JP3449070B2 - 汚れ防止処理方法 - Google Patents
汚れ防止処理方法Info
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- JP3449070B2 JP3449070B2 JP27146895A JP27146895A JP3449070B2 JP 3449070 B2 JP3449070 B2 JP 3449070B2 JP 27146895 A JP27146895 A JP 27146895A JP 27146895 A JP27146895 A JP 27146895A JP 3449070 B2 JP3449070 B2 JP 3449070B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＣＲＴディスプレ
ーや液晶ディスプレー等の表示画面に用いられる反射防
止性の透光フィルター、光学レンズや眼鏡レンズ、建築
用の窓や間仕切り、ショーウィンドー等の表面の汚れ防
止処理方法に関する。
ーや液晶ディスプレー等の表示画面に用いられる反射防
止性の透光フィルター、光学レンズや眼鏡レンズ、建築
用の窓や間仕切り、ショーウィンドー等の表面の汚れ防
止処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＯＡ機器等に使用される表示画面の前面
板や眼鏡レンズ等は、人が使用することによって、手
垢、指紋、汗、化粧料等が付着する。表面に反射防止膜
を形成させると、その付着による汚れが目立ちやすく、
またその汚れがとれにくくなる。また、建築用の窓等で
は雨や泥、排気ガス等による汚れが付着し、透明性が失
われるなどの問題点を有している。そこで、汚れにく
く、または汚れを拭き取りやすくするために、各種の防
汚層を設ける工夫がなされている。
板や眼鏡レンズ等は、人が使用することによって、手
垢、指紋、汗、化粧料等が付着する。表面に反射防止膜
を形成させると、その付着による汚れが目立ちやすく、
またその汚れがとれにくくなる。また、建築用の窓等で
は雨や泥、排気ガス等による汚れが付着し、透明性が失
われるなどの問題点を有している。そこで、汚れにく
く、または汚れを拭き取りやすくするために、各種の防
汚層を設ける工夫がなされている。
【０００３】例えば、特開昭６４−８６１０１号公報に
は、基材の表面に、主として二酸化珪素等からなる反射
防止膜を設け、更にその表面を有機珪素置換基を含む化
合物で処理した耐汚染性、耐擦傷性の反射防止物品が提
案されている。また、特開平４−３３８９０１号公報に
は、同様に基材表面に末端シラノール有機ポリシロキサ
ンを皮膜した耐汚染性、耐擦傷性のＣＲＴフィルターが
提案されている。更に、特公平６−２９３３２号公報に
は、プラスチック表面にポリフルオロアルキル基を含む
モノ及びジシラン化合物およびハロゲン、アルキルまた
はアルコキシのシラン化合物とからなる反射防止膜を有
する低反射性および防汚性のプラスチックが提案されて
いる。
は、基材の表面に、主として二酸化珪素等からなる反射
防止膜を設け、更にその表面を有機珪素置換基を含む化
合物で処理した耐汚染性、耐擦傷性の反射防止物品が提
案されている。また、特開平４−３３８９０１号公報に
は、同様に基材表面に末端シラノール有機ポリシロキサ
ンを皮膜した耐汚染性、耐擦傷性のＣＲＴフィルターが
提案されている。更に、特公平６−２９３３２号公報に
は、プラスチック表面にポリフルオロアルキル基を含む
モノ及びジシラン化合物およびハロゲン、アルキルまた
はアルコキシのシラン化合物とからなる反射防止膜を有
する低反射性および防汚性のプラスチックが提案されて
いる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の汚れ防止処理方
法は、主として溶液中に基材を浸漬後引き上げることに
より防汚性膜を形成させる浸漬塗装法であった。場合に
よってはスピン塗装法、ロールコート塗装法、カーテン
フロー塗装法等も用いられるが、何れの方法も防汚性膜
成分を溶剤で希釈して使用するため、大量の溶剤を必要
とし、塗布後も乾燥に時間を要するなどの問題点を有し
ていた。また揮発性の高い溶剤を使用しても、必要な防
汚性能が発現するまでには、ある程度の時間が必要であ
った。
法は、主として溶液中に基材を浸漬後引き上げることに
より防汚性膜を形成させる浸漬塗装法であった。場合に
よってはスピン塗装法、ロールコート塗装法、カーテン
フロー塗装法等も用いられるが、何れの方法も防汚性膜
成分を溶剤で希釈して使用するため、大量の溶剤を必要
とし、塗布後も乾燥に時間を要するなどの問題点を有し
ていた。また揮発性の高い溶剤を使用しても、必要な防
汚性能が発現するまでには、ある程度の時間が必要であ
った。
【０００５】従って、このような汚れ防止処理を大量に
行うには、大量の溶剤とそれを扱うための設備、長時間
の乾燥とそのための設備が必要であり、製造コストがか
さむという問題点があった。本発明者は、汚れ防止処理
方法について鋭意検討した結果、真空蒸着法を用いて特
定のフッ素化合物の皮膜を表面に形成することにより、
溶剤の使用量が少なく、かつ製造時間も短縮できること
を見出し、本発明に至った。
行うには、大量の溶剤とそれを扱うための設備、長時間
の乾燥とそのための設備が必要であり、製造コストがか
さむという問題点があった。本発明者は、汚れ防止処理
方法について鋭意検討した結果、真空蒸着法を用いて特
定のフッ素化合物の皮膜を表面に形成することにより、
溶剤の使用量が少なく、かつ製造時間も短縮できること
を見出し、本発明に至った。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、無機
基材表面または有機基材もしくは無機基材上の無機コー
ト膜表面に、一般式 化３
基材表面または有機基材もしくは無機基材上の無機コー
ト膜表面に、一般式 化３
【化３】
（式中、Ｒf は炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状パ
ーフルオロアルキル基、Ｘはヨウ素または水素、Ｙは水
素または低級アルキル基、Ｚはフッ素またはトリフルオ
ロメチル基、Ｒ1 は加水分解可能な基、Ｒ2 は水素また
は不活性な一価の有機基、ａ，ｂ，ｃ，ｄは０〜２００
の整数、ｅは０または１、ｍおよびｎは０〜２の整数、
ｐは１〜１０の整数を表す。）で示され、分子量が５×
１０2 〜１×１０5 であるフッ素化合物の皮膜を、真空
蒸着法を用いて形成することを特徴とする汚れ防止処理
方法である。この方法によって、防汚性に優れた皮膜
を、溶剤を使用せずに、または少ない溶剤の使用で、よ
り短時間で表面に形成できるという効果を有するもので
ある。以下、本発明を詳細に説明する。
ーフルオロアルキル基、Ｘはヨウ素または水素、Ｙは水
素または低級アルキル基、Ｚはフッ素またはトリフルオ
ロメチル基、Ｒ1 は加水分解可能な基、Ｒ2 は水素また
は不活性な一価の有機基、ａ，ｂ，ｃ，ｄは０〜２００
の整数、ｅは０または１、ｍおよびｎは０〜２の整数、
ｐは１〜１０の整数を表す。）で示され、分子量が５×
１０2 〜１×１０5 であるフッ素化合物の皮膜を、真空
蒸着法を用いて形成することを特徴とする汚れ防止処理
方法である。この方法によって、防汚性に優れた皮膜
を、溶剤を使用せずに、または少ない溶剤の使用で、よ
り短時間で表面に形成できるという効果を有するもので
ある。以下、本発明を詳細に説明する。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の無機基材としては主にガ
ラスが、有機基材としては主にプラスチックが挙げられ
るが、これに限定されるものではない。基材の形状とし
てはフィルムまたはシート状物が好ましいが、特に限定
されるものではない。
ラスが、有機基材としては主にプラスチックが挙げられ
るが、これに限定されるものではない。基材の形状とし
てはフィルムまたはシート状物が好ましいが、特に限定
されるものではない。
【０００８】プラスチックとしては、例えば、アクリル
系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹
脂、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等
のセルロース系樹脂、スチレン系樹脂等が挙げられる。
なかでも光透過性、耐候性の点から、用途範囲の広いア
クリル系樹脂へ本発明方法を適用する場合が多い。アク
リル系樹脂の中では、アクリルゴムを分散させたアクリ
ル系樹脂が耐衝撃強度の点で、グルタル酸無水物単位や
グルタルイミド単位を含むアクリル系樹脂が耐熱性の点
で好ましく用いられ、本発明方法を適用する場合が多
い。
系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹
脂、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等
のセルロース系樹脂、スチレン系樹脂等が挙げられる。
なかでも光透過性、耐候性の点から、用途範囲の広いア
クリル系樹脂へ本発明方法を適用する場合が多い。アク
リル系樹脂の中では、アクリルゴムを分散させたアクリ
ル系樹脂が耐衝撃強度の点で、グルタル酸無水物単位や
グルタルイミド単位を含むアクリル系樹脂が耐熱性の点
で好ましく用いられ、本発明方法を適用する場合が多
い。
【０００９】また、これら透明基材として偏光特性を付
与した光学フィルムまたはシートも同様に挙げられる。
フィルム又はシートは単層でもよいし、複数の樹脂を積
層したものでもよい。その厚みは、使途によって選択し
得るが、０．０１〜５ｍｍ程度である。
与した光学フィルムまたはシートも同様に挙げられる。
フィルム又はシートは単層でもよいし、複数の樹脂を積
層したものでもよい。その厚みは、使途によって選択し
得るが、０．０１〜５ｍｍ程度である。
【００１０】無機コート膜としては、前記した有機基材
または無機基材上に無機酸化物、または無機ハロゲン化
物の単層または多層の薄膜などが挙げられ、これらは真
空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法
などの公知の方法により形成される。
または無機基材上に無機酸化物、または無機ハロゲン化
物の単層または多層の薄膜などが挙げられ、これらは真
空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法
などの公知の方法により形成される。
【００１１】なお、用いられる無機化合物としては、例
えば、酸化イットリウム、二酸化珪素、酸化アルミニウ
ム、酸化マグネシウム、酸化トリウム、酸化スズ、酸化
ランタン、一酸化珪素、酸化インジウム、酸化ネオジウ
ム、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化セリウ
ム、酸化チタン、酸化ビスマスなどの無機酸化物、フッ
化カルシウム、フッ化ナトリウム、フッ化リチウム、フ
ッ化マグネシウム、フッ化ランタン、フッ化ネオジウ
ム、フッ化セリウム、フッ化鉛等の無機ハロゲン化物、
硫化亜鉛、硫化カドミウム、三硫化アンチモン等の硫化
物、セレン化亜鉛、テルル化カドミウム、テルル化鉛、
珪素、ゲルマニウム、テルルなどを挙げることができ
る。
えば、酸化イットリウム、二酸化珪素、酸化アルミニウ
ム、酸化マグネシウム、酸化トリウム、酸化スズ、酸化
ランタン、一酸化珪素、酸化インジウム、酸化ネオジウ
ム、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化セリウ
ム、酸化チタン、酸化ビスマスなどの無機酸化物、フッ
化カルシウム、フッ化ナトリウム、フッ化リチウム、フ
ッ化マグネシウム、フッ化ランタン、フッ化ネオジウ
ム、フッ化セリウム、フッ化鉛等の無機ハロゲン化物、
硫化亜鉛、硫化カドミウム、三硫化アンチモン等の硫化
物、セレン化亜鉛、テルル化カドミウム、テルル化鉛、
珪素、ゲルマニウム、テルルなどを挙げることができ
る。
【００１２】基材がプラスチックからなる場合には、無
機コート膜と基材との間に、ハードコート層を設けても
よい。このハードコート層を設けることにより、基材表
面の硬度が向上すると共に、基材表面が平滑になり、無
機コート膜との密着性が向上する。
機コート膜と基材との間に、ハードコート層を設けても
よい。このハードコート層を設けることにより、基材表
面の硬度が向上すると共に、基材表面が平滑になり、無
機コート膜との密着性が向上する。
【００１３】無機基材表面または有機基材もしくは無機
基材上の無機コート膜表面に形成される防汚層として機
能する皮膜は前記一般式 化３で示されるフッ素化合物
であり、式中のＲｆは炭素数１〜１６の直鎖状または分
岐状パーフルオロアルキル基であるが、好ましくはＣＦ
3 −、Ｃ2 Ｆ5 −、Ｃ3 Ｆ7 −が用いられる。
基材上の無機コート膜表面に形成される防汚層として機
能する皮膜は前記一般式 化３で示されるフッ素化合物
であり、式中のＲｆは炭素数１〜１６の直鎖状または分
岐状パーフルオロアルキル基であるが、好ましくはＣＦ
3 −、Ｃ2 Ｆ5 −、Ｃ3 Ｆ7 −が用いられる。
【００１４】Ｒ1 の加水分解可能な基としては、ハロゲ
ン、−ＯＲ3 、 −ＯＣＯＲ3 、−ＯＣ（Ｒ3 ) ＝Ｃ（Ｒ
4 )2 、 −ＯＮ＝Ｃ（Ｒ3 )2、 −ＯＮ＝Ｃ（Ｒ5 ）2 が
挙げられ（ただし、Ｒ3 は脂肪族炭化水素基または芳香
族炭化水素基、Ｒ4 は水素または低級脂肪族炭化水素
基、Ｒ5 は炭素数３〜６の二価の脂肪族炭化水素基であ
る）、好ましくは、塩素、−ＯＣＨ3 、−ＯＣ2 Ｈ5 で
ある。Ｒ2 は水素または不活性な一価の有機基である
が、好ましくは、炭素数１〜４の一価の炭化水素基であ
る。
ン、−ＯＲ3 、 −ＯＣＯＲ3 、−ＯＣ（Ｒ3 ) ＝Ｃ（Ｒ
4 )2 、 −ＯＮ＝Ｃ（Ｒ3 )2、 −ＯＮ＝Ｃ（Ｒ5 ）2 が
挙げられ（ただし、Ｒ3 は脂肪族炭化水素基または芳香
族炭化水素基、Ｒ4 は水素または低級脂肪族炭化水素
基、Ｒ5 は炭素数３〜６の二価の脂肪族炭化水素基であ
る）、好ましくは、塩素、−ＯＣＨ3 、−ＯＣ2 Ｈ5 で
ある。Ｒ2 は水素または不活性な一価の有機基である
が、好ましくは、炭素数１〜４の一価の炭化水素基であ
る。
【００１５】ａ，ｂ，ｃ，ｄは０〜２００の整数である
が好ましくは１〜５０であり、ｅは０または１である。
ｍおよびｎは０〜２の整数であるが、好ましくは０であ
る。ｐは１以上の整数、好ましくは１〜１０の整数であ
る。また分子量は５×１０2 〜１×１０5 であるが、好
ましくは５×１０2 〜１×１０4 である。
が好ましくは１〜５０であり、ｅは０または１である。
ｍおよびｎは０〜２の整数であるが、好ましくは０であ
る。ｐは１以上の整数、好ましくは１〜１０の整数であ
る。また分子量は５×１０2 〜１×１０5 であるが、好
ましくは５×１０2 〜１×１０4 である。
【００１６】また、上記一般式 化３で表されるフッ素
化合物の好ましい例として、下記一般式 化４
化合物の好ましい例として、下記一般式 化４
【化４】
（式中、Ｙは水素または低級アルキル基、Ｒ1 は加水分
解可能な基、ｑは１〜５０の整数を、ｍは０〜２の整
数、ｒは１〜１０の整数を示す。）で表されるものが挙
げられる。
解可能な基、ｑは１〜５０の整数を、ｍは０〜２の整
数、ｒは１〜１０の整数を示す。）で表されるものが挙
げられる。
【００１７】これらのフッ素化合物は市販のパーフルオ
ロポリエーテルをシラン処理することによって得ること
ができる。その方法は、例えば、特開平１−２９４７０
９号公報に開示されている。
ロポリエーテルをシラン処理することによって得ること
ができる。その方法は、例えば、特開平１−２９４７０
９号公報に開示されている。
【００１８】これらのフッ素化合物の皮膜を真空蒸着法
にて、無機基材表面または有機基材もしくは無機基材上
の無機コート膜表面に形成させる。この際にフッ素化合
物を加熱する方法としては、抵抗加熱法、電子線加熱
法、高周波加熱法、イオンビーム法などが挙げられる
が、好ましくは抵抗加熱法が用いられる。
にて、無機基材表面または有機基材もしくは無機基材上
の無機コート膜表面に形成させる。この際にフッ素化合
物を加熱する方法としては、抵抗加熱法、電子線加熱
法、高周波加熱法、イオンビーム法などが挙げられる
が、好ましくは抵抗加熱法が用いられる。
【００１９】フッ素化合物は溶剤で希釈したものを用い
てもよい。溶剤としては、特に限定されるものではない
が、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロ
ヘキサン、パーフルオロ−１、３−ジメチルシクロヘキ
サン等が挙げられる。
てもよい。溶剤としては、特に限定されるものではない
が、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロ
ヘキサン、パーフルオロ−１、３−ジメチルシクロヘキ
サン等が挙げられる。
【００２０】フッ素化合物の皮膜の厚さは特に限定され
るものではないが、約０．００１〜０．５μｍが好まし
い。約０．００１μｍ以下では防汚効果が乏しくなり、
約０．５μｍ以上では表面がべたつくため好ましくな
い。特に無機コート膜からなる反射防止膜上にフッ素化
合物の皮膜を形成させる場合には約０．００１〜０．０
３μｍが好ましい。約０．００１μｍ以下では防汚効果
が乏しくなり、約０．０３μｍ以上では反射防止効果が
低下するため好ましくない。
るものではないが、約０．００１〜０．５μｍが好まし
い。約０．００１μｍ以下では防汚効果が乏しくなり、
約０．５μｍ以上では表面がべたつくため好ましくな
い。特に無機コート膜からなる反射防止膜上にフッ素化
合物の皮膜を形成させる場合には約０．００１〜０．０
３μｍが好ましい。約０．００１μｍ以下では防汚効果
が乏しくなり、約０．０３μｍ以上では反射防止効果が
低下するため好ましくない。
【００２１】
【発明の効果】本発明の方法により、従来の方法に比較
して、少ない溶剤の使用量と短時間で基材に汚れ防止皮
膜を付与することができるため、溶剤等の使用量の削減
や、製造時間の短縮による製造コストの削減が可能であ
る。
して、少ない溶剤の使用量と短時間で基材に汚れ防止皮
膜を付与することができるため、溶剤等の使用量の削減
や、製造時間の短縮による製造コストの削減が可能であ
る。
【００２２】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明は実施例に限定されるものではない。な
お、実施例において各種の評価試験方法は以下の通りで
ある。 （１）水に対する接触角：接触角計（ＣＡ−Ａ型：協和
界面科学（株）製）を使用し、室温下で直径１．０ｍｍ
の水滴を針先につくり、これを試料の表面に触れさせて
液滴を作った。このときに生ずる液滴と面との角度を測
定し接触角とした。 （２）拭取試験：セルロース製不織布（ベンコット：旭
化成（株）製）により、試料の表面を２０往復拭き取っ
た後に、前述した方法で水に対する接触角を測定するこ
とで拭取試験を行った。 （３）汚れ防止性能試験： 付着性：試料表面に右手親指を３秒間押しつけて指紋
を付着させ、その付き易さおよび目立ち易さを目視判定
した。判定基準は次の通りとした。 ○ ： 指紋の付着量が少なく、付いた指紋が目立たな
い。 × ： 指紋の付着が明確に認識できる。 拭取性：付着した指紋をセルロース製不織布で拭き取
り、指紋のとれ易さを目視判定した。判定基準は次の通
りとした。 ○ ： 指紋を完全に拭き取ることができる。 △ ： 指紋の拭き取り跡が残る。 × ： 指紋の拭き取り跡が拡がり、除去することが困
難である。
するが、本発明は実施例に限定されるものではない。な
お、実施例において各種の評価試験方法は以下の通りで
ある。 （１）水に対する接触角：接触角計（ＣＡ−Ａ型：協和
界面科学（株）製）を使用し、室温下で直径１．０ｍｍ
の水滴を針先につくり、これを試料の表面に触れさせて
液滴を作った。このときに生ずる液滴と面との角度を測
定し接触角とした。 （２）拭取試験：セルロース製不織布（ベンコット：旭
化成（株）製）により、試料の表面を２０往復拭き取っ
た後に、前述した方法で水に対する接触角を測定するこ
とで拭取試験を行った。 （３）汚れ防止性能試験： 付着性：試料表面に右手親指を３秒間押しつけて指紋
を付着させ、その付き易さおよび目立ち易さを目視判定
した。判定基準は次の通りとした。 ○ ： 指紋の付着量が少なく、付いた指紋が目立たな
い。 × ： 指紋の付着が明確に認識できる。 拭取性：付着した指紋をセルロース製不織布で拭き取
り、指紋のとれ易さを目視判定した。判定基準は次の通
りとした。 ○ ： 指紋を完全に拭き取ることができる。 △ ： 指紋の拭き取り跡が残る。 × ： 指紋の拭き取り跡が拡がり、除去することが困
難である。
【００２３】実施例１
（１）基材の作成
２００ｍｍ×３００ｍｍ×０．２５ｍｍの耐衝撃アクリ
ルシート（テクノロイ：住友化学工業（株）製）を、固
形分が３０％となるようにトルエンで希釈したウレタン
アクリレート系ハードコート剤（ユニディック１７−８
０６：大日本インキ（株）製）中に浸漬し、４５ｃｍ／
分の速度で引き上げて塗布した。溶剤を揮散させた後
に、１２０Ｗのメタルハライドランプ（ＵＢ０４５１：
アイグラフィックス社製）を２０ｃｍの距離から１０秒
間照射することにより、ハードコート層を形成させた。
このハードコート層上に特開昭５６−１１３１０１公報
の実施例に準じて、真空蒸着装置（ＢＭＣ−７００；
（株）シンクロン製）を用い、二酸化珪素、酸化チタ
ン、二酸化珪素、酸化チタン、二酸化珪素の順序で５層
の薄膜を形成し、無機コート膜からなる反射防止層付き
アクリルシートを得た。
ルシート（テクノロイ：住友化学工業（株）製）を、固
形分が３０％となるようにトルエンで希釈したウレタン
アクリレート系ハードコート剤（ユニディック１７−８
０６：大日本インキ（株）製）中に浸漬し、４５ｃｍ／
分の速度で引き上げて塗布した。溶剤を揮散させた後
に、１２０Ｗのメタルハライドランプ（ＵＢ０４５１：
アイグラフィックス社製）を２０ｃｍの距離から１０秒
間照射することにより、ハードコート層を形成させた。
このハードコート層上に特開昭５６−１１３１０１公報
の実施例に準じて、真空蒸着装置（ＢＭＣ−７００；
（株）シンクロン製）を用い、二酸化珪素、酸化チタ
ン、二酸化珪素、酸化チタン、二酸化珪素の順序で５層
の薄膜を形成し、無機コート膜からなる反射防止層付き
アクリルシートを得た。
【００２４】（２）フッ素化合物
下式 化５で示されるフルオロ化合物（ダイキン工業
（株）製）を用いた。分子量が約５０００である。この
フルオロ化合物をパーフルオロヘキサンで希釈し１８ｗ
ｔ％の溶液とした。
（株）製）を用いた。分子量が約５０００である。この
フルオロ化合物をパーフルオロヘキサンで希釈し１８ｗ
ｔ％の溶液とした。
【００２５】
【化５】
【００２６】（３）フッ素化合物皮膜の形成
上記（１）で作成した反射防止層付きアクリルシートを
真空蒸着装置（ＢＭＣ−７００：（株）シンクロン製）
の真空蒸着槽中に入れ、２×１０-5Torrまで真空に引い
た後に、上記（２）で調整したフッ素化合物を抵抗加熱
法により蒸着した。蒸着時に使用したフッ素化合物溶液
は０．０５ｃｃ、加熱時に流れた電流値は２０Ａであっ
た。評価試験結果、すなわち、蒸着後１０分、３０分、
１時間、２時間経過したときの接触角、蒸着後一昼夜室
温条件下で放置した試料の拭取試験後の接触角および汚
れ防止性能試験結果を表１に示した。
真空蒸着装置（ＢＭＣ−７００：（株）シンクロン製）
の真空蒸着槽中に入れ、２×１０-5Torrまで真空に引い
た後に、上記（２）で調整したフッ素化合物を抵抗加熱
法により蒸着した。蒸着時に使用したフッ素化合物溶液
は０．０５ｃｃ、加熱時に流れた電流値は２０Ａであっ
た。評価試験結果、すなわち、蒸着後１０分、３０分、
１時間、２時間経過したときの接触角、蒸着後一昼夜室
温条件下で放置した試料の拭取試験後の接触角および汚
れ防止性能試験結果を表１に示した。
【００２７】実施例２
反射防止層付きアクリルシートに代えて１００ｍｍ×１
５０ｍｍ×２ｍｍのガラス板を用いた以外は、実施例１
と同様に行った。評価試験結果を表１に示した。
５０ｍｍ×２ｍｍのガラス板を用いた以外は、実施例１
と同様に行った。評価試験結果を表１に示した。
【００２８】比較例１
実施例１の（２）で調整したフッ素化合物溶液をパーフ
ルオロヘキサンでさらに希釈し０．２ｗｔ％溶液とし、
この溶液に実施例１（１）で作成した反射防止層付きア
クリルシートを１５ｃｍ／ｍｉｎの引き上げ速度で浸漬
塗布した以外は実施例１と同様に行った。評価試験結果
を表１に示した。
ルオロヘキサンでさらに希釈し０．２ｗｔ％溶液とし、
この溶液に実施例１（１）で作成した反射防止層付きア
クリルシートを１５ｃｍ／ｍｉｎの引き上げ速度で浸漬
塗布した以外は実施例１と同様に行った。評価試験結果
を表１に示した。
【００２９】比較例２
反射防止層付きアクリルシートに代えて１００ｍｍ×１
５０ｍｍ×２ｍｍのガラス板を用いた以外は、比較例１
と同様に行った。評価試験結果を表１に示した。
５０ｍｍ×２ｍｍのガラス板を用いた以外は、比較例１
と同様に行った。評価試験結果を表１に示した。
【００３０】
【表１】
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
// Ｂ０８Ｂ 17/02 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ
(56)参考文献 特開 平１−294709（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−355404（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−340966（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−215905（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C09K 3/00 112
C09D 171/00 - 171/14
G02B 1/10 - 1/12
G02C 7/00 - 7/16
B08B 17/02 - 17/02
Claims (6)
- 【請求項１】 無機基材表面または有機基材もしくは無
機基材上の無機コート膜表面に、一般式 化１ 【化１】 （式中、Ｒｆは炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状パ
ーフルオロアルキル基、Ｘはヨウ素または水素、Ｙは水
素または低級アルキル基、Ｚはフッ素またはトリフルオ
ロメチル基、Ｒ1は加水分解可能な基、Ｒ2は水素または
不活性な一価の有機基、ａ，ｂ，ｃ，ｄは０〜２００の
整数、ｅは０または１、ｍおよびｎは０〜２の整数、ｐ
は１〜１０の整数を表す。）で示され、分子量が５×１
０2〜１×１０5であるフッ素化合物の皮膜を、真空蒸着
法を用いて形成することを特徴とする汚れ防止処理方
法。 - 【請求項２】 フッ素化合物が一般式 化２ 【化２】 （式中、Ｙは水素または低級アルキル基、Ｒ1は加水分
解可能な基、ｑは１〜５０の整数、ｍは０〜２の整数、
ｒは１〜１０の整数を表す。）で示される請求項１記載
の方法。 - 【請求項３】 無機基材がガラス板である請求項１記載
の方法。 - 【請求項４】 有機基材がプラスチックのフィルムまた
はシートであり、その上の無機コート膜表面に前記フッ
素化合物の皮膜を形成する請求項１記載の方法。 - 【請求項５】 無機コート膜と有機基材との間に、ハー
ドコート層が設けられている請求項４に記載の方法。 - 【請求項６】 無機コート膜が無機酸化物または無機ハ
ロゲン化物の単層または多層の薄膜である請求項１に記
載の方法。
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| JP27146895A JP3449070B2 (ja) | 1995-10-19 | 1995-10-19 | 汚れ防止処理方法 |
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|---|---|---|---|
| JP27146895A JP3449070B2 (ja) | 1995-10-19 | 1995-10-19 | 汚れ防止処理方法 |
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ID=17500463
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|---|---|---|---|
| JP27146895A Expired - Lifetime JP3449070B2 (ja) | 1995-10-19 | 1995-10-19 | 汚れ防止処理方法 |
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|---|---|---|---|---|
| KR20110063850A (ko) | 2008-10-01 | 2011-06-14 | 가부시키가이샤 티안도케이 | 코팅용 조성물, 방오처리 방법 및 방오성 기재 |
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-
1995
- 1995-10-19 JP JP27146895A patent/JP3449070B2/ja not_active Expired - Lifetime
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