JP7399963B2 - ミラーコーティング及び耐摩耗性改善のための多層系を有する光学レンズ - Google Patents
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Description
- (A)1.55より高い屈折率を有し、Ta2O5層を一切含まない第1の高屈折率シート、
- (B)1.55以下の屈折率を有し、前者のシートと直接接触する第2の低屈折率シート、
- (C)1.55より高い屈折率を有し、前者のシートと直接接触する第3の高屈折率シート、
- 60nm以上、好ましくは100nm以上の厚さを有し、前者のシート(C)と直接接触する単層副層、
- 1.55より高い屈折率を有する少なくとも1つの高屈折率層と1.55以下の屈折率を有する少なくとも1つの低屈折率層の積層体を含む多層干渉コーティング、
により連続して被覆され、
- 少なくとも一方の主面上の380nm~780nmの、平均光反射係数Rvは15%以上であるか、又は
- 前記前面主面上の280nm~380nmの平均反射係数RUVをISO 13666:1998規格で定義される関数W(λ)で重み付けしたものは、15°以下の入射角で10%以上であるか、又は
- 少なくとも一方の主面上の780nm~2000nmの太陽光近赤外スペクトルにおける反射率RsNIRをISO 13666:1998規格で定義されている関数Illum(λ)で重み付けしたものは10%以上である
光学レンズに関する。シート(A)、(B)、及び(C)並びに副層から構成される系は、本明細書において、機械的及び付着系として使用され、干渉コーティングは光学系として使用される。
- 前面主面と後面主面を有する基板を含む光学レンズを提供することと、
- 基板の少なくとも一方の主面上に、1.55より高い屈折率を有し、Ta2O5層を一切含まない第1の高屈折率シート(A)、1.55以下の屈折率を有し、前者のシート(A)と直接接触するようにされる第2の低屈折率シート(B)、1.55より高い屈折率を有し、前者のシート(B)と直接接触するようにされる第3の高屈折率シート(C)、露出面と60nm以上の厚さとを有し、前者のシート(C)と直接接触するようにされる単層副層、及び1.55より高い屈折率を有する少なくとも1つの高屈折率層と1.55以下の屈折率を有する少なくとも1つの低屈折率層の積層体を含む多層干渉コーティングをこの順序で堆積させ、それによって被覆された光学製品を得ることと、
を含み、
- 少なくとも一方の主面上の380nm~780nmの平均光反射係数Rvは15%以上であるか、又は
- 前記前面主面上の280nm~380nmの平均反射係数RUVをISO 13666:1998規格で定義される関数W(λ)で重み付けしたものは、15°以下の入射角で10%以上であるか、又は
- 少なくとも一方の主面上の780nm~2000nmの太陽光近赤外スペクトルにおける反射率RsNIRをISO 13666:1998規格で定義される関数Illum(λ)で重み付けしたものは、10%以上である。
実施例で使用した物品は、高屈折率コロイドの添加により屈折率が1.6になるように変更された国際公開第2010/109154号パンフレットの実験項に開示されている耐衝撃性プライマーコーティングと、欧州特許第0614957号明細書の実施例3に開示されている耐摩耗性及び耐擦り傷性コーティング(ハードコート)(高屈折率コロイドの添加により1.5ではなく1.6の屈折率を有するように変更された)と、シート(A)、(B)、(C)と、副層と、ミラーコーティングと、特許出願国際公開第2010/109154号パンフレットの実験項に開示されている防汚コーティング、すなわちDaikin Industriesから販売されているOptool DSX(登録商標)化合物の真空下での蒸着による防汚コーティング(厚さ:2~5nm)とでその凸面がコーティングされている、球面度数-2.00ディオプトリ及び厚さ1.2mmを有する直径65mmのポリチオウレタンMR8(登録商標)レンズ基材(Mitsui Toatsu Chemicals Inc.より、屈折率=1.59)を含む。
レンズは、凹面を蒸着源及びイオン銃に向けて、処理するレンズを収容することを目的とした円形の開口部を備えたカルーセル上に置いた。
本発明に従って作製した光学物品を評価するために以下の試験手順を使用した。各系の複数のサンプルを測定用に作製し、報告されたデータを様々なサンプルの平均を使用して計算した。
実施例で得た眼用レンズの構造的特徴、並びに光学的、機械的、及び熱機械的性能を以下に詳述する。副層は灰色である。記載されている総厚さは、ミラーコーティングと、以下の追加の層:副層、シート(A)、(B)、及び(C)とを含む積層体の厚さを言う。表内に表示がない場合、積層体は、眼用レンズの前面の主面上に配置されている。
本開示の実施態様の一部を以下の[項目1]-[項目14]に記載する。
[項目1]
前面主面と後面主面を有する基板を含み、そのうちの少なくとも一方の主面が:
- (A)1.55より高い屈折率を有し、Ta 2 O 5 層を一切含まない第1の高屈折率シート、
- (B)1.55以下の屈折率を有し、前記前者のシートと直接接触する第2の低屈折率シート、
- (C)1.55より高い屈折率を有し、前記前者のシートと直接接触する第3の高屈折率シート、
- 100nm以上の厚さを有し、前記前者のシート(C)と直接接触する単層副層、
- 1.55より高い屈折率を有する少なくとも1つの高屈折率層と1.55以下の屈折率を有する少なくとも1つの低屈折率層の積層体を含む多層干渉コーティング、
により連続して被覆される光学レンズであって、前記屈折率は550nmの波長について表され、
- 少なくとも一方の主面上の380nm~780nmの、ISO 13666:1998規格で定義される平均光反射係数R V は15%以上であるか、又は
- 前記前面主面上の280nm~380nmの平均反射係数R UV をISO 13666:1998規格で定義される関数W(λ)で重み付けしたものは、15°以下の入射角で10%以上であるか、又は
- 少なくとも一方の主面上の780nm~2000nmの太陽光近赤外スペクトルにおける反射率RsNIRをISO 13666:1998規格で定義される関数Illum(λ)で重み付けしたものは10%以上である
光学レンズ。
[項目2]
前記副層の前記堆積が、前記堆積中に補助ガスが供給されない真空チャンバー内で行われる、項目1に記載の光学レンズ。
[項目3]
前記副層がSiO 2 ベースの層である、項目1又は2に記載の光学レンズ。
[項目4]
前記干渉コーティングが、少なくとも1つのTa 2 O 5 ベースの層を含む、項目1~3のいずれか一項に記載の光学レンズ。
[項目5]
前記干渉コーティングが、少なくとも1つの導電層、好ましくはSnO 2 ベースの層を含む、項目1~4のいずれか一項に記載の光学レンズ。
[項目6]
前記干渉コーティングが、反射防止コーティングである、項目1~5のいずれか一項に記載の光学レンズ。
[項目7]
前記光学レンズが、眼用レンズである、項目1~6のいずれか一項に記載の光学レンズ。
[項目8]
1.55より高い屈折率を有する前記第1の高屈折率シート(A)が、ZrO 2 ベースの層である、項目1~7のいずれか一項に記載の光学レンズ。
[項目9]
1.55以下の屈折率を有する前記第2の低屈折率シート(B)が、SiO 2 ベースの層である、項目1~8のいずれか一項に記載の光学レンズ。
[項目10]
1.55より高い屈折率を有する前記第3の高屈折率シート(C)が、Ta 2 O 5 、Nb 2 O 5 、PrTiO 3 、ZrO 2 、及びY 2 O 3 から選択される少なくとも1つの材料を含む、項目1~9のいずれか一項に記載の光学レンズ。
[項目11]
前記比率、すなわち、
[項目12]
1.55以下の屈折率を有する前記第2の低屈折率シート(B)の前記厚さが、80nm以下、好ましくは70nm以下である、項目1~11のいずれか一項に記載の光学レンズ。
[項目13]
1.55より高い屈折率を有する前記第1の高屈折率シート(A)、及び1.55より高い屈折率を有する前記第3の高屈折率シート(C)が、60nm以下、好ましくは25nm以下の厚さを有する、項目1~12のいずれか一項に記載の光学レンズ。
[項目14]
項目1~13のいずれか一項に記載の光学レンズの製造方法において、
- 前面主面と後面主面を有する基板を含む光学レンズを提供することと、
- 前記基板の少なくとも一方の主面上に、1.55より高い屈折率を有し、Ta 2 O 5 層を一切含まない第1の高屈折率シート(A)、1.55以下の屈折率を有し、前記前者のシート(A)と直接接触するようにされる第2の低屈折率シート(B)、1.55より高い屈折率を有し、前記前者のシート(B)と直接接触するようにされる第3の高屈折率シート(C)、100nm以上の厚さを有し、前記前者のシート(C)と直接接触するようにされる単層副層、及び1.55より高い屈折率を有する少なくとも1つの高屈折率層と1.55以下の屈折率を有する少なくとも1つの低屈折率層の積層体を含む多層干渉コーティングをこの順序で堆積させることと、を含み、前記屈折率は550nmの波長について表され、
- 少なくとも一方の主面上の380nm~780nmの、ISO 13666:1998規格で定義される平均光反射係数R V は15%以上であるか、又は
- 前記前面主面上の280nm~380nmの平均反射係数R UV をISO 13666:1998規格で定義される関数W(λ)で重み付けしたものは、15°以下の入射角で10%以上であるか、又は
- 少なくとも一方の主面上の780nm~2000nmの太陽光近赤外スペクトルにおける反射率RsNIRをISO 13666:1998規格で定義される関数Illum(λ)で重み付けしたものは、10%以上である、方法。
Claims (18)
- 前面主面と後面主面を有する基板を含み、そのうちの少なくとも一方の主面が:
- (A)1.55より高い屈折率を有し、Ta2O5層を一切含まない第1の高屈折率シート、
- (B)1.55以下の屈折率を有し、シート(A)と直接接触する第2の低屈折率シート、
- (C)1.55より高い屈折率を有し、シート(B)と直接接触する第3の高屈折率シート、
- 100nm以上の厚さを有し、シート(C)と直接接触する単層副層、
- 1.55より高い屈折率を有する少なくとも1つの高屈折率層と1.55以下の屈折率を有する少なくとも1つの低屈折率層の積層体を含む多層干渉コーティング、
により連続して被覆される光学レンズであって、前記屈折率は550nmの波長について表され、
- 少なくとも一方の主面上の380nm~780nmの、ISO 13666:1998規格で定義される平均光反射係数RVは15%以上であるか、又は
- 前記前面主面上の280nm~380nmの平均反射係数RUVをISO 13666:1998規格で定義される関数W(λ)で重み付けしたものは、15°以下の入射角で10%以上であるか、又は
- 少なくとも一方の主面上の780nm~2000nmの太陽光近赤外スペクトルにおける反射率RsNIRをISO 13666:1998規格で定義される関数Illum(λ)で重み付けしたものは10%以上である
光学レンズ。 - 前記単層副層が、真空チャンバー内で堆積され、ここで前記堆積中に補助ガスが供給されない、請求項1に記載の光学レンズ。
- 前記単層副層がSiO2ベースの層である、請求項1又は2に記載の光学レンズ。
- 前記多層干渉コーティングが、少なくとも1つのTa2O5ベースの層を含む、請求項1~3のいずれか一項に記載の光学レンズ。
- 前記多層干渉コーティングが、少なくとも1つの導電層を含む、請求項1~4のいずれか一項に記載の光学レンズ。
- 前記多層干渉コーティングが、少なくとも1つのSnO2ベースの層を含む、請求項1~5のいずれか一項に記載の光学レンズ。
- 前記多層干渉コーティングが、反射防止コーティングである、請求項1~6のいずれか一項に記載の光学レンズ。
- 前記光学レンズが、眼用レンズである、請求項1~7のいずれか一項に記載の光学レンズ。
- 1.55より高い屈折率を有する前記第1の高屈折率シート(A)が、ZrO2ベースの層である、請求項1~8のいずれか一項に記載の光学レンズ。
- 1.55以下の屈折率を有する前記第2の低屈折率シート(B)が、SiO2ベースの層である、請求項1~9のいずれか一項に記載の光学レンズ。
- 1.55より高い屈折率を有する前記第3の高屈折率シート(C)が、Ta2O5、Nb2O5、PrTiO3、ZrO2、及びY2O3から選択される少なくとも1つの材料を含む、請求項1~10のいずれか一項に記載の光学レンズ。
- 1.55以下の屈折率を有する前記第2の低屈折率シート(B)が、80nm以下の厚さを有する、請求項1~13のいずれか一項に記載の光学レンズ。
- 1.55より高い屈折率を有する前記第1の高屈折率シート(A)、及び1.55より高い屈折率を有する前記第3の高屈折率シート(C)が、60nm以下の厚さを有する、請求項1~14のいずれか一項に記載の光学レンズ。
- 1.55より高い屈折率を有する前記第1の高屈折率シート(A)、及び1.55より高い屈折率を有する前記第3の高屈折率シート(C)が、25nm以下の厚さを有する、請求項1~14のいずれか一項に記載の光学レンズ。
- 前記多層干渉コーティングが、以下の特性を呈する、請求項1~16のいずれか一項に記載の光学レンズ:
- 少なくとも一方の主面上の380nm~780nmの、ISO 13666:1998規格で定義される平均光反射係数RVは15%以上であるか、又は
- 前記前面主面上の280nm~380nmの平均反射係数RUVをISO 13666:1998規格で定義される関数W(λ)で重み付けしたものは、15°以下の入射角で10%以上であるか、又は
- 少なくとも一方の主面上の780nm~2000nmの太陽光近赤外スペクトルにおける反射率RsNIRをISO 13666:1998規格で定義される関数Illum(λ)で重み付けしたものは10%以上である。 - 請求項1~17のいずれか一項に記載の光学レンズの製造方法において、
- 前面主面と後面主面を有する基板を含む光学レンズを提供することと、
- 前記基板の少なくとも一方の主面上に、1.55より高い屈折率を有し、Ta2O5層を一切含まない第1の高屈折率シート(A)、1.55以下の屈折率を有し、シート(A)と直接接触するようにされる第2の低屈折率シート(B)、1.55より高い屈折率を有し、シート(B)と直接接触するようにされる第3の高屈折率シート(C)、100nm以上の厚さを有し、シート(C)と直接接触するようにされる単層副層、及び1.55より高い屈折率を有する少なくとも1つの高屈折率層と1.55以下の屈折率を有する少なくとも1つの低屈折率層の積層体を含む多層干渉コーティングをこの順序で堆積させることと、を含み、前記屈折率は550nmの波長について表され、
- 少なくとも一方の主面上の380nm~780nmの、ISO 13666:1998規格で定義される平均光反射係数RVは15%以上であるか、又は
- 前記前面主面上の280nm~380nmの平均反射係数RUVをISO 13666:1998規格で定義される関数W(λ)で重み付けしたものは、15°以下の入射角で10%以上であるか、又は
- 少なくとも一方の主面上の780nm~2000nmの太陽光近赤外スペクトルにおける反射率RsNIRをISO 13666:1998規格で定義される関数Illum(λ)で重み付けしたものは、10%以上である、方法。
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Citations (7)
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JP2009541808A (ja) | 2006-06-28 | 2009-11-26 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | 低屈折率層および高屈折率層の厚み比率が最適化されている耐熱性反射防止被覆を有する光学物品 |
JP2012522259A (ja) | 2009-03-27 | 2012-09-20 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | 酸化スズに基づく導電膜を有する反射防止または反射コーティングを塗膜した光学物品、および製造方法 |
JP2014240997A (ja) | 2012-02-17 | 2014-12-25 | 株式会社ニコン・エシロール | 眼鏡レンズ用光学部品、眼鏡レンズ用光学部品の製造方法 |
WO2015137282A9 (ja) | 2014-03-14 | 2015-12-30 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | ミラーコートレンズ |
JP2016523385A (ja) | 2013-07-05 | 2016-08-08 | エシロル アンテルナショナル(コンパーニュ ジェネラル ドプテーク) | 可視領域において非常に低い反射を有する反射防止被覆を含む光学物品 |
US20170351119A1 (en) | 2014-12-24 | 2017-12-07 | Essilor International (Compagnie-Generale D'optique) | Optical article comprising an interference coating with high reflectivity in the ultraviolet region |
WO2018192998A1 (en) | 2017-04-18 | 2018-10-25 | Essilor International | Optical article having an abrasion and temperature resistant interferential coating with an optimized thickness ratio of low and high refractive index layers |
Family Cites Families (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53111336A (en) | 1977-03-11 | 1978-09-28 | Toray Ind Inc | Coating composition |
JPH0642002B2 (ja) | 1983-07-29 | 1994-06-01 | セイコーエプソン株式会社 | プラスチックレンズ |
JPS60199016A (ja) | 1984-03-23 | 1985-10-08 | Mitsui Toatsu Chem Inc | チオカルバミン酸s―アルキルエステル系レンズ用樹脂の製造方法 |
EP0235743B1 (en) | 1986-03-01 | 1990-01-31 | MITSUI TOATSU CHEMICALS, Inc. | High-refractivity plastic lens resin |
JPH0762722B2 (ja) | 1986-09-30 | 1995-07-05 | ホ−ヤ株式会社 | プラスチックレンズ |
JPH0679084B2 (ja) | 1986-12-04 | 1994-10-05 | ホーヤ株式会社 | プラスチックレンズ |
US5087758A (en) | 1988-12-22 | 1992-02-11 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Mercapto compound, a high refractive index resin and lens and a process for preparing them |
US5191055A (en) | 1988-12-22 | 1993-03-02 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Mercapto compound, a high refractive index resin and lens and a process for preparing them |
JP3196780B2 (ja) | 1989-06-20 | 2001-08-06 | 日本板硝子株式会社 | プラスチックレンズの製造法 |
JPH0768326B2 (ja) | 1989-10-09 | 1995-07-26 | 三井東圧化学株式会社 | ウレタン系レンズ用樹脂の製造方法 |
JP3132193B2 (ja) | 1991-11-08 | 2001-02-05 | 日本ビクター株式会社 | 液晶表示デバイス及び液晶表示デバイスの製造方法 |
US5316791A (en) | 1993-01-21 | 1994-05-31 | Sdc Coatings Inc. | Process for improving impact resistance of coated plastic substrates |
FR2702486B1 (fr) | 1993-03-08 | 1995-04-21 | Essilor Int | Compositions de revêtement antiabrasion à base d'hydrolysats de silanes et de composés de l'aluminium, et articles revêtus correspondants résistants à l'abrasion et aux chocs. |
EP0947601A1 (en) | 1998-03-26 | 1999-10-06 | ESSILOR INTERNATIONAL Compagnie Générale d'Optique | Organic substrate having optical layers deposited by magnetron sputtering and method for preparing it |
JP2000066149A (ja) * | 1998-08-21 | 2000-03-03 | Seiko Epson Corp | ミラーコート付きサングラス |
FR2790317B1 (fr) | 1999-02-26 | 2001-06-01 | Essilor Int | Lentille ophtalmique en verre organique, comportant une couche de primaire antichocs |
JP2002122820A (ja) | 2000-10-12 | 2002-04-26 | Seiko Epson Corp | ハードコート層と反射防止膜を有する眼鏡レンズ |
JP2003195003A (ja) | 2001-08-30 | 2003-07-09 | Seiko Epson Corp | プラスチックレンズ |
JP3988504B2 (ja) | 2002-03-29 | 2007-10-10 | セイコーエプソン株式会社 | 眼鏡用プラスチックレンズ及びその製造方法 |
TWI287816B (en) | 2004-07-22 | 2007-10-01 | Asia Optical Co Inc | Improved ion source with particular grid assembly |
FR2903197B1 (fr) | 2006-06-28 | 2009-01-16 | Essilor Int | Article d'optique revetu d'une sous-couche et d'un revetement anti-reflets multicouches resistant a la temperature, et procede de fabrication |
FR2913116B1 (fr) | 2007-02-23 | 2009-08-28 | Essilor Int | Procede de fabrication d'un article optique revetu d'un revetement anti-reflets ou reflechissant ayant des proprietes d'adhesion et de resistance a l'abrasion ameliorees |
FR2954832A1 (fr) | 2009-12-31 | 2011-07-01 | Essilor Int | Article d'optique comportant un revetement antibuee temporaire ayant une durabilite amelioree |
FR2957454B1 (fr) | 2010-03-09 | 2013-05-17 | Essilor Int | Procede de conditionnement d'un canon a ions |
DE102010048088A1 (de) | 2010-10-01 | 2012-04-05 | Carl Zeiss Vision Gmbh | Optische Linse mit kratzfester Entspiegelungsschicht |
FR2968774B1 (fr) | 2010-12-10 | 2013-02-08 | Essilor Int | Article d'optique comportant un revetement antireflet a faible reflexion dans le domaine ultraviolet et le domaine visible |
CA2841414C (en) | 2011-06-13 | 2019-01-15 | Essilor International(Compagnie Generale D'optique) | Method for obtaining optical articles having superior abrasion resistant properties, and coated articles prepared according to such method |
WO2013013929A1 (en) | 2011-07-22 | 2013-01-31 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Optical article comprising a surfactant-based temporary antifog coating with an improved durability |
EP3118672B1 (en) | 2011-10-31 | 2019-06-19 | Hoya Corporation | Eyeglass lens |
CA2886332C (en) * | 2012-09-28 | 2018-04-17 | Nikon-Essilor Co., Ltd. | Optical component and method of manufacturing the same |
FR3008193B1 (fr) * | 2013-07-05 | 2015-08-14 | Essilor Int | Article optique a couleur de reflet residuel rouge |
JP6451057B2 (ja) * | 2014-02-04 | 2019-01-16 | 東海光学株式会社 | 可視域反射防止近赤外域透過抑制光学製品並びに眼鏡レンズ及び眼鏡 |
JP2016057471A (ja) * | 2014-09-10 | 2016-04-21 | 日本真空光学株式会社 | 反射防止膜及びこれを有する光学部品 |
DE102015100091A1 (de) * | 2015-01-07 | 2016-07-07 | Rodenstock Gmbh | Schichtsystem und optisches Element mit einem Schichtsystem |
FR3039827B1 (fr) | 2015-08-05 | 2022-03-18 | Essilor Int | Article a proprietes d'adherence optimisees comportant une couche de nature silico-organique |
EP3151041B1 (en) * | 2015-10-02 | 2019-02-20 | Tokai Optical Co., Ltd. | An optical film and spectacle lens |
EP3185050A1 (en) * | 2015-12-23 | 2017-06-28 | Essilor International (Compagnie Générale D'Optique) | Optical article comprising a multilayered interferential coating obtained from an organic precursor or a mixture of organic precursors |
WO2017125999A1 (ja) * | 2016-01-18 | 2017-07-27 | 伊藤光学工業株式会社 | 光学部品 |
EP3242150B1 (en) * | 2016-05-04 | 2019-01-02 | Essilor International | Optical article comprising an antireflective coating with a high reflection in the near infrared region (nir) |
EP3301488A1 (en) * | 2016-09-29 | 2018-04-04 | Essilor International | Optical lens comprising an antireflective coating with multiangular efficiency |
-
2019
- 2019-11-18 EP EP19805660.8A patent/EP3884314B1/en active Active
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- 2019-11-18 KR KR1020217014330A patent/KR20210092740A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009541808A (ja) | 2006-06-28 | 2009-11-26 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | 低屈折率層および高屈折率層の厚み比率が最適化されている耐熱性反射防止被覆を有する光学物品 |
JP2012522259A (ja) | 2009-03-27 | 2012-09-20 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | 酸化スズに基づく導電膜を有する反射防止または反射コーティングを塗膜した光学物品、および製造方法 |
JP2014240997A (ja) | 2012-02-17 | 2014-12-25 | 株式会社ニコン・エシロール | 眼鏡レンズ用光学部品、眼鏡レンズ用光学部品の製造方法 |
JP2016523385A (ja) | 2013-07-05 | 2016-08-08 | エシロル アンテルナショナル(コンパーニュ ジェネラル ドプテーク) | 可視領域において非常に低い反射を有する反射防止被覆を含む光学物品 |
WO2015137282A9 (ja) | 2014-03-14 | 2015-12-30 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | ミラーコートレンズ |
US20170351119A1 (en) | 2014-12-24 | 2017-12-07 | Essilor International (Compagnie-Generale D'optique) | Optical article comprising an interference coating with high reflectivity in the ultraviolet region |
WO2018192998A1 (en) | 2017-04-18 | 2018-10-25 | Essilor International | Optical article having an abrasion and temperature resistant interferential coating with an optimized thickness ratio of low and high refractive index layers |
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