JP2002202401A - 反射防止膜およびそれを備えたプラスチック光学部品 - Google Patents
反射防止膜およびそれを備えたプラスチック光学部品Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラスチック基体上に形成する反射防止膜の
反射防止性能を向上させると同時に、密着性、表面硬
度、耐湿度性も維持・向上させる。 【解決手段】 反射防止膜の最外層をＳｉＯ2又はＳｉ
Ｏを主成分とする層とし、その次の層をＭｇＦ2、Ｎａ3
ＡｌＦ6、Ｎａ5Ａｌ3Ｆ14、ＡｌＦ3、ＢａＦ2、ＣａＦ2
及びＳｒＦ2からなる群から選ばれた１つのフッ化物を
主成分とする層とする。ここで取り扱いが容易なことか
ら前記フッ化物としてはＭｇＦ2が好ましい。また、表
面硬度および耐湿度性の一層の向上を図る観点から、最
外層の層厚を２０〜６０ｎｍの範囲とするのが好まし
い。
反射防止性能を向上させると同時に、密着性、表面硬
度、耐湿度性も維持・向上させる。 【解決手段】 反射防止膜の最外層をＳｉＯ2又はＳｉ
Ｏを主成分とする層とし、その次の層をＭｇＦ2、Ｎａ3
ＡｌＦ6、Ｎａ5Ａｌ3Ｆ14、ＡｌＦ3、ＢａＦ2、ＣａＦ2
及びＳｒＦ2からなる群から選ばれた１つのフッ化物を
主成分とする層とする。ここで取り扱いが容易なことか
ら前記フッ化物としてはＭｇＦ2が好ましい。また、表
面硬度および耐湿度性の一層の向上を図る観点から、最
外層の層厚を２０〜６０ｎｍの範囲とするのが好まし
い。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カメラや複写機、
ファクシミリ、プリンターなどの光学機器、携帯電話な
どの表示部に用いられるプラスチック部品に形成する反
射防止膜およびそれを備えたプラスチック光学部品に関
するものである。
ファクシミリ、プリンターなどの光学機器、携帯電話な
どの表示部に用いられるプラスチック部品に形成する反
射防止膜およびそれを備えたプラスチック光学部品に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】プラスチックは、ガラスに比べて軽量
で、加工性および耐衝撃性に優れ、プラスチック成形技
術の進歩も相まって、近年では様々な用途に広く使用さ
れている。光学の分野でも小型・軽量化の市場動向に合
わせて、レンズやプリズム、携帯電話や携帯端末の表示
画面の保護板などの光学部品にプラスチックが用いられ
るようになってきた。例えばプロジェクターの投影レン
ズといった従来はガラス製であった光学部品に、最近で
はプラスチック製のものが用いられるようになってき
た。またプラスチック材料には、ガラスでは作製が困難
であった曲率の大きいレンズでも容易に作製できるとい
う特長もある。
で、加工性および耐衝撃性に優れ、プラスチック成形技
術の進歩も相まって、近年では様々な用途に広く使用さ
れている。光学の分野でも小型・軽量化の市場動向に合
わせて、レンズやプリズム、携帯電話や携帯端末の表示
画面の保護板などの光学部品にプラスチックが用いられ
るようになってきた。例えばプロジェクターの投影レン
ズといった従来はガラス製であった光学部品に、最近で
はプラスチック製のものが用いられるようになってき
た。またプラスチック材料には、ガラスでは作製が困難
であった曲率の大きいレンズでも容易に作製できるとい
う特長もある。
【０００３】ところで、光学部品では反射を防止するた
めに部品の基体表面に反射防止膜を形成することがあ
る。この反射防止膜の最外層を屈折率の低い層にすると
優れた反射防止効果が得られるため、従来のガラス製の
光学部品では最外層を屈折率の低いＭｇＦ2で一般的に
形成していた。このような反射防止膜の形成は通常、基
体を３００℃程度の高温に加熱して真空蒸着により行っ
ていた。
めに部品の基体表面に反射防止膜を形成することがあ
る。この反射防止膜の最外層を屈折率の低い層にすると
優れた反射防止効果が得られるため、従来のガラス製の
光学部品では最外層を屈折率の低いＭｇＦ2で一般的に
形成していた。このような反射防止膜の形成は通常、基
体を３００℃程度の高温に加熱して真空蒸着により行っ
ていた。
【０００４】ところがプラスチックはガラスに比べて耐
熱性に劣るため前記温度まで加熱することができず、無
加熱又は低温加熱で成膜しなければならない。このよう
な成膜条件でＭｇＦ2層を形成すると、層の密着性や表
面硬度、耐湿度性が低下し実使用に耐えなかった。そこ
で、プラスチック光学部品の場合には、無加熱または低
温加熱での成膜でも優れた密着性、表面硬度、耐湿度性
が得られるＳｉＯ2を、ＭｇＦ2に代えて最外層の材料と
して用いていた。
熱性に劣るため前記温度まで加熱することができず、無
加熱又は低温加熱で成膜しなければならない。このよう
な成膜条件でＭｇＦ2層を形成すると、層の密着性や表
面硬度、耐湿度性が低下し実使用に耐えなかった。そこ
で、プラスチック光学部品の場合には、無加熱または低
温加熱での成膜でも優れた密着性、表面硬度、耐湿度性
が得られるＳｉＯ2を、ＭｇＦ2に代えて最外層の材料と
して用いていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ＳｉＯ
2とＭｇＦ2の屈折率を比較すると、ＳｉＯ2が１．４７
〜１．４７であるのに対して、ＭｇＦ2は１．３８〜
１．３９と低く、反射防止性能の点では屈折率の低いＭ
ｇＦ2が優れている。
2とＭｇＦ2の屈折率を比較すると、ＳｉＯ2が１．４７
〜１．４７であるのに対して、ＭｇＦ2は１．３８〜
１．３９と低く、反射防止性能の点では屈折率の低いＭ
ｇＦ2が優れている。
【０００６】そこで本発明はこのような従来の問題に鑑
みてなされたものであり、プラスチック基体上に形成す
る反射防止膜において、反射防止性能に優れると同時
に、密着性、表面硬度、耐湿度性にも優れたものを提供
することをその目的とするものである。また本発明の目
的は、反射防止性能が優れると同時に、表面硬度、耐湿
度性にも優れたプラスチック光学部品を提供することに
ある。
みてなされたものであり、プラスチック基体上に形成す
る反射防止膜において、反射防止性能に優れると同時
に、密着性、表面硬度、耐湿度性にも優れたものを提供
することをその目的とするものである。また本発明の目
的は、反射防止性能が優れると同時に、表面硬度、耐湿
度性にも優れたプラスチック光学部品を提供することに
ある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、プラス
チック基体に形成する反射防止膜であって、最外層をＳ
ｉＯ2又はＳｉＯを主成分とする層（以下「ＳｉＯX層」
と記すことがある）とし、その次の層をＭｇＦ2、Ｎａ3
ＡｌＦ6、Ｎａ5Ａｌ3Ｆ14、ＡｌＦ3、ＢａＦ2、ＣａＦ2
及びＳｒＦ2からなる群から選ばれた１つのフッ化物を
主成分とする層（以下「フッ化物層」と記すことがあ
る）としたことを特徴とする反射防止膜が提供される。
チック基体に形成する反射防止膜であって、最外層をＳ
ｉＯ2又はＳｉＯを主成分とする層（以下「ＳｉＯX層」
と記すことがある）とし、その次の層をＭｇＦ2、Ｎａ3
ＡｌＦ6、Ｎａ5Ａｌ3Ｆ14、ＡｌＦ3、ＢａＦ2、ＣａＦ2
及びＳｒＦ2からなる群から選ばれた１つのフッ化物を
主成分とする層（以下「フッ化物層」と記すことがあ
る）としたことを特徴とする反射防止膜が提供される。
【０００８】ここで、取り扱いが容易であることから前
記フッ化物の中でもＭｇＦ2が特に好ましい。また、表
面硬度および耐湿度性の一層の向上を図る観点から、Ｓ
ｉＯ 2又はＳｉＯを主成分とする前記最外層の層厚を２
０〜６０ｎｍの範囲とするのが好ましい。
記フッ化物の中でもＭｇＦ2が特に好ましい。また、表
面硬度および耐湿度性の一層の向上を図る観点から、Ｓ
ｉＯ 2又はＳｉＯを主成分とする前記最外層の層厚を２
０〜６０ｎｍの範囲とするのが好ましい。
【０００９】また本発明によれば、前記の反射防止膜を
プラスチック基体上に形成したことを特徴とするプラス
チック光学部品が提供される。
プラスチック基体上に形成したことを特徴とするプラス
チック光学部品が提供される。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明者等はプラスチック基体上
に形成する反射防止膜において、反射防止性能が優れる
と同時に、密着性、表面硬度、耐湿度性にも優れたもの
が得られないか鋭意検討を重ねた結果、無加熱又は低温
加熱の成膜条件でも優れた表面硬度、耐湿度性を示すＳ
ｉＯX層を最外層とし、屈折率が低く優れた反射防止性
能を有するフッ化物層をその次の層とすればよいことを
見出し本発明をなすに至った。
に形成する反射防止膜において、反射防止性能が優れる
と同時に、密着性、表面硬度、耐湿度性にも優れたもの
が得られないか鋭意検討を重ねた結果、無加熱又は低温
加熱の成膜条件でも優れた表面硬度、耐湿度性を示すＳ
ｉＯX層を最外層とし、屈折率が低く優れた反射防止性
能を有するフッ化物層をその次の層とすればよいことを
見出し本発明をなすに至った。
【００１１】すなわち、屈折率の低いフッ化物層を基体
に形成することにより反射防止性能を向上させる一方、
無加熱又は低温加熱の成膜条件に起因する当該層の密着
性、表面硬度、耐湿度性の低下という欠点を、前記成膜
条件でも優れた密着性や表面硬度、耐湿度性を示すＳｉ
ＯX層を最外層として形成することにより解消したので
ある。
に形成することにより反射防止性能を向上させる一方、
無加熱又は低温加熱の成膜条件に起因する当該層の密着
性、表面硬度、耐湿度性の低下という欠点を、前記成膜
条件でも優れた密着性や表面硬度、耐湿度性を示すＳｉ
ＯX層を最外層として形成することにより解消したので
ある。
【００１２】本発明の反射防止膜は、少なくとも最外層
としてＳｉＯX層と、その次の層としてフッ化物層とを
有すればよい。もちろん広帯域の光反射を防止するため
に、低屈折率層および高屈折率層を基体との間にさらに
順次積層させた構造としても構わない。またＳｉＯX層
とフッ化物層のそれぞれの層には、本発明の効果を害さ
ない範囲において従来公知の添加物を添加しても構わな
い。
としてＳｉＯX層と、その次の層としてフッ化物層とを
有すればよい。もちろん広帯域の光反射を防止するため
に、低屈折率層および高屈折率層を基体との間にさらに
順次積層させた構造としても構わない。またＳｉＯX層
とフッ化物層のそれぞれの層には、本発明の効果を害さ
ない範囲において従来公知の添加物を添加しても構わな
い。
【００１３】ここで基体と反射防止膜との密着性を向上
させるために、基体と反射防止膜との間にいわゆる介在
層を形成してもよい。ポリメチルメタクリレート（ＰＭ
ＭＡ）やポリカーボネート（ＰＣ）などを基体材料とし
て用いる場合、高温高湿など環境下では反射防止膜の基
体との密着性が落ちることがある。そこで、ＳｉＯ層や
ＳｉＯ2層のケイ素酸化物層またはＴｉＯ層やＴｉＯ
2層、Ｔｉ2Ｏ3層のチタン酸化物層を介在層として基体
上に形成し、反射防止膜と基体との密着性を向上させて
もよい。なおチタン酸化物層は介在層としての役割を果
たすと同時に高屈折率層として反射防止の役割をも果た
す。
させるために、基体と反射防止膜との間にいわゆる介在
層を形成してもよい。ポリメチルメタクリレート（ＰＭ
ＭＡ）やポリカーボネート（ＰＣ）などを基体材料とし
て用いる場合、高温高湿など環境下では反射防止膜の基
体との密着性が落ちることがある。そこで、ＳｉＯ層や
ＳｉＯ2層のケイ素酸化物層またはＴｉＯ層やＴｉＯ
2層、Ｔｉ2Ｏ3層のチタン酸化物層を介在層として基体
上に形成し、反射防止膜と基体との密着性を向上させて
もよい。なおチタン酸化物層は介在層としての役割を果
たすと同時に高屈折率層として反射防止の役割をも果た
す。
【００１４】また基体と反射防止膜との密着性を一層向
上させるために、エネルギー線照射処理や薬品処理など
で基体表面を表面改質処理してもよい。エネルギー線照
射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子
線照射処理、紫外線照射処理などが挙げられる。
上させるために、エネルギー線照射処理や薬品処理など
で基体表面を表面改質処理してもよい。エネルギー線照
射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子
線照射処理、紫外線照射処理などが挙げられる。
【００１５】基体上にＳｉＯX層およびフッ化物層を形
成する方法に特に限定はなく、真空蒸着、スパッタリン
グ、イオンプレーティングといった物理的蒸着など従来
公知の薄膜形成方法を用いることができる。これらの中
でもフッ化物が分解しにくい真空蒸着が推奨される。真
空蒸着は、真空中で蒸着材料を加熱し、発生した蒸気を
基体上に凝縮・付着させて薄膜を形成する方法である。
蒸着材料の加熱方法には、抵抗加熱、外熱ルツボ、電子
ビーム、高周波、レーザーなどの各種方法があるが、本
発明の反射防止膜に用いる材料の場合には、電子ビーム
による加熱が好ましい。具体的な蒸着条件として、真空
度は１×１０-3〜５×１０-3Ｐａ程度である。蒸着中は
真空度が一定となるように電磁弁を制御して導入酸素量
を調整する。そして層厚モニターにより所定層厚となっ
たところでシャターを閉じて蒸着を終了する。
成する方法に特に限定はなく、真空蒸着、スパッタリン
グ、イオンプレーティングといった物理的蒸着など従来
公知の薄膜形成方法を用いることができる。これらの中
でもフッ化物が分解しにくい真空蒸着が推奨される。真
空蒸着は、真空中で蒸着材料を加熱し、発生した蒸気を
基体上に凝縮・付着させて薄膜を形成する方法である。
蒸着材料の加熱方法には、抵抗加熱、外熱ルツボ、電子
ビーム、高周波、レーザーなどの各種方法があるが、本
発明の反射防止膜に用いる材料の場合には、電子ビーム
による加熱が好ましい。具体的な蒸着条件として、真空
度は１×１０-3〜５×１０-3Ｐａ程度である。蒸着中は
真空度が一定となるように電磁弁を制御して導入酸素量
を調整する。そして層厚モニターにより所定層厚となっ
たところでシャターを閉じて蒸着を終了する。
【００１６】ＳｉＯX層の層厚としては特に限定はない
が２０〜６０ｎｍの範囲が好ましい。ＳｉＯX層の層厚
が２０ｎｍ未満であると基体全体を均一に被覆できない
おそれがある。他方、層厚が６０ｎｍを超えると反射防
止性能が低下するからである。
が２０〜６０ｎｍの範囲が好ましい。ＳｉＯX層の層厚
が２０ｎｍ未満であると基体全体を均一に被覆できない
おそれがある。他方、層厚が６０ｎｍを超えると反射防
止性能が低下するからである。
【００１７】またフッ化物層の層厚としては特に限定は
ないが、反射防止性能を高める観点から、ＳｉＯX層と
フッ化物層との光学的層厚が０．２λ〜０．２５λの範
囲となるようにするのが好ましい。
ないが、反射防止性能を高める観点から、ＳｉＯX層と
フッ化物層との光学的層厚が０．２λ〜０．２５λの範
囲となるようにするのが好ましい。
【００１８】本発明で使用できるプラスチックとして
は、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカー
ボネート、ポリスチレン、非晶質ポリオレフィンなどが
挙げられる。またプラスチック基体の成形方法としては
特に限定はなく、従来公知の成形方法、例えば注型法、
射出成形法、プレス成形法などを用いることができる。
は、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカー
ボネート、ポリスチレン、非晶質ポリオレフィンなどが
挙げられる。またプラスチック基体の成形方法としては
特に限定はなく、従来公知の成形方法、例えば注型法、
射出成形法、プレス成形法などを用いることができる。
【００１９】本発明のプラスチック光学部品の用途とし
ては、例えばレンズやプリズム、携帯電話・携帯端末機
の表示部の保護板などが挙げられる。
ては、例えばレンズやプリズム、携帯電話・携帯端末機
の表示部の保護板などが挙げられる。
【００２０】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明をさらに詳細
に述べる。なお、下記実施例は本発明を何ら制限するも
のではなく、前後記の趣旨を逸脱しない範囲で変更実施
することは本発明の技術的範囲に包含される。
に述べる。なお、下記実施例は本発明を何ら制限するも
のではなく、前後記の趣旨を逸脱しない範囲で変更実施
することは本発明の技術的範囲に包含される。
【００２１】実施例１ ＰＭＭＡ（屈折率：１．４９）からなる板状基体を真空
蒸着器内に配設し、真空度を１×１０-3Ｐａとした後、
表１に示す材料を基体上に常温で順に蒸着し、反射防止
膜を形成した。形成した反射防止膜の概略構成図を図１
に示す。なお、各層の蒸着材料の加熱・蒸発は電子ビー
ムで行い、真空槽内部の真空度が常に１×１０-3Ｐａと
なるように、真空計と連動させて電磁弁を制御し導入酸
素量を調整した。作製したサンプルの反射防止膜の分光
反射特性を測定した。測定結果を図２に示す。なお、λ
0：５５０ｎｍ、入射角：０°である。また作製したサ
ンプルの物性を下記試験方法で評価した。評価結果を表
４に示す。なお、この物性試験はサンプルを２０枚作製
して各サンプルについて評価したものである。
蒸着器内に配設し、真空度を１×１０-3Ｐａとした後、
表１に示す材料を基体上に常温で順に蒸着し、反射防止
膜を形成した。形成した反射防止膜の概略構成図を図１
に示す。なお、各層の蒸着材料の加熱・蒸発は電子ビー
ムで行い、真空槽内部の真空度が常に１×１０-3Ｐａと
なるように、真空計と連動させて電磁弁を制御し導入酸
素量を調整した。作製したサンプルの反射防止膜の分光
反射特性を測定した。測定結果を図２に示す。なお、λ
0：５５０ｎｍ、入射角：０°である。また作製したサ
ンプルの物性を下記試験方法で評価した。評価結果を表
４に示す。なお、この物性試験はサンプルを２０枚作製
して各サンプルについて評価したものである。
【００２２】（耐久性試験）作製したサンプルを温度７
０℃、湿度８０％に設定された恒温槽に５００時間放置
した後、反射防止膜の外観を目視で観察し、試験前後で
の状態変化を調べた。
０℃、湿度８０％に設定された恒温槽に５００時間放置
した後、反射防止膜の外観を目視で観察し、試験前後で
の状態変化を調べた。
【００２３】（密着性試験）反射防止膜の表面にテープ
（「Ｌパック」ニチバン社製）を指の腹でしっかりと貼
り付けた後、膜面に対して垂直方向にテープを瞬時に引
き剥がし、膜が剥離していないかどうかを目視で調べ
た。
（「Ｌパック」ニチバン社製）を指の腹でしっかりと貼
り付けた後、膜面に対して垂直方向にテープを瞬時に引
き剥がし、膜が剥離していないかどうかを目視で調べ
た。
【００２４】（耐熱性試験）作製したサンプルを温度８
５℃のオーブンの中に２５０時間放置した後、反射防止
膜の外観を目視で観察し、試験前後での状態変化を調べ
た。
５℃のオーブンの中に２５０時間放置した後、反射防止
膜の外観を目視で観察し、試験前後での状態変化を調べ
た。
【００２５】（表面硬度試験）溶剤を付けたさらし布に
約５Ｎの加重をかけて反射防止膜上を２０往復こすった
後、反射防止膜の外観を目視で観察し、試験前後での状
態変化を調べた。
約５Ｎの加重をかけて反射防止膜上を２０往復こすった
後、反射防止膜の外観を目視で観察し、試験前後での状
態変化を調べた。
【００２６】
【表１】
【００２７】実施例２ 蒸着材料として表２に示したものを使用した以外、実施
例１と同様にしてサンプルを作製した。形成した反射防
止膜の概略構成図を図３に示す。作製したサンプルの反
射防止膜の分光反射特性を図４に示す。また、作製した
サンプルの物性を実施例１と同様の試験方法で評価し
た。評価結果を表４に示す。
例１と同様にしてサンプルを作製した。形成した反射防
止膜の概略構成図を図３に示す。作製したサンプルの反
射防止膜の分光反射特性を図４に示す。また、作製した
サンプルの物性を実施例１と同様の試験方法で評価し
た。評価結果を表４に示す。
【００２８】
【表２】
【００２９】実施例３ 蒸着材料として表３に示したものを使用した以外、実施
例１と同様にしてサンプルを作製した。形成した反射防
止膜の概略構成図を図５に示す。作製したサンプルの反
射防止膜の分光反射特性を図６に示す。また、作製した
サンプルの物性を実施例１と同様の試験方法で評価し
た。評価結果を表４に示す。
例１と同様にしてサンプルを作製した。形成した反射防
止膜の概略構成図を図５に示す。作製したサンプルの反
射防止膜の分光反射特性を図６に示す。また、作製した
サンプルの物性を実施例１と同様の試験方法で評価し
た。評価結果を表４に示す。
【００３０】
【表３】
【００３１】
【表４】
【００３２】比較例１ 蒸着材料として表５に示したものを使用した以外、実施
例１と同様にしてサンプルを作製した。形成した反射防
止膜の概略構成図を図７に示す。作製したサンプルの反
射防止膜の分光反射特性を図８に示す。
例１と同様にしてサンプルを作製した。形成した反射防
止膜の概略構成図を図７に示す。作製したサンプルの反
射防止膜の分光反射特性を図８に示す。
【００３３】
【表５】
【００３４】比較例２ 蒸着材料として表６に示したものを使用した以外、実施
例１と同様にしてサンプルを作製した。形成した反射防
止膜の概略構成図を図９に示す。作製したサンプルの反
射防止膜の分光反射特性を図１０に示す。
例１と同様にしてサンプルを作製した。形成した反射防
止膜の概略構成図を図９に示す。作製したサンプルの反
射防止膜の分光反射特性を図１０に示す。
【００３５】
【表６】
【００３６】比較例３ 蒸着材料として表７に示したものを使用した以外、実施
例１と同様にしてサンプルを作製した。形成した反射防
止膜の概略構成図を図１１に示す。作製したサンプルの
反射防止膜の分光反射特性を図１２に示す。
例１と同様にしてサンプルを作製した。形成した反射防
止膜の概略構成図を図１１に示す。作製したサンプルの
反射防止膜の分光反射特性を図１２に示す。
【００３７】
【表７】
【００３８】
【表８】
【００３９】表４から明らかなように、実施例１〜３の
反射防止膜では耐久性、密着性、耐熱性、表面硬度のい
ずれの特性についても優れた結果が得られた。
反射防止膜では耐久性、密着性、耐熱性、表面硬度のい
ずれの特性についても優れた結果が得られた。
【００４０】また実施例１〜３と比較例１〜３の反射防
止膜はそれぞれ対応しており、その層構成の違いは、最
外層の次の層としてＭｇＦ2の層があるかないかの違い
である。波長４５０〜６５０ｎｍの範囲でのそれぞれの
反射防止膜の平均反射率を示した表８をみると、最外層
にＳｉＯ2層、その次の層にＭｇＦ2層を形成した実施例
１〜３の反射防止膜の平均反射率は、ＭｇＦ2層を形成
しなかった比較例１〜３のそれに比べ半分以下と格段に
低い値であった。
止膜はそれぞれ対応しており、その層構成の違いは、最
外層の次の層としてＭｇＦ2の層があるかないかの違い
である。波長４５０〜６５０ｎｍの範囲でのそれぞれの
反射防止膜の平均反射率を示した表８をみると、最外層
にＳｉＯ2層、その次の層にＭｇＦ2層を形成した実施例
１〜３の反射防止膜の平均反射率は、ＭｇＦ2層を形成
しなかった比較例１〜３のそれに比べ半分以下と格段に
低い値であった。
【００４１】
【発明の効果】本発明の反射防止膜では、最外層をＳｉ
ＯX層とし、その次の層をフッ化物層としたので、反射
防止性能に優れると同時に、密着性、表面硬度、耐湿度
性にも優れる。またフッ化物の中でもＭｇＦ2を用いる
と物質の取り扱いが容易となり、作業がしやすくなる。
また、ＳｉＯX層の層厚を２０〜６０ｎｍの範囲とする
と、表面硬度および耐湿度性の一層の向上が図れる。
ＯX層とし、その次の層をフッ化物層としたので、反射
防止性能に優れると同時に、密着性、表面硬度、耐湿度
性にも優れる。またフッ化物の中でもＭｇＦ2を用いる
と物質の取り扱いが容易となり、作業がしやすくなる。
また、ＳｉＯX層の層厚を２０〜６０ｎｍの範囲とする
と、表面硬度および耐湿度性の一層の向上が図れる。
【００４２】また本発明のプラスチック光学部品では、
前記の反射防止膜をプラスチック基体上に形成したの
で、反射防止性能が優れると同時に、表面硬度、耐湿度
性にも優れる。
前記の反射防止膜をプラスチック基体上に形成したの
で、反射防止性能が優れると同時に、表面硬度、耐湿度
性にも優れる。
【図１】 実施例１の反射防止膜の概略構成図である。
【図２】 実施例１の反射防止膜の分光反射特性図であ
る。
る。
【図３】 実施例２の反射防止膜の概略構成図である。
【図４】 実施例２の反射防止膜の分光反射特性図であ
る。
る。
【図５】 実施例３の反射防止膜の概略構成図である。
【図６】 実施例３の反射防止膜の分光反射特性図であ
る。
る。
【図７】 比較例１の反射防止膜の概略構成図である。
【図８】 比較例１の反射防止膜の分光反射特性図であ
る。
る。
【図９】 比較例２の反射防止膜の概略構成図である。
【図１０】 比較例２の反射防止膜の分光反射特性図で
ある。
ある。
【図１１】 比較例３の反射防止膜の概略構成図であ
る。
る。
【図１２】 比較例３の反射防止膜の分光反射特性図で
ある。
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2K009 AA02 AA07 AA08 AA09 BB13 BB14 BB24 CC03 CC06 DD03 DD04 DD07 4F100 AA05C AA06C AA20B AA25 AA27 AA34 AK01A AT00A BA03 BA07 BA10B EH66 GB41 JB07 JK12 JN06 4K029 AA11 BA42 BA46 BB02 BC07 BD00
Claims (4)
- 【請求項１】 プラスチック基体に形成する反射防止膜
であって、最外層をＳｉＯ2又はＳｉＯを主成分とする
層とし、その次の層をＭｇＦ2、Ｎａ3ＡｌＦ6、Ｎａ5Ａ
ｌ3Ｆ14、ＡｌＦ3、ＢａＦ2、ＣａＦ2及びＳｒＦ2から
なる群から選ばれた１つのフッ化物を主成分とする層と
することを特徴とする反射防止膜。 - 【請求項２】 前記フッ化物がＭｇＦ2である請求項１
記載の反射防止膜。 - 【請求項３】 ＳｉＯ2又はＳｉＯを主成分とする前記
最外層の層厚が２０〜６０ｎｍの範囲である請求項１又
は２記載の反射防止膜。 - 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかに記載の反射防
止膜をプラスチック基体上に形成したことを特徴とする
プラスチック光学部品。
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|---|---|---|---|
| JP2000399954A JP2002202401A (ja) | 2000-12-28 | 2000-12-28 | 反射防止膜およびそれを備えたプラスチック光学部品 |
Publications (1)
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|---|---|
| JP2002202401A true JP2002202401A (ja) | 2002-07-19 |
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ID=18864627
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|---|---|---|---|
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| JP (1) | JP2002202401A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| EP3992672A1 (en) | 2020-10-29 | 2022-05-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical element, optical system, and optical apparatus |
-
2000
- 2000-12-28 JP JP2000399954A patent/JP2002202401A/ja active Pending
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