JPH10148701A

JPH10148701A - 反射防止フィルタおよびその製造方法ならびにこの反射防止フィルタを用いた表示装置

Info

Publication number: JPH10148701A
Application number: JP8309564A
Authority: JP
Inventors: Hirofumi Kondo; 洋文近藤; Hideaki Hanaoka; 英章花岡
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1996-11-20
Filing date: 1996-11-20
Publication date: 1998-06-02
Anticipated expiration: 2016-11-20
Also published as: JP3709632B2

Abstract

(57)【要約】【課題】耐汚染性、耐磨耗性が向上した反射防止フィ
ルタおよびその製造方法、ならびにこれを用いた表示装
置を提供する。【解決手段】誘電体材料からなる反射防止層表面に、
パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン
化合物と、長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化
合物とを含む被膜を形成する。【効果】下地反射防止層、および被膜内分子間の相互
作用が高く、強固な被膜を形成することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は反射防止フィルタお
よびその製造方法ならびにこれを用いた表示装置に関
し、さらに詳しくは、陰極線管等のディスプレイ装置の
前面に設けた反射防止フィルタの耐汚染性、耐擦傷性等
を向上した反射防止フィルタおよびその製造方法ならび
にこれを用いた表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】透明基材を介して対象物を見る際に、こ
の透明基材表面での反射光が強い場合、あるいは反射像
が明瞭に視認される場合等は、対象物が見難く、また煩
わしいものである。身近な例として、眼鏡レンズではゴ
ースト、フレアと呼ばれる反射像を生じ、着用者に不快
感を与える。またショウウィンドウや陳列ガラスケース
では、ガラス表面での反射光や反射像のため内容物が判
然としない。このような例は、陰極線管や液晶パネル、
あるいはプラズマディスプレイのような画像表示装置の
パネルガラスでも発生する。

【０００３】従来より反射防止のために、透明基材の屈
折率と異なる屈折率を有する光学材料を、透明基材上に
薄層状に形成する方法が採られてきた。この場合、反射
防止層の層厚の選択が重要である。例えば単層の反射防
止層では、透明基材より低屈折率の物質を、その光学的
層厚が対象とする光波長の１／４ないしその奇数倍に選
択することにより、極小の反射率と極大の透過率を与え
ることが知られている。光学的層厚とは、反射防止層の
屈折率と層厚との積である。反射防止層の材料は、主と
して無機化合物からなる誘電体材料、例えば無機酸化物
や無機ハロゲン化物が採用される。

【０００４】また複数種の誘電体材料を多層に形成する
場合もあり、各層の層厚の選択については、例えば「光
学技術コンタクト」誌Ｖｏｌ．９，Ｎｏ．８，ｐ．１７
（１９７１）にいくつかの提案がなされている。またこ
れら誘導体多層膜を、液状組成物を用いて形成する方法
は、例えば特開昭５８−４６３０１号、特開昭５９−４
９５０１号、特開昭５９−５０４０１号の各公報に開示
されている。近年においては、軽量、安全性、取り扱い
の簡易性の点から、透明プラスチックス基材上に反射防
止層を有する光学部品も実用に供されており、それらの
多くは反射防止層として酸化珪素を含む層が採用され、
これらは蒸着やスパッタリング等の真空薄膜形成技術を
用いて成膜される。

【０００５】これら真空薄膜形成技術を用いて成膜され
る反射防止層は、無機化合物を主体としており、高い表
面硬度を有する反面、指紋、手垢、汗、整髪料等の汚れ
が付着して目立ちやすく、また除去し難い。また表面の
親水性が大きいため雨滴や水の飛沫に対する濡れ性に富
み、眼鏡レンズ等においては大面積にわたって物体は歪
んで見える難点がある。

【０００６】反射防止層に高い表面硬度を付与するた
め、最表層にシリカ微粒子等の無機微粒子を３０重量％
以上含有させる構成が、先に例示した特開昭５８−４６
３０１号、特開昭５９−４９５０１号、特開昭５９−５
０４０１号の各公報に開示されている。かかる微粒子分
散型の反射防止層は表面の滑り性が悪く、布などとの摩
擦によっても容易に傷がつく可能性を有する。

【０００７】これらの問題点を改良するため、各種の表
面処理剤が提案され市販されている。これらの表面処理
剤は、いずれも水や各種溶剤に可溶性であるので被膜が
剥離し易く、その機能は一時的で耐久性に乏しい。ま
た、例えば特開平３−２６６８０１号公報には、反射防
止層に撥水性を付与するため、フッ素系樹脂被膜を形成
する技術が開示されている。この場合は溶剤可溶性はな
いが、摩擦あるいは磨耗に対する満足な結果は得られな
い。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは先に、表
示装置の反射防止層表面をパーフルオロポリエーテル化
合物により処理することにより、耐磨耗性および耐汚染
性を高める方法を特願平７−２２４０６３号明細書とし
て提案した。これらの化合物による表面処理は一定の効
果が得られるが、溶剤処理等によりその効果が低減する
場合も見られた。これは、反射防止層材料のＳｉＯ₂と
パーフルオロポリエーテル化合物との相互作用が充分で
ないためと考えられる。

【０００９】そこで本発明者らはさらに、パーフルオロ
ポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物の被膜
を反射防止層表面に形成する方法を、特願平８−６４０
８９号明細書において提案した。すなわち、反射防止層
材料のＳｉＯ₂との強固な相互作用を持たせるため、ア
ルコキシシラノ基を分子構造中に取り込み、耐溶剤性を
向上したものである。この被膜形成により、耐磨耗性、
耐溶剤性の大幅な向上がみられたが、撥水性の面では必
ずしも充分ない場合があった。

【００１０】本発明は上述した従来技術に鑑み、その問
題点を解決するために提案するものである。すなわち本
発明の課題は、耐汚染性、耐磨耗性等に優れた反射防止
フィルタおよびその製造方法を提供することである。ま
た本発明の別の課題は、かかる反射防止フィルタを用い
ることにより、視覚特性の向上した表示装置を提供する
ことである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の反射防止フィル
タは上述した課題を解決するために提案するものであ
り、透明基材の表面に少なくとも１層の誘電体薄膜から
なる反射防止層を有する反射防止フィルタにおいて、こ
の反射防止層表面に、下記一般式（１）で示されるパー
フルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合
物と、下記一般式（２）で示される長鎖炭化水素基を有
するアルコキシシラン化合物と、を含む被膜を有するこ
とを特徴とする。Ｒｆ（ＣＯ−Ｘ−Ｒ₁−Ｓｉ（ＯＲ₂）₃）_n（１）Ｒ₃−Ｓｉ（ＯＲ₂）₃ （２）（但し、Ｒｆはパーフルオロポリエーテル基を、Ｒ₁は
アルキレン基を、Ｒ₂はアルキル基を、Ｒ₃は炭素数１
０以上の長鎖炭化水素基を、そしてＸは−Ｏ−、−ＮＨ
−および−Ｓ−から選ばれる基を、ｎは２以下の自然数
をそれぞれ表す。）

【００１２】また本発明の反射防止フィルタの製造方法
は、透明基材の表面に少なくとも１層の誘電体薄膜から
なる反射防止層を有する反射防止フィルタの製造方法に
おいて、この反射防止層表面に、下記一般式（１）で示
されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシ
シラン化合物と、下記一般式（２）で示される長鎖炭化
水素基を有するアルコキシシラン化合物と、を含む組成
物を塗布して被膜を形成することを特徴とする。Ｒｆ（ＣＯ−Ｘ−Ｒ₁−Ｓｉ（ＯＲ₂）₃）_n（１）Ｒ₃−Ｓｉ（ＯＲ₂）₃ （２）（但し、Ｒｆはパーフルオロポリエーテル基を、Ｒ₁は
アルキレン基を、Ｒ₂はアルキル基を、Ｒ₃は炭素数１
０以上の長鎖炭化水素基を、そしてＸは−Ｏ−、−ＮＨ
−および−Ｓ−から選ばれる基を、ｎは２以下の自然数
をそれぞれ表す。）

【００１３】一般式（１）中のパーフルオロポリエーテ
ル基Ｒｆのうち、一価のものとしては、例えば下記一般
式（３）、（４）あるいは（５）等が例示されるが、こ
れら構造式に限定されることはない。また二価のもので
あってもよい。この場合にはＲｆ基の両末端にアルコキ
シシラン化合物が結合する。パーフルオロポリエーテル
基の分子量はこれも特に限定はないが、安定性や取り扱
い易さの観点からは数平均分子量で５００〜１０，００
０、さらに好ましくは５００〜２，０００のものが使用
される。Ｆ（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_j− （３）ＣＦ₃（ＯＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂）_m（ＯＣＦ₂）_l−（４）Ｆ（ＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂Ｏ）_k− （５）ここで上記一般式（３）、（４）あるいは（５）中の
ｊ、ｋ、ｌおよびｍは、１以上の自然数を表す。

【００１４】本発明において、フッ素化合物基としてト
ライボロジ効果に優れた一般式（１）に示されるパーフ
ルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物
を採用することが重要であり、同じフッ素化合物であっ
ても、パーフルオロアルキル基を有するアルコキシシラ
ン化合物では耐磨耗性や撥水性の満足すべき効果が得ら
れない。この理由は必ずしも明らかではないが、フッ素
化合物基同士の相互作用が低減すること、あるいは極性
基であるアルコキシシラン化合物基と下地の反射防止層
との相互作用が変化すること等が考えられる。分子末端
のアルコキシシラノ基は、ＳｉＯ₂等の反射防止層表面
との相互作用力に優れ、強固に結合する。パーフルオロ
ポリエーテル基の両末端にアルコキシシラノ基を有する
場合にはこの相互作用力も倍加する。

【００１５】一方、一般式（２）中の長鎖炭化水素基Ｒ
₃は、その構成炭素数が１０以上のものが好まく、直
鎖、分岐の別は問わない。また不飽和結合や、芳香環等
の環状構造を含んでいても良い。しかしながら、好まし
くは、炭素数１２〜２０の範囲で直鎖状のものが選ばれ
る。かかる分子設計により、一般式（２）のアルコキシ
シラノ基部分は反射防止層のＳｉＯ₂等との相互作用が
得られるとともに、長鎖炭化水素基Ｒ₃部分の疏水性が
大きくなり、疏水基同士の分子間相互作用すなわちファ
ンデルワールス力が高まる。これを一般式（１）で示さ
れるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシ
ラン化合物と併用することにより、これらの効果が相乗
され、従来不足であった耐溶剤性、撥水性、耐磨耗性等
の問題が解決される。

【００１６】いずれの発明においても、一般式（１）で
示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキ
シシラン化合物１００重量部に対する、一般式（２）で
示される長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合
物の比率は、１重量部以上１５０重量部以下であること
が望ましい。１重量部未満では耐磨耗性が不足し、１５
０重量部を超えると耐汚染性が低下する。

【００１７】一般式（１）で示されるパーフルオロポリ
エーテル基を有するアルコキシシラン化合物と、一般式
（２）で示される長鎖炭化水素基を有するアルコキシシ
ラン化合物による被膜の厚さは特に限定されるものでは
ないが、反射防止層の表面硬度、水に対する静止接触角
および反射防止性のバランスから、その平均的な膜厚が
０．１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが望ましく、
０．５ｎｍ以上５ｎｍ以下がより望ましい。

【００１８】さらに一般式（１）で示されるパーフルオ
ロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物と、
一般式（２）で示される長鎖炭化水素基を有するアルコ
キシシラン化合物との組成物中に、酸、アルカリ、およ
びこれらのエステル化合物の少なくともいずれか１種を
含有することが望ましい。またアセチルアセトンのごと
きカルボニル化合物を含有することも望ましい。酸とし
ては無機酸、すなわち塩酸、硫酸、硝酸等の鉱酸が望ま
しく、アルカリとしては無機アルカリ、すなわち水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化
カルシウム等のアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属
の水酸化物、あるいはアンモニア等が望ましく、エステ
ルとしては例えば燐酸エステル等が例示される。これら
はいずれも触媒作用を示し、一般式（１）で示されるパ
ーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化
合物と、一般式（２）で示される長鎖炭化水素基を有す
るアルコキシシラン化合物による被膜中の網状構造を発
達させ、その強度と耐久性を高める。この架橋反応は例
えば５０℃以下の室温で進行し、加熱を必要としない。

【００１９】一般的に、パーフルオロポリエーテル基を
有するアルコキシシラン化合物の溶液調整時に、触媒と
して酸あるいはアルカリを添加する方法は知られている
が、長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物と
の組成物中に触媒として酸あるいはアルカリを添加する
方法は未知である。まして燐酸エステルのようなエステ
ル化合物やアセチルアセトンのようなカルボニル化合物
の触媒としての使用もまた知られていない。

【００２０】さらに、パーフルオロポリエーテル基を有
するアルコキシシラン化合物の被膜は、本発明のように
１０ｎｍ程度以下の超薄膜での潤滑膜や耐磨耗膜として
の効果は殆ど前例がない。また長鎖炭化水素基を有する
アルコキシシラン化合物との併用も前例がない。したが
って、本発明によって得られるＳｉＯ₂等の反射防止層
上での各種効果は容易に類推されるものではない。

【００２１】さて一般式（１）で示されるパーフルオロ
ポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物と、一
般式（２）で示される長鎖炭化水素基を有するアルコキ
シシラン化合物との組成物を、反射防止層上に塗布する
方法としては、特に限定はないが、１０ｎｍ程度の超薄
膜の膜厚の均一性や、これによる反射防止効果の均一
性、反射干渉色の制御の観点からはスピン塗布、浸漬塗
布あるいはカーテンフロー塗布等が好ましい。作業性か
らは紙、布、刷毛、ローラ等に組成物を含浸して塗布流
延する方法も好ましい。組成物は通常揮発性溶媒で希釈
して塗布される。溶媒は特に限定されないが、選択にあ
たっては組成物に対する安定性、ＳｉＯ₂等の反射防止
層に対する濡れ性、揮発性等を考慮して決定される。こ
れらの条件を満足する溶媒として、例えばメタノール、
エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒が
例示される。

【００２２】塗布に際しては、反射防止層表面が清浄化
されていることが望ましく、清浄化にあたっては界面活
性剤を含む洗浄液による脱脂、有機溶媒蒸気による蒸気
洗浄等が適用される。また密着性、耐久性を高めるため
に各種の前処理が有効であり、例えば酸、アルカリによ
る薬品処理、不活性ガス処理、あるいはプラズマ処理、
コロナ放電処理等がこれに相当する。

【００２３】つぎに本発明で採用する反射防止層は単
層、多層いずれでもよいが、その最表面はＳｉＯ₂ある
いは不純物を含むＳｉＯ₂、すなわちガラスが望まし
い。最表面がＳｉＯ₂系材料の場合には、表面硬度、耐
汚染性、耐擦傷性およびこれら特性の耐久性が顕著に現
れる。反射防止層の最表層の膜厚は、反射防止効果以外
の特性も勘案されるべきであるが、反射防止効果を最大
限に発揮するためには、対象とする光波長の１／４ない
しその奇数倍の光学的膜厚を決定すればよい。多層反射
防止層の場合、最表面の下層を構成する層の材料や膜厚
は、反射防止層として要求される各種性能、例えば反射
防止性、反射光色、表面硬度、耐熱性あるいは耐久性等
を考慮して決定されるべき設計事項である。反射防止効
果を高めるためには、最表層の屈折率と透明基材の屈折
率との中間の屈折率の材料の被膜を１層以上形成するこ
とが有効である。多層反射防止層の設計に関しては、先
述した文献を参照すればよい。

【００２４】反射防止層の材料としては、ＳｉＯ₂やガ
ラス以外にも、ＳｉＯ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、Ｚｒ
Ｏ、ＴｉＯ₂、Ｔｉ₂Ｏ₃、ＴｉＯ、Ｔａ₂Ｏ₅、Ｈｆ
Ｏ₂、Ｉｎ₂Ｏ₃／ＳｎＯ₂、Ｙ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、
ＭｇＯあるいはＣｅＯ₂等の無機酸化物や、ＭｇＦ₂等
のハロゲン化物等が好ましく採用される。

【００２５】反射防止層を形成する方法は真空蒸着法、
スパッタリング法あるいはイオンプレーテイング法等、
各種のＰＶＤ（ＰｈｙｓｉｃａｌＶａｐｏｒＤｅｐ
ｏｓｉｔｉｏｎ）法が採用される。透明基材の耐熱性が
許すならば、プラズマＣＶＤ法等の各種ＣＶＤ（Ｃｈｅ
ｍｉｃａｌＶａｐｏｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法
や、金属塩溶液を塗布乾燥して熱酸化するバーニング法
等も採用できるが、これらの方法に限定されるものでは
ない。

【００２６】一方、透明基材としては特に限定はない
が、ソーダガラス、鉛ガラス、硬質ガラス、石英ガラ
ス、液晶化ガラス等が例示される。陰極線管の場合には
ストロンチウムやバリウム等のアルカリ土類を含む珪酸
ガラスが好ましく用いられる。また液晶表示素子の場合
には不純物の少ない無アルカリガラスが用いられる。ま
た透明基材としてはこれらガラス材料の他に、アクリル
樹脂、ポリカーボネート樹脂あるいはポリスチレン樹脂
等の高分子材料であってもよい。高分子材料パネル表面
に周知のハードコート層等を形成し、この表面に反射防
止層を形成することにより、表面硬度、密着性、耐薬品
性、耐久性あるいは染色性等を向上することができる。
透明基材は表示素子、すなわち陰極線管や液晶素子のパ
ネル面そのものであってもよいし、表示素子とは別体に
設けたガラス板、プラスチックス板であってもよい。

【００２７】本発明の表示装置は、かかる構成および製
造方法による反射防止フィルタを用いたことをその特徴
とする。

【００２８】

【実施例】以下、本発明の反射防止フィルタおよびその
製造方法につき、カラーブラウン管すなわち陰極線管を
例にとり詳細に説明する。

【００２９】実施例１反射防止層の作製陰極線管のパネルガラス表面に直接、スパッタリングに
よりＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ）を１
３０ｎｍの厚さに形成した。さらにこのＩＴＯ膜の上
に、ＳｉＯ₂を８０ｎｍの厚さに蒸着し反射防止層を形
成した。

【００３０】パーフルオロポリエーテル基を有するアル
コキシシラン化合物と、長鎖炭化水素基を有するアルコ
キシシラン化合物とを含む組成物の作製

【００３１】一般式（１）で示されるパーフルオロポリ
エーテル基を有するアルコキシシラン化合物として、
〔表１〕に示す化合物１１を用いた。

【００３２】

【表１】

【００３３】また一般式（２）で示される長鎖炭化水素
基を有するアルコキシシラン化合物として、〔表２〕に
示す化合物２１を用いた。

【００３４】

【表２】

【００３５】これら一般式（１）で示される化合物１１
と、一般式（２）で示される化合物２１とを重量部で４
／１の割合で混合し、〔表３〕に示される組成物３１を
作製した。

【００３６】

【表３】

【００３７】塗布および乾燥組成物３１を４重量部とり、これをエチルアルコール２
００重量部に溶解し、さらにアセチルアセトン１重量部
と濃塩酸０．０１重量部を添加して均一な溶液とした
後、さらにメンブランフィルタで濾過して塗布組成物を
得た。先に作製した反射防止層上に、この塗布組成物を
ディップコーティングし、常温で乾燥して反射防止フィ
ルタを完成した。ディップコーティングにおける引き上
げ速度は５ｃｍ／ｍｉｎとした。乾燥後の被膜の厚さは
２ｎｍであった。

【００３８】このようにして陰極線管上に作製した実施
例１の反射防止フィルタについて、各種特性を評価し
た。なお各評価項目および評価方法は以下の通りであ
る。

【００３９】耐汚染性評価水道水５ｍｌを反射防止フィルタ表面に滴らせ、室温雰
囲気で４８時間放置して乾燥したものと、この後表面を
布で拭いたものの水垢の残存状態を観察した。払拭前の
評価は、水垢の付着がないものを○、付着があるものを
×とした。また払拭後の評価は、水垢の付着がもともと
ないもの、および容易に除去されたものを○、水垢が容
易には除去できないものを×とした。

【００４０】表面すべり性の評価鉛筆の芯（硬度３Ｈ）で反射防止フィルタの表面を引っ
掻いたときの引っ掛かり具合を評価した。判定方法は、
全く引っ掛からないものを○、強く引っ掻くと引っ掛か
るものを△、弱く引っ掻いても引っ掛かるものを×とし
た。

【００４１】耐磨耗性評価反射防止フィルタ表面を、スチールウール＃００００を
用い、２００ｇ荷重下で３０回擦った後に傷が残るか否
かで評価し、全く無傷のものを○、細かい傷がつくもの
を△、傷が著しいものを×で表した。

【００４２】手垢の付き難さの評価指紋跡の付き難さにつき、目視で評価した。ついても目
立たないものを○、付くが簡単に除去できるものを△、
付いた跡が簡単には除去できず目立つものを×で表し
た。

【００４３】接触角の評価反射防止フィルタ表面における水およびヨウ化メチレン
の接触角を測定した。この接触角の大きさは、水あるい
は油に対する耐汚染性の目安とすることができる。さら
に、反射防止フィルタの耐溶剤性を調べるため、反射防
止フィルタ表面をエタノールで洗浄後、同じく水および
ヨウ化メチレンの接触角を測定した。

【００４４】実施例２〜４一般式（２）で示される長鎖炭化水素基を有するアルコ
キシシラン化合物として、〔表２〕に示す化合物２２〜
２４を用い、〔表３〕に示される組成物３２〜３４を採
用した以外は、前実施例１に準拠して反射防止フィルタ
を作製し、各評価項目を評価した。

【００４５】実施例５〜６一般式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル基を
有するアルコキシシラン化合物として、〔表１〕に示す
化合物１２を用いた。また、一般式（２）で示される長
鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物として、
〔表２〕に示す化合物２５および２３を用い、〔表３〕
に示される組成物３５および３６を採用した以外は前実
施例１に準じて反射防止フィルタを作製し、各評価項目
を評価した。

【００４６】実施例７〜１１一般式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル基を
有するアルコキシシラン化合物として、〔表１〕に示す
化合物１１を用いた。また、一般式（２）で示される長
鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物として、
〔表２〕に示す化合物２１を用いた。両者の混合比を変
え、〔表３〕に示される組成物３７〜４１を作製した以
外は前実施例１に準じて反射防止フィルタを作製し、各
評価項目を評価した。

【００４７】比較例１塗布組成物の被膜を形成することなく、反射防止層のみ
の反射防止フィルタを作製し、各評価項目を評価した。
反射防止層の構成は実施例１と同じである。

【００４８】比較例２〔表１〕に示すパーフルオロポリエーテル基を有するア
ルコキシシラン化合物１１を用いず、〔表２〕に示す長
鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物２１のみ
を用いて塗布組成物を調整した他は前実施例１に準拠し
て反射防止フィルタを作製し、各評価項目を評価した。

【００４９】比較例３〜４一般式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル基を
有するアルコキシシラン化合物として、〔表１〕に示す
化合物１１を用いた。また、一般式（２）で示される長
鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物として、
〔表２〕に示す化合物２１を用いた。両者の混合比を変
え、〔表３〕に示される組成物４２および４３を作製し
た以外は前実施例１に準拠して反射防止フィルタを作製
し、各評価項目を評価した。これら組成物４２および４
３の混合比は、好ましい混合比の範囲からは逸脱したも
のである。

【００５０】以上作製した実施例１〜１１および比較例
１〜４の反射防止フィルタの各評価結果を〔表４〕にま
とめて示す。

【００５１】

【表４】

【００５２】〔表４〕の評価結果から、実施例の反射防
止フィルタはいずれの評価項目においても優れた特性が
得られることが明らかであり、視覚特性と信頼性に優れ
た陰極線管を提供することが可能である。なお実施例中
で採用したパーフルオロポリエーテル基を有するアルコ
キシシラン化合物や、長鎖炭化水素基を有するアルコキ
シシラン化合物の構造や、塗布組成物の組成等は単なる
例示であり、各種変更が可能である。また反射防止層の
構成についても同様に実施例に限定されるものではな
い。本実施例は表示装置として陰極線管の前面に直接反
射防止フィルタを形成する例を示したが、液晶表示装置
やプラズマディスプレイのガラスパネルに直接形成して
もよい。また表示装置とは別体のガラス板やプラスチッ
クス板、プラスチックスフィルムを反射防止フィルタと
する場合にも好適に適用することが可能である。

【００５３】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の反射防止フィルタおよびその製造方法によれば、下記
に列挙した各種効果が得られる。（１）指紋、手垢等による汚れが付着し難く、また目立
ち難い。またこれらの効果が永続的に保持される。（２）水垢等が付着、乾燥しても容易に除去することが
できる。（３）ほこり等の汚れが付きにくい。（４）表面すべり性が良好で、傷が付き難い。（５）磨耗に対する耐久性がある。（６）耐溶剤性に優れる。（７）塗布後の乾燥に加熱を必要とせず、室温で強固な
被膜を形成できるので、製造工程におけるスループット
がよい。したがって、この反射防止フィルタを採用することによ
り、視覚特性の向上した信頼性の高い表示装置を提供す
ることが可能である。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基材の表面に少なくとも１層の誘電
体薄膜からなる反射防止層を有する反射防止フィルタに
おいて、前記反射防止層表面に、下記一般式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル
基を有するアルコキシシラン化合物と、下記一般式（２）で示される長鎖炭化水素基を有するア
ルコキシシラン化合物と、を含む被膜を有することを特
徴とする反射防止フィルタ。Ｒｆ（ＣＯ−Ｘ−Ｒ₁−Ｓｉ（ＯＲ₂）₃）_n（１）Ｒ₃−Ｓｉ（ＯＲ₂）₃ （２）（但し、Ｒｆはパーフルオロポリエーテル基を、Ｒ₁は
アルキレン基を、Ｒ₂はアルキル基を、Ｒ₃は炭素数１
０以上の長鎖炭化水素基を、そしてＸは−Ｏ−、−ＮＨ
−および−Ｓ−から選ばれる基を、ｎは２以下の自然数
をそれぞれ表す。）
【請求項２】前記一般式（１）で示されるパーフルオ
ロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物１０
０重量部に対する、前記一般式（２）で示される長鎖炭
化水素基を有するアルコキシシラン化合物の比率は、１
重量部以上１５０重量部以下であることを特徴とする請
求項１記載の反射防止フィルタ。
【請求項３】前記被膜の厚さは０．１ｎｍ以上１００
ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の反射防
止フィルタ。
【請求項４】請求項１ないし３いずれか１項記載の反
射防止フィルタを用いたことを特徴とする表示装置。
【請求項５】透明基材の表面に少なくとも１層の誘電
体薄膜からなる反射防止層を有する反射防止フィルタの
製造方法において、前記反射防止層表面に、下記一般式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル
基を有するアルコキシシラン化合物と、下記一般式（２）で示される長鎖炭化水素基を有するア
ルコキシシラン化合物と、を含む組成物を塗布して被膜
を形成することを特徴とする反射防止フィルタの製造方
法。Ｒｆ（ＣＯ−Ｘ−Ｒ₁−Ｓｉ（ＯＲ₂）₃）_n（１）Ｒ₃−Ｓｉ（ＯＲ₂）₃ （２）（但し、Ｒｆはパーフルオロポリエーテル基を、Ｒ₁は
アルキレン基を、Ｒ₂はアルキル基を、Ｒ₃は炭素数１
０以上の長鎖炭化水素基を、そしてＸは−Ｏ−、−ＮＨ
−および−Ｓ−から選ばれる基を、ｎは２以下の自然数
をそれぞれ表す。）
【請求項６】前記一般式（１）で示されるパーフルオ
ロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物１０
０重量部に対する、前記一般式（２）で示される長鎖炭
化水素基を有するアルコキシシラン化合物の比率は、１
重量部以上１５０重量部以下であることを特徴とする請
求項５記載の反射防止フィルタの製造方法。
【請求項７】前記被膜の厚さは０．１ｎｍ以上１００
ｎｍ以下であることを特徴とする請求項５記載の反射防
止フィルタの製造方法。
【請求項８】前記組成物中に、さらに酸、アルカリ、
およびこれらのエステル化合物の少なくともいずれか１
種を含有することを特徴とする請求項５記載の反射防止
フィルタの製造方法。
【請求項９】前記組成物中に、さらにアセチルアセトン
を含有することを特徴とする請求項５記載の反射防止フ
ィルタの製造方法。
【請求項１０】請求項５ないし９いずれか１項記載の
反射防止フィルタの製造方法による反射防止フィルタを
用いたことを特徴とする表示装置。