JPS6042442B2 - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
- Publication number
- JPS6042442B2 JPS6042442B2 JP54132578A JP13257879A JPS6042442B2 JP S6042442 B2 JPS6042442 B2 JP S6042442B2 JP 54132578 A JP54132578 A JP 54132578A JP 13257879 A JP13257879 A JP 13257879A JP S6042442 B2 JPS6042442 B2 JP S6042442B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- film
- antireflection
- substrate
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/78—Coatings specially designed to be durable, e.g. scratch-resistant
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はフッ化マグネシウムを最上層に用いた反射防止
膜の膜構成に関する。
膜の膜構成に関する。
従来の多層反射防止膜は、第１図に示す・酬一−ｙ−ｌ
の３層構成のものが基本となつている。
の３層構成のものが基本となつている。
例えば、第１図で、基板に屈折率１．５２の白板ガラス
、第１層１１に屈折率１．６２の酸化アルミニウム、第
２層に屈折率２．０の酸化ジルコニウム、第３層に屈折
率１．３８のＭｇＦ２を用いると、第２図に示すように
、可視領域全域で非常に良い反射防止特性を示す反射防
止膜が得られる。
、第１層１１に屈折率１．６２の酸化アルミニウム、第
２層に屈折率２．０の酸化ジルコニウム、第３層に屈折
率１．３８のＭｇＦ２を用いると、第２図に示すように
、可視領域全域で非常に良い反射防止特性を示す反射防
止膜が得られる。
この型の反射防止膜の変形として、第１層を等価膜にお
きかえるという方法もあるが、いずれの場合にも、最上
層にはＭｇＦ。を用いないと、良い反射防止膜は得られ
ない。ところで、ＭｇＦ２の蒸着膜の膜質は、蒸着中の
基板の加熱温度に依存し、基板温度を３００℃程度まで
上げないと耐久性のある膜は得られなかつた。
きかえるという方法もあるが、いずれの場合にも、最上
層にはＭｇＦ。を用いないと、良い反射防止膜は得られ
ない。ところで、ＭｇＦ２の蒸着膜の膜質は、蒸着中の
基板の加熱温度に依存し、基板温度を３００℃程度まで
上げないと耐久性のある膜は得られなかつた。
この基板を３９℃近くに加熱するということの為に、い
くつかの不都合が生じる。第１に、熱に弱い基板には、
ＭｇＦ２を用いた反射防止膜を使用することが出来ない
。現在、合成樹脂製の光学部品は、その整形の容易さ、
軽量性等の特色の為に、幅広く使用されているが、これ
らの光学部品にはＭｇＦ２を用いた反射防止膜を使用で
きないでいる。ＭｇＦ、のかわりに、比較的屈折率の低
いＳｉＯ。を最上層に用いることにより、合成樹脂光学
部品上に耐久性のある反射防止膜を作ることは既に実用
化されているが、ＳｉＯ。の屈折率が１．４６とＭｇＦ
。の１．３８に較べ高い為、その反射防止効果は、Ｍｇ
Ｆ２を用いたものに劣る。第２に、基板の温度を３００
’Ｃまで上げると、先に例に出した３層構成の反射防止
膜の第２層にＺｒＯ。
くつかの不都合が生じる。第１に、熱に弱い基板には、
ＭｇＦ２を用いた反射防止膜を使用することが出来ない
。現在、合成樹脂製の光学部品は、その整形の容易さ、
軽量性等の特色の為に、幅広く使用されているが、これ
らの光学部品にはＭｇＦ２を用いた反射防止膜を使用で
きないでいる。ＭｇＦ、のかわりに、比較的屈折率の低
いＳｉＯ。を最上層に用いることにより、合成樹脂光学
部品上に耐久性のある反射防止膜を作ることは既に実用
化されているが、ＳｉＯ。の屈折率が１．４６とＭｇＦ
。の１．３８に較べ高い為、その反射防止効果は、Ｍｇ
Ｆ２を用いたものに劣る。第２に、基板の温度を３００
’Ｃまで上げると、先に例に出した３層構成の反射防止
膜の第２層にＺｒＯ。
を用いた場合、ＺｒＯ。が負の不均質性を示し、反射防
止効果が悪くなるという問題が生じる。このＺｒ０。
止効果が悪くなるという問題が生じる。このＺｒ０。
の不均質は、基板の加熱温度を２００゜Ｃに下げればな
くなるが、こんどは、ＭｇＦ２の膜質が悪くなる。この
点は実施例１で詳述する。第３の問題点は、最近の真空
蒸着機の排気性能が高まり、３００’Ｃの昇温の場合、
昇温時間が排気時間よりも長くなつてしまい、量産時の
蒸着サイクルが昇温時間によつて規制されるということ
である。昇温が２００℃であれば、この点も解決できる
。本発明は、かかる欠点を除去したもので、その目的は
、比較的低い温度て蒸着しても耐久性あるＭｇＦ２層を
含む反射防止膜の得られる膜構成を提案することにより
、反射防止膜の用途を広げ、かつ、反射防止膜の性能、
量産性を向上させることである。
くなるが、こんどは、ＭｇＦ２の膜質が悪くなる。この
点は実施例１で詳述する。第３の問題点は、最近の真空
蒸着機の排気性能が高まり、３００’Ｃの昇温の場合、
昇温時間が排気時間よりも長くなつてしまい、量産時の
蒸着サイクルが昇温時間によつて規制されるということ
である。昇温が２００℃であれば、この点も解決できる
。本発明は、かかる欠点を除去したもので、その目的は
、比較的低い温度て蒸着しても耐久性あるＭｇＦ２層を
含む反射防止膜の得られる膜構成を提案することにより
、反射防止膜の用途を広げ、かつ、反射防止膜の性能、
量産性を向上させることである。
以下実施例に基ついて本発明の詳細な説明する。
実施例１
屈折率１．５２の白板ガラス上に、第３図に示す膜構成
をもつ反射防止膜を設けた。
をもつ反射防止膜を設けた。
３１はＡｌ２Ｏ３、３２はＺｒＯ２、３３はＡｌ２Ｏ３
の５０Ａの層、３４は、Ｃｒの２０Ａの層、３５はＭｇ
Ｆ′２層である。
の５０Ａの層、３４は、Ｃｒの２０Ａの層、３５はＭｇ
Ｆ′２層である。
蒸着槽に白板ガラスを入れ、１０分で１×１０−５Ｔ０
ｒｒに排気、この間に基板温度を２００℃に高めた。第
１層のＡｌ２Ｏ３をコートする前に、酸素ガスを導入し
、１×１０−４Ｔ０ｒｒにし、この状態で２０秒間４０
０Ｗの高周波放電を起こし、ガラス基板をプラズマ処理
した。ガスの導入を止め、３１から３５の層を順次電子
ビームで蒸着した。比較として、第１図に示す従来の３
層反射防止膜を、これと同じ条件で蒸着した（コート１
）。また、第１図に示す反射防止膜を基板温度を３００
℃にして蒸着したものも比較用に作つた（コート２）。
この３種類の反射防止膜の性能を比較すると、分光反射
特性は第４図のようになり、コート２の分光反射特性は
、４２で、本実施例の反射防止膜及びコート１の分光反
射特性４１に較べ反射防止効果は悪くなつている。
ｒｒに排気、この間に基板温度を２００℃に高めた。第
１層のＡｌ２Ｏ３をコートする前に、酸素ガスを導入し
、１×１０−４Ｔ０ｒｒにし、この状態で２０秒間４０
０Ｗの高周波放電を起こし、ガラス基板をプラズマ処理
した。ガスの導入を止め、３１から３５の層を順次電子
ビームで蒸着した。比較として、第１図に示す従来の３
層反射防止膜を、これと同じ条件で蒸着した（コート１
）。また、第１図に示す反射防止膜を基板温度を３００
℃にして蒸着したものも比較用に作つた（コート２）。
この３種類の反射防止膜の性能を比較すると、分光反射
特性は第４図のようになり、コート２の分光反射特性は
、４２で、本実施例の反射防止膜及びコート１の分光反
射特性４１に較べ反射防止効果は悪くなつている。
これは、コート２では、基板を３００℃に加熱した為、
ＺｒＯ２が負の不均質性を示した為である。また、耐久
性に関して、落砂による曇量、温水による蒸着膜のはが
れを試験した。
ＺｒＯ２が負の不均質性を示した為である。また、耐久
性に関して、落砂による曇量、温水による蒸着膜のはが
れを試験した。
落砂試験は、相馬砂を１００ｙずつ計３００Ｖコート面
に１ｍの高さから落した時の５５０ｒ１ｍの波長の光の
透過率の変化量を測定し、これを曇量としたものである
。また、温水によるはがれの試験は、コートした白色ガ
ラスを、まず４０′Ｃの温水に１時間漬け、コート膜に
異常がなければ順次温度を１０゜Ｃずつ上げ、各温度の
温水に１時間漬け、膜がはがれ始める温度をもつて、そ
のコート膜の耐温水性とした。その結果を表にする。こ
の表かられかる通り本発明によれば、２００℃という低
い基板温度でコートしても、３００℃で蒸着した膜（コ
ート２）と同じ耐久性のものが得られる。
に１ｍの高さから落した時の５５０ｒ１ｍの波長の光の
透過率の変化量を測定し、これを曇量としたものである
。また、温水によるはがれの試験は、コートした白色ガ
ラスを、まず４０′Ｃの温水に１時間漬け、コート膜に
異常がなければ順次温度を１０゜Ｃずつ上げ、各温度の
温水に１時間漬け、膜がはがれ始める温度をもつて、そ
のコート膜の耐温水性とした。その結果を表にする。こ
の表かられかる通り本発明によれば、２００℃という低
い基板温度でコートしても、３００℃で蒸着した膜（コ
ート２）と同じ耐久性のものが得られる。
本発明と同じ基板温度で従来の３層構成膜を蒸着したも
の（コート１）は、耐久性が本発明のものに較べはるか
に悪いことがわかる。実施例２ 透明合成樹脂ジエチレングリコール・ビス・アリルカー
ボネート製レンズ上に、第５図に示す反射防止膜のコー
トを行なつた。
の（コート１）は、耐久性が本発明のものに較べはるか
に悪いことがわかる。実施例２ 透明合成樹脂ジエチレングリコール・ビス・アリルカー
ボネート製レンズ上に、第５図に示す反射防止膜のコー
トを行なつた。
５０は、基板のレンズ、５１は厚さ約１ｐｍのＳｉＯ２
層、５２はＡｌ２Ｏ３、５３はＺｒＯ２、５４は厚さ２
０ｒ１ｍ（７）Ａｌ２Ｏ３の層、５５は厚さ頷ｍ（７）
ＭＯの層、５６はＭｇＦ′２の層である。
層、５２はＡｌ２Ｏ３、５３はＺｒＯ２、５４は厚さ２
０ｒ１ｍ（７）Ａｌ２Ｏ３の層、５５は厚さ頷ｍ（７）
ＭＯの層、５６はＭｇＦ′２の層である。
まず、レンズを装置した蒸着槽を２×
１０−５Ｔ０ｒｒまで排気し、層５１から層５５まで順
次電子ビーム加熱蒸着で蒸着した。
次電子ビーム加熱蒸着で蒸着した。
この時基板加熱は特に行なわなかつた。次に、Ｎを４×
１０−５Ｔ０ｒｒまで導入し、１３．５６ＭＨｚ１５０
０Ｗの高周波放電を起こし、Ａｒプラズマ中でＭｇＦ２
をコートした。
１０−５Ｔ０ｒｒまで導入し、１３．５６ＭＨｚ１５０
０Ｗの高周波放電を起こし、Ａｒプラズマ中でＭｇＦ２
をコートした。
比較用として、同じ方法で蒸着し、膜構成だけを変えた
２ものを作つた。１つは、層５５だけを除いたもの（コ
ートＲ１）、１つは、層５４だけを除いたもの（コート
Ｒ２）、他の１つは、５４，５５両層を除いたもの（コ
ートＲ３）である。
２ものを作つた。１つは、層５５だけを除いたもの（コ
ートＲ１）、１つは、層５４だけを除いたもの（コート
Ｒ２）、他の１つは、５４，５５両層を除いたもの（コ
ートＲ３）である。
ます、本実施例の反射防止膜の分光反射特性を第６図に
示す。また、実施例１と同じ仕方で試験した、落砂によ
る曇りと温水によるはがれの試験結果とを表にまとめる
。この表かられかる通り、本発明によるＭｇＦ′２を用
いた反射防止膜は、基板温度常温で合成樹脂上にコート
したものであるが、３００℃に基板加熱し′７′ｇ：ニ
．７Ｌ６デ門−［１．）に酎叶．ｉ姶ｆ巾皆飽１工のコ
ート２）に近い耐久性を示している。
示す。また、実施例１と同じ仕方で試験した、落砂によ
る曇りと温水によるはがれの試験結果とを表にまとめる
。この表かられかる通り、本発明によるＭｇＦ′２を用
いた反射防止膜は、基板温度常温で合成樹脂上にコート
したものであるが、３００℃に基板加熱し′７′ｇ：ニ
．７Ｌ６デ門−［１．）に酎叶．ｉ姶ｆ巾皆飽１工のコ
ート２）に近い耐久性を示している。
また、比較用のコート膜の耐久性の悪いことかられかる
ように、ＭＯの層が欠けても、ＡＩ２Ｏ３の層がかけて
も、ＭｇＦ２の耐久性が大幅に悪くなることがわかる。
金属の薄い層とＡｌ２Ｏ３との組み合わせが相乗効果を
生み、耐久性あるＭｇＦ２膜を低温で製造することが可
能になつたのである。ＭｇＦ２は、蒸着条件、特に、Ｍ
ｇＦ２が生長する下地の状態に非常に敏感に反応し、そ
の成生膜の特性を変える。
ように、ＭＯの層が欠けても、ＡＩ２Ｏ３の層がかけて
も、ＭｇＦ２の耐久性が大幅に悪くなることがわかる。
金属の薄い層とＡｌ２Ｏ３との組み合わせが相乗効果を
生み、耐久性あるＭｇＦ２膜を低温で製造することが可
能になつたのである。ＭｇＦ２は、蒸着条件、特に、Ｍ
ｇＦ２が生長する下地の状態に非常に敏感に反応し、そ
の成生膜の特性を変える。
本発明は、このＭｇＦ２の性質を理解し、硬く、耐候性
のあるＭｇＦ′２膜が生長する下地の膜構成を提供する
ことを可能にしたものである。なお、実施例１では、Ｍ
ｇＦ２の下地として、ＣｒとＡｌ２Ｏ３の組み合わせを
、実施例２では、ＭＯとＡｌ２Ｏ３の組み合わせを用い
たが、Ａｌ２Ｏ３と組み合わせる金属は、２００℃以下
の温度で固体である金属であれば、単元素のものであれ
、合金であれ、ＣｒあるいはＭＯと同等の効果を示す。
のあるＭｇＦ′２膜が生長する下地の膜構成を提供する
ことを可能にしたものである。なお、実施例１では、Ｍ
ｇＦ２の下地として、ＣｒとＡｌ２Ｏ３の組み合わせを
、実施例２では、ＭＯとＡｌ２Ｏ３の組み合わせを用い
たが、Ａｌ２Ｏ３と組み合わせる金属は、２００℃以下
の温度で固体である金属であれば、単元素のものであれ
、合金であれ、ＣｒあるいはＭＯと同等の効果を示す。
しかし、Ａｌ２Ｏ３のかわりに用いて、Ａｌ２Ｏ３と同
等の効果を示す金属酸化物、窒化物は見当らなかつた。
また、膜厚に関しては、Ａｌ２Ｏ３は１ｎｍから１０ｎ
ｎ１程度か、それ以上の厚さがあれは良いし、金属層に
ついては、１ｎｍから、せいぜい１０ｒ１ｍの厚さがあ
れば十分である。なお、Ａｌ２Ｏ３にＳｉＯ２や他の金
属酸化物がある程度混ぜ合わさつていても、本発明の効
果は保たれる。
等の効果を示す金属酸化物、窒化物は見当らなかつた。
また、膜厚に関しては、Ａｌ２Ｏ３は１ｎｍから１０ｎ
ｎ１程度か、それ以上の厚さがあれは良いし、金属層に
ついては、１ｎｍから、せいぜい１０ｒ１ｍの厚さがあ
れば十分である。なお、Ａｌ２Ｏ３にＳｉＯ２や他の金
属酸化物がある程度混ぜ合わさつていても、本発明の効
果は保たれる。
第１図は従来の３層反射防止膜の膜構成てあり、第２図
は、その分光反射特性である。
は、その分光反射特性である。
Claims (1)
- １ 複数の薄膜層を積層してなる反射防止膜において、
最上層がフッ化マグネシウムの層からなり、かつ前記フ
ッ化マグネシウムの層は酸化アルミニウムの層および前
記酸化アルミニウムの層の上に形成された金属の層から
なる土地層の上に形成されていることを特徴とする反射
防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54132578A JPS6042442B2 (ja) | 1979-10-15 | 1979-10-15 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54132578A JPS6042442B2 (ja) | 1979-10-15 | 1979-10-15 | 反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5657001A JPS5657001A (en) | 1981-05-19 |
| JPS6042442B2 true JPS6042442B2 (ja) | 1985-09-21 |
Family
ID=15084592
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54132578A Expired JPS6042442B2 (ja) | 1979-10-15 | 1979-10-15 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6042442B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60252301A (ja) * | 1984-05-29 | 1985-12-13 | Asahi Glass Co Ltd | 耐熱性の向上された光学体 |
| JP2513078Y2 (ja) * | 1992-08-18 | 1996-10-02 | 株式会社八光電機製作所 | 胴割れのない籾米の乾燥装置 |
| JPH10213708A (ja) * | 1997-01-29 | 1998-08-11 | Alps Electric Co Ltd | 光吸収フィルタ |
-
1979
- 1979-10-15 JP JP54132578A patent/JPS6042442B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5657001A (en) | 1981-05-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3708429B2 (ja) | 蒸着組成物の製造方法、蒸着組成物及び反射防止膜を有する光学部品の製造方法 | |
| JP3624082B2 (ja) | 反射防止膜及びその製造方法 | |
| JPH03109503A (ja) | プラスチック製光学部品の反射防止膜とその形成方法 | |
| JPS5860701A (ja) | 反射防止膜 | |
| JPH01273001A (ja) | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 | |
| JPS6042442B2 (ja) | 反射防止膜 | |
| JPH07104102A (ja) | ガラス製光学部品の撥水製反射防止膜およびその製造 方法 | |
| JPS60130704A (ja) | 合成樹脂基板の反射防止膜 | |
| CN113151783A (zh) | 一种组合型反射膜及其制备方法 | |
| JPH10123303A (ja) | 反射防止光学部品 | |
| KR920001277B1 (ko) | 합성 수지제 광학부품의 반사방지막 제조 방법 | |
| JPH10268107A (ja) | 反射防止膜付合成樹脂レンズ | |
| JP2815951B2 (ja) | 反射防止膜 | |
| JPH02291502A (ja) | プラスチックレンズ用多層反射防止膜 | |
| JPH0553001A (ja) | 合成樹脂製光学部品の多層反射防止膜 | |
| JPH07301703A (ja) | 高精度光学部品用反射防止膜 | |
| JP2815949B2 (ja) | 反射防止膜 | |
| JP2979327B2 (ja) | 低融点基体上蒸着反射防止膜 | |
| JPH03132601A (ja) | プラスチック製光学部品の反射防止膜とその形成方法 | |
| JPH0474681B2 (ja) | ||
| JP2693500B2 (ja) | 反射防止膜 | |
| JPH04352102A (ja) | 合成樹脂製光学部材の反射防止膜及びその形成方法 | |
| JPS60130703A (ja) | 合成樹脂基板の反射防止膜 | |
| JPH04156501A (ja) | 合成樹脂製光学部品への反射防止膜 | |
| JPS6363002A (ja) | レ−ザ用反射鏡 |