、本発
明の実施例においては反射防止膜は常時安定していた。
分光反射特性に関しても第３図からわかるように中心波
長（λ＝500nm）で反射率は0.3％以下であり、およそ42
0〜620nmの帯域において反射率0.5％以下の特性が得ら
れた。
実施例３ 実施例３の反射防止膜の構成は第１図において１はプラ
スチックレンズ、2,3は酸化ハフニウムから成る第１層
の低屈折率層と高屈折率層、４は二酸化ケイ素から成る
第２層であり、具体的内容は第５表に示す通りである。
第４図はその分光反射特性を示す。本実施例ではプラス
チックレンズはポリカーボネート製（PC）である。
スチックレンズ、2,3は酸化ハフニウムから成る第１層
の低屈折率層と高屈折率層、４は二酸化ケイ素から成る
第２層であり、具体的内容は第５表に示す通りである。
第４図はその分光反射特性を示す。本実施例ではプラス
チックレンズはポリカーボネート製（PC）である。
各層の形成方法は以下の通りである。第１層の低屈折率
層は真空槽内を1.0×10-5Torrまで排気したのち、酸素
ガスを5.0×10-5Torrないし1.0×10-4Torrまで導入し酸
化ハフニウムを電子ビーム蒸着法によって光学的膜厚λ
/4（λ＝500nm）の厚さに蒸着速度12〜15Å/secで形成
した。このときの酸化セリウムの屈折率は1.70であっ
た。次に酸素ガスの導入を停止し真空度1.5×10-5Torr
以下で酸化ハフニウムを電子ビーム蒸着法によって光学
的膜厚λ/2（λ＝500nm）の厚さに蒸着速度３〜７Å/se
cで形成した。このときの酸化ハフニウムの屈折率は2.0
0であった。続けて、二酸化ケイ素を同様に電子ビーム
蒸着法によって光学的膜厚λ/4（λ＝500nm）の厚さに
蒸着速度７〜15Å/secで形成した。このときの二酸化ケ
イ素の屈折率は1.46であった。本発明の実施例３の反射
防止膜の密着性，耐久性を確認するために行った前記の
密着性・耐久性試験結果は第６表に示す通りである。
層は真空槽内を1.0×10-5Torrまで排気したのち、酸素
ガスを5.0×10-5Torrないし1.0×10-4Torrまで導入し酸
化ハフニウムを電子ビーム蒸着法によって光学的膜厚λ
/4（λ＝500nm）の厚さに蒸着速度12〜15Å/secで形成
した。このときの酸化セリウムの屈折率は1.70であっ
た。次に酸素ガスの導入を停止し真空度1.5×10-5Torr
以下で酸化ハフニウムを電子ビーム蒸着法によって光学
的膜厚λ/2（λ＝500nm）の厚さに蒸着速度３〜７Å/se
cで形成した。このときの酸化ハフニウムの屈折率は2.0
0であった。続けて、二酸化ケイ素を同様に電子ビーム
蒸着法によって光学的膜厚λ/4（λ＝500nm）の厚さに
蒸着速度７〜15Å/secで形成した。このときの二酸化ケ
イ素の屈折率は1.46であった。本発明の実施例３の反射
防止膜の密着性，耐久性を確認するために行った前記の
密着性・耐久性試験結果は第６表に示す通りである。
第６表からわかるように本発明の反射防止膜は、密着
性，耐久性に優れている。さらに、従来は反射防止膜形
成時にクラックの発生がみられるものもあったが、本発
明の実施例においては反射防止膜は常時安定していた。
分光反射特性に関しても第３図からわかるように中心波
長（λ＝500nm）で反射率は0.7％以下であり、およそ40
0〜680nmの帯域において反射率0.7％以下の特性が得ら
れた。
性，耐久性に優れている。さらに、従来は反射防止膜形
成時にクラックの発生がみられるものもあったが、本発
明の実施例においては反射防止膜は常時安定していた。
分光反射特性に関しても第３図からわかるように中心波
長（λ＝500nm）で反射率は0.7％以下であり、およそ40
0〜680nmの帯域において反射率0.7％以下の特性が得ら
れた。
なお、前記実施例1,実施例2,実施例３では、各膜厚をそ
れぞれ第１表，第３表，第５表に示すものにしたが、膜
厚は特に上記それぞれの値に限定されるものではなく、
設計波長に応じて変化させればよい。
れぞれ第１表，第３表，第５表に示すものにしたが、膜
厚は特に上記それぞれの値に限定されるものではなく、
設計波長に応じて変化させればよい。
発明の効果 以上の説明から明らかなように、本発明のプラスチック
製光学部品の反射防止膜は、プラスチック製光学部品の
表面に、表面側から順に第１層，第２層の２層構造の蒸
着膜を形成して反射防止膜を構成する構造であって、第
１層は酸化セリウム（CeO2）、五酸化タンタル（Ta2O
5）、酸化ハフニウム（HfO2）のいずれかから成る層で
あり、さらに薄膜形成条件を異にすることで低屈折率層
と高屈折率層の屈折率の異なる２層構造を形成し、第２
層は二酸化ケイ素（SiO2）からなる層である。また、第
１層の低屈折率層を形成する際に酸素ガスを導入して酸
素雰囲気中で形成することによりプラスチック製光学部
品との密着性を高め、反射防止膜の耐久性の向上と共
に、分光反射特性にも優れ、クラックの発生も防げ、従
来例のもつ欠点を解消する効果を有する。また、本発明
のプラスチック製光学部品の反射防止膜は量産にも適し
ているため、その実用上の価値は大なるものがある。
製光学部品の反射防止膜は、プラスチック製光学部品の
表面に、表面側から順に第１層，第２層の２層構造の蒸
着膜を形成して反射防止膜を構成する構造であって、第
１層は酸化セリウム（CeO2）、五酸化タンタル（Ta2O
5）、酸化ハフニウム（HfO2）のいずれかから成る層で
あり、さらに薄膜形成条件を異にすることで低屈折率層
と高屈折率層の屈折率の異なる２層構造を形成し、第２
層は二酸化ケイ素（SiO2）からなる層である。また、第
１層の低屈折率層を形成する際に酸素ガスを導入して酸
素雰囲気中で形成することによりプラスチック製光学部
品との密着性を高め、反射防止膜の耐久性の向上と共
に、分光反射特性にも優れ、クラックの発生も防げ、従
来例のもつ欠点を解消する効果を有する。また、本発明
のプラスチック製光学部品の反射防止膜は量産にも適し
ているため、その実用上の価値は大なるものがある。
第１図は本発明の反射防止膜の構成断面図、第２図ない
し第４図はそれぞれ本発明の実施例１ないし実施例３の
それぞれの１面当たりの分光反射特性図、第５図は従来
のプラスチック製光学部品の反射防止膜の構成断面図、
第６図はその分光反射特性図である。 １……プラスチック製光学部品、２……第１層目の低屈
折率層、３……第１層目の高屈折率層、４……二酸化ケ
イ素から成る層、５……フッ化マグネシウムからなる
層。
し第４図はそれぞれ本発明の実施例１ないし実施例３の
それぞれの１面当たりの分光反射特性図、第５図は従来
のプラスチック製光学部品の反射防止膜の構成断面図、
第６図はその分光反射特性図である。 １……プラスチック製光学部品、２……第１層目の低屈
折率層、３……第１層目の高屈折率層、４……二酸化ケ
イ素から成る層、５……フッ化マグネシウムからなる
層。
Claims (2)
- 【請求項１】プラスチック製光学部品の表面に形成する
反射防止膜であって、前記表面側から順に第１層，第２
層の２層構造を有し、前記第１層は酸化セリウム、五酸
化タンタル、酸化ハフニウムのいずれかの薄膜材料から
なり、前記第１層は低屈折率層と高屈折率層から形成さ
れ、前記第２層は二酸化珪素からなるプラスチック製光
学部品の反射防止膜。 - 【請求項２】プラスチック製光学部品の表面に形成する
反射防止膜の形成方法であって、前記表面側から順に第
１層，第２層の２層構造を有し、前記第１層は酸化セリ
ウム、五酸化タンタル、酸化ハフニウムのいずれかの薄
膜材料からなり、前記第２層は二酸化珪素からなる反射
防止膜の形成方法であって、第１層の薄膜形成時に酸素
ガスを導入して薄膜を形成する工程と、酸素ガスの導入
を停止して薄膜を形成する工程と、第２層の薄膜を形成
する工程とからなるプラスチック製光学部品の反射防止
膜の形成方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1-163007 | 1989-06-26 | ||
| JP16300789 | 1989-06-26 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03109503A JPH03109503A (ja) | 1991-05-09 |
| JPH07111484B2 true JPH07111484B2 (ja) | 1995-11-29 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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|---|---|
| US (1) | US5172269A (ja) |
| JP (1) | JPH07111484B2 (ja) |
Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
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| US5591517A (en) * | 1993-08-31 | 1997-01-07 | Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. | Antireflection film |
| JP3351666B2 (ja) * | 1995-10-20 | 2002-12-03 | 株式会社中戸研究所 | 防曇性反射防止膜、光学部品、及び防曇性反射防止膜の製造方法 |
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| US6556189B1 (en) * | 1998-04-24 | 2003-04-29 | Nissha Printing Co., Ltd. | Touch panel device |
| TWI246460B (en) * | 1999-01-14 | 2006-01-01 | Sumitomo Chemical Co | Anti-reflection film |
| JP2003208733A (ja) * | 2001-11-08 | 2003-07-25 | Konica Corp | 光記録媒体及び情報の記録読み出し方法 |
| US7057026B2 (en) * | 2001-12-04 | 2006-06-06 | Solexa Limited | Labelled nucleotides |
| WO2006038501A1 (ja) * | 2004-10-01 | 2006-04-13 | Hoya Corporation | 眼内観察用レンズ及び硝子体手術用コンタクトレンズ |
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| FR2949776B1 (fr) | 2009-09-10 | 2013-05-17 | Saint Gobain Performance Plast | Element en couches pour l'encapsulation d'un element sensible |
| FR2973939A1 (fr) | 2011-04-08 | 2012-10-12 | Saint Gobain | Element en couches pour l’encapsulation d’un element sensible |
| US8921176B2 (en) | 2012-06-11 | 2014-12-30 | Freescale Semiconductor, Inc. | Modified high-K gate dielectric stack |
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|---|---|---|---|---|
| JPS56138701A (en) * | 1980-03-31 | 1981-10-29 | Minolta Camera Co Ltd | Antireflection film |
| US4609267A (en) * | 1980-12-22 | 1986-09-02 | Seiko Epson Corporation | Synthetic resin lens and antireflection coating |
| JPS5835501A (ja) * | 1981-08-28 | 1983-03-02 | Seiko Epson Corp | 合成樹脂製レンズ |
| JPS5860701A (ja) * | 1981-10-07 | 1983-04-11 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 反射防止膜 |
| NL8301824A (nl) * | 1983-05-24 | 1984-12-17 | Philips Nv | Optisch element bestaande uit een doorzichtig substraat en een antireflectieve bekleding voor het golflengtegebied in het nabije infrarood. |
| JPS60129701A (ja) * | 1983-12-16 | 1985-07-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラスチツク製光学部品の反射防止膜 |
| JPS63139302A (ja) * | 1986-04-22 | 1988-06-11 | Seiko Epson Corp | 反射防止膜を有する光学成形物品 |
| JPS6381402A (ja) * | 1986-09-26 | 1988-04-12 | Minolta Camera Co Ltd | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 |
| JPS63172201A (ja) * | 1987-01-12 | 1988-07-15 | Nikon Corp | ２層反射防止膜 |
| DE3818341C2 (de) * | 1987-06-04 | 1993-10-28 | Olympus Optical Co | Teildurchlässiger Spiegel aus Kunststoff |
| JPH01257801A (ja) * | 1988-04-07 | 1989-10-13 | Nitto Denko Corp | 反射防止膜 |
| JPH01273001A (ja) * | 1988-04-25 | 1989-10-31 | Olympus Optical Co Ltd | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 |
-
1990
- 1990-06-14 JP JP2155959A patent/JPH07111484B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1990-06-22 US US07/542,052 patent/US5172269A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023054420A1 (ja) * | 2021-10-01 | 2023-04-06 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体、及び反射防止膜 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5172269A (en) | 1992-12-15 |
| JPH03109503A (ja) | 1991-05-09 |
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Legal Events
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