JPS6098401A - プラスチツク光学部品 - Google Patents
プラスチツク光学部品Info
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- JPS6098401A JPS6098401A JP58204955A JP20495583A JPS6098401A JP S6098401 A JPS6098401 A JP S6098401A JP 58204955 A JP58204955 A JP 58204955A JP 20495583 A JP20495583 A JP 20495583A JP S6098401 A JPS6098401 A JP S6098401A
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- refractive index
- sio
- layer
- lens
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- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、プラスチック光学部品に係わり、特に、多層
反射防止膜を有するレンズ、フィルタ等のプラスチック
光学部品ＫＩＳ＠する。
反射防止膜を有するレンズ、フィルタ等のプラスチック
光学部品ＫＩＳ＠する。
プラスチックレンズ、プラスチックフィルタ等のプラス
チック光学部品（以下、プラスチックレンズで総称する
）においては反射防止コーティングにより透過率を向上
させることが重要である。
チック光学部品（以下、プラスチックレンズで総称する
）においては反射防止コーティングにより透過率を向上
させることが重要である。
プラスチックレンズはガラスレンズに比して、軽量、量
産性が良好等の利点を有する反面、一般に屈折率が低い
ので、単層反射防止コーティングでは不充分であり、多
層反射防止コーティング（以下、マルチコーティングと
称す）Ｋより透過率を向上させなければならない。しか
し、プラスチックレンズ忙マルチコーティングを施すこ
とは容易ではなく、例えば、プラスチックの表面Ｋまず
該グラスチックとの密着性の良い熱硬化性樹脂をｉ血便
化させてからマルチコーティングする方法等が提案され
ているが、かかる方法においては塗布膜の膜厚を一定に
維持することが困難なためＫ。
産性が良好等の利点を有する反面、一般に屈折率が低い
ので、単層反射防止コーティングでは不充分であり、多
層反射防止コーティング（以下、マルチコーティングと
称す）Ｋより透過率を向上させなければならない。しか
し、プラスチックレンズ忙マルチコーティングを施すこ
とは容易ではなく、例えば、プラスチックの表面Ｋまず
該グラスチックとの密着性の良い熱硬化性樹脂をｉ血便
化させてからマルチコーティングする方法等が提案され
ているが、かかる方法においては塗布膜の膜厚を一定に
維持することが困難なためＫ。
グラスチックレンズの面積度を悪化させてしまうおそれ
がある。
がある。
本発明者等は、上記の熱硬化性樹脂膜を使用せずに密着
性の良いマルチコーティングの構成について検討を行な
った結果、アクリルレンズにおいては、アクリルレンズ
側から第１層をＳｉｎ、第２層をＭｇＦ、とする２層マ
ルチコーティングを施すのが良く、スチレンレンズある
いｔＸポリカーボネートレンズにおいては、第１層をＳ
ｉｎ、第２層をＺｒＯ，、第３層をＭｇＦ’、とする３
層マルチコーティングを施すのが良いことが判った。
性の良いマルチコーティングの構成について検討を行な
った結果、アクリルレンズにおいては、アクリルレンズ
側から第１層をＳｉｎ、第２層をＭｇＦ、とする２層マ
ルチコーティングを施すのが良く、スチレンレンズある
いｔＸポリカーボネートレンズにおいては、第１層をＳ
ｉｎ、第２層をＺｒＯ，、第３層をＭｇＦ’、とする３
層マルチコーティングを施すのが良いことが判った。
一方、プラスチックレンズに、プラスチックレンズ側か
ら、第１層をＡｌｔ Ｏｎ−第２層をＭｇＰ、とする構
成が特開昭５６−１１０９０１号に述べられているが、
この構成をアクリルレンズに適用すると、常温（２０℃
）では密着性が良く、クラックの発生もないが、８０℃
の高温試験に１２時間曝らすとクラックが発生し、透過
率が大幅に減少することが判った。これに対し、上記の
ＳｉＯを第１層、ＭｇＦ。
ら、第１層をＡｌｔ Ｏｎ−第２層をＭｇＰ、とする構
成が特開昭５６−１１０９０１号に述べられているが、
この構成をアクリルレンズに適用すると、常温（２０℃
）では密着性が良く、クラックの発生もないが、８０℃
の高温試験に１２時間曝らすとクラックが発生し、透過
率が大幅に減少することが判った。これに対し、上記の
ＳｉＯを第１層、ＭｇＦ。
を第２層とする構成では、８０℃に１２時間放置しても
クラックの発生はなく、密着性も良好であった。また、
ＡｕｔｏｓはＳｉＯＫ比して融点が高く、蒸着時の輻射
熱によってプラスチックレンズが変形し面精度の劣化を
引き起こす恐れがある。
クラックの発生はなく、密着性も良好であった。また、
ＡｕｔｏｓはＳｉＯＫ比して融点が高く、蒸着時の輻射
熱によってプラスチックレンズが変形し面精度の劣化を
引き起こす恐れがある。
このように、ｓｔｏはプラスチックとの密着性が良＜、
８０℃の高温試験においてもクラックの発生がない等の
利点を有しているが、特開昭５６−１２１００１ 号に
も記載されているように１経時変化が大佐いという欠点
があり、これまでＳｉＯを使用したマルチコーティング
は実用化されていなかった。
８０℃の高温試験においてもクラックの発生がない等の
利点を有しているが、特開昭５６−１２１００１ 号に
も記載されているように１経時変化が大佐いという欠点
があり、これまでＳｉＯを使用したマルチコーティング
は実用化されていなかった。
本発明の目的は、上記従来技術の欠点を除き。
高い透過率を有し、 ８ｉ０を用いてマルチコーティン
グを施こしたプラスチック光学部品を提供するＫある。
グを施こしたプラスチック光学部品を提供するＫある。
この目的を達成するために１本発明は、第１層を形成す
るＳｉＯの屈折率が１．５５以上であることを特徴とす
る。
るＳｉＯの屈折率が１．５５以上であることを特徴とす
る。
本発明者等はＳｉＯの経時変化を把握するために以下の
ような実験を行なった。すなわち、アクリル板の片面に
種々の屈折率と所定の膜厚ｄの８ｉ０薄膜を真空蒸着に
より作成し、透過率を測定することにより屈折率をめ、
経過時間に対する屈折率の変化をプロットした。ここで
、透過率から屈折率をめる方法は、アクリル板の屈折率
をｎ＝１．４９２とし、透過率Ｔｌ１１を より算出し、ＳｉＯの屈折率ｎ、とＴ−のグラフを作成
し、このグラフからＳｉＯの屈折率を読み取るものであ
る。、なお、上記ＳｉＯ薄膜の膜厚ｄはｎ、Ｘｄ＝λ／
４とＬ、波長Ｊ ヲｄ線付近（５９０ｎｍ）Ｋくるよう
に設定し、蒸着時間をコントロールして所定の膜厚ｄを
得た。また、上記の透過率Ｔｍ ＋１ｄ線の透過率をと
っている。
ような実験を行なった。すなわち、アクリル板の片面に
種々の屈折率と所定の膜厚ｄの８ｉ０薄膜を真空蒸着に
より作成し、透過率を測定することにより屈折率をめ、
経過時間に対する屈折率の変化をプロットした。ここで
、透過率から屈折率をめる方法は、アクリル板の屈折率
をｎ＝１．４９２とし、透過率Ｔｌ１１を より算出し、ＳｉＯの屈折率ｎ、とＴ−のグラフを作成
し、このグラフからＳｉＯの屈折率を読み取るものであ
る。、なお、上記ＳｉＯ薄膜の膜厚ｄはｎ、Ｘｄ＝λ／
４とＬ、波長Ｊ ヲｄ線付近（５９０ｎｍ）Ｋくるよう
に設定し、蒸着時間をコントロールして所定の膜厚ｄを
得た。また、上記の透過率Ｔｍ ＋１ｄ線の透過率をと
っている。
第１図Ｋ ８４０の種々の屈折率の常温（２０℃）での
経時変化を示す。このように％ ＳｉＯの屈折率ヲ丁、
屈折率の初期値によらず、経過時間の逆対数にしたがっ
て一様に減少する。第２図に放置温度を６０℃、８０℃
とした時のＳｉＯの屈折率の経時変化を示す。第２図か
ら、放置温度を高くするに従Ｘ、Ｓ。
経時変化を示す。このように％ ＳｉＯの屈折率ヲ丁、
屈折率の初期値によらず、経過時間の逆対数にしたがっ
て一様に減少する。第２図に放置温度を６０℃、８０℃
とした時のＳｉＯの屈折率の経時変化を示す。第２図か
ら、放置温度を高くするに従Ｘ、Ｓ。
屈折率減少の傾きが大となることが判った。第３図はこ
の傾きを絶対温度Ｔの逆数に対してプロットしたもので
ある。第３図から明らかなように。
の傾きを絶対温度Ｔの逆数に対してプロットしたもので
ある。第３図から明らかなように。
屈折率減少の傾きがｌ／ＴＫ対して直線関係にあ７！、
めｔ 、−れば−８ｉ０が８ｉ０．に−水反応的に変化
するためであると考えられた。したがって、Ｓ１０の経
時変化は、第１図、第２図から、その全容をほぼ把握す
ることができ、これにより、任意の屈折率な持つＳｉＯ
の屈折率の経時変化を予想できる。
めｔ 、−れば−８ｉ０が８ｉ０．に−水反応的に変化
するためであると考えられた。したがって、Ｓ１０の経
時変化は、第１図、第２図から、その全容をほぼ把握す
ることができ、これにより、任意の屈折率な持つＳｉＯ
の屈折率の経時変化を予想できる。
第４図に、第５図のように、プラスチック基材、例えば
、アクリルレンズ１上Ｋｇｔ層として光学的１１１２Ｇ
／４のＳｉ０層２、第２層として光学的膜厚λ。／４の
ＭｇＦ、層３の２層マルチコーティングを施し、このＳ
ｉＯの屈折率を変えた時の分光透過＼ 率特性を示す。この場合、設計波長λ。を５５Ｑｎｍ。
、アクリルレンズ１上Ｋｇｔ層として光学的１１１２Ｇ
／４のＳｉ０層２、第２層として光学的膜厚λ。／４の
ＭｇＦ、層３の２層マルチコーティングを施し、このＳ
ｉＯの屈折率を変えた時の分光透過＼ 率特性を示す。この場合、設計波長λ。を５５Ｑｎｍ。
アクリルレンズの屈折率を１．４９． ＭｇＦ、の屈折
率を１．３８とした。第４図において１曲線３１は８ｉ
０の屈折率を１．６６としたもの、曲線３２ 、３３
、３４はそれぞれＳｉＯの屈折率を１．６０ 、１．５
５ 、１．５０としたものである。このようＫＳｉＯの
屈折率によって分光透過率特性が変化するが、これらの
変化を定量的に評価するために１本発明者等はＣ線（６
５６ｎｍ）、ｄ線（５８８ｎｍ）％Ｆ線（４８６ｎｍ
）での各透過率の平均値をとり、屈折率に対するこの平
均値をプロットした。これを第６図に示す。第６図にお
いて、横軸はＳｉＯの屈折率でかつ縦軸はＣ線、ｄ線お
よびＦ線の平均の透過率である。この図から、上記２層
マルチコーティングにおいては、ＳｉＯの屈折率を１．
５５以上にすることにより。
率を１．３８とした。第４図において１曲線３１は８ｉ
０の屈折率を１．６６としたもの、曲線３２ 、３３
、３４はそれぞれＳｉＯの屈折率を１．６０ 、１．５
５ 、１．５０としたものである。このようＫＳｉＯの
屈折率によって分光透過率特性が変化するが、これらの
変化を定量的に評価するために１本発明者等はＣ線（６
５６ｎｍ）、ｄ線（５８８ｎｍ）％Ｆ線（４８６ｎｍ
）での各透過率の平均値をとり、屈折率に対するこの平
均値をプロットした。これを第６図に示す。第６図にお
いて、横軸はＳｉＯの屈折率でかつ縦軸はＣ線、ｄ線お
よびＦ線の平均の透過率である。この図から、上記２層
マルチコーティングにおいては、ＳｉＯの屈折率を１．
５５以上にすることにより。
９８％以上の透過率を得ることができ、極めて良好な反
射防止膜が得られることがわかる。
射防止膜が得られることがわかる。
第７図に、第８図に示すように、プラスチック基材、例
えば、スチレンレンズ４上に％第１層として光学的膜厚
λ。／４のＳｉ０層５、第２層として光学的膜厚λ。／
２のＺｒ０１層６、第３層として光学的膜厚λ。／４の
ＭｇＦｔ層７０層着０３層マルチコーティング、このＳ
ｉＯの屈折率を変えた時の分光透過特性を示す。この場
合に、設計波長λ。を５５０ｎｍ、スチレンレンズの屈
折率を１．５９ 、 ＺｒＯ，の屈折率を２．０５、Ｍ
ｇＦ、の屈折率を１．３８とした。
えば、スチレンレンズ４上に％第１層として光学的膜厚
λ。／４のＳｉ０層５、第２層として光学的膜厚λ。／
２のＺｒ０１層６、第３層として光学的膜厚λ。／４の
ＭｇＦｔ層７０層着０３層マルチコーティング、このＳ
ｉＯの屈折率を変えた時の分光透過特性を示す。この場
合に、設計波長λ。を５５０ｎｍ、スチレンレンズの屈
折率を１．５９ 、 ＺｒＯ，の屈折率を２．０５、Ｍ
ｇＦ、の屈折率を１．３８とした。
第７図において、曲線６１４了ＳｉＯの屈折率を１．７
０としたもので、曲線６２ 、６３ 、６４はそれぞれ
ＳｉＯの屈折率を１．６０ 、１．５６ 、１．５０と
したものである。
０としたもので、曲線６２ 、６３ 、６４はそれぞれ
ＳｉＯの屈折率を１．６０ 、１．５６ 、１．５０と
したものである。
第９図に第７図から得られるかかる３層マルチコーティ
ングにおけるＣ線、ｄ線およびＦ線の平均透過率とＳｉ
Ｏの屈折率の関係を示す。この第９図から、ＳｉＯの屈
折率を１．５５以上、望ましくは１．５６以上にすると
とＫより９９％以上の極めて良好な透過率特性が得、ら
れることか判る。また、ポリカーボネートレンズに上記
と同様な３層マルチコーティングを施した場合において
も、ポリカーボネートの屈折率が１．５８であるため、
スチレンレンズとほぼ同じであり、ＳｉＯの屈折率が１
゜５５以上の時に良好な透過率特性を得ることができる
。
ングにおけるＣ線、ｄ線およびＦ線の平均透過率とＳｉ
Ｏの屈折率の関係を示す。この第９図から、ＳｉＯの屈
折率を１．５５以上、望ましくは１．５６以上にすると
とＫより９９％以上の極めて良好な透過率特性が得、ら
れることか判る。また、ポリカーボネートレンズに上記
と同様な３層マルチコーティングを施した場合において
も、ポリカーボネートの屈折率が１．５８であるため、
スチレンレンズとほぼ同じであり、ＳｉＯの屈折率が１
゜５５以上の時に良好な透過率特性を得ることができる
。
以上のように、プラスチックレンズＫＳｉＯを含む２層
あるいは３層マルチコーティングを施した場合、ＳｉＯ
の屈折率が１．５５以上であれば非常に良好な透過率を
得ることができる。通常、ビデオカメラ等の家庭電化製
品においては、常温で５年間以上あるいは８０℃高温放
置試験１ケ月以上にさらされても実用性能を維持しなけ
ればならない。
あるいは３層マルチコーティングを施した場合、ＳｉＯ
の屈折率が１．５５以上であれば非常に良好な透過率を
得ることができる。通常、ビデオカメラ等の家庭電化製
品においては、常温で５年間以上あるいは８０℃高温放
置試験１ケ月以上にさらされても実用性能を維持しなけ
ればならない。
このような条件の下においてもＳｉＯの屈折率を１゜５
５以上ＫＭ持するためＫは、第２図から明らかなように
、８０℃１ケ月放置により、屈折率が１．６２から１．
５５ Ｋ減少し、また、第１図から明らかなように、２
０℃５年間放曾で屈折率が１．６９から１．６２ Ｋ減
少するから、初期のＳｉＯの屈折率を１．６９以上にす
れば良い。すなわち、蒸着終了後１時間のＳｉＯの屈折
率（初期の屈折率）を１．６９以上にすれば、常温放置
５年間、かつ８０℃放ｆｔｌケ月間を経た後においても
、ＳｉＯの屈折率は１．５５以上を維持しており、した
がってコーティングの実用性能を維持することが可能と
なる。
５以上ＫＭ持するためＫは、第２図から明らかなように
、８０℃１ケ月放置により、屈折率が１．６２から１．
５５ Ｋ減少し、また、第１図から明らかなように、２
０℃５年間放曾で屈折率が１．６９から１．６２ Ｋ減
少するから、初期のＳｉＯの屈折率を１．６９以上にす
れば良い。すなわち、蒸着終了後１時間のＳｉＯの屈折
率（初期の屈折率）を１．６９以上にすれば、常温放置
５年間、かつ８０℃放ｆｔｌケ月間を経た後においても
、ＳｉＯの屈折率は１．５５以上を維持しており、した
がってコーティングの実用性能を維持することが可能と
なる。
次に％ＳｉＯの初期の屈折率を１．６９以上にするため
の蒸着条件について、第１０図を参照して説明する。第
１０図はＳｉＯの初期の屈折率と到達真空度の関係を示
したものである。同図から明らかなように、ＳｉＯの初
期の屈折率は到達真空度に強く依存し、到達真空度を１
０−’Ｔｏｒｒから３ Ｘ １Ｏ−Ｉｌφａｔｔまで変
化させることにより、１．５８から１．８３までのＳｉ
Ｏの初期の屈折率を得ることができる。この場合に、到
達真空度以外の蒸着条件は、蒸着速度１０Ａ ／ ｓｅ
ｃ、レンズと蒸発源の距Ｐ１ｉ１８００ＩＴＴｒ＋、蒸
発源は電子銃ソースである。なお、通常、到達真空度等
の蒸着千件は、蒸着袋ｆＫ強く依存するため。
の蒸着条件について、第１０図を参照して説明する。第
１０図はＳｉＯの初期の屈折率と到達真空度の関係を示
したものである。同図から明らかなように、ＳｉＯの初
期の屈折率は到達真空度に強く依存し、到達真空度を１
０−’Ｔｏｒｒから３ Ｘ １Ｏ−Ｉｌφａｔｔまで変
化させることにより、１．５８から１．８３までのＳｉ
Ｏの初期の屈折率を得ることができる。この場合に、到
達真空度以外の蒸着条件は、蒸着速度１０Ａ ／ ｓｅ
ｃ、レンズと蒸発源の距Ｐ１ｉ１８００ＩＴＴｒ＋、蒸
発源は電子銃ソースである。なお、通常、到達真空度等
の蒸着千件は、蒸着袋ｆＫ強く依存するため。
絶対値は必ずしも本発明における値とは一致しないが、
屈折率と到達真空度の相対関係は第１Ｏ図のようになる
ことは明らかである。第１０図から。
屈折率と到達真空度の相対関係は第１Ｏ図のようになる
ことは明らかである。第１０図から。
ＳｉＯの初期の屈折率を１．６９以上にするためＫは到
達真空度を２ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒ以上に高めれば良
く、一方、到達真空度をＩ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒ以上
に高めると、ＳｉＯ薄膜に吸収が生じ、と＜Ｋ、５００
ｎｍ以下での透過率が大幅に減少することが判った（第
１０図中にＸ印で示した）。したがって、この吸収のた
めに、ＳｉＯの屈折率が１．７４以上のものは反射防止
膜として不適当である。以上のように％ ＳｉＯの初期
の屈折率を１．６９以上にするとともに、良好な反射防
止膜を得るための条件は、 ２ Ｘ １０−怜ｏｒｒ〜
１×ＩＣ５螢６ｒｒ Ｋすることである。
達真空度を２ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒ以上に高めれば良
く、一方、到達真空度をＩ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒ以上
に高めると、ＳｉＯ薄膜に吸収が生じ、と＜Ｋ、５００
ｎｍ以下での透過率が大幅に減少することが判った（第
１０図中にＸ印で示した）。したがって、この吸収のた
めに、ＳｉＯの屈折率が１．７４以上のものは反射防止
膜として不適当である。以上のように％ ＳｉＯの初期
の屈折率を１．６９以上にするとともに、良好な反射防
止膜を得るための条件は、 ２ Ｘ １０−怜ｏｒｒ〜
１×ＩＣ５螢６ｒｒ Ｋすることである。
以下に上記説明に基づいて、本発明によるプラスチック
光学部品の製造方法の具体例について説明する。
光学部品の製造方法の具体例について説明する。
具体例１：
第５図に示すように、アクリルレンズ１上に、第１層２
としてＳｉ０層を、第２層３としてＭｇＦ。
としてＳｉ０層を、第２層３としてＭｇＦ。
を共に真空蒸着で作成した。Ｓｉ０層２の蒸着条件は、
到達真空度２ Ｘ １Ｏ−５Ｔｏｒｒ 、蒸着速度１０
Ｘ／ｓ ｅ ｃ、電子銃のパワーは６ｋＶ、４７ｍＡで
あり、λ。／４の所定の膜厚まで蒸着した。ＭｇＦ、層
３はＳｉ０層２に引き続き、蒸着速度１０ｕ ｓｅｅ
、電子銃のパワー６ｋＶ、３０ｍＡで、λＧ／４０所定
の膜厚まで蒸沿した。この具体例によれば、初期のＣ線
、ｄ線およびＦ線の平均の透過率は９８．３％であり、
長期にわたって良好な透過率を維持した。また、８０℃
の高温試験後においても、クラックの発生がな（、セロ
ファンテープを用いた剥離強度試験にお〜・ても剥離は
なかった。
到達真空度２ Ｘ １Ｏ−５Ｔｏｒｒ 、蒸着速度１０
Ｘ／ｓ ｅ ｃ、電子銃のパワーは６ｋＶ、４７ｍＡで
あり、λ。／４の所定の膜厚まで蒸着した。ＭｇＦ、層
３はＳｉ０層２に引き続き、蒸着速度１０ｕ ｓｅｅ
、電子銃のパワー６ｋＶ、３０ｍＡで、λＧ／４０所定
の膜厚まで蒸沿した。この具体例によれば、初期のＣ線
、ｄ線およびＦ線の平均の透過率は９８．３％であり、
長期にわたって良好な透過率を維持した。また、８０℃
の高温試験後においても、クラックの発生がな（、セロ
ファンテープを用いた剥離強度試験にお〜・ても剥離は
なかった。
具体例２：
第８図に示すよ５に、スチレンレンズ４上Ｋ。
第１層５としてＳｉ０層を、第２層６としてＺｒＯ。
層を、第３層７としてＭｇＦ、層を真空蒸着にて作成し
た。Ｓｉ０層５を前記具体例１と同様な蒸着条件で作成
する前に、ＡｒガスをＩ Ｘ １０ Ｔｏｒｒまで導入
し、２００Ｗの高周波電圧を印加して２分間のイオンボ
ンバードを行い、スチレンとＳｉＯの密着性の向上を図
かった。ＺｒＯ，の蒸着条件は、蒸着速度６〜８Ａ／Ｓ
ｅｃ、を子銃パワー６ｋＶ、４２０ｍＡであり、λｏ
／ ２の所定の膜厚まで蒸着した。
た。Ｓｉ０層５を前記具体例１と同様な蒸着条件で作成
する前に、ＡｒガスをＩ Ｘ １０ Ｔｏｒｒまで導入
し、２００Ｗの高周波電圧を印加して２分間のイオンボ
ンバードを行い、スチレンとＳｉＯの密着性の向上を図
かった。ＺｒＯ，の蒸着条件は、蒸着速度６〜８Ａ／Ｓ
ｅｃ、を子銃パワー６ｋＶ、４２０ｍＡであり、λｏ
／ ２の所定の膜厚まで蒸着した。
ＭｇＦ’、の蒸着条件は、前記具体例１と同様であった
。この具体例によれば、初期のＣ線、ｄｉｉＩＪおよび
Ｆｉｌの平均の透過率は９９．５％であり、長期にわた
って良好な透過率を維持した。
。この具体例によれば、初期のＣ線、ｄｉｉＩＪおよび
Ｆｉｌの平均の透過率は９９．５％であり、長期にわた
って良好な透過率を維持した。
また、上記具体例２において、スチレンレンズに代えて
ポリカーボネートレンズ上に同様な反射防止膜を施した
が、この場合においでも、長時間にわたって良好な透過
率を維持し、８０℃の高温放置試験後においてもクラッ
クの発生がなく、良好な透過率特性が得られた。
ポリカーボネートレンズ上に同様な反射防止膜を施した
が、この場合においでも、長時間にわたって良好な透過
率を維持し、８０℃の高温放置試験後においてもクラッ
クの発生がなく、良好な透過率特性が得られた。
以上説明したよ５に、本発明によれば、ＳｉＯの屈折率
を１．５５以上にしたものであるから、透過率を充分に
高く維持することができて反射防止作用が向上し、上記
従来技術の欠点を除いて優れた機能のプラスチック製の
光学部品を提供することができる。
を１．５５以上にしたものであるから、透過率を充分に
高く維持することができて反射防止作用が向上し、上記
従来技術の欠点を除いて優れた機能のプラスチック製の
光学部品を提供することができる。
第１図および第２図はＳｉＯの屈折率の経時変化を示す
グラフ図、第３図はＳｉＯの屈折率の減少の傾きと１／
Ｔの関係を示すグラフ図、第４図は２層マルチデーティ
ングの分光透過率特性を示すグラフ図、第５図は本発明
によるプラスチック光学部品の一実施例を示す概要断面
図、第６図は第５図の２層マルチコーティングにおける
８ｉ０の屈折率と透過率の関係を示すグラフ図、第７図
は３層マルチコーティングの分光透過率特性を示すグラ
フ図、第８図は本発明によるプラスチック光学部品の他
の実施例を示す概略断面図、第９図ハ紀８図の３層マル
チコーティングにおける８ｉ０の屈折率と透過率の関係
を示すグラフ図、第１０Ｉ！！ＪはＳｉＯの屈折率と到
達真空度の関係を示すグラフ図である。 １．４・・・・・・プラスチックレンズ、２，５・・・
・・・・・・５ｉｌｌ＠、３ 、７−・−・ＭｇＦ、層
、６−・−・−・ＺｒＯ，＃。 ’ｖ咽４−２ １１５ＥＩｌ 第６１！ｌ ５ＩＯｔｌ）屈拵率 第８図 第９図
グラフ図、第３図はＳｉＯの屈折率の減少の傾きと１／
Ｔの関係を示すグラフ図、第４図は２層マルチデーティ
ングの分光透過率特性を示すグラフ図、第５図は本発明
によるプラスチック光学部品の一実施例を示す概要断面
図、第６図は第５図の２層マルチコーティングにおける
８ｉ０の屈折率と透過率の関係を示すグラフ図、第７図
は３層マルチコーティングの分光透過率特性を示すグラ
フ図、第８図は本発明によるプラスチック光学部品の他
の実施例を示す概略断面図、第９図ハ紀８図の３層マル
チコーティングにおける８ｉ０の屈折率と透過率の関係
を示すグラフ図、第１０Ｉ！！ＪはＳｉＯの屈折率と到
達真空度の関係を示すグラフ図である。 １．４・・・・・・プラスチックレンズ、２，５・・・
・・・・・・５ｉｌｌ＠、３ 、７−・−・ＭｇＦ、層
、６−・−・−・ＺｒＯ，＃。 ’ｖ咽４−２ １１５ＥＩｌ 第６１！ｌ ５ＩＯｔｌ）屈拵率 第８図 第９図
Claims (1)
- プラスチック基材側から第１層をＳｉＯとして形成され
た多層反射防止膜を有するプラスチック光学部品におい
て、前記第１層を形成するＳｉＯの屈折率が１．５５以
上であることを特徴とするプラスチック光学部品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58204955A JPS6098401A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | プラスチツク光学部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58204955A JPS6098401A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | プラスチツク光学部品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6098401A true JPS6098401A (ja) | 1985-06-01 |
| JPH0549962B2 JPH0549962B2 (ja) | 1993-07-27 |
Family
ID=16499077
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58204955A Granted JPS6098401A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | プラスチツク光学部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6098401A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6320073A (ja) * | 1986-07-11 | 1988-01-27 | Rikagaku Kenkyusho | プラスチツク表面への成膜方法 |
| JPS63298301A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラスチック製光学部品の反射防止膜 |
| US5725959A (en) * | 1993-03-18 | 1998-03-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Antireflection film for plastic optical element |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55570A (en) * | 1979-04-06 | 1980-01-05 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Multilayer antireflection film containing antiabsorption layer |
| JPS56121001A (en) * | 1980-02-27 | 1981-09-22 | Minolta Camera Co Ltd | Optical parts made of plastic |
| JPS5842001A (ja) * | 1981-09-04 | 1983-03-11 | Daicel Chem Ind Ltd | プラスチツク光学部品の反射防止膜 |
-
1983
- 1983-11-02 JP JP58204955A patent/JPS6098401A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55570A (en) * | 1979-04-06 | 1980-01-05 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Multilayer antireflection film containing antiabsorption layer |
| JPS56121001A (en) * | 1980-02-27 | 1981-09-22 | Minolta Camera Co Ltd | Optical parts made of plastic |
| JPS5842001A (ja) * | 1981-09-04 | 1983-03-11 | Daicel Chem Ind Ltd | プラスチツク光学部品の反射防止膜 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6320073A (ja) * | 1986-07-11 | 1988-01-27 | Rikagaku Kenkyusho | プラスチツク表面への成膜方法 |
| JPS63298301A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラスチック製光学部品の反射防止膜 |
| US5725959A (en) * | 1993-03-18 | 1998-03-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Antireflection film for plastic optical element |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0549962B2 (ja) | 1993-07-27 |
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