JPS5842001A - プラスチツク光学部品の反射防止膜 - Google Patents

プラスチツク光学部品の反射防止膜

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JPS5842001A
JPS5842001A JP56140115A JP14011581A JPS5842001A JP S5842001 A JPS5842001 A JP S5842001A JP 56140115 A JP56140115 A JP 56140115A JP 14011581 A JP14011581 A JP 14011581A JP S5842001 A JPS5842001 A JP S5842001A
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JP
Japan
Prior art keywords
layers
layer
thickness
reflection preventing
lenses
Prior art date
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Pending
Application number
JP56140115A
Other languages
English (en)
Inventor
Shunpu Haga
羽賀 舜布
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daicel Corp
Original Assignee
Daicel Corp
Daicel Chemical Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Daicel Corp, Daicel Chemical Industries Ltd filed Critical Daicel Corp
Priority to JP56140115A priority Critical patent/JPS5842001A/ja
Publication of JPS5842001A publication Critical patent/JPS5842001A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/111Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、反射防止膜を有するプラスチック光学部品に
関するものである。
従来種々の光学部品の表面にMgF2の単層膜やCa 
F2 、その他の蒸着基板と屈折率の異々る物質を交互
に蒸着し反射防止膜を作成するいくつかの方法が提案さ
れている。しかしこれらの反射防止膜をプラスチックス
に蒸着した場合、反射防止膜は密着性が低く耐湿性、耐
擦傷性が悪いという欠点があった。
本発明はかかる欠点を除去したものであり、透明プラス
チック光学部品上に反射防止効果、耐久性共に優れた反
射防止膜を提供することにある。
すなわち、本発明はプラスチック光学部品の表面にアル
キルトリアルコキシシランの部分加水分解縮合物から成
る硬化膜層を形成し、その上に第1層としてS io+
 AIhOs * C602及びTho+ から選・ば
れた少々くとも1種のλ/2(λ=400 nm〜70
0nm)の膜厚の薄膜を真空蒸着により形成し又は形成
せず第2層としてMgF2友びSiO2から選ばれた1
種のλ/4(λ=40071m〜700nm )の膜厚
の薄膜を真空蒸着により形成したことを特徴とするプラ
スチック光学部品の反射防止膜である。
本発明に使用するアルキルトリアルコキシシランの部分
加水分解縮合物としては一般式R81(OR)3で示さ
れる有機−素化合物(但り、 Rは炭素数がt−iの炭
化水素基であり、R′は炭素数1〜4の炭化水素基又は
フェニル基である)の部分加水分解縮合物である。
具体的にはメチルトリメトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、エチルトリエトキシシラン、イソプロビル
ト1)メトキシシラン、メチルトリエトキシシン、フェ
ニルトリエトキシ7ランなどをあげることができる。加
水分解縮合は少量の酸触媒の存在下に水とアルコールの
ごとき混合溶媒中で行うことができる。
このようにして得たアルキルトリアルコキシシランの部
分加水分解縮合物を主体とする塗料には硬化触媒として
アルカリ金属水酸化物、亜リン酸又はリン酸のアルカリ
金属塩、第4級アンモニウム化合物、環式アミジン又は
その塩などtJ″−加えられる。特に好ましいのは1.
8ジアザビシクロ(5゜4.0)ウンデセン−7などの
環式アミジン又はその塩、又は第4級アンニウム化・イ
ドロオキサイドなどの第4級アンニウム化合物などであ
る。またゲル化防止や密着性の向上のために、例えばギ
酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸を加えることが望ま
しい。更に少量の表面平滑剤、紫外線吸収剤などを加え
てもよい。このようにして得たアルキルトリアルコキシ
シランの部分加水分解縮合物を主体とする塗料にプラス
チック光学部品を浸漬、スプレーなどの塗装方法により
塗布加熱硬化させることにより硬化膜層を形成する。膜
厚としては1〜20μ仏が適当である。
本発明はアルキルトリアルコキシシランの加水分解縮合
物を主体とした塗膜をコーティングした後、第1層とし
てS io、 Adz 03 、 CeO2及びThO
2より選ばれた1種を真空蒸着により該金属酸化物膜を
厚さλ/2(λ=400rLm〜7oonm)に蒸着す
る。
次に第2層としてMgFz又は5iOzのλ/4(λ=
400 nm〜7oonm)厚の膜を真空蒸着により蒸
着する。
第1層は反射防止効果及び表面硬度などの特性の向上に
つながるが、必ずしも必要でない。
蒸着工程は市販の真空蒸着装置を使用して真空度lXl
0  トール以下の条件で行うことができる。
適用できるプラスチックとしては透明なものであれば良
いが、例えばポリメチルメタクリレ−士、ポリカーボネ
ート、CR−39などがあげられる。
以下実施例に基づいて本発明の詳細な説明する5、実施
例−l ポリメチルメタクリレート(三菱レイ5ン■製アクリペ
ツ)VH)を厚味2關、直径801AR。
曲率半径781mの平服レンズに射出成形したものをメ
チルトリエトキシシランの部分加水分解縮合物(オーニ
ング・イリノイズ社ガラスレジン、)及び硬化触媒とし
て1Bジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7の
フェノール塩及び酢酸を含むコーテイング液に浸漬塗装
し、加熱硬化し、膜厚4〜5μのコーティングレンズを
得た。
このレンズの表面に真空蒸着装置(日本真空技術■製E
BS−1OA)によりlOトールでMgF+を厚味14
0fimに蒸着した。
得られたレンズを次のような特性試験を行い結果を表−
11表−2に示した。
1 可視光線透過・率 分光光度計で波長400〜700nmの透過率を測定 2、表面蒸着膜の密着性 クロスハツチビールテストを行い、剥れのまったくない
もの・・・・・・○、一部剥れるもの・・・・・・・・
・△、全部剥れるもの・・・・・・と表示3、60℃温
水浸漬後の密着性 60℃の温水に3hr浸漬後、クロスハツチピールテス
トを行い、上記と同じ規準で表示実施例−2 実施例−1,と同様にしてポリメチルメタクリレート製
レンズにメチルトリエトキシシランの部分加水分解縮合
物及び硬化触媒としてテトラエチルアンモニウムハイド
ロオキサイド及び酢酸を含む塗料をコーティングして加
熱硬化後、第1層としてA−g203  膜厚280n
mに真空蒸着し、第2層としてMgF2を膜厚140n
mに真空蒸着したレンズを得た。評価結果を表−1、表
−2に示した。
実施例−3 実施例−2に於いて第1層のAl3zO3の代りにSi
Oを使用した他は実施例−2と同様に行った。評価結果
を表−11表−2に示した。
実施例−4 実施例−2に於いて第1層のA&03を使用した他は実
施例−2と同様に行った。評価結果を表−1、表−2に
示した。
比較例−1゜ ポリメチルメタクリレート樹脂レンズをそのま\評価し
た。
比較例−2 実施例−1に於いてメチルトリエトキシシランの部分加
水分解縮合物を含む塗料をコーティングせずにポリメチ
−ルメタクリレート樹月旨レンズに直接MgFzを10
−’)−/しで蒸着した。
手続補正書(自発) 昭和56年1z月1日 特許庁長官 島 1)春 樹 殿 L 事件の表示  昭和56年特許願第1401.15
号2 発明の名称  プラスチック光学部品の反射防止
膜3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 明細書の特許請求の範囲の欄及び発明の詳細な説明の欄 5、補正の内容 (11明細書の特許請求の範囲を添付別紙のとおりとす
る。
λ/2若しくはλ/4(λ=400算m〜」(1)明細
書第4頁913行「厚さλ/2(λ=400TLm〜」
を次のように補正。「厚さλ/2若しくはλ/4(λ二
400rLnt〜」 (1)明細書第6頁10行「全部剥れるもの・・・・・
・と表示」を次のように補正。「全部剥れるもの・・・
×4と表示」 (1111BiilE 7.i 10行r(7)Ag2
03Jを次のように補正。[にCe0zJ 2、特許請求の範囲 プラスチック光学部品の表面にアルキルトリアルコキシ
7ラン部分加水分解縮合物から成る硬化膜層を形成し、
その上に第1層としてS io。
A6203eCe02及びTh0z から選ばれた少な
くとも1種のλ/2若しくはλ/4(λ=400ルm〜
7(10nm)の膜厚の薄膜を真空蒸着により形成した
ことを特徴とするプラスチック光学部品の反射防止膜。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 プラスチック光学部品の表面にアルキルトリアルコキシ
    シラン部分加水分解縮合物から成る硬化膜層を形成し、
    その上に第1層としてSin。 A lh 03 、 Ce 02及びTha2 から選
    ばれた少なくとも1種のλ/2(λ=44)Onm〜7
    00 nm )の膜厚の薄膜を真空蒸着により形成し、
    又は形成せずに第2層としてMgFz及びSiO2から
    選ばれた1種のλ/4(λ=400nm〜700nm)
    の膜厚の薄膜を真空蒸着により形成した仁とを特徴とす
    るプラスチック光学部品の反射防止膜。
JP56140115A 1981-09-04 1981-09-04 プラスチツク光学部品の反射防止膜 Pending JPS5842001A (ja)

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