JPH02291501A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
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- JPH02291501A JPH02291501A JP1111497A JP11149789A JPH02291501A JP H02291501 A JPH02291501 A JP H02291501A JP 1111497 A JP1111497 A JP 1111497A JP 11149789 A JP11149789 A JP 11149789A JP H02291501 A JPH02291501 A JP H02291501A
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Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、例えばプラスチックレンズ等のプラスチック
基材上に設けられる反射防止膜に関する。
基材上に設けられる反射防止膜に関する。
[従来の技術]
ジエチレングリコールビスアリルヵーボネート樹脂(一
般にCR−39樹脂と呼ばれている)などのプラスチッ
ク基材の表面の反射特性を改善するために、このプラス
チック基材上に多層反射防止膜を設けることは良く知ら
れている。このような反射防止膜として、例えば特開昭
56−116003号公報には、基材側から数えて、二
酸化ケイ素からなる膜厚が3/2λの下地層と、二酸化
ジルコニウム層と二酸化ケイ素層によって構成される2
層等価膜からなる合計膜厚が約λ/4の第1層と、二酸
化ジルコニウムからなる膜厚が約λ/2の第2層と、二
酸化ケイ素からなる膜厚が約λ/4の第3層とを有する
反射防止膜が開示されている。
般にCR−39樹脂と呼ばれている)などのプラスチッ
ク基材の表面の反射特性を改善するために、このプラス
チック基材上に多層反射防止膜を設けることは良く知ら
れている。このような反射防止膜として、例えば特開昭
56−116003号公報には、基材側から数えて、二
酸化ケイ素からなる膜厚が3/2λの下地層と、二酸化
ジルコニウム層と二酸化ケイ素層によって構成される2
層等価膜からなる合計膜厚が約λ/4の第1層と、二酸
化ジルコニウムからなる膜厚が約λ/2の第2層と、二
酸化ケイ素からなる膜厚が約λ/4の第3層とを有する
反射防止膜が開示されている。
[発明が開示しようとする課題]
特開昭56−116003号公報に開示されている反射
防止膜は、充分な耐擦傷性、密着性を有するが、耐熱性
が不充分で、゜この反射防止膜を設けたプラスチックレ
ンズを加熱して例えばセルロ一ス製眼鏡フレームに枠入
れする際に、反射防止膜にクラックが生じやすいという
問題点があった。
防止膜は、充分な耐擦傷性、密着性を有するが、耐熱性
が不充分で、゜この反射防止膜を設けたプラスチックレ
ンズを加熱して例えばセルロ一ス製眼鏡フレームに枠入
れする際に、反射防止膜にクラックが生じやすいという
問題点があった。
またこの反射防止膜を施したプラスチックレンズの視感
反射率は約1.5%であり、この反射防止膜付きプラス
チックレンズを眼鏡レンズとして使用した場合、ゴース
ト現象は完全に解消されているとは言えないという問題
点があった。従ってファッション面から、プラスチック
レンズを基板としたときに、ゴースト現象が起りにくい
反射防止膜の開発が望まれていた。
反射率は約1.5%であり、この反射防止膜付きプラス
チックレンズを眼鏡レンズとして使用した場合、ゴース
ト現象は完全に解消されているとは言えないという問題
点があった。従ってファッション面から、プラスチック
レンズを基板としたときに、ゴースト現象が起りにくい
反射防止膜の開発が望まれていた。
従って本発明の目的は、耐擦傷性、密着性等の基本的性
質を満足するだけでなく、基板をプラスチックレンズと
したときに、従来の反射防止膜よりも耐熱性に優れ、加
熱時にクラックが生じることがなく、しかも反射防止効
果に優れ、ゴースト現象が起りにくい反射防止膜を提供
することにある。
質を満足するだけでなく、基板をプラスチックレンズと
したときに、従来の反射防止膜よりも耐熱性に優れ、加
熱時にクラックが生じることがなく、しかも反射防止効
果に優れ、ゴースト現象が起りにくい反射防止膜を提供
することにある。
[課題を解決するための手段]
本発明は上述の課題を解決するためになされたものであ
り、プラスチック基村上に設けられる反射防止膜におい
て、基材側から数えて、二酸化ケイ素からなる下地層;
二酸化チタン層、二酸化ケイ素層および二酸化チタン層
によって構成される3層等価膜からなる第1層;二酸化
チタンからなる第2層;及び二酸化ケイ素からなる第3
層を有してなり、前記3層等価膜からなる第1層中の二
酸化チタン層および前記第2層の二酸化チタンが基材に
酸素イオンビームを照射しながら蒸着されたものである
ことを特徴とする反射防止膜を要旨とするものである。
り、プラスチック基村上に設けられる反射防止膜におい
て、基材側から数えて、二酸化ケイ素からなる下地層;
二酸化チタン層、二酸化ケイ素層および二酸化チタン層
によって構成される3層等価膜からなる第1層;二酸化
チタンからなる第2層;及び二酸化ケイ素からなる第3
層を有してなり、前記3層等価膜からなる第1層中の二
酸化チタン層および前記第2層の二酸化チタンが基材に
酸素イオンビームを照射しながら蒸着されたものである
ことを特徴とする反射防止膜を要旨とするものである。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の反射防止膜は、プラスチック基村上に、下地層
を設け、次に反射防止効果を担う第1層、第2層及び第
3層を順次設けてなるものである。
を設け、次に反射防止効果を担う第1層、第2層及び第
3層を順次設けてなるものである。
反射防止膜は実質的にλ/4膜−λ/2膜λ/4膜を基
本膜設計とする反射防止層を有するのが好ましい。
本膜設計とする反射防止層を有するのが好ましい。
先ず下地層は、二酸化ケイ素からなり、その膜厚は実用
上0.45〜0.55λの範囲が好ましい。下地層を設
けた理由は、基材と反射防止膜との密着性を高め、かつ
反射防止膜の硬変を向上させて耐摩耗性を高めるためで
ある。
上0.45〜0.55λの範囲が好ましい。下地層を設
けた理由は、基材と反射防止膜との密着性を高め、かつ
反射防止膜の硬変を向上させて耐摩耗性を高めるためで
ある。
下地層を構成する物質として二酸化ケイ素を選択した理
由は、プラスチックは一般的に膨脹係数が大きく、石英
と比較すると、約2桁異なるが、二酸化ケイ素の蒸着膜
は、比較的にポーラスな膜であり、他の蒸着膜1巳比べ
プラスチックとの付着力が強く、また硬度が高いので優
れた耐摩耗性が得られ、しかも膨脹係数が大きいプラス
チックにも良く耐え、クラックが入りにくいからである
。
由は、プラスチックは一般的に膨脹係数が大きく、石英
と比較すると、約2桁異なるが、二酸化ケイ素の蒸着膜
は、比較的にポーラスな膜であり、他の蒸着膜1巳比べ
プラスチックとの付着力が強く、また硬度が高いので優
れた耐摩耗性が得られ、しかも膨脹係数が大きいプラス
チックにも良く耐え、クラックが入りにくいからである
。
またその膜厚の実用上好ましい範囲を0.45〜0.5
5λとした理由は、膜厚をこの範囲にすると基材と反射
防止膜との密着性が高まり、かつ反射防止膜の硬度も向
上して耐摩耗性が高まるだけでなく、後記の第1層、第
2層および第3層の組み合せからなる反射防止層の反射
防止効果を最大限に発揮することができるからである。
5λとした理由は、膜厚をこの範囲にすると基材と反射
防止膜との密着性が高まり、かつ反射防止膜の硬度も向
上して耐摩耗性が高まるだけでなく、後記の第1層、第
2層および第3層の組み合せからなる反射防止層の反射
防止効果を最大限に発揮することができるからである。
次に、前記の下地層の上に形成される第1層は、二酸化
チタン層、二酸化ケイ素層および二酸化チタン層によっ
て構成される3層等価膜である。この3層等価膜は前述
のλ/4膜一λ/2膜λ/4膜からなる基本膜設計にお
いて、最初のλ/4膜に相当する。その膜厚は実用的に
は0.22〜0.28λの範囲が好ましい。第1層を構
成する物質として二酸化チタンと二酸化ケイ素とを選択
し、下地層から数えて二酸化チタン層、二酸化ケイ素層
および二酸化チタン層の順で成膜された3層等価膜とし
た理由は、以下の(イ).(口)に述べる通りである。
チタン層、二酸化ケイ素層および二酸化チタン層によっ
て構成される3層等価膜である。この3層等価膜は前述
のλ/4膜一λ/2膜λ/4膜からなる基本膜設計にお
いて、最初のλ/4膜に相当する。その膜厚は実用的に
は0.22〜0.28λの範囲が好ましい。第1層を構
成する物質として二酸化チタンと二酸化ケイ素とを選択
し、下地層から数えて二酸化チタン層、二酸化ケイ素層
および二酸化チタン層の順で成膜された3層等価膜とし
た理由は、以下の(イ).(口)に述べる通りである。
(イ)これらの2物質からなる3層等価膜にすることに
より、第1層の屈折率を例えば1.65〜1.80に、
そして膜厚を例えば0.22〜0.28λとそれぞれ所
望の値に調整でき、この第1層と、下地層および第2層
、第3層との組み合せによって優れた反射防止効果が得
られる。
より、第1層の屈折率を例えば1.65〜1.80に、
そして膜厚を例えば0.22〜0.28λとそれぞれ所
望の値に調整でき、この第1層と、下地層および第2層
、第3層との組み合せによって優れた反射防止効果が得
られる。
(口)二酸化チタン層と二酸化ケイ素層によって形成さ
れる3層等価膜は耐熱性が高く、かつ前記下地層の二酸
化ケイ素に対しても後記第2層の二酸化チタンに対して
も付着力がある。
れる3層等価膜は耐熱性が高く、かつ前記下地層の二酸
化ケイ素に対しても後記第2層の二酸化チタンに対して
も付着力がある。
次に前記の第1層の上に形成される第2層は、二酸化チ
タンからなり、前述のλ/4膜一λ/2膜一λ/4膜か
らなる基本膜設計において、λ/2膜に相当し、その膜
厚は実用的には0.45〜0.55λの範囲である。第
2層を構成する物質として、二酸化チタンを選択した理
由は、以下に述べる通りである。
タンからなり、前述のλ/4膜一λ/2膜一λ/4膜か
らなる基本膜設計において、λ/2膜に相当し、その膜
厚は実用的には0.45〜0.55λの範囲である。第
2層を構成する物質として、二酸化チタンを選択した理
由は、以下に述べる通りである。
(a)二酸化チタンは屈折率が約2.40と高屈折率物
質であり、高屈折率の二酸化チタンからなる、この第2
層を、二酸化チタンと二酸化ケイ素とを用いた前記の低
屈折率の3層等価膜からなる第1層と後記の低屈折率の
二酸化ケイ素からなる第3層との間に配置させることに
より、所望の反射防止効果が得られる。
質であり、高屈折率の二酸化チタンからなる、この第2
層を、二酸化チタンと二酸化ケイ素とを用いた前記の低
屈折率の3層等価膜からなる第1層と後記の低屈折率の
二酸化ケイ素からなる第3層との間に配置させることに
より、所望の反射防止効果が得られる。
(b)二酸化チタンは第1層および第3層に対して付着
力がある。
力がある。
尚、実用的には第2層の屈折率は2.40〜2.45の
範囲である。
範囲である。
次に前記の第2層の上に形成される第3層は、二酸化ケ
イ素からなり、前述のλ/4膜一λ/2膜−λ/4膜か
らなる基本膜設計において、最後のλ/4膜に相当し、
その膜厚は実用的には0.22〜0.28λの範囲であ
る。第3層を構成する物質として、二酸化ケイ素を選択
した理由は、以下に述べる通りである。
イ素からなり、前述のλ/4膜一λ/2膜−λ/4膜か
らなる基本膜設計において、最後のλ/4膜に相当し、
その膜厚は実用的には0.22〜0.28λの範囲であ
る。第3層を構成する物質として、二酸化ケイ素を選択
した理由は、以下に述べる通りである。
■ 二酸化ケイ素は屈折率約1.46の低屈折率物質で
あり、この屈折率の二酸化ケイ素からなる第3層を、低
屈折率の第1層上に設けられた高屈折率の第2層の上に
設けることにより、所望の反射防止効果が得られる。
あり、この屈折率の二酸化ケイ素からなる第3層を、低
屈折率の第1層上に設けられた高屈折率の第2層の上に
設けることにより、所望の反射防止効果が得られる。
■ 二酸化ケイ素膜は膜強度が強く、かつ二酸化チタン
からなる第2層に対する付着力が強い。
からなる第2層に対する付着力が強い。
尚、実用的には第3層の屈折率は1.45〜1.47の
範囲である。
範囲である。
上述の如く本発明の反射防止膜は、反射防止効果を担う
層が3層からなるが、3層に限定した理由は以下の通り
である。
層が3層からなるが、3層に限定した理由は以下の通り
である。
(I)反射防止膜の層数を増していくと、一般に反射防
止域は広くなるが、層数が多い程、製品毎の反射防止膜
の膜厚の再現性が低下し、干渉色の再現性も悪化する。
止域は広くなるが、層数が多い程、製品毎の反射防止膜
の膜厚の再現性が低下し、干渉色の再現性も悪化する。
例えば眼鏡レンズの場合、一対で使用するため左右のレ
ンズの膜厚の誤差が大きくて、干渉色の再現性が悪化す
ると、商品価値が低下してしまう。
ンズの膜厚の誤差が大きくて、干渉色の再現性が悪化す
ると、商品価値が低下してしまう。
(ii)反射防止膜を構成する層の数を増していくと、
一般に反射防止膜にクラックが発生しやすくなるが、3
層からなる本発明の反射防止膜においてはクラックが発
生しにくい。
一般に反射防止膜にクラックが発生しやすくなるが、3
層からなる本発明の反射防止膜においてはクラックが発
生しにくい。
(11i)物質および膜厚を上述の如く設定すれば、3
層でも充分な反射防止効果が得られる。
層でも充分な反射防止効果が得られる。
本発明の反射防止膜においては、前記3層等価膜からな
る第1層中の二酸化チタン層および第2層の二酸化チタ
ンの蒸着方法は、基材に酸素イオンビームを照射しなが
ら蒸着するイオンビームアシスト法に限定される。その
理由は、このイオンビームアシスト法によらないと、硬
度が十分な二酸化チタン層を形成することができず、ま
た二酸化チタンの屈折率が2.40以上までにならない
からである。このイオンビームアシスト法における条件
(例えば基材への酸素イオンビームの照射方法、原料で
ある二酸化チタンの蒸発方法など)は通常採用されてい
る条件の中から適宜選択される。
る第1層中の二酸化チタン層および第2層の二酸化チタ
ンの蒸着方法は、基材に酸素イオンビームを照射しなが
ら蒸着するイオンビームアシスト法に限定される。その
理由は、このイオンビームアシスト法によらないと、硬
度が十分な二酸化チタン層を形成することができず、ま
た二酸化チタンの屈折率が2.40以上までにならない
からである。このイオンビームアシスト法における条件
(例えば基材への酸素イオンビームの照射方法、原料で
ある二酸化チタンの蒸発方法など)は通常採用されてい
る条件の中から適宜選択される。
なお、上述の如く第1層中の二酸化チタン層および第2
層の二酸化チタンの蒸着はイオンビームアシスト法によ
り行なわれるが、残りの下地層の二酸化ケイ素、3層等
価膜からなる第1層中の二酸化ケイ素層、第3層の二酸
化ケイ素は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ス
パッタリング法、CVD法などの通常の成膜手段により
形成される。
層の二酸化チタンの蒸着はイオンビームアシスト法によ
り行なわれるが、残りの下地層の二酸化ケイ素、3層等
価膜からなる第1層中の二酸化ケイ素層、第3層の二酸
化ケイ素は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ス
パッタリング法、CVD法などの通常の成膜手段により
形成される。
本発明の反射防止膜が形成されるプラスチック基材とし
ては、プラスチックレンズを用いるのが好ましく、その
例としてセルロース系プラスチックレンズ、ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネート単独重合体又はジエ
チレングリコールビスアリルカーボネートと1種以上の
他のモノマーとの共重合体からなるプラスチックレンズ
、ポリカーボネート系プラスチックレンズ、ポリスチレ
ン系プラスチックレンズ、ポリウレタン系プラスチック
レンズ、ポリ塩化ビニル系プラスチックレンズ等が挙げ
られる。
ては、プラスチックレンズを用いるのが好ましく、その
例としてセルロース系プラスチックレンズ、ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネート単独重合体又はジエ
チレングリコールビスアリルカーボネートと1種以上の
他のモノマーとの共重合体からなるプラスチックレンズ
、ポリカーボネート系プラスチックレンズ、ポリスチレ
ン系プラスチックレンズ、ポリウレタン系プラスチック
レンズ、ポリ塩化ビニル系プラスチックレンズ等が挙げ
られる。
これらのプラスチックレンズ基材は表面処理を施したも
のでも良く、表面処理の具体例としてはプラスチックレ
ンズ基村上に有機物(例えば有機ケイ素化合物)、無機
物(例えばコロイダルシリ力)またはこれらの混合物か
らなる表面処理膜を形成することが挙げられる。
のでも良く、表面処理の具体例としてはプラスチックレ
ンズ基村上に有機物(例えば有機ケイ素化合物)、無機
物(例えばコロイダルシリ力)またはこれらの混合物か
らなる表面処理膜を形成することが挙げられる。
[実施例コ
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるもではない。
発明はこれらの実施例に限定されるもではない。
なお実施例および比較例で得られた反射防止膜は、以下
に示す試験方法により、諸物性を測定した。
に示す試験方法により、諸物性を測定した。
(a)耐擦傷性
#0000のスチールウールにより表面を往復回数で1
0回こすって耐擦傷性を次のように判定した。
0回こすって耐擦傷性を次のように判定した。
A:わずかに傷がつく
B:多く傷がつく
C:膜のはがれが生じる
(b)密着性
J Is−Z−1522i:従イコ゛ハン目を10×1
0個作りセロファン粘着テープにより剥離試,験を3回
行ない、残ったゴバン目の数を数えた。
0個作りセロファン粘着テープにより剥離試,験を3回
行ない、残ったゴバン目の数を数えた。
(e)視感透過率、視感反射率
日立製作所製340自記分光光度計を用い、視感透過率
、視感反射率を測定した。
、視感反射率を測定した。
(d)耐熱性
電気炉内にて80℃で10分間加熱しクラックの発生を
調べ、次のように判定した。
調べ、次のように判定した。
○:クラック発生せず
×:クラック発生
実施例1
プラスチックレンズとして、ジエチレングリコールビス
アリルカーボネート重合体系プラスチックレンズ(HO
YA(1’!)製Hi−Lux,屈折率1.499)を
用い、このプラスチックレンズ上に先ず真空蒸着法(真
空度2X10−5Tor r)により二酸化ケイ素から
なる下地層[屈折率1.46、膜厚0.5λ(λは55
0nmである)]を形成した。
アリルカーボネート重合体系プラスチックレンズ(HO
YA(1’!)製Hi−Lux,屈折率1.499)を
用い、このプラスチックレンズ上に先ず真空蒸着法(真
空度2X10−5Tor r)により二酸化ケイ素から
なる下地層[屈折率1.46、膜厚0.5λ(λは55
0nmである)]を形成した。
次にこの下地層の上に、プラスチックレンズを加熱した
状態でプラスチックレンズに酸素イオンビームを照射す
るイオンビームアシスト法にて二酸化チタンからなる層
(膜厚0.06λ)、真空蒸着法にて二酸化ケイ素から
なる層(膜厚0. 12λ)、さらにイオンビームア
シスト法にて二酸化チタンからなる層(膜厚0.06λ
)よりなる3層等価膜である第1層[屈折率1.70、
膜厚0.24λ]を形成した。
状態でプラスチックレンズに酸素イオンビームを照射す
るイオンビームアシスト法にて二酸化チタンからなる層
(膜厚0.06λ)、真空蒸着法にて二酸化ケイ素から
なる層(膜厚0. 12λ)、さらにイオンビームア
シスト法にて二酸化チタンからなる層(膜厚0.06λ
)よりなる3層等価膜である第1層[屈折率1.70、
膜厚0.24λ]を形成した。
次にこの第1層の上に、プラスチックレンズを加熱した
状態でプラスチックレンズに酸素イオンビームを照射す
るイオンビームアシスト法により二酸化チタンからなる
第2層(屈折率2.40、膜厚0.5λ)を形成した。
状態でプラスチックレンズに酸素イオンビームを照射す
るイオンビームアシスト法により二酸化チタンからなる
第2層(屈折率2.40、膜厚0.5λ)を形成した。
次にこの第2層の上に、真空蒸着法(真空度2XIO−
5Torr)により二酸化ケイ素からなる第3層(屈折
率1.46、膜厚0.25λ)を形成して、反射防止膜
付きプラスチックレンズを得た。
5Torr)により二酸化ケイ素からなる第3層(屈折
率1.46、膜厚0.25λ)を形成して、反射防止膜
付きプラスチックレンズを得た。
得られた反射防止膜付きプラスチックレンスの試、験結
果を、表−1に示す。同表に示すように、実施例1で得
られた反射防止膜付きプラスチックレンズは、耐擦傷性
、密着性が良好であるだけでなく、耐熱性に優れ、視感
反射率が0.4%と反射防止効果に優れたものであった
。なお、実施例1で得られた反射防止膜付きプラスチッ
クレンズの反射率曲線を第1図に示す。
果を、表−1に示す。同表に示すように、実施例1で得
られた反射防止膜付きプラスチックレンズは、耐擦傷性
、密着性が良好であるだけでなく、耐熱性に優れ、視感
反射率が0.4%と反射防止効果に優れたものであった
。なお、実施例1で得られた反射防止膜付きプラスチッ
クレンズの反射率曲線を第1図に示す。
実施例2
プラスチックレンズとしてジエチレングリコールビスア
リルカーボネート共重合体系プラスチックレンズ(HO
YAe$3製Hi−LuxII、屈折率1.56)を用
い、表−1に示す膜構成にて反射防止膜付きプラスチッ
クレンズを得た。実施例2で得られた反射防止膜付きプ
ラスチックレンズも表−1に示すように、耐擦傷性、密
着性が良好であるだけでなく、耐熱性に優れ、視感反射
率が0.4%と反射防止効果に優れたものであった。
リルカーボネート共重合体系プラスチックレンズ(HO
YAe$3製Hi−LuxII、屈折率1.56)を用
い、表−1に示す膜構成にて反射防止膜付きプラスチッ
クレンズを得た。実施例2で得られた反射防止膜付きプ
ラスチックレンズも表−1に示すように、耐擦傷性、密
着性が良好であるだけでなく、耐熱性に優れ、視感反射
率が0.4%と反射防止効果に優れたものであった。
なお実施例2で得られた反射防止膜付きプラスチックレ
ンズの反射率曲線を第2図に示す。
ンズの反射率曲線を第2図に示す。
比較例1
プラスチックレンズとしてジエチレングリコールビスア
リルカーボネート重合体系プラスチックレンズ(HOY
AH製Hi−Lux)を用いた。
リルカーボネート重合体系プラスチックレンズ(HOY
AH製Hi−Lux)を用いた。
このプラスチックレンズ上に、特開昭56−11600
3号公報に記載の反射防止膜と同様に、二酸化ケイ素か
らなる下地層(膜厚1.5λ)を設けた後、二酸化ジル
コニウム層(膜厚0.06λ)と二酸化ケイ素層(膜厚
0.08λ)との2層等価膜からなる第1層(合計膜厚
0.14λ)、二酸化ジルコニウムからなる第2層(膜
厚0.5λ)および二酸化ケイ素からなる第3層(膜厚
0.25λ)を順次設けて、本比較例の反射防止膜付き
プラスチックレンズを得た。
3号公報に記載の反射防止膜と同様に、二酸化ケイ素か
らなる下地層(膜厚1.5λ)を設けた後、二酸化ジル
コニウム層(膜厚0.06λ)と二酸化ケイ素層(膜厚
0.08λ)との2層等価膜からなる第1層(合計膜厚
0.14λ)、二酸化ジルコニウムからなる第2層(膜
厚0.5λ)および二酸化ケイ素からなる第3層(膜厚
0.25λ)を順次設けて、本比較例の反射防止膜付き
プラスチックレンズを得た。
本比較例で得られた反射防止膜付きプラスチックレンズ
は、耐擦傷性、密着性は良好であったが、耐熱性が不充
分で、しかも視感反射率が1.5%と実施例1の反射防
止膜付きプラスチックレンズと比べ反射防止効果が劣る
ものであった。なお比較例1で得られた反射防止膜付き
プラスチックレンズの反射率曲線を第3図に示す。
は、耐擦傷性、密着性は良好であったが、耐熱性が不充
分で、しかも視感反射率が1.5%と実施例1の反射防
止膜付きプラスチックレンズと比べ反射防止効果が劣る
ものであった。なお比較例1で得られた反射防止膜付き
プラスチックレンズの反射率曲線を第3図に示す。
比較例2
プラスチックレンズとして、ジエチレングリコールビス
アリルカーボネート重合体系プラスチックレンズ(HO
YAQI製Hi−Lux)の代りにジエチレングリコー
ルビスアリルカーボネート共重合体系プラスチックレン
ズ(HOYA鈎製Hi−LuxII)を用いた以外は比
較例1と同様にして反射防止膜付きプラスチックレンズ
を得た。本比較例で得られた反射防止膜付きプラスチッ
クレンズは、耐擦傷性、密着性が良好であったが、耐熱
性が不充分で、しかも視感反射率が1.5%と実施例2
の反射防止膜付きプラスチックレンズと比べ反射防止効
果が劣るものであった。なお比較例4で得られた反射防
止膜付きプラスチックレンズの反射率曲線を第4図に示
す。
アリルカーボネート重合体系プラスチックレンズ(HO
YAQI製Hi−Lux)の代りにジエチレングリコー
ルビスアリルカーボネート共重合体系プラスチックレン
ズ(HOYA鈎製Hi−LuxII)を用いた以外は比
較例1と同様にして反射防止膜付きプラスチックレンズ
を得た。本比較例で得られた反射防止膜付きプラスチッ
クレンズは、耐擦傷性、密着性が良好であったが、耐熱
性が不充分で、しかも視感反射率が1.5%と実施例2
の反射防止膜付きプラスチックレンズと比べ反射防止効
果が劣るものであった。なお比較例4で得られた反射防
止膜付きプラスチックレンズの反射率曲線を第4図に示
す。
[発明の効果]
以上詳述したように、本発明の反射防止膜は、これをプ
ラスチック基村上に設けたときに耐擦傷性、密着性が良
好であるばかりでな《、耐熱性が良好でクラックも発生
しに《く、また視感反射率が極めて低く、優れた反射防
止効果を有し、コースト現象も解消されるので、反射防
止能を有する眼鏡用レンズとして特に好適に用いること
ができる。
ラスチック基村上に設けたときに耐擦傷性、密着性が良
好であるばかりでな《、耐熱性が良好でクラックも発生
しに《く、また視感反射率が極めて低く、優れた反射防
止効果を有し、コースト現象も解消されるので、反射防
止能を有する眼鏡用レンズとして特に好適に用いること
ができる。
第1図は実施例1の反射防止膜付きプラスチックレンズ
における反射率曲線図、第2図は実施例2の反射防止膜
付きプラスチックレンズにおける反射率曲線図、第3図
は比較例1の反射防止膜付きプラスチックレンズにおけ
る反射率曲線図、第4図は比較例2の反射防止膜付きプ
ラスチックレンズにおける反射率曲線図である。
における反射率曲線図、第2図は実施例2の反射防止膜
付きプラスチックレンズにおける反射率曲線図、第3図
は比較例1の反射防止膜付きプラスチックレンズにおけ
る反射率曲線図、第4図は比較例2の反射防止膜付きプ
ラスチックレンズにおける反射率曲線図である。
Claims (1)
- (1)プラスチック基材上に設けられる反射防止膜にお
いて、基材側から数えて、二酸化ケイ素からなる下地層
;二酸化チタン層、二酸化ケイ素層および二酸化チタン
層によって構成される3層等価膜からなる第1層;二酸
化チタンからなる第2層;及び二酸化ケイ素からなる第
3層を有してなり、前記3層等価膜からなる第1層中の
二酸化チタン層および前記第2層の二酸化チタンが基材
に酸素イオンビームを照射しながら蒸着されたものであ
ることを特徴とする反射防止膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1111497A JP2776553B2 (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1111497A JP2776553B2 (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | 反射防止膜 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02291501A true JPH02291501A (ja) | 1990-12-03 |
JP2776553B2 JP2776553B2 (ja) | 1998-07-16 |
Family
ID=14562789
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1111497A Expired - Lifetime JP2776553B2 (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2776553B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6606196B2 (en) | 2000-08-29 | 2003-08-12 | Hoya Corporation | Optical element having antireflection film |
US6627320B2 (en) | 2000-11-30 | 2003-09-30 | Hoya Corporation | Method for producing composition for vapor deposition, composition for vapor deposition, and method for producing optical element with antireflection film |
US7106515B2 (en) | 2000-11-13 | 2006-09-12 | Hoya Corporation | Composition for vapor deposition, method for forming an antireflection film, and optical element |
JP2010529510A (ja) * | 2007-06-13 | 2010-08-26 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | イオンアシストの下で部分的に形成された下地層を含む反射防止性被膜で被覆される光学物品とその製造方法 |
CN113862616A (zh) * | 2021-09-30 | 2021-12-31 | 台州星星光电科技有限公司 | 一种增透抗uv车载显示面板的一次镀膜成型方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62100701A (ja) * | 1985-10-29 | 1987-05-11 | Showa Denko Kk | 反射防止被膜を有するプラスチツク製光学部品の製造方法 |
JPS63266402A (ja) * | 1987-04-24 | 1988-11-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 反射防止膜 |
-
1989
- 1989-04-28 JP JP1111497A patent/JP2776553B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62100701A (ja) * | 1985-10-29 | 1987-05-11 | Showa Denko Kk | 反射防止被膜を有するプラスチツク製光学部品の製造方法 |
JPS63266402A (ja) * | 1987-04-24 | 1988-11-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 反射防止膜 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6606196B2 (en) | 2000-08-29 | 2003-08-12 | Hoya Corporation | Optical element having antireflection film |
EP1184685A3 (en) * | 2000-08-29 | 2004-04-14 | Hoya Corporation | Optical element having anti-reflection film |
US7106515B2 (en) | 2000-11-13 | 2006-09-12 | Hoya Corporation | Composition for vapor deposition, method for forming an antireflection film, and optical element |
US6627320B2 (en) | 2000-11-30 | 2003-09-30 | Hoya Corporation | Method for producing composition for vapor deposition, composition for vapor deposition, and method for producing optical element with antireflection film |
JP2010529510A (ja) * | 2007-06-13 | 2010-08-26 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | イオンアシストの下で部分的に形成された下地層を含む反射防止性被膜で被覆される光学物品とその製造方法 |
CN113862616A (zh) * | 2021-09-30 | 2021-12-31 | 台州星星光电科技有限公司 | 一种增透抗uv车载显示面板的一次镀膜成型方法 |
CN113862616B (zh) * | 2021-09-30 | 2023-10-20 | 台州星星光电科技有限公司 | 一种增透抗uv车载显示面板的一次镀膜成型方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2776553B2 (ja) | 1998-07-16 |
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