JPH0248601A - 合成樹脂製光学部品の反射防止膜製造方法 - Google Patents
合成樹脂製光学部品の反射防止膜製造方法Info
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- JPH0248601A JPH0248601A JP63200895A JP20089588A JPH0248601A JP H0248601 A JPH0248601 A JP H0248601A JP 63200895 A JP63200895 A JP 63200895A JP 20089588 A JP20089588 A JP 20089588A JP H0248601 A JPH0248601 A JP H0248601A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、合成樹脂製の光学部品上に形成する反射防止
膜の製造方法に関する。
膜の製造方法に関する。
従来、合成樹脂製の光学部品上に反射防止膜を製造する
方法としては特開昭５３−３０６号公報に開示されてい
る方法がある。
方法としては特開昭５３−３０６号公報に開示されてい
る方法がある。
上記反射防止膜の製造方法は、合成樹脂製光学部品上に
、真空度、蒸着速度、雰囲気の蒸着条件によって屈折率
が変化するＳｉＯを蒸着条件を変えて蒸着し、屈折率の
高い蒸着層と低い蒸着層を形成する方法である。即ち、
高真空（５Ｘ１０−’〜８×１０−″Ｔｏｒｒ ）中で
、蒸着物質ＳｉＯを蒸発させ１２０℃以下に保った基板
上にＳｉＯを９〜２５人／ｓｅｅの蒸着速度で急速に蒸
着させることによって屈折率の高い（ｎ”１．５２〜１
．８０） ＳｉＯ被膜をｎｄ＝λ／４又はλ／２（λ＝
５３０ｎｓ ）形成し、次に、上記ＳｉＯ被膜上に酸
素雰囲気（２ＸＩＱ”’〜７ Ｘｌ０−’Ｔｏｒｒ）中
で、蒸着物質ＳｉＯを２．５〜６．７人／ｓｅｃの蒸着
速度で緩徐に蒸着させることによって屈折率の低い（ｎ
＝ｔ、４６） Ｓｉｎ！被膜をｎｄ−λ／４の厚さに
蒸着して反射防止膜を合成樹脂製の基板上に形成してい
る。そして、実施例において基板にジエチレングリコー
ルビスアリルカーボネート（ＣＲ−３９）を用い、基板
を８０℃に加熱しながら上記Ｎ看を行う例を挙げている
。
、真空度、蒸着速度、雰囲気の蒸着条件によって屈折率
が変化するＳｉＯを蒸着条件を変えて蒸着し、屈折率の
高い蒸着層と低い蒸着層を形成する方法である。即ち、
高真空（５Ｘ１０−’〜８×１０−″Ｔｏｒｒ ）中で
、蒸着物質ＳｉＯを蒸発させ１２０℃以下に保った基板
上にＳｉＯを９〜２５人／ｓｅｅの蒸着速度で急速に蒸
着させることによって屈折率の高い（ｎ”１．５２〜１
．８０） ＳｉＯ被膜をｎｄ＝λ／４又はλ／２（λ＝
５３０ｎｓ ）形成し、次に、上記ＳｉＯ被膜上に酸
素雰囲気（２ＸＩＱ”’〜７ Ｘｌ０−’Ｔｏｒｒ）中
で、蒸着物質ＳｉＯを２．５〜６．７人／ｓｅｃの蒸着
速度で緩徐に蒸着させることによって屈折率の低い（ｎ
＝ｔ、４６） Ｓｉｎ！被膜をｎｄ−λ／４の厚さに
蒸着して反射防止膜を合成樹脂製の基板上に形成してい
る。そして、実施例において基板にジエチレングリコー
ルビスアリルカーボネート（ＣＲ−３９）を用い、基板
を８０℃に加熱しながら上記Ｎ看を行う例を挙げている
。
従来の反射防止膜の製造方法にあっては、耐久性、光学
特性において射出成形アクリル樹脂製光学部品に対し上
記成膜条件を直接利用できない問題点があった。即ち、
ＣＲ−３９の場合、大気中での耐熱性は１１０〜１２０
℃が最大温度であるが、劣化を考慮すると１００℃が限
界であり、一方、光学性能上の形状精度維持を考慮する
と眼鏡レンズの範囲では８０℃に加熱して膜形成しても
光学性能を維持できるが、光学機器の光学部品の形状精
度維持するためには６０’Ｃが限界である。加えて、膜
応力による形状変化を考えると基板（ＣＲ−３９）を加
熱して蒸着することが不可能な場合があり、常温（２０
〜３０℃）で成膜することを基本としている。従って、
基板を８０″Ｃに加熱して成膜した場合、加熱による基
板の劣化と膜による応力により基板変形が生ずる問題点
があった。さらに、加熱成膜により、基板と膜との線膨
張率の差が太き（なり、膜割れ（クラック）が初期性能
時点で発生するとともに、密着性、耐擦傷性が低下する
耐久性上の問題点があった。
特性において射出成形アクリル樹脂製光学部品に対し上
記成膜条件を直接利用できない問題点があった。即ち、
ＣＲ−３９の場合、大気中での耐熱性は１１０〜１２０
℃が最大温度であるが、劣化を考慮すると１００℃が限
界であり、一方、光学性能上の形状精度維持を考慮する
と眼鏡レンズの範囲では８０℃に加熱して膜形成しても
光学性能を維持できるが、光学機器の光学部品の形状精
度維持するためには６０’Ｃが限界である。加えて、膜
応力による形状変化を考えると基板（ＣＲ−３９）を加
熱して蒸着することが不可能な場合があり、常温（２０
〜３０℃）で成膜することを基本としている。従って、
基板を８０″Ｃに加熱して成膜した場合、加熱による基
板の劣化と膜による応力により基板変形が生ずる問題点
があった。さらに、加熱成膜により、基板と膜との線膨
張率の差が太き（なり、膜割れ（クラック）が初期性能
時点で発生するとともに、密着性、耐擦傷性が低下する
耐久性上の問題点があった。
一方、光学特性としての分光反射率特性においても、極
端な■コート特性のため、中心波長（λ＝５３０ｎｍ）
での反射率は非常、に低いが、マゼンタ色が顕著で、青
（λ””４００ｒｖ）、赤（λ＝４００ｎｓ）の反射率
が高くなり透過率が低下する。従って、特に光学設計上
、カラーバランスを考慮すると上記反射防止膜としては
使用しづらく、また、基板自体の反射率が高くなる程、
上記反射防止膜は設計上制限を受けることになる。
端な■コート特性のため、中心波長（λ＝５３０ｎｍ）
での反射率は非常、に低いが、マゼンタ色が顕著で、青
（λ””４００ｒｖ）、赤（λ＝４００ｎｓ）の反射率
が高くなり透過率が低下する。従って、特に光学設計上
、カラーバランスを考慮すると上記反射防止膜としては
使用しづらく、また、基板自体の反射率が高くなる程、
上記反射防止膜は設計上制限を受けることになる。
よって、蒸着条件により屈折率の変化するＳｉＯを蒸着
物質に用いて、基板上に屈折率の高いおよび屈折率の低
い蒸着層を蒸着条件を変化させて成膜することは、特性
再現性および生産性の歩留からみると非常に難しい反射
防止膜の製造方法となる。
物質に用いて、基板上に屈折率の高いおよび屈折率の低
い蒸着層を蒸着条件を変化させて成膜することは、特性
再現性および生産性の歩留からみると非常に難しい反射
防止膜の製造方法となる。
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであって、
基板加熱による基板変化を防止するとともに耐久性を向
上させ、さらに、光学特性としての分光反射率を低下し
得る合成樹脂製光学部品の反射防止膜製造方法を提供す
ることを目的とする。
基板加熱による基板変化を防止するとともに耐久性を向
上させ、さらに、光学特性としての分光反射率を低下し
得る合成樹脂製光学部品の反射防止膜製造方法を提供す
ることを目的とする。
【課題を解決するための手段及び作用〕上記目的を達成
するために、本発明にあっては、合成樹脂製光学部品の
表面上に、常温（２０〜３０℃）および酸素を導入しな
い一定の高真空内で一定の蒸０着速度によりＳｉＯ被膜
をｎｄ−０，０７５〜０．０４３λ（λ＝４００〜７０
０ｎｍ）に形成し、上記ＳｉＯ被膜上にＳｉｎ、被膜を
ｎｄ＝０．４３〜０．２６λに形成するものである。
するために、本発明にあっては、合成樹脂製光学部品の
表面上に、常温（２０〜３０℃）および酸素を導入しな
い一定の高真空内で一定の蒸０着速度によりＳｉＯ被膜
をｎｄ−０，０７５〜０．０４３λ（λ＝４００〜７０
０ｎｍ）に形成し、上記ＳｉＯ被膜上にＳｉｎ、被膜を
ｎｄ＝０．４３〜０．２６λに形成するものである。
本発明の方法によれば、蒸着材料と光学部品とを真空チ
ャンバー内の所定位置にセットした後、まず、光学部品
の表面上にＳｉＯ被膜を形成して反射防止膜の元とし、
しかる後、ＳＩＯ被膜上にＳｔＯよ被膜を形成して反射
防止膜の基本的特性を付与するもので、かかるＳｉＯ被
膜、Ｓｉ０ｇ被膜の形成に際して蒸着条件を同一とし、
蒸着中に蒸着条件を常に一定に維持して再現性の良い成
膜を行っている。
ャンバー内の所定位置にセットした後、まず、光学部品
の表面上にＳｉＯ被膜を形成して反射防止膜の元とし、
しかる後、ＳＩＯ被膜上にＳｔＯよ被膜を形成して反射
防止膜の基本的特性を付与するもので、かかるＳｉＯ被
膜、Ｓｉ０ｇ被膜の形成に際して蒸着条件を同一とし、
蒸着中に蒸着条件を常に一定に維持して再現性の良い成
膜を行っている。
本発明によれば、常温（２０〜３０℃）で全く加熱しな
い雰囲気で成膜されているので、レンズの形状変化、膜
応力による剥離の発生が防止されている。かかる場合、
若干輻射熱の影響を受けたとしても、ＳｉＯ被膜の場合
は膜厚がｎｄ＝３０〜５０ｒ＋＋ｇであるため最大約１
０秒で成膜が完成し２〜３℃の温度上昇にすぎず、また
、ＳｉＯ□被膜の場合にあっても成膜時間は２〜３分で
あるため４〜５℃の温度上昇で、かかる温度上昇があっ
たとしても常温の３０℃の範囲内であるので、基板変形
、膜の内部応力に輻射熱が影響することはほとんどない
とみなすことができる。
い雰囲気で成膜されているので、レンズの形状変化、膜
応力による剥離の発生が防止されている。かかる場合、
若干輻射熱の影響を受けたとしても、ＳｉＯ被膜の場合
は膜厚がｎｄ＝３０〜５０ｒ＋＋ｇであるため最大約１
０秒で成膜が完成し２〜３℃の温度上昇にすぎず、また
、ＳｉＯ□被膜の場合にあっても成膜時間は２〜３分で
あるため４〜５℃の温度上昇で、かかる温度上昇があっ
たとしても常温の３０℃の範囲内であるので、基板変形
、膜の内部応力に輻射熱が影響することはほとんどない
とみなすことができる。
さらに、ＳｉＯ被膜はｎｄ＝３０〜５０ｒｃｍの極薄層
の均質な膜に形成されるので、アクリル樹脂、ポリカー
ボネート樹脂との密着性が非常に良く、また、λ＝４０
０〜７００ｎ−の中で全均的に反射率の高低が少なくか
つ低い分光反射率が得られるとともに、非晶質性、極薄
層に形成されるため、熱衝撃試験に非常に強く、膜割れ
の発生を防止し得る。
の均質な膜に形成されるので、アクリル樹脂、ポリカー
ボネート樹脂との密着性が非常に良く、また、λ＝４０
０〜７００ｎ−の中で全均的に反射率の高低が少なくか
つ低い分光反射率が得られるとともに、非晶質性、極薄
層に形成されるため、熱衝撃試験に非常に強く、膜割れ
の発生を防止し得る。
一方、ＳｉＯ□被膜は、溶融結晶のＳｉＯ□を蒸着物質
にして成膜されており、バルクの時点より屈折率ｎζ１
．４７のため、ＳｉＯの成膜と同一な蒸着条件で蒸着す
ることができ良好な再現性が図られるとともに、石英の
ため非常に硬くハードコート膜として耐擦傷性の効能が
得られる。
にして成膜されており、バルクの時点より屈折率ｎζ１
．４７のため、ＳｉＯの成膜と同一な蒸着条件で蒸着す
ることができ良好な再現性が図られるとともに、石英の
ため非常に硬くハードコート膜として耐擦傷性の効能が
得られる。
以下、図面を用いて本発明の実施例を詳細に説明する。
（第１実施例）
本実施例では、第１図に示すように、光学部品としてア
リクル樹脂レンズ（ｎ＝１．４９） １を用い、これに
第２図に示す装置を用いて第１層にＳｉＯ被膜２を形成
し、第２１１目にＳｉｎ、被膜３を形成した。
リクル樹脂レンズ（ｎ＝１．４９） １を用い、これに
第２図に示す装置を用いて第１層にＳｉＯ被膜２を形成
し、第２１１目にＳｉｎ、被膜３を形成した。
即ち、第２図の装置の真空チャンバー４内の抵抗加熱電
極５に取付けた抵抗加熱用溶融ボート６に顆粒状のＳｉ
Ｏを入れ、溶融結晶のＳｉｎｇを電子銃蒸発源７のハー
スライナ−８に入れる。
極５に取付けた抵抗加熱用溶融ボート６に顆粒状のＳｉ
Ｏを入れ、溶融結晶のＳｉｎｇを電子銃蒸発源７のハー
スライナ−８に入れる。
他方、アリクル樹脂レンズ１を回転ドーム９を取付ける
０次いで、真空チャンバー４内を真空排気系ｌＯにより
８ Ｘｌ０−”Ｔｏｒｒ以下の真空度に達するまで排気
する。所定の真空度に達すると、回転ドーム９を回転さ
せながら常温（２０〜３０℃）で抵抗加熱溶融ボート６
のＳｌＯを蒸発させアリクル樹脂レンズ１の表面に光学
的膜厚ｎｄ ＝ ３０ｎｒａのＳｉＯ被膜２を形成する
。かかるＳｉＯ被膜２の形成に際し、蒸着速度はクォー
ツモニターによりモニターコントロールして１５〜２０
人八ｅｃとへ定とし、真空チャンバー４内に０□等のガ
ス封入を全くしない状態で真空度の再現性を維持するた
め上記８×１０−’Ｔｏｒｒの真空度からＩ Ｘ １０
−’Ｔｏｒｒ以下の常に一定の真空度に保持して蒸着を
行いｎｄ＝０．０７５〜０．０４３λ（λ＝４００〜７
００ｎａ＋）、屈折率ｎ＝１．８の均質な極薄膜を形成
する０次に、真空チャンバー４内の真空排気を行い、８
Ｘｌ０−’Ｔｏｒｒ以下の所定の真空度に達したら、
常温（２０〜３０℃）でＳｔｏｗを電子銃蒸発源７の作
動によりハースライナ−８で溶融蒸発させ、Ｓ ｉ Ｏ
ｚ被膜３をＳｉＯ被膜２上に光学的膜厚ｎｄ ＝ １８
０ｎ−形成する。かかるＳｉ０ｇ被膜３の形成に際し、
上記ＳｉＯ被膜２の形成と同様に、１５〜２０人／ｓｅ
ｃの蒸着速度で、真空チャンバー４内に０！等のガスを
全く導入せず真空度を１×１０−％Ｔｏｒｒ以下で常に
一定に保持して蒸着を行い、ｎｄ−０，４２５〜０．２
５７λ（λ＝ ４００〜７００ｎｍ）、屈折率ｎ＝１．
４７の被膜を形成する。蒸着完了後、１０分間徐冷し、
真空チャンバー４内を大気圧にし、真空チャンバー４内
から所望の反射防止膜が形成されたアリクル樹脂レンズ
１を取り出す。
０次いで、真空チャンバー４内を真空排気系ｌＯにより
８ Ｘｌ０−”Ｔｏｒｒ以下の真空度に達するまで排気
する。所定の真空度に達すると、回転ドーム９を回転さ
せながら常温（２０〜３０℃）で抵抗加熱溶融ボート６
のＳｌＯを蒸発させアリクル樹脂レンズ１の表面に光学
的膜厚ｎｄ ＝ ３０ｎｒａのＳｉＯ被膜２を形成する
。かかるＳｉＯ被膜２の形成に際し、蒸着速度はクォー
ツモニターによりモニターコントロールして１５〜２０
人八ｅｃとへ定とし、真空チャンバー４内に０□等のガ
ス封入を全くしない状態で真空度の再現性を維持するた
め上記８×１０−’Ｔｏｒｒの真空度からＩ Ｘ １０
−’Ｔｏｒｒ以下の常に一定の真空度に保持して蒸着を
行いｎｄ＝０．０７５〜０．０４３λ（λ＝４００〜７
００ｎａ＋）、屈折率ｎ＝１．８の均質な極薄膜を形成
する０次に、真空チャンバー４内の真空排気を行い、８
Ｘｌ０−’Ｔｏｒｒ以下の所定の真空度に達したら、
常温（２０〜３０℃）でＳｔｏｗを電子銃蒸発源７の作
動によりハースライナ−８で溶融蒸発させ、Ｓ ｉ Ｏ
ｚ被膜３をＳｉＯ被膜２上に光学的膜厚ｎｄ ＝ １８
０ｎ−形成する。かかるＳｉ０ｇ被膜３の形成に際し、
上記ＳｉＯ被膜２の形成と同様に、１５〜２０人／ｓｅ
ｃの蒸着速度で、真空チャンバー４内に０！等のガスを
全く導入せず真空度を１×１０−％Ｔｏｒｒ以下で常に
一定に保持して蒸着を行い、ｎｄ−０，４２５〜０．２
５７λ（λ＝ ４００〜７００ｎｍ）、屈折率ｎ＝１．
４７の被膜を形成する。蒸着完了後、１０分間徐冷し、
真空チャンバー４内を大気圧にし、真空チャンバー４内
から所望の反射防止膜が形成されたアリクル樹脂レンズ
１を取り出す。
このようにして得た反射防止膜は第３図の曲線Ａで示す
ような分光反射率特性を有し、波長λ＝４９０ｎ−で最
低的１．４％の分光反射率を示し、−３０℃。
ような分光反射率特性を有し、波長λ＝４９０ｎ−で最
低的１．４％の分光反射率を示し、−３０℃。
常温（２０〜３０℃）、８０℃のサイクルを繰り返し１
０回行った熱衝撃試験後にあっても曲線Ｂで示すような
分光反射率特性を示した。即ち、第１層目のＳｉＯ被膜
２を高真空中で屈折率ｎ＝１．８の均質な極薄膜とする
ことでλ＝４００〜７００ｎａ＋の中で中心波長と両端
波長間で反射率の高低の少ない全均的に低い反射率が得
られ、ガラスＢに−７にＭｇＦ、を成膜した分光反射率
に近似したものが得られるとともに、非晶質性のＳＩＯ
が得られ熱衝撃試験後にあっても初期性能と同様に膜割
れ（クランク）の発生がないヒートショックに強い反射
防止膜が得られた。
０回行った熱衝撃試験後にあっても曲線Ｂで示すような
分光反射率特性を示した。即ち、第１層目のＳｉＯ被膜
２を高真空中で屈折率ｎ＝１．８の均質な極薄膜とする
ことでλ＝４００〜７００ｎａ＋の中で中心波長と両端
波長間で反射率の高低の少ない全均的に低い反射率が得
られ、ガラスＢに−７にＭｇＦ、を成膜した分光反射率
に近似したものが得られるとともに、非晶質性のＳＩＯ
が得られ熱衝撃試験後にあっても初期性能と同様に膜割
れ（クランク）の発生がないヒートショックに強い反射
防止膜が得られた。
また、ＳｉＯ被膜とＳ」０３被膜との二層構造よりなる
反射防止膜に対する膜割れ、再現性、耐擦傷性およびア
リクル樹脂レンズへの密着性を評価して表１に示すよう
な結果を得た。比較のため従来法により形成したＳｉＯ
被膜とＳｉｎ、被膜との二層構造も同様な評価を行った
。即ち、ＳｉＯ被膜の成形条件として屈折率が大、小変
化する温度。
反射防止膜に対する膜割れ、再現性、耐擦傷性およびア
リクル樹脂レンズへの密着性を評価して表１に示すよう
な結果を得た。比較のため従来法により形成したＳｉＯ
被膜とＳｉｎ、被膜との二層構造も同様な評価を行った
。即ち、ＳｉＯ被膜の成形条件として屈折率が大、小変
化する温度。
Ｎ着速度、真空度および膜厚（λ／４〜λ／２）の条件
を成膜中に変化させず常に一定に保持するとともに、５
ｉＯｚ被膜についても、元々ｎ！＝：１．４７であるた
め、ＳｉＯ被膜と同一の成膜条件にて成膜してもｎ−１
，４７が常に得られ、再現性のすぐれた分光反射率を得
ることができた。なお、耐擦傷性は反射防止膜の表面を
洗浄布で２００ｇの加重を負荷しつつ往復１０回ランピ
ングして傷の発生の有、無を観察することにより評価し
、密着性は幅１８ｍｍのセロテープを反射防止膜にはり
つけ、セロテープの一端をレンズと４５°の角度にして
一気に引き剥がして被膜の剥離状態を観察することによ
り評価した。
を成膜中に変化させず常に一定に保持するとともに、５
ｉＯｚ被膜についても、元々ｎ！＝：１．４７であるた
め、ＳｉＯ被膜と同一の成膜条件にて成膜してもｎ−１
，４７が常に得られ、再現性のすぐれた分光反射率を得
ることができた。なお、耐擦傷性は反射防止膜の表面を
洗浄布で２００ｇの加重を負荷しつつ往復１０回ランピ
ングして傷の発生の有、無を観察することにより評価し
、密着性は幅１８ｍｍのセロテープを反射防止膜にはり
つけ、セロテープの一端をレンズと４５°の角度にして
一気に引き剥がして被膜の剥離状態を観察することによ
り評価した。
表
（第２実施例）
本実施例では、光学部品としてポリカーボネート樹脂レ
ンズ（ｎ＝１．５８）を用い、上記第１実施例と同一の
成膜条件で同様な方法でポリカーボネート樹脂レンズの
表面上にｎｄ−５Ｏｎ（ｎ ＝１．８の極薄層のＳｉＯ
被膜を形成し、ＳｉＯ被膜上にｎｄ−１５０ｎｍ、
ｎ＝１．４７のＳ ｉ Ｏｚ被膜を形成した。
ンズ（ｎ＝１．５８）を用い、上記第１実施例と同一の
成膜条件で同様な方法でポリカーボネート樹脂レンズの
表面上にｎｄ−５Ｏｎ（ｎ ＝１．８の極薄層のＳｉＯ
被膜を形成し、ＳｉＯ被膜上にｎｄ−１５０ｎｍ、
ｎ＝１．４７のＳ ｉ Ｏｚ被膜を形成した。
このようにして得た反射防止膜は第４図の曲線Ｃで示す
ような分光反射率特性を有し、波長λ＝４９０ｒ＋ｍで
最低的０．８％の分光反射率を示し、上記と同様な熱衝
撃試験後にあっても曲線りで示すような分光反射率特性
を示した。また、膜割れ、再現性、耐擦傷性および密着
性を評価して上記表１に示すように上記第１実施例と同
様に良好な結果を得た。なお、耐擦傷性、密着性の評価
は上記第１実施例と同様な方法で行った。
ような分光反射率特性を有し、波長λ＝４９０ｒ＋ｍで
最低的０．８％の分光反射率を示し、上記と同様な熱衝
撃試験後にあっても曲線りで示すような分光反射率特性
を示した。また、膜割れ、再現性、耐擦傷性および密着
性を評価して上記表１に示すように上記第１実施例と同
様に良好な結果を得た。なお、耐擦傷性、密着性の評価
は上記第１実施例と同様な方法で行った。
以上のように、本発明によれば、常温で成膜しているの
で基板変化、膜応力変化を防止でき、形状精度を向上す
ることができる。さらに、蒸着条件を常に一定に維持し
て蒸着しているので、初期性能としての光学特性かつ、
その再現性が良く、さらに耐久性が向上するとともに、
耐久性能として熱衝撃試験後も光学特性、膜割れ、密着
性、耐擦傷性が良好な二層構造の反射防止膜を形成する
ことができる。
で基板変化、膜応力変化を防止でき、形状精度を向上す
ることができる。さらに、蒸着条件を常に一定に維持し
て蒸着しているので、初期性能としての光学特性かつ、
その再現性が良く、さらに耐久性が向上するとともに、
耐久性能として熱衝撃試験後も光学特性、膜割れ、密着
性、耐擦傷性が良好な二層構造の反射防止膜を形成する
ことができる。
第１図は本発明の反射防止膜製造方法により合成樹脂製
光学部品上に形成した反射防止膜の第１実施例を示す断
面図、第２図は本発明の方法を実施するために用いる真
空蒸着装置の一例を示す線図、第３図は本発明の方法の
第１実施例によって形成した反射防止膜の分光反射率特
性図、第４図は本発明の方法の第２実施例によって形成
した反射防止膜の分光反射率特性図である。 ■・・・合成樹脂製光学部品 ２・・・ＳｉＯ被膜 ３・・・ＳｉＯ２被膜
光学部品上に形成した反射防止膜の第１実施例を示す断
面図、第２図は本発明の方法を実施するために用いる真
空蒸着装置の一例を示す線図、第３図は本発明の方法の
第１実施例によって形成した反射防止膜の分光反射率特
性図、第４図は本発明の方法の第２実施例によって形成
した反射防止膜の分光反射率特性図である。 ■・・・合成樹脂製光学部品 ２・・・ＳｉＯ被膜 ３・・・ＳｉＯ２被膜
Claims (1)
- （１）合成樹脂製光学部品の表面上に、常温（２０〜３
０℃）および酸素を導入しない一定の高真空内で一定の
蒸着速度によりＳｉＯ被膜をｎｄ＝０．０７５〜０．０
４３λ（λ＝４００〜７００ｎｍ）に形成し、上記Ｓｉ
Ｏ被膜上にＳｉＯ＿２被膜をｎｄ＝０．４３〜０．２６
λに形成することを特徴とする合成樹脂製光学部品の反
射防止膜製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63200895A JPH0248601A (ja) | 1988-08-11 | 1988-08-11 | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜製造方法 |
| KR1019890011546A KR920001277B1 (ko) | 1988-08-11 | 1989-08-11 | 합성 수지제 광학부품의 반사방지막 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63200895A JPH0248601A (ja) | 1988-08-11 | 1988-08-11 | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0248601A true JPH0248601A (ja) | 1990-02-19 |
Family
ID=16432042
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63200895A Pending JPH0248601A (ja) | 1988-08-11 | 1988-08-11 | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0248601A (ja) |
| KR (1) | KR920001277B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20110033634A1 (en) * | 2009-08-07 | 2011-02-10 | Jinichi Kasuya | Production method of optical element and optical element |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3566045B2 (ja) * | 1997-10-02 | 2004-09-15 | アルプス電気株式会社 | 記録媒体の装着装置 |
-
1988
- 1988-08-11 JP JP63200895A patent/JPH0248601A/ja active Pending
-
1989
- 1989-08-11 KR KR1019890011546A patent/KR920001277B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20110033634A1 (en) * | 2009-08-07 | 2011-02-10 | Jinichi Kasuya | Production method of optical element and optical element |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR900003646A (ko) | 1990-03-26 |
| KR920001277B1 (ko) | 1992-02-10 |
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