JPS61215235A - 防汚性を有する低反射率ガラス - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はガラス表面の反射性を低下させた低反射率ガラ
スに関し、更に詳しくはガラス表面に三層以上の膜が形
成されてなる低反射性、防汚性及び耐久性の優れ九低反
射率ガラスに関するものである。

〔従来の技術〕

建築物の窓ガラス、ガラスドアー、ショーウィンド、シ
ョーケース、車輛の窓ガラス、光学レンズ、メガネレン
ズ、その他のガラス製品は太陽光、照明光の反射による
ギラツキや眩しさ、あるいは周囲の景観が映シ、透視性
や透明性に支障をもたらしている。また、太陽光の利用
などにおいて、例えば太陽熱温水器は集熱効ポを向上せ
しめるために集熱部に用いるガラスなどの透光材料の反
射損失を除去、または低減化させ、大量のエネルギーを
通過させることが必要である。

従来から、ガラス表面の反射防止は光学部品のレンズを
中心に開発が進められてきている。

ガラス表面の可視光の反射防止にはＭｇＦｍ＋氷晶石な
どからなる単層膜が、また赤外用には日１０＝　、　　
ｃｌｏ、　、　　ＺｎＥｌなどからなる単層膜、８１０
−ＭｇＦｉｔ三硫化ひ素ガラスーＷｏｅ２−氷晶石など
からなる複層膜が、更に紫外用には８１０．、　ＬｉＦ
などからなる単層膜が、反射防止膜として、真空蒸着法
あるいはスパッタリング法によって形成され、光学レン
ズ、メガネレンズ、フィルタ−などに実用化されている
。

一方、ガラス表面に高分子物質からなる低反射処理剤を
直接塗布、あるいは処理剤中に浸漬することによる反射
防止膜の形成方法ならびに処理剤が提案されている。か
かる反射防止膜の形成方法ならびに処理剤として、例え
ば反射防止膜の耐久性、耐擦傷性な、どの特性の改良を
目的として、透明材料、特にプラスチック基材上に金属
酸化物含有組成物を水を含む環境下で処理してプレコー
ト層を設け、該プレコート層上に有機ケイ素化合物を含
有する組成物からなる反射防止膜を形成させる方法（特
開昭５９−４９９６０号公報参照）が開示されている。

〔発明の解決しようとする問題点〕

前記の反射防止膜の形成方法において、真空蒸着法ある
いはスパッタリング法は装置の機構、　　上及びコスト
面から適応物品は小型精密光学部品などに限定されると
いう制約があシ、更に連続的製造には適してはいない。

また、低反射処理剤による反射防止膜において、可視光
用の単層膜は特定の波長に対してのみ反射防止効果を示
すに過ぎず、二層設では可視光域における平均反射率の
低下には反射防止膜の屈折率ｎ１厚さと１波長λとする
と、ガラス表面上の膜はλ／２、その上層膜はｎａ＝λ
／４なる条件を満足すればよいがそれによって得られる
反射率の低下効果はその数値で１５俤を低下させるのが
限度である。

特に、前記の公知の低反射処理剤によシ形成された反射
防止膜は汚染され易く、通常の洗浄作業によっては容易
に除去されず、強く払拭すると膜が剥離するという問題
がある。

したがって、現状では防汚性と高性能の低反射率化とを
満足する低反射率ガラスは得られていない。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者は、上記の如き問題点の認識に基づいて、小型
精密光学部品ガラスはもとよシ、大盤ガラスにも応用が
可能であって、ガラスの透視性、透明性を損なうことな
く塗布、吹付け、浸漬など既知の簡便な方法によってガ
ラス表面に反射防止処理剤の薄膜層が形成され、その膜
の性能は、可視光域の全域を平均に低反射化せしめると
ともに防汚性に優れ、しか４長期に亘シ持続され得る低
反射率ガラスを提供すべく種々研究、検討を行なった。

その結果、反射防止膜として三層以上の構造を有し、ガ
ラス表面上の膜及び中間層膜はｎｄ＝λ／４〜３λ／４
を満足するとともにガラス及び該膜上に形成される上層
膜との接着力に優れたものとして金属酸化物を含有する
縮合体が好適であシ、更に上層膜として特定の含フッ素
シリコーン化合物の縮合体からなる薄膜を形成すること
によって可視光全域を平均（低反射化するとともに防汚
性に優れた低反射率ガラスが得られるという知見を得て
本発明を完成するに至ったものである。

本発明は、ガラス表面上に金属酸化物を含有する縮合体
からなる薄膜が少な、くとも二層設けられ、該薄膜上に
炭素数３〜２０のパーフルオａ　７　／ｌ／　キル基を
有する含フッ素シリコーン化合物の縮合体からなる薄膜
が設けられた少なくとも三層構造の薄膜が形成されてな
ることを特徴とする防汚性を有する低反射率ガラスを提
供するものである。

本発明においてガラス表面上に設けられる少なくとも二
層の薄膜、即ち下層膜及び中間層膜用としての金属酸化
物を含有する縮合体において、金属酸化物はＴｉ１ｔ系
化合物、８１０．系化合物、ＺｒＯ冨系化合物、Ｔ　ａ
！０ｇ、系化合物、ム１鵞０３系化合物などが好適であ
って、それらを含有する縮合体としては、例えばＴ１０
１系化合物にて代表して例示するとＴｉ（ＱＣ！ｌｌｌ
５）、。

Ｔｉ（００＊Ｈｓ）ｉ、　　Ｔｉ（ＯＯｓＨｙ）４．　
　Ｔｉ（００４１１１ｉｎ　　などのテトラアルコキシ
チタン及びこれらの低重合体、Ｔｉ（０−１０１１１テ
）１（００（Ｃ１１１１）ＯＨＣ００Ｈｊ３１　Ｉ　　
Ｔｉ（０−１０ｓＨｙ）ｎＣ００Ｈ＊０Ｈ（Ｏ雪Ｈｓ＞
０Ｈ（ＯＨ）ＯｓＴｌｔ〕４−ｎ　　などのチタンキレ
ート化合物が挙げられる。また、８１０．系化合物とし
ては、例えば５ｉ（ＯＯＨｓ）ａ、　８１（ＯＯｔＨｓ
）４゜ｓ　ｓ　（ｏ　０ｓｌｉｙ）４＃　　日１（００
４馬）４などのテトラアルコキシシラン、Ｈ８１（ＯＣ
Ｈ３）ｓ、　　Ｈｓｉ（ＯＯｚＨｓ）ｓ。

Ｈ８１（０（！、馬）３．　０Ｒ１８１（ＯＣＩｍ）３
．　０Ｈ３Ｂ１（ＱＣ意４）３゜Ｃ１１ｍ８１（ＱＣｓ
！Ｉｙ）ｓ、　　０Ｈｓ８１（ＯＣａＨｅ）ｓ　　など
のトリアルコキクシラン、”０Ｈ１００１Ｈｙ８１（Ｏ
Ｒ）４などのシランカップリング剤が用いられる。かか
る８１０゜系化合物において、メチルアルコキク７ラン
は８１０、含有量が約４０％と高いので、例えばエチル
アルコキシシラ７などよプは有利である。

これらの金属酸化物は単独で用いることも出来るが、屈
折率を調整するためには２成分あるいはそれ以上の共縮
合体であるのが好適である。

また、その他に下層膜及び中間層膜の脆性、接着性の改
良を目的として、他の添加剤を併用した共縮合物であっ
てもよい。他の添加剤として用い得るものとしては、例
えばポリエチレングリコール、ペンタエリスリトールな
どの多価アルコールあるいはメラミン樹脂、エポキシ樹
脂などであって、かかる添加剤は下層薄膜及び中間層膜
の耐クラツク性、接着性の向上に有用である。

金属酸化物を含有する縮合体において、金属酸化物及び
必要によシ併用される添加剤の配合割合は、金属酸化物
を含有する縮合体中に金属酸化物は少なくとも２０重重
量板上、好ましくは５０重重量風上配合される。添加剤
は金属酸化物を含有する縮合体中２０重量Ｓまでである
。

金属酸化物を含有する縮合体は金属酸化物、及び必要に
よシ添加剤を配合した後、アルコール系溶媒、例えばエ
タノール、ブタノールなどの単独または混合溶媒中で加
水分解反応することＫよって調製される。加水分解反応
には触媒として酢酸、塩酸が用いられ、室温によって行
なわれる。

上記金属酸化物を含有する縮合体からなる下層膜及び中
間層膜上に形成される低屈折率の薄膜としての上層膜は
炭素数３〜２０のパーフルオロアルキル基を有する含フ
ッ素化合物の縮合体からなる。

而して、炭素数５以下のパーフルオロアルキル基を有す
る含フッ素化合物では防汚性と低反射率化という両特性
を満足させるに至らない。

マタ、炭素数２０以上のパーフルオロアルキル基を有す
る含フッ素化合物は実質的に入手し難く、コスト的にも
不利である。

ポリフルオロアルキル基含有化合物はフッ素原子の分極
率が小さく、従って屈折率も低く、例えばａｓ　ＩＦｔ
ｓ　　の屈折率（２５℃以下同じ）は１、２７１、（０
４１ｋ　）ｓ　Ｍは１．２９　Ｇ、（０’１！雪−０’
１！２１０ＦｓＯ（ＩＦ−ＯＦ、　）の重合体は１．５
３０である。かかるポリフルオロアルキル基含有化合物
は低反射率処理剤として好適であるが、薄膜を形成し化
学的に接着せしめるには−８１−ＯＲ，−８１−＋１な
どの存在が好ましいことから、本発明における含フッ素
シリコ−／化合物の縮合体は、炭素数３〜２０のポリフ
ルオロアルキル基を含有するジアルコキシシラン、トリ
アルコキシシラン、ジクロルシラン及びトリクロルクラ
ンから選ばれる少なくとも１種の化合物と、シランカッ
プリング剤との共縮合体からなるのが好適である。

前者のポリフルオロアルキル基を含有する各種クラン化
合物は種々のものが例示可能である。

代表例として ０１Ｐｓ（０１Ｆｔ）ｓｏ＊ＩＩＩ＊８１（ＯＣＩｍ）
ｓ、　　０１％（０７１）１（４Ｈ４８１（００％）１
゜電 ＨＩ ＨＩ Ｃ烏 ＩＩａ Ｈａ ＯＦＦ（ＯＦｍ）ｙｃＯｌｉｌＩ（０ＨＩ）３８１　（
ＯＣＩｍ）３　。

０ＦＦ（ＯＦｍ）ｔｏｏｌｉＨ（ＯＲ鵞）ｍ８１（ＯＯ
Ｈｓ）ｔ−Ｈｓ （！ＩＦＩ　（ＯＩＦ＊）ｙｃＯＮＨ（０１１１）ｓ８
１ｃ１ｇ　。

ＯＦｓ（０１Ｐ１）７０ＯＮ）Ｉ（０１１１２）３８１
ｃ１ｇ。

Ｉ ＯＨ。

ＯＦｍ（ＯＦｇ）７ＥＩ０１ＮＨ（Ｃ馬）ｍ８１（ＯＯ
Ｈｓ）ｓ。

０１’＊（ＯＦｇ）ｔｓＯ＊ＮＨ（Ｃ馬）ｍ８１（ＯＣ
Ｒｓ）意。

■ ＨＭ ｐｓ ■ ０Ｆｓ　（ＯＦｘ）ｔｏｏＩＦＯＲｔｏ（（Ｈｚ）ｍ８
１　（ＯＣＲｓ）ｓ　。

ＯＦ。

Ｏｙ、　　　　　　　　　ｃ　）Ｉ。

ＯＦ、（ＯＩＦ、）、０ＯＦＯ馬ｏ（ａ１！、）３ｓ１
ｃ１３゜ＯＩＦ３ ０ｔｍ（ＯＦ鵞）意０ＣＰＯＨ！Ｏ（Ｏ馬）３８　ｉ　
Ｃ１ｔ　＊Ｈｓ ＨＩ ＯＨ３ ＯＩＦ雪（ＯＦｓ）ｔｏ鵞Ｉｌ［４０ＣＯＮＨ（ＯＨ鵞
）、５ｔ（ｏｃＨｓ）ｓ。

（ＣｕＩ２）ｍ８１０１Ｈ４（０１％）＠Ｏ１に４８１
（ＯＯＨ３）１゜ａｌ、ｓ　１ａ雪に４　（０１Ｆ＊）
ｓｏ鵞Ｈ４８１０１ｍ。

（０％Ｏ）ｍ８１（４％１ｉＩｉＯＯＯ（４１４（０１
’＊）ｉ（３ｘＢ＊ＯＯＯＮＨＯｍＨｓ８１（００Ｅａ
）ｍ　。

０１１８１１４Ｈ＠ＮＨＯＯＯ（４Ｈ４（Ｏ］Ｆ’ｌ）
＠０１Ｈ４００ＯＮ　Ｈ（４Ｈ＠Ｂ　１０１Ｂの如キ炭
素数３〜２０のパーフルオロアルキル基を含むシラン化
合物が挙げられる。これらは加水分解して縮合体として
使用される。かかる縮合体のそれぞれの屈折率は１．３
３〜１．４２の範囲内にあシ、今フッ素　　　　　　　
　の量　。

が多くなるに従い屈折率は低くなる。これらは２種以上
を適宜選択して共縮合することによシ所望の屈折率の共
縮合体となし得る。

更ニ、上記パーフルオロアルキル基を含むシラン化合物
と共縮合体を形成せしめるシランカップリング剤として
は例えば 日１（００Ｂ、）４．　８１（ＯＯ，Ｈ５）４．　５ｉ
Ｏ１４，Ｈ８１０１ｍ。

ＯＲ，Ｂ　ｉ　Ｏ１１などが挙げられる。かかるシラン
カップリング剤は共縮合体において、下層膜との接着性
をよシ一層向上せしめるのに有用であって、前記パーフ
ルオロアルキル基を含むシラン化合物に対して５〜９０
重量％、好ましくは１０〜７５０〜７５重量％れる。勿
論、シランカップリング剤との共縮合体でなくとも、下
層膜あるいは中間層膜との接着性は実用的には十分であ
る。

縮合体あるいは共縮合体の調製方法は、アルコール系溶
媒、例えばブタノール、好ましくはｔｅｒｔ−ブタノー
ル中で触媒として酢酸及び有機錫化合物の存在下に室温
にて加水分解反応する方法によって行なわれる。

ガラス表面上への金属酸化物を含有する縮合　　　一体
からなる下層の薄膜の形成は、調製された金属酸化物を
含有する縮合体を通常の塗布方法によってガラス表面に
塗布、例えば、はけ塗シ、ロール塗シ、吹付け、浸漬な
どの各種方法によって行ない、塗布後は室温〜２００℃
にて乾燥させ、形成された薄膜を２００℃〜５５０℃に
加熱して硬化させる。金属酸化物を含有する縮合体は調
製時にアルコール系溶媒が添加されてなることから適当
な流動性を有していて容易にガラス表面に塗布される。

更に硬化した薄膜の活性化処理として、例えば２９６フ
ッ酸水溶液または１５囁苛性ソーダ水溶液に浸漬した後
水洗するのが好ましい。かかる方法によって、金属酸化
物含有縮合体からなる薄膜、即ちガラス表閘上に好適な
下層薄膜が形成される。該下層膜上への中間層の薄膜と
しての金属酸化物を含有する縮合体からなる薄膜の形成
線、上記の下層膜の形成方法と同様の方法によって行な
われるが、下層膜及び、中間層膜の薄膜を連続的に形成
する場合は下層膜を塗布して、室温〜２００℃にて乾燥
した後、加熱硬化せずに続いて中間層膜を塗布、乾燥せ
しめ、形成された下層膜及び中間層膜の薄膜を同時に２
００℃〜５５０℃に加熱して硬化させることも勿論可能
である。

下層膜と中間層膜用の金属酸化物を含有する縮合体はそ
の成分、あるい拡配合割合は異なるものであるのが好ま
しいが同一であってもよい。

また、ガラ〜表面上の薄膜としての客なくとも二層、即
ち、下層膜とその上に形成される中間層膜とは、それら
の二層のみに限定されることなく中間層は多層からなっ
ていてもよい。しかしながら、多層膜とすることはコス
ト的には不利となシ、実質的には二層で充分効果が認め
られるので必要以上の多層膜構造とすることを要しない
。

次に上記下層の薄膜上及び実質的に中間層の薄膜上に含
フッ素シリコーン化合物の縮合体からなる上層の薄膜が
形成されるが、上記中間層の薄膜上への含フッ素クリコ
ーン化合物の縮合体の塗布方法は特に限定されることな
く、上記の如く下層膜の形成における塗布方法と同様に
、はけ塗シ、ロール塗シ、吹付け、浸漬などによって行
なわれ、塗布後は１２０℃〜２５０℃に加熱することに
よって硬化されて薄膜が形成される。

本発明における金属酸化物を含有する縮合体からなる下
層膜及び中間層膜上に形成される含フッ素シリコーン化
合物の縮合体からなる上層λ　　　３ 膜の膜厚は前記式のｎｄ　＝τ〜τλ　によって決定さ
れるが下層膜及び中間層膜の膜厚は１３μ以下好ましく
は１０３〜１２μ、上層膜の膜厚は１２μ以下、好まし
くはα０５〜Ｑ、１μであって、かかる膜厚の調整は、
塗布方法の条件によってなし得るものであシ、例えば、
浸漬法においては組成濃度と引上げ速度とによって決定
される。

〔実施例〕

次に、本発明を実施例によシ具体的に説明するが、本発
明はこれら実施例のみに限定されるものではない。なお
実施例において、防汚性を有する低反射率ガラスの評価
方法は次の通）である。

反射率測定：自記分光光度計正反射光測定付属装置（日
立製作新製＝３２３型）を使用し、波長４ＧＯｎμ〜７
［１０ｎμの入射角５′″における平均反射率を測定。

膜厚測定＝１タリステップ＝　（Ｒａｎｋ　Ｔａｙｌｏ
ｒＨｏｂｓｏｎ　社製）を使用し針圧測定よシ求める。

鉛筆硬度：鉛筆引かき試験機（ＪＩ１３−に５４０１　
）と使用。

撥水性測定：水滴の接触角を測定。

撥油性測定：へキサデカンの接触角を測定。

合成例１ 下層膜及び中間層膜用金属酸化物を含有する縮合体の調
製。

第１表に示す原料のそれぞれの量（ｆ）を混合して、室
温にて攪拌しながら１週間反応せしめた後Ｆ遇して−Ａ
〜ＮａＫなるＴ１０！含有縮合体、８１０、含有縮合体
、Ｓｉｎ、　−Ｔｉｅ、含有縮合体及びＢ１０鵞−Ｚｒ
Ｏ２含有縮合体の処理液を調製した。

合成例２ 上層膜用含フッ素シリコーン化合物の縮合体の調製。

第２表に示す原料のそれぞれの量（めを混合して室温に
て攪拌しながら２４時間反応せしめた後、炉遇して−Ｉ
、−１１１ａＮなる含フッ素シリコーン化合物の縮合体
からなる処理液を調製した。

第　　２　　表 ｃｓ＝ａｔｓの混合物で平均値がＣ−０合成例５ 上層膜用含フッ素シリコーン化合物の縮合体の調製。

比較例用に第３表に示す原料のそれぞれの量（吟を混合
して合成例３と同様に反応せしめて賜Ｐなる処理液を調
製した。

第　　３　　表 実施例１ 屈折率Ｌ５２のガラス板（ソーダ石灰ガラス５　Ｘ　１
０　ｉｓ　）を用意し、・洗剤洗浄及び蒸留水洗浄後、
風乾した。このガラス板を合成例１に示される下層膜及
び中間層膜用金属酸化物を含有する縮合体の処理液翫ム
に浸漬し、１０ｃＩＩＩ／ｍｉｎの速度で引上げた後１
０分間１６０℃で乾燥し、次いで同処理液−Ｂ液に浸漬
し、２０５１／　ｍｉｎの速度で引き上げ、再び１０分
間１６０℃で乾燥し九後５４０℃にて３０分間保持して
硬化せしめ、膜厚（ＬＯ７μ、屈折率１．７の下層膜及
び膜厚１１１５μ、屈折率２．１０の中間層膜を形成し
た。

次にこれらの金属酸化物の膜が形成されたガラス板を２
俤フッ酸水溶液に１分間浸漬した後引上げて蒸留水にて
洗浄、風乾し、合成例２に示される上層膜用含フッ素シ
リコーン化合物の縮合体からなる処理液１ｌｌａ′Ｌ液
に浸漬し６　ｃｍ／ｍｉｎの速度で引上げ後、１６０℃
に２時間保持して熱硬化せしめ膜厚α０９μ、屈折＄　
１．４０の上層膜を形成した。

とのようにして得られた三層構造の薄膜が形成された低
反射率ガラスについて反射率を測定したところ、片面当
シｃＬ２５％であシ、鉛鎖硬度はＨであった。また、水
、ヘキサデカンの接触角はそれぞれ１１１２°、６１５
ａであった。

実施例２〜１０ 実施例１における下層膜及び中間層膜用金属酸化物を含
有する縮合体の処理液を第３表に示す一ム〜＆、Ｔとし
、浸漬引上げ速度及び熱硬化時間を変化させ、更に、上
層膜用含フッ素シリコーン化合物の縮合体からなる処理
液を第３表に示すＮａｐ−４１とし、引上げ速度を変化
せしめた他は、実施例１と同様に処理して三層構造の薄
膜が形成された低反射率ガラスを得た。但し実施例９．
１０については中間層及び下層膜を２００ｃにて６０分
間保持して熱硬化せしめた。得られた低反射率ガラスに
ついて膜厚、屈折率、反射率鉛筆硬度及び接触角を測定
し、それらの結果を第３表に示した。

比較例１〜２ 実施例１と同様のガラス板に第１１！に示す下層膜及び
中間層膜用金属酸化物を含有する縮合体の処理液ｋＤの
みを処理して下層膜を形成し、これに第２表に示す上層
膜用含フッ素シリコーン化合物の縮合体からなる処理液
１１ｋＮを実施例１と同様に処理して得られた二層構造
の薄膜が形成された低反射率ガラスについて膜厚、屈折
率、反射率、鉛筆硬度及び接触角を測定した。

また、実施例１と同様のガラス板に上層膜用フッ素含有
シリコーン化合物の縮合体からなる処理液−Ｌのみを実
施例１と同様に処理して単層膜を形成し得られたガラス
板について膜厚、屈折率、反射率、鉛筆硬度、及び接触
角を測定した。

それらの結果を第３表に示した。

比較例３ 実施例１と同様のガラス板（実施例１と同様に下層膜及
び中間層膜用金属酸化物を含有する縮合体の処理液−ム
及び１１＆＆Ｇを処理して下層膜及び中間層膜を形成し
た。

次に、実施例１と同様にフッ酸水溶液浸漬と洗浄、風乾
後、合成例３に示される上層膜用含フッ素シリコーン化
合物の縮合体からなる処理液ｉｐを実施例１と同様に、
処理して得られ九三層構造の薄膜が形成されたガラスに
ついて膜厚、屈折率、反射率、鉛修硬度及び接触角を測
定した。その結果を第３表に示したが、接触角は小さく
、特にヘキサ／に対しては無処理と同種であシ、防汚性
に劣るものであった。

比較例４ 実施例１と同様のガラス板について未処理状態における
反射率及び接触角を測定し、それらの結果を第３表に示
した。

実施例１１ 屈折率１．５２のガラス板（ソーダ石灰ガラス５Ｘ１０
ｃｌ１Ｍ）を用意し、洗剤洗浄及び蒸留水洗浄後風乾し
た。このガラス板を第１表に示す下層膜及び中間層膜用
金属酸化物を含有する縮合体の処理液の−に液に浸漬し
、５　ｅｔａ　／　ｍｉｎの速度で引上げた後、１６０
℃で１０分間乾燥した。

放冷後火に同、−Ａ液に浸漬し、７　ｅｙｍ　／　ｍｉ
ｎの速度で引き上げた後、１６０℃にて１０分間乾燥し
て放冷し、さらに同、１ｌｋＧ液に浸漬し１６５１　／
　Ｗｉｎの速度で引き上げた後１６０℃にて１０分間乾
燥し、次いで５４０℃にて３０分間保持して熱硬化せし
め、膜厚１０５μ、屈折率ｔ４４の下層膜、膜厚ＩＩＬ
０６μ、屈折率１．７０の第１中間層及び膜厚ａ１１μ
、屈折率２．１０の第２中間層を形成した。次にこの下
層膜及び中間層膜が形成されたガラス板を１５係水酸化
ナトリウム水溶液に５分間浸漬した後引き上げて蒸留水
にて洗浄後風乾し、第２表に示す上層膜用含フッ素シリ
−３−ン化合物の縮合体からなる処理液ｋＮ液に浸漬し
、５　ｃｓ　／　ＷｉＨの速度で引き上げた後、１６０
℃に２時間保持して熱硬化せしめ、膜厚１０Ｂ５μ、屈
折率１．４３の上層膜を形成した。このようにして得ら
れた４層構造の薄膜が形成された低反射率ガラスについ
て反射率を測定したところ、片面当シα３５係であシ鉛
値硬度は５Ｈ以上であった。まえ、水、へ牟すデカンの
接触角はそれぞれ１０１５″、６１．５’であった。

実施例１２ 実施例１〜１１によって得られた低反射率ガラスの表面
に速乾性黒色インク（フェルトペン用）を塗布して汚染
せしめ、１時間放置後、綿布によシ払拭したところ、低
反射率ガラス上の黒色インクは容易に除去することがで
きた。

比較例５ 比較例２〜３によって得られた処理ガラスの表面に速乾
性黒色インクを実施例１２と同様に汚染せしめて払拭し
たが、完全にインクを除去することは出来ず、塗膜には
傷が発生した。

〔発明の効果〕

本発明の低反射率ガラスは可視光域における平均反射率
がＩＩＬ５％以下であシ、通常のソーダ石灰ガラスの反
射率４．２％に対して優れた低反射性を有し、しかも形
成された薄膜は鉛筆硬度がＨ〜５Ｈ以上であって、例え
ば含フッ素クリコーン化合物の縮合体のみからなる薄膜
はＨＢであることから硬度の高いことが認められる。

更に、汚れに対して優れた耐汚染性を示し、低反射性が
長期に亘って持続されるという効果を有するものである
。

本発明の低反射率ガラスの用途は特に限定されることな
く、例えば建築物の窓ガラス、ガラスドアー、ショーウ
ィンド、ショーケース、車輛ノ窓ガラス、光学レンズ、
メガネレンズ、フィルター、テレビジョン前面防眩ガラ
ス、時計ガラス、その他のガラス製品などに用いること
ができる。

（２）明細書第４頁第７行目〜第８行目の「低下効果は
・・・・限度で島スーＩを「低下には限麿があり２Ｍ硬
麻も低い、］に補正す手続補正書 昭和６０年６月を日

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ガラスの表面上に金属酸化物を含有する縮合体からなる
   薄膜が少なくとも二層設けられ、該薄膜上に炭素数３〜
   ２０のパーフルオロアルキル基を有する含フッ素シリコ
   ーン化合物の縮合体からなる薄膜が設けられた少なくと
   も三層構造の薄膜が形成されてなることを特徴とする防
   汚性を有する低反射率ガラス。