JPH01309003A - 撥水性を有する帯電防止物品 - Google Patents
撥水性を有する帯電防止物品Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、眼鏡用レンズ、カメラ用レンズ、CRT用フ
ィルター、計器盤などの光学用に適した撥水性を有する
帯電防止物品に関する。
ィルター、計器盤などの光学用に適した撥水性を有する
帯電防止物品に関する。
[従来の技術]
プラスチック成形品は、その透明性、軽口性。
易加工性、耐衝撃性、染色が容易であるなどの特徴を生
かして多用途に使用され近年大幅に需要が増えている。
かして多用途に使用され近年大幅に需要が増えている。
しかし、その反面表面硬度1反射防止性、帯電防止性が
不充分であった。これらの欠点の改良手段として数多く
の提案がなされている。
不充分であった。これらの欠点の改良手段として数多く
の提案がなされている。
その中で、透明な導電性を有する反射防止膜として特公
昭53−28214号公報に、真空蒸着により、Inま
たはその酸化物を含む反射防止膜をコートする方法が開
示されている。
昭53−28214号公報に、真空蒸着により、Inま
たはその酸化物を含む反射防止膜をコートする方法が開
示されている。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、この技術は、表面硬度が低いといった問
題点を有していた。
題点を有していた。
ざらに、この技術は帯電防止性がある反面、撥水性が不
充分であり、水滴が付着し、そのまま乾燥した場合、水
滴中に含まれる無機物が残滓となって表面にこびり付き
やすく、また、水に対する濡れ性が大きいために雨滴、
水の飛沫が付着すると大きく拡がり、眼鏡レンズなどに
おいては大面積にわたり物体がゆが/νで見えたりする
場合があった。
充分であり、水滴が付着し、そのまま乾燥した場合、水
滴中に含まれる無機物が残滓となって表面にこびり付き
やすく、また、水に対する濡れ性が大きいために雨滴、
水の飛沫が付着すると大きく拡がり、眼鏡レンズなどに
おいては大面積にわたり物体がゆが/νで見えたりする
場合があった。
本発明の目的は、優れた撥水性を′fiするため、表面
についた無機物などが除去しやすく、かつ表面硬度、帯
電防止性、反則防止性のすべてが優れた溌水性を有する
帯電防止物品を提供することを目的とする。
についた無機物などが除去しやすく、かつ表面硬度、帯
電防止性、反則防止性のすべてが優れた溌水性を有する
帯電防止物品を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
本発明は、上記目的を達成するために、下記の構成を有
する。
する。
「 透明基体の表面に硬化被膜を設け、さらに該被膜上
にSnO2を主成分としてなる透明導電膜を少なくとも
1層含む、2層以上の反則防止被膜を設け、ざらに該被
膜上に500大以下の厚みを有する旧水性0機物を被覆
させてなることを特徴とする溌水性を有する帯電防止物
品。」 本発明における透明基体としては、例えば、無機ガラス
、アクリル樹;指、ポリカーボネート、ジエチレングリ
コールビスアリルカーボネートポリマー、(ハロゲン化
)ビスフェノールAのジ(メタ)アクリレートポリマー
およびその共重合体。
にSnO2を主成分としてなる透明導電膜を少なくとも
1層含む、2層以上の反則防止被膜を設け、ざらに該被
膜上に500大以下の厚みを有する旧水性0機物を被覆
させてなることを特徴とする溌水性を有する帯電防止物
品。」 本発明における透明基体としては、例えば、無機ガラス
、アクリル樹;指、ポリカーボネート、ジエチレングリ
コールビスアリルカーボネートポリマー、(ハロゲン化
)ビスフェノールAのジ(メタ)アクリレートポリマー
およびその共重合体。
(ハロゲン化)ビスフェノールAのウレタン変性ジ(メ
タ)アクリレートポリマーおよびその共重合体、ポリス
チレンおよびその共重合体などの成形物、例えば、レン
ズ、シー1〜.フィルム、コンパクトディスクなどが挙
げられる。とくに、基体上に硬化被膜を設けるという点
からプラスチックが好ましく適用される。
タ)アクリレートポリマーおよびその共重合体、ポリス
チレンおよびその共重合体などの成形物、例えば、レン
ズ、シー1〜.フィルム、コンパクトディスクなどが挙
げられる。とくに、基体上に硬化被膜を設けるという点
からプラスチックが好ましく適用される。
ここで透明基体とは下式にJ:り求められる曇価が80
%以下の透明性を有する透明基体であって、必要に応じ
、染料などで着色されているもの、模様状に彩色されて
いるものもこれに含めることができる。
%以下の透明性を有する透明基体であって、必要に応じ
、染料などで着色されているもの、模様状に彩色されて
いるものもこれに含めることができる。
本発明の意図するところの光線反射率の低下および光線
透過率の向上効果をより有効に発揮させるためにはでき
るだけ透明性のあるものが好ましい。さらに本発明にお
ける光線反射率の低下が基体の一方の面のみで充分であ
る場合には、その反対面が不透明なもので覆われた基体
であっても、本発明で言うところの透明基体として使用
できる。
透過率の向上効果をより有効に発揮させるためにはでき
るだけ透明性のあるものが好ましい。さらに本発明にお
ける光線反射率の低下が基体の一方の面のみで充分であ
る場合には、その反対面が不透明なもので覆われた基体
であっても、本発明で言うところの透明基体として使用
できる。
この場合には、曇価としては反対面における不透明物質
を除去したもので定義されなければならない。
を除去したもので定義されなければならない。
本発明はこれらの透明基体上にまず硬化被膜を設けてな
るものであるが、使用可能な被膜の例としては、ポリビ
ニルアルコール、セルロース類。
るものであるが、使用可能な被膜の例としては、ポリビ
ニルアルコール、セルロース類。
メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリシロキサン樹脂、ア
クリル樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。中でも表
面硬度、耐熱性、耐熱水性、耐薬品性などの点から熱硬
化性樹脂が好ましく用いられるが、とくに表面硬度向上
の点からポリシロキサン樹脂が好ましく用いられる。
クリル樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。中でも表
面硬度、耐熱性、耐熱水性、耐薬品性などの点から熱硬
化性樹脂が好ましく用いられるが、とくに表面硬度向上
の点からポリシロキサン樹脂が好ましく用いられる。
オルガノポリシロキサンを形成せしめる組成物の代表的
な例を挙げると次の一般式(A>で表されるイ:i機ケ
イ素化合物および/またはその加水分解物が挙げられる
。
な例を挙げると次の一般式(A>で表されるイ:i機ケ
イ素化合物および/またはその加水分解物が挙げられる
。
RaR1bSiX、−a4. (A>(ここで
、R,R1は、炭素数1〜10の有機基であり、Xは加
水分解性基である。aおよびbはOまたは1である。) ここでR,R1は各々アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、またはハロゲン基、エポキシ基。
、R,R1は、炭素数1〜10の有機基であり、Xは加
水分解性基である。aおよびbはOまたは1である。) ここでR,R1は各々アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、またはハロゲン基、エポキシ基。
グリシドキシ基、アミノ基、メルカプト基、メタクリル
オキシ塁ないしシアン基を有する炭化水素基でおり、同
種であっても、異種であってもよい。
オキシ塁ないしシアン基を有する炭化水素基でおり、同
種であっても、異種であってもよい。
Xはハロゲン、アルコキシ、アルコキシアルコキシ、フ
ェノキシないしアセトキシ基すどから選ばれる加水分解
可能な置換基であれば、いかなるものであってもよい。
ェノキシないしアセトキシ基すどから選ばれる加水分解
可能な置換基であれば、いかなるものであってもよい。
a、bは各々Oまたは1で必る。
これらの有機ケイ素化合物は1種または2種以上添加す
ることも可能である。とくに染色性付与の目的にはエポ
キシ基、グリシドキシ基を含む有機ケイ素化合物の使用
が好適であり、高付加価値なものとなる。
ることも可能である。とくに染色性付与の目的にはエポ
キシ基、グリシドキシ基を含む有機ケイ素化合物の使用
が好適であり、高付加価値なものとなる。
上記の組成物は通常揮発性溶媒に希釈して液状組成物と
して塗布される。溶媒として用いられるものは、特に限
定されないが、使用に必たっては被塗布物の表面性状を
損わぬことが要求され、ざらには組成物の安定性、基体
に対する濡れ性、揮発性などをも考慮して決められるべ
きである。また溶媒は1種のみならず2種以上の混合物
とじて用いることも可能である。
して塗布される。溶媒として用いられるものは、特に限
定されないが、使用に必たっては被塗布物の表面性状を
損わぬことが要求され、ざらには組成物の安定性、基体
に対する濡れ性、揮発性などをも考慮して決められるべ
きである。また溶媒は1種のみならず2種以上の混合物
とじて用いることも可能である。
さらに、硬化被膜の硬度向上、反射防止被膜との密着性
向上などの目的に好ましく使用される構成成分として微
粒子状無機酸化物がある。かかる微粒子状無機酸化物と
は塗膜状態で透明性を損わないものであり、その目的を
達成するものであればとくに限定されないが、作業性、
透明性付与の点から特に好ましい例としてはコロイド状
に分散したゾルが挙げられる。ざらに具体的な例として
は、シリカゾル、チタニアゾル、ジルコニアゾル。
向上などの目的に好ましく使用される構成成分として微
粒子状無機酸化物がある。かかる微粒子状無機酸化物と
は塗膜状態で透明性を損わないものであり、その目的を
達成するものであればとくに限定されないが、作業性、
透明性付与の点から特に好ましい例としてはコロイド状
に分散したゾルが挙げられる。ざらに具体的な例として
は、シリカゾル、チタニアゾル、ジルコニアゾル。
酸化アンヂモンゾル、アルミナゾルなどが挙げられる。
微粒子状無機酸化物の添加量は、特に限定されないが、
効果をより顕署に表すためには、硬化被膜中に5重量%
以上、80重量%以以下法れることが好ましい。すなわ
ち、5重量%未満では、明らかな添加の効果が認められ
ず、80重ff1%を越えると透明基体との密着性不良
、被膜自体にクラック発生、耐衝撃性低下などの問題が
める。
効果をより顕署に表すためには、硬化被膜中に5重量%
以上、80重量%以以下法れることが好ましい。すなわ
ち、5重量%未満では、明らかな添加の効果が認められ
ず、80重ff1%を越えると透明基体との密着性不良
、被膜自体にクラック発生、耐衝撃性低下などの問題が
める。
微粒子状無機酸化物としては、平均粒子径1〜200m
μのものが通常は使用されるが、好ましくは5〜100
mμの粒子径のものが使用される。
μのものが通常は使用されるが、好ましくは5〜100
mμの粒子径のものが使用される。
平均粒子径が200mμを越えるものは、生成被膜の透
明性を低下させ、濁りの大きなものとなり、厚膜化が困
難となる。また、1mμ未満のものは安定性が悪く、再
現性が乏しいものとなる。
明性を低下させ、濁りの大きなものとなり、厚膜化が困
難となる。また、1mμ未満のものは安定性が悪く、再
現性が乏しいものとなる。
また微粒子の分散性を改良するために各種の界面活性剤
やアミンを添加しても何ら問題はない。さらには2種以
上の微粒子状無機酸化物を(jf用して使用することも
何ら問題はない。
やアミンを添加しても何ら問題はない。さらには2種以
上の微粒子状無機酸化物を(jf用して使用することも
何ら問題はない。
さらには、これらの硬化被膜を形成せしめるためのコー
ティング組成物中には、塗布時におけるフローを向上さ
せる目的で各種の界面活性剤を使用することも可能であ
り、とくにジメチルポリシロキサンとアルキレンオキシ
ドとのブロックまたはグラフト共重合体、ざらにはフッ
素系界面活性剤などが有効である。
ティング組成物中には、塗布時におけるフローを向上さ
せる目的で各種の界面活性剤を使用することも可能であ
り、とくにジメチルポリシロキサンとアルキレンオキシ
ドとのブロックまたはグラフト共重合体、ざらにはフッ
素系界面活性剤などが有効である。
さらにFf4候性を向上させる目的で紫外線吸収剤、ま
た耐熱劣化向上法として酸化防止剤を添加することも可
能である。
た耐熱劣化向上法として酸化防止剤を添加することも可
能である。
ざらに、これらのコーティング組成物中には、被膜性能
、透明性などを大幅に低下させない範囲で各種の無機化
合物なども添加することができる。
、透明性などを大幅に低下させない範囲で各種の無機化
合物なども添加することができる。
これらの添加物の併用によって基体との密着性。
耐薬品性2表面硬度、耐久性、染色性などの諸物性を向
上させることができる。前記の添加可能な無機材料とし
ては以下の一般式[I]で表される金属アルコキシド、
および各種のキレート化合物および/またはその加水分
解物が挙げられる。
上させることができる。前記の添加可能な無機材料とし
ては以下の一般式[I]で表される金属アルコキシド、
および各種のキレート化合物および/またはその加水分
解物が挙げられる。
M(OQ)m [I](ここでQは
アルキル基、アシル基、アルコキシアルキル基であり、
mは金属Mの電荷数と同じ値である。Mとしてはケイ素
、チタン、ジルコン。
アルキル基、アシル基、アルコキシアルキル基であり、
mは金属Mの電荷数と同じ値である。Mとしてはケイ素
、チタン、ジルコン。
アンチモン、タンタル、ゲルマニウム、アルミニウムな
どである。) 本発明にお【プる硬化被膜を形成せしめる場合には、硬
化促進、低温硬化などを可能とする目的で各種の硬化剤
が使用可能である。硬化剤としては各種エポキシ樹脂硬
化剤、あるいは各種有機ケイ素樹脂硬化剤などが適用さ
れる。
どである。) 本発明にお【プる硬化被膜を形成せしめる場合には、硬
化促進、低温硬化などを可能とする目的で各種の硬化剤
が使用可能である。硬化剤としては各種エポキシ樹脂硬
化剤、あるいは各種有機ケイ素樹脂硬化剤などが適用さ
れる。
これらの硬化剤の具体的な例としては、各種の有機酸お
よびそれらの酸無水物、窒素含有有機化合物、各種金属
錯化合物あるいは金属アルコキシド、さらにはアルカリ
金属の有機カルボン酸塩。
よびそれらの酸無水物、窒素含有有機化合物、各種金属
錯化合物あるいは金属アルコキシド、さらにはアルカリ
金属の有機カルボン酸塩。
炭酸塩などの各種塩、さらには、過酸化物、アゾビスイ
ソブチロニトリルなどのラジカル重合開始剤などが挙げ
られる。これらの硬化剤は2種以上混合して使用するこ
とも可能である。これらの硬化剤の中でも本発明の目的
には、塗お1の安定性。
ソブチロニトリルなどのラジカル重合開始剤などが挙げ
られる。これらの硬化剤は2種以上混合して使用するこ
とも可能である。これらの硬化剤の中でも本発明の目的
には、塗お1の安定性。
コーテイング後の塗膜の着色防止などの点から、特に下
記に示すアルミニウムキレート化合物が有用である。
記に示すアルミニウムキレート化合物が有用である。
ここでいうアルミニウムキレート化合物とは、−紋穴A
QYoZ3−oで示されるアルミニウムキレート化合物
である。
QYoZ3−oで示されるアルミニウムキレート化合物
である。
(但し式中、YはOL (Lは低級アルキル基)、ZL
t−紋穴M1COCH2COM2(Ml、M”Ltいず
れも低級アルキル基)で示される化合物に由来する配位
子、および−紋穴M 3COCH2CO0M4 (M3
.M4はいずれも低級アルキル基)で示される化合物に
由来する配位子から選ばれる少なくとも1つであり、n
は0.1または2である。
t−紋穴M1COCH2COM2(Ml、M”Ltいず
れも低級アルキル基)で示される化合物に由来する配位
子、および−紋穴M 3COCH2CO0M4 (M3
.M4はいずれも低級アルキル基)で示される化合物に
由来する配位子から選ばれる少なくとも1つであり、n
は0.1または2である。
)AαYn Z3−nで示されるアルミニウムキレート
化合物のうちで、組成物への溶解性、安定性。
化合物のうちで、組成物への溶解性、安定性。
硬化触媒としての効果などの観点からして、アルミニウ
ムアセデルアセトネート、アルミニウムビスエチルアセ
1〜アセテートモノアセチルアセトネート、アルミニウ
ムージ−n−ブトキシド−モノエチルアセトアセテート
、アルミニウムージーi so−プロポキシド−モノメ
チルアセトアセテートなどが好ましい。これらは2種以
上を混合して使用することも可能である。
ムアセデルアセトネート、アルミニウムビスエチルアセ
1〜アセテートモノアセチルアセトネート、アルミニウ
ムージ−n−ブトキシド−モノエチルアセトアセテート
、アルミニウムージーi so−プロポキシド−モノメ
チルアセトアセテートなどが好ましい。これらは2種以
上を混合して使用することも可能である。
塗布方法としては通常のコーティング作業で用いられる
方法が適用可能であるが、たとえば浸漬法、流し塗り法
、スピンコード法などが好ましい。
方法が適用可能であるが、たとえば浸漬法、流し塗り法
、スピンコード法などが好ましい。
このようにして塗布されたコーティング組成物は一般に
は加熱乾燥によって硬化される。
は加熱乾燥によって硬化される。
加熱方法としては熱風、赤外線などで行うことが可能で
ある。また加熱g度は適用される基体および使用される
コーティング組成物によって決定されるべきであるが、
通常は室温から250’C1より好ましくは35〜20
0 ’Cが使用される。これより低温では硬化または乾
燥が不充分になりやすく、またこれより高温になると熱
分解、亀裂発生などが起り、ざらには黄変などの問題を
生じやすくなる。
ある。また加熱g度は適用される基体および使用される
コーティング組成物によって決定されるべきであるが、
通常は室温から250’C1より好ましくは35〜20
0 ’Cが使用される。これより低温では硬化または乾
燥が不充分になりやすく、またこれより高温になると熱
分解、亀裂発生などが起り、ざらには黄変などの問題を
生じやすくなる。
本発明におけるコーティング組成物の塗イbにあたって
は、塗イ「されるべき表面は清浄化されていることが好
ましく、清浄化に際しては界面活性剤による汚れ除去、
さらには有機溶剤による脱脂、フレオンによる蒸気洗浄
などが適用される。また密着性、耐久性の向上を目的と
して各種の前処理を施すことも有効な手段である。特に
好ましく用いられる方法としては、後述の活性化ガス処
理、濃度にもよるが酸、アルカリなどによる薬品処理で
ある。
は、塗イ「されるべき表面は清浄化されていることが好
ましく、清浄化に際しては界面活性剤による汚れ除去、
さらには有機溶剤による脱脂、フレオンによる蒸気洗浄
などが適用される。また密着性、耐久性の向上を目的と
して各種の前処理を施すことも有効な手段である。特に
好ましく用いられる方法としては、後述の活性化ガス処
理、濃度にもよるが酸、アルカリなどによる薬品処理で
ある。
本発明における硬化被膜の膜厚は、特に限定されるもの
ではない。しかし、密着強度の保持、硬度などの点から
0.1〜20ミクロンの間で好ましく用いられる。特に
好ましくは、0.4〜10ミクロンである。
ではない。しかし、密着強度の保持、硬度などの点から
0.1〜20ミクロンの間で好ましく用いられる。特に
好ましくは、0.4〜10ミクロンである。
本発明は、これらの硬化被膜上にSnO+を主成分とし
てなる透明導電膜を少なくとも1層含む、2層以上の反
則防止被膜を設けてなるものであるが、形成に際しては
、被膜の前処理として活性化ガス処理、薬品処理などを
施してもよい。かかる活性化ガス処理とは、常圧、もし
くは減圧下において、生成するイオン、電子あるいは、
励起された気体による処理である。これらの活性化ガス
を生成させる方法としては、例えば、コロナ放電、減圧
下での直流、低周波、高周波あるいはマイクロ波による
高電圧放電などににるもので必る。特に減圧下で高周波
放電によって得られる低)Bプラズマによる処理が、再
現性、生産性などの観点から、好ましく使用される。こ
こで使用されるガスは、特に限定されるものではないが
、具体例としては酸素、窒素、水素、炭酸ガス、二酸化
硫黄、ヘリウム、ネオン、アルゴン、フレオン、水蒸気
、アンモニア、−酸化炭素、塩素、−酸化窒素、二酸化
窒素などが挙げられる。これらは、一種のみならず、二
種以上混合しても使用可能である。
てなる透明導電膜を少なくとも1層含む、2層以上の反
則防止被膜を設けてなるものであるが、形成に際しては
、被膜の前処理として活性化ガス処理、薬品処理などを
施してもよい。かかる活性化ガス処理とは、常圧、もし
くは減圧下において、生成するイオン、電子あるいは、
励起された気体による処理である。これらの活性化ガス
を生成させる方法としては、例えば、コロナ放電、減圧
下での直流、低周波、高周波あるいはマイクロ波による
高電圧放電などににるもので必る。特に減圧下で高周波
放電によって得られる低)Bプラズマによる処理が、再
現性、生産性などの観点から、好ましく使用される。こ
こで使用されるガスは、特に限定されるものではないが
、具体例としては酸素、窒素、水素、炭酸ガス、二酸化
硫黄、ヘリウム、ネオン、アルゴン、フレオン、水蒸気
、アンモニア、−酸化炭素、塩素、−酸化窒素、二酸化
窒素などが挙げられる。これらは、一種のみならず、二
種以上混合しても使用可能である。
前記の中で好ましいガスとしては、酸素が挙げられ、空
気などの自然界に存在するものであってもよい。特に好
ましくは、純粋な酸素ガスが密着性向上に有効でおる。
気などの自然界に存在するものであってもよい。特に好
ましくは、純粋な酸素ガスが密着性向上に有効でおる。
ざらには、同様の目的で前記使用に際しては、処理基体
の温度を上げることも可能である。
の温度を上げることも可能である。
つぎに本発明にあける、5na2を主成分としてなる透
明導電膜を少なくとも1層有する、2層以上の反射防止
被膜とは、5na2を601%以上含有してなる層を少
なくとも1層有し、ざらにSnO2を主成分としてなる
層以外に、1庖以上の被膜を有する多層の反射防止被膜
である。ここで、透明導電膜を形成する成分において、
SnO2以外の添加可能な成分としては、Sb、 In
などの金属酸化物が導電性向上の点からも好ましい。5
na2を主成分としてなる被膜は、従来のITO膜に比
べて被膜の吸収が少ないばかりか、耐候性が良好なこと
から屋外用途に有用である。被膜の厚さは、導電性およ
び透明性の観点から50〜5000人であることが好ま
しく、さらには200〜3000人が好ましい。
明導電膜を少なくとも1層有する、2層以上の反射防止
被膜とは、5na2を601%以上含有してなる層を少
なくとも1層有し、ざらにSnO2を主成分としてなる
層以外に、1庖以上の被膜を有する多層の反射防止被膜
である。ここで、透明導電膜を形成する成分において、
SnO2以外の添加可能な成分としては、Sb、 In
などの金属酸化物が導電性向上の点からも好ましい。5
na2を主成分としてなる被膜は、従来のITO膜に比
べて被膜の吸収が少ないばかりか、耐候性が良好なこと
から屋外用途に有用である。被膜の厚さは、導電性およ
び透明性の観点から50〜5000人であることが好ま
しく、さらには200〜3000人が好ましい。
本発明にお1プる5na2を主成分とする透明導電膜を
形成する手段としては、液状コーティングあるいは真空
蒸着、スパッタリングなどのドライコーティングが適用
可能である。特に被膜の緻密性。
形成する手段としては、液状コーティングあるいは真空
蒸着、スパッタリングなどのドライコーティングが適用
可能である。特に被膜の緻密性。
導電性などの観点からドライコーティングが好ましく使
用される。また、ドライコーティングの中でも被膜形成
時間の短縮のためには真空蒸着、とくに1人/sec〜
5人/secの速度で蒸着することが透明性、導電性向
上により好ましい。さらに、真空蒸着による被膜形成に
際しては、酸素ガス雰囲気下での高周波放電中、好まし
くはIX”lo−3T。
用される。また、ドライコーティングの中でも被膜形成
時間の短縮のためには真空蒸着、とくに1人/sec〜
5人/secの速度で蒸着することが透明性、導電性向
上により好ましい。さらに、真空蒸着による被膜形成に
際しては、酸素ガス雰囲気下での高周波放電中、好まし
くはIX”lo−3T。
rr以下のガス導入下での蒸着、さらに高周波放電出力
を高めること、例えば50ワット以上が透明性、導電性
などの観点から好ましく使用される。
を高めること、例えば50ワット以上が透明性、導電性
などの観点から好ましく使用される。
ざらに、導電性を向上させる目的から被コーテイング基
体を加熱することも有効な手段である。
体を加熱することも有効な手段である。
かかる5r102を主成分としてなる透明電導膜そのも
のの透明性としては、全光線透過率で言うところの60
%以上、とくに光学用途についてはさらに75%以上を
右することが好ましい。また、導電性としては、本発明
が帯電防止物品であるとの意味からも、1×1013Ω
/口以下、とくに厳しい帯電防止性を要求される用途に
関しては、1×1011Ω/口以下でおることが好まし
い。
のの透明性としては、全光線透過率で言うところの60
%以上、とくに光学用途についてはさらに75%以上を
右することが好ましい。また、導電性としては、本発明
が帯電防止物品であるとの意味からも、1×1013Ω
/口以下、とくに厳しい帯電防止性を要求される用途に
関しては、1×1011Ω/口以下でおることが好まし
い。
本発明におけるSnO2を主成分としてなる透明導電膜
以外の反則防止膜構成成分としては特に限定されないが
、例えば5i02. SiO,ZrO2,AQ203゜
TiO,TiO2,Ti2O3,Y 203. Yb2
O3,HoO,Ta205゜CeO2,HfO2などの
酸化物、H(]F2. AD、F3. BaF2゜Li
F 、 CaF2. Na3 An F e 、 Na
s AQ3F 14などのフッ化物、Si3N4などの
窒化物が挙げられる。
以外の反則防止膜構成成分としては特に限定されないが
、例えば5i02. SiO,ZrO2,AQ203゜
TiO,TiO2,Ti2O3,Y 203. Yb2
O3,HoO,Ta205゜CeO2,HfO2などの
酸化物、H(]F2. AD、F3. BaF2゜Li
F 、 CaF2. Na3 An F e 、 Na
s AQ3F 14などのフッ化物、Si3N4などの
窒化物が挙げられる。
金属としては、Cr、 Ta、 Ti、 Wなどが挙げ
られる。
られる。
これらの物質は、一種のみならず二種以上を混合して使
用することも可能である。
用することも可能である。
また、各層間の密着性向上手段として前述の高周波放電
処理、イオンビーム処理などが有効である。ざらに、反
射防止被膜の最上層に好ましく用いられる低屈折率物質
としては、前述の5i02゜A 0203などの酸化物
、H(lF2. AI、F3. BaF2. LiF
。
処理、イオンビーム処理などが有効である。ざらに、反
射防止被膜の最上層に好ましく用いられる低屈折率物質
としては、前述の5i02゜A 0203などの酸化物
、H(lF2. AI、F3. BaF2. LiF
。
CaF2. Na3 Afl F e 、 Has A
Q:3F 14などのフッ化物などが好ましい例として
挙げられるが、硬度。
Q:3F 14などのフッ化物などが好ましい例として
挙げられるが、硬度。
密着性、耐水性、耐熱性の点から5i02を主成分とし
てなる被膜が特に好ましい。ここで5i02を主成分と
してなる低屈折率被膜とは、5in2が被膜中に50m
n%以上含有するものであり、それ以外の添加可能な成
分としては、特に限定されるものではない。
てなる被膜が特に好ましい。ここで5i02を主成分と
してなる低屈折率被膜とは、5in2が被膜中に50m
n%以上含有するものであり、それ以外の添加可能な成
分としては、特に限定されるものではない。
本発明の反射防止膜は、前記のとおり、SnO2を主成
分とする層を少なくとも一層有し、さらに伯成分からな
る層を一層以上有する多層膜からなるものであるが、こ
こで多層膜の膜描成の組合せとしては、透明基体の屈折
率、さらには硬化被膜の膜厚および屈折率などによって
、その最適な組合せは異なる。また、要求される反射防
止特性、あるいはその伯の物理特性、さらには耐久特性
などによっても、その最適な組合せは異なる。とくに
・反射防止特性に関してはすでに多くの組合せが提案さ
れており(光学技術]ンタクト Vol 9.Nα8゜
17〜23. (1971)−、“0PTIC3叶
丁111N FIL)Is’“159〜283、A
、VASICEK(NORTH−110LLAND
Pt1BLISllING COMPAt4Y)八H
3T[:RDA)i(1960))、本発明においても
これらの組合せを用いることは何らの問題もない。本発
明を光学用途、とりわけ光学用レンズに適用する場合に
はSnO2を主成分とする層を最下層(硬化被膜上の第
1層目)、または中間層とし、最上層(反射防止被膜の
最外層)にS i 02を主成分としてなる被膜を有す
ることが、表面硬度2反則防止特性、耐薬品性、耐候性
などの点からもつとも好ましい。
分とする層を少なくとも一層有し、さらに伯成分からな
る層を一層以上有する多層膜からなるものであるが、こ
こで多層膜の膜描成の組合せとしては、透明基体の屈折
率、さらには硬化被膜の膜厚および屈折率などによって
、その最適な組合せは異なる。また、要求される反射防
止特性、あるいはその伯の物理特性、さらには耐久特性
などによっても、その最適な組合せは異なる。とくに
・反射防止特性に関してはすでに多くの組合せが提案さ
れており(光学技術]ンタクト Vol 9.Nα8゜
17〜23. (1971)−、“0PTIC3叶
丁111N FIL)Is’“159〜283、A
、VASICEK(NORTH−110LLAND
Pt1BLISllING COMPAt4Y)八H
3T[:RDA)i(1960))、本発明においても
これらの組合せを用いることは何らの問題もない。本発
明を光学用途、とりわけ光学用レンズに適用する場合に
はSnO2を主成分とする層を最下層(硬化被膜上の第
1層目)、または中間層とし、最上層(反射防止被膜の
最外層)にS i 02を主成分としてなる被膜を有す
ることが、表面硬度2反則防止特性、耐薬品性、耐候性
などの点からもつとも好ましい。
一方、かかる2層以上からなる反射防止被膜は、その帯
電防止性と反射防止性を必要とする部分に少なくとも設
けられておれば充分であり、従って透明基体の表面全体
であっても、その一部分であっても何ら問題はない。
電防止性と反射防止性を必要とする部分に少なくとも設
けられておれば充分であり、従って透明基体の表面全体
であっても、その一部分であっても何ら問題はない。
また、本発明における帯電防止性としては、その反射防
止被膜におりる導電性が1×10140/口以下、さら
に好ましくはlX10”07口以下である。
止被膜におりる導電性が1×10140/口以下、さら
に好ましくはlX10”07口以下である。
つぎに本発明における、撥水性有機物の被覆において、
500Å以下の厚みを有するとは、平均の厚みが500
Å以下でめることを意味する。−般にプラスチック反則
防止被膜の最外層である5i02は微視的、たとえば電
界放射型走査電子顕微鏡などで観察すると100〜50
0人の粒状物の堆積したものでおることが確認される。
500Å以下の厚みを有するとは、平均の厚みが500
Å以下でめることを意味する。−般にプラスチック反則
防止被膜の最外層である5i02は微視的、たとえば電
界放射型走査電子顕微鏡などで観察すると100〜50
0人の粒状物の堆積したものでおることが確認される。
従って旧水性イj世物を被覆させるとは、これらの堆積
物の粒子間隙にも入り込んだJ:うな状態で存在する場
合も含む。しかし、撥水性を有する有機物の被覆として
は、実質的に反偽り防止被膜の最外層である被膜全体を
覆っていることが好ましい。
物の粒子間隙にも入り込んだJ:うな状態で存在する場
合も含む。しかし、撥水性を有する有機物の被覆として
は、実質的に反偽り防止被膜の最外層である被膜全体を
覆っていることが好ましい。
撥水性41機物質としては、1獲水機能を有するもので
あれば特に限定されないが、とくに効果的なものとして
は室温硬化型おるいは低温硬化型のlhはポリシロキサ
ン系重合物、中でもボリジメチルシロキナン系千合物が
その水に対する静止接触角を大きくすることが可能なこ
とから好ましく使用される。かかる硬化性有機ポリシロ
キサンの具体例としては末端にシラノール基を有するポ
リジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン
。
あれば特に限定されないが、とくに効果的なものとして
は室温硬化型おるいは低温硬化型のlhはポリシロキサ
ン系重合物、中でもボリジメチルシロキナン系千合物が
その水に対する静止接触角を大きくすることが可能なこ
とから好ましく使用される。かかる硬化性有機ポリシロ
キサンの具体例としては末端にシラノール基を有するポ
リジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン
。
ポリメチルビニルシロキナンなどのポリアルキル。
ポリアルケニル、必るいはポリアリールシロキサンに各
種の架橋剤、例えばテトラアセトキシシラン、テトラア
ルコキシシラン、テトラエチルメチルケトオキシムシラ
ン、テトライソプロペニルシランなどの四官能シラン、
ざらにはアルキル必るいはアルケニルトリアセトキシシ
ラン、トリケトオキシムシラン、トリイソプロペニルシ
ラン、または1〜リアルコキシシランなどの3官能シラ
ンなどを添加混合したもの、場合によってはあらかじめ
反応させたものがある。他の硬化性を有するボリン[]
]キリーの例としては5i−H結合をイjvるポリシロ
キサンと不飽和基を有する化合物を白金化合物などの触
媒存在下に反応させて硬化させることなども挙げること
ができる。他の効果的なものとしてはフッ素含有混合物
、とくにパーフルオロ基金@(メタ)アクリレートを含
むポリマーおよび伯の七ツマ−との共重合体がある。こ
れらの重合物中には架橋硬化せしめる目的で各種の官能
基を導入させたものも使用されるが、その具体例としで
はヒドロキシ(メタ)アクリレートなどの水酸基含有上
ツマ−1(メタ)アクリル酸などのカルボキシル基含有
上ツマ−などとの共重合体が挙げられる。ざらにはアリ
ル(メタ)アクリレートなどの反応性の異なる二重結合
を右する七ツマ−との共重合体も架1!&J!化可能な
例として挙げられる。かかる共重合体の重合形態として
はとくに限定されず、ランダム共重合体、ブロック共重
合体などが適用可能であるが、1σ水性、被コーテイン
グ物との密着性向上などの点からブロック共重合体がと
くに好ましく使用される。
種の架橋剤、例えばテトラアセトキシシラン、テトラア
ルコキシシラン、テトラエチルメチルケトオキシムシラ
ン、テトライソプロペニルシランなどの四官能シラン、
ざらにはアルキル必るいはアルケニルトリアセトキシシ
ラン、トリケトオキシムシラン、トリイソプロペニルシ
ラン、または1〜リアルコキシシランなどの3官能シラ
ンなどを添加混合したもの、場合によってはあらかじめ
反応させたものがある。他の硬化性を有するボリン[]
]キリーの例としては5i−H結合をイjvるポリシロ
キサンと不飽和基を有する化合物を白金化合物などの触
媒存在下に反応させて硬化させることなども挙げること
ができる。他の効果的なものとしてはフッ素含有混合物
、とくにパーフルオロ基金@(メタ)アクリレートを含
むポリマーおよび伯の七ツマ−との共重合体がある。こ
れらの重合物中には架橋硬化せしめる目的で各種の官能
基を導入させたものも使用されるが、その具体例としで
はヒドロキシ(メタ)アクリレートなどの水酸基含有上
ツマ−1(メタ)アクリル酸などのカルボキシル基含有
上ツマ−などとの共重合体が挙げられる。ざらにはアリ
ル(メタ)アクリレートなどの反応性の異なる二重結合
を右する七ツマ−との共重合体も架1!&J!化可能な
例として挙げられる。かかる共重合体の重合形態として
はとくに限定されず、ランダム共重合体、ブロック共重
合体などが適用可能であるが、1σ水性、被コーテイン
グ物との密着性向上などの点からブロック共重合体がと
くに好ましく使用される。
以上の組成物中には硬化を促進させる目的、あるいは硬
化可能ならしめる目的から各種の硬化剤、3次元架橋剤
を添加することもできる。これらの具体例としてはシリ
コーン樹脂硬化剤、シランカップリング剤、各種金属ア
ルコレート、各種金属キレート化合物、イソシアネート
化合物、メラミン樹脂、多官能アクリル樹脂、尿素樹脂
などがある。
化可能ならしめる目的から各種の硬化剤、3次元架橋剤
を添加することもできる。これらの具体例としてはシリ
コーン樹脂硬化剤、シランカップリング剤、各種金属ア
ルコレート、各種金属キレート化合物、イソシアネート
化合物、メラミン樹脂、多官能アクリル樹脂、尿素樹脂
などがある。
有機物の被覆に際する乾燥および/またはその硬化方法
としては適用される反射防止膜を有する基材および使用
される物質によって決定されるべきであるが、通常は室
温以上、100’C以下の加熱処理、さらには硬化性官
能基、例えば徂合体もしくはオリゴマ中の2重結合など
を利用して紫外線、電子線、γ線などの放射線を用いて
硬化させることもできる。
としては適用される反射防止膜を有する基材および使用
される物質によって決定されるべきであるが、通常は室
温以上、100’C以下の加熱処理、さらには硬化性官
能基、例えば徂合体もしくはオリゴマ中の2重結合など
を利用して紫外線、電子線、γ線などの放射線を用いて
硬化させることもできる。
次にかかる有は物の被覆方法としては通常のコーティン
グ作業で用いられる方法が適用可能であるが、反則防止
効果の均一性、ざらには反射干渉色のコン1ヘロールと
いう観点からスピン塗装、浸漬塗装、カーテンフロー塗
装などが好ましく用いられる。また作業性の点から紙、
イ「などの材料に液を含浸させて塗布流延させる方法も
好ましく使用される。
グ作業で用いられる方法が適用可能であるが、反則防止
効果の均一性、ざらには反射干渉色のコン1ヘロールと
いう観点からスピン塗装、浸漬塗装、カーテンフロー塗
装などが好ましく用いられる。また作業性の点から紙、
イ「などの材料に液を含浸させて塗布流延させる方法も
好ましく使用される。
これらの有機物の被覆は通常揮発性溶媒に希釈して塗布
される。溶媒として用いられるものは、特に限定されな
いが、使用にあたっては組成物の安定性、無機物に対す
る濡れ性、揮発性などを考慮して決められるべきである
。また溶媒は1種のみならず2種以上の混合物として用
いることも可能である。
される。溶媒として用いられるものは、特に限定されな
いが、使用にあたっては組成物の安定性、無機物に対す
る濡れ性、揮発性などを考慮して決められるべきである
。また溶媒は1種のみならず2種以上の混合物として用
いることも可能である。
また本発明の有機物中には反応性のない物質を透明性、
耐久性などの他性能を大幅に低下させない範囲で各種添
加させることも可能である。とくに塗布時におけるフロ
ー向上の目的には、前述の界面活性剤の添加が有効であ
る。
耐久性などの他性能を大幅に低下させない範囲で各種添
加させることも可能である。とくに塗布時におけるフロ
ー向上の目的には、前述の界面活性剤の添加が有効であ
る。
本発明の有機物の被覆としての好ましい例としては、前
記有機ポリシロキサン系重合物、フッ素含有有機物など
からなる被膜を形成する以外に、例えば有機ケイ素化合
物が存在する環境下で表面処理することによって被覆さ
せることも可能である。ここでいう有機ケイ素化合物と
は、加水分解可能な任意の置換基を有するケイ素化合物
であるが、具体的な例としては、下記一般式(B)で示
される有機ケイ素置換基を含む化合物を挙げることがで
きる。
記有機ポリシロキサン系重合物、フッ素含有有機物など
からなる被膜を形成する以外に、例えば有機ケイ素化合
物が存在する環境下で表面処理することによって被覆さ
せることも可能である。ここでいう有機ケイ素化合物と
は、加水分解可能な任意の置換基を有するケイ素化合物
であるが、具体的な例としては、下記一般式(B)で示
される有機ケイ素置換基を含む化合物を挙げることがで
きる。
R2R3aR4bSi−A3−2.b (B)(ここ
で、R2,R3,R4は各々水素、アルキル基、ハロゲ
ン化アルキル基、アリル基、アリール基、ハロゲン化ア
リール基から選ばれる1種であり、a、bはそれぞれO
または1であり、Aは、加水分解性基である。〉 一般式(B)中、R2,R3,R4は、各々同種であっ
ても異種であってもよい。
で、R2,R3,R4は各々水素、アルキル基、ハロゲ
ン化アルキル基、アリル基、アリール基、ハロゲン化ア
リール基から選ばれる1種であり、a、bはそれぞれO
または1であり、Aは、加水分解性基である。〉 一般式(B)中、R2,R3,R4は、各々同種であっ
ても異種であってもよい。
かかる一般式(B)中でのR2R3aR4bSi−で示
される有機ケイ素置換基の具体的な代表例としては、ト
リメチルシリル、ジメヂルシリル。
される有機ケイ素置換基の具体的な代表例としては、ト
リメチルシリル、ジメヂルシリル。
メチルフェニルシリル、ビニルジメヂルシリル。
エチルジメヂルシリル、ジエチルメヂルシリル。
トリエチルシリル、アリルジメヂルシリル、3−アミノ
プロピルジメチルシリル、3−アミノプロピルジエチル
シリル、3−アミノプロピルエヂルメチルシリル、p−
ビフェニルジメチルシリル、ビス(p−ビフェニル)メ
チルシリル、ビス(p−ビフェニル)フェニルシリル、
叶ビフェニルジフェニルシリル。
プロピルジメチルシリル、3−アミノプロピルジエチル
シリル、3−アミノプロピルエヂルメチルシリル、p−
ビフェニルジメチルシリル、ビス(p−ビフェニル)メ
チルシリル、ビス(p−ビフェニル)フェニルシリル、
叶ビフェニルジフェニルシリル。
ブロモメチルジメチルシリル、トリフェニルシリル、ビ
ス(クロロメチル)メチルシリル、クロロメヂルジメチ
ルシリル、γ−クロロプロピルジメチルシリル、ヨード
メチルジメチルシリル、フロロメチルジメヂルシリル、
γ−(3,3,3−トリフロロ)プロビルジメヂルシリ
ル、γ−パーフロロアルキルプロピルジメヂルシリル、
n−プロピルジメチルシリル、i−プロピルジメチルシ
リル、n−ブチルジメチルシリル、 5ec−ブチルジ
メチルシリル。
ス(クロロメチル)メチルシリル、クロロメヂルジメチ
ルシリル、γ−クロロプロピルジメチルシリル、ヨード
メチルジメチルシリル、フロロメチルジメヂルシリル、
γ−(3,3,3−トリフロロ)プロビルジメヂルシリ
ル、γ−パーフロロアルキルプロピルジメヂルシリル、
n−プロピルジメチルシリル、i−プロピルジメチルシ
リル、n−ブチルジメチルシリル、 5ec−ブチルジ
メチルシリル。
t−プチルジメヂルシリル、t−ブヂルジフェニルシリ
ル、1−クロロエヂルジメヂルシリル、2−クロロエチ
ルジメチルシリル、シクロへキシルジメヂルシリル、ベ
ンジルジメチルシリル、n−オクチルジメヂルシリル、
フエニルジメチルシリル、ジフェニルメチルシリル、ジ
フェニルビニルシリル、ジ−n−プロピルメチルシリル
、トリーn−プロピルシリル、γ−メタクリロキシプロ
ピルジメヂルシリル、γ−グリシドキシプロピルジメチ
ルシリル。
ル、1−クロロエヂルジメヂルシリル、2−クロロエチ
ルジメチルシリル、シクロへキシルジメヂルシリル、ベ
ンジルジメチルシリル、n−オクチルジメヂルシリル、
フエニルジメチルシリル、ジフェニルメチルシリル、ジ
フェニルビニルシリル、ジ−n−プロピルメチルシリル
、トリーn−プロピルシリル、γ−メタクリロキシプロ
ピルジメヂルシリル、γ−グリシドキシプロピルジメチ
ルシリル。
β−シアノエチルジメチルシリル、γ−メルカプトプロ
ピルジメチルシリル、β−(3,4−エポキシシクロヘ
キシル)エチルジメチルシリル、γ−70ロプロピルジ
メヂルシリル、γ−(3,3−ジフロロ〉プロピルジメ
チルシリルなどが挙げられる。
ピルジメチルシリル、β−(3,4−エポキシシクロヘ
キシル)エチルジメチルシリル、γ−70ロプロピルジ
メヂルシリル、γ−(3,3−ジフロロ〉プロピルジメ
チルシリルなどが挙げられる。
とくに、本焼は防止性効果が大きい、さらには、防汚性
に優れているなどの点からトリメチルシリル、ジメヂル
シリル、γ−(3,3,3−トリフロロ)プロピルジメ
チルシリル、フエニルジメチルシリルなどの有機ケイ素
置換基などが好ましく使用される。
に優れているなどの点からトリメチルシリル、ジメヂル
シリル、γ−(3,3,3−トリフロロ)プロピルジメ
チルシリル、フエニルジメチルシリルなどの有機ケイ素
置換基などが好ましく使用される。
一般式(B)中、Aで示される置換基としては、クロル
、ブロムなどのハロゲン基、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、β−クロロエトキシなどのアルコキシ基、エト
キシメトキシ、メトキシン1〜キシなどのアルコキシア
ルコキシ基、アセ1〜キシ。
、ブロムなどのハロゲン基、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、β−クロロエトキシなどのアルコキシ基、エト
キシメトキシ、メトキシン1〜キシなどのアルコキシア
ルコキシ基、アセ1〜キシ。
トリフロロアセトキシ、ベンゾエートなどのカルボキシ
基、アミン、ジメチルアミノ、ジエチルアミン、■チル
アミノ、アリルアミノ、アニリノ。
基、アミン、ジメチルアミノ、ジエチルアミン、■チル
アミノ、アリルアミノ、アニリノ。
n−ブチルアミノなどのアミノ基、イミダゾリル。
ピペリジル、 1,2.4−トリアゾリル、 1,2.
3−トリアゾリル、ピロール、ピロリジニルなどの環状
アミノ基または、イミノ基、アセトアミドなどのアミド
基、シラノール基、ビニロキシ、アリルオキシなどのア
リロキシ基、フェノキシ、トリクロロフェノキシ、二]
〜ロフエノキシなどのアリーロキシ基、ジメチルケ1〜
オキシム、メチルエチルケトオキシムなどのケトオキシ
ム基、N−メチルカルバメート、 N−(3−クロロフ
ェニル)カルバメートなどのカルバメート基、ジメヂル
アミノキシ、ジエチルアミノキシなどのジアルキルアミ
ノキシ基、ベンジロキシ、フエネチロキシなどのアラル
キロキシ基、フルフリロキシなどのへテロシクロアルコ
キシ基、シクロヘキシロキシなどのシクロアルキロキシ
基、メチルビニロキシ阜、ウレア、ジフェニルウレアな
どのウレア基などがその具体例として挙げられる。なお
、Aが、アミノ基、アミド基。
3−トリアゾリル、ピロール、ピロリジニルなどの環状
アミノ基または、イミノ基、アセトアミドなどのアミド
基、シラノール基、ビニロキシ、アリルオキシなどのア
リロキシ基、フェノキシ、トリクロロフェノキシ、二]
〜ロフエノキシなどのアリーロキシ基、ジメチルケ1〜
オキシム、メチルエチルケトオキシムなどのケトオキシ
ム基、N−メチルカルバメート、 N−(3−クロロフ
ェニル)カルバメートなどのカルバメート基、ジメヂル
アミノキシ、ジエチルアミノキシなどのジアルキルアミ
ノキシ基、ベンジロキシ、フエネチロキシなどのアラル
キロキシ基、フルフリロキシなどのへテロシクロアルコ
キシ基、シクロヘキシロキシなどのシクロアルキロキシ
基、メチルビニロキシ阜、ウレア、ジフェニルウレアな
どのウレア基などがその具体例として挙げられる。なお
、Aが、アミノ基、アミド基。
オキシムの一種であるジオキシム基、ジあるいはトリア
ルコキシ塁、ウレア基などにおいては、−紋穴(B)中
のR2R3aR4bSi−で示される有機ケイ素置換基
が一分子内に2個以上含まれた化合物であっても何ら問
題はない。
ルコキシ塁、ウレア基などにおいては、−紋穴(B)中
のR2R3aR4bSi−で示される有機ケイ素置換基
が一分子内に2個以上含まれた化合物であっても何ら問
題はない。
以上の有機ケイ素化合物は、処理の均一化、取り扱い易
さなどの点から沸点が50°Cから250°Cのものが
好ましく使用される。とくに処理後の操作が簡単で、比
較的臭気が少ないことからシラザン化合物、中でもジシ
ラザン化合物、あるいは、アレドアミド化合物、低板ア
ルコキシ化合物がより好ましく適用される。
さなどの点から沸点が50°Cから250°Cのものが
好ましく使用される。とくに処理後の操作が簡単で、比
較的臭気が少ないことからシラザン化合物、中でもジシ
ラザン化合物、あるいは、アレドアミド化合物、低板ア
ルコキシ化合物がより好ましく適用される。
かかる有機ケイ素化合物は、一種のみならず、二種以上
を併用することも可能であるし、二種以上を用いて段階
的に処理することも可能でおる。
を併用することも可能であるし、二種以上を用いて段階
的に処理することも可能でおる。
前記有機ケイ素化合物を含む環境下での処理とは、具体
的には、前記有機ケイ素化合物中への浸漬あるいはそれ
らの蒸気中への暴露などである。
的には、前記有機ケイ素化合物中への浸漬あるいはそれ
らの蒸気中への暴露などである。
処理時間、処理温度などは目的および基材に応じて決め
られるべきでおるが、通常処理時開は、1分間から20
時間、処理温度は、10℃から100′Cの範囲で行わ
れる。
られるべきでおるが、通常処理時開は、1分間から20
時間、処理温度は、10℃から100′Cの範囲で行わ
れる。
また、前記有機ケイ素蓑換基含有化合物は、必要に応じ
て水、アルコール、ケトン、エステル。
て水、アルコール、ケトン、エステル。
エーテル、ハロゲン化炭化水素などの溶剤で希釈されて
いてもよいし、加水分解を促進する目的で酸、アルカリ
などが添加されていても何ら問題はない。とくに安全性
、揮発性などの点からフッ素化合物で希釈したものが好
ましく用いられる。また、芳香を発せしめるためにアル
コール、ケトンなどの溶剤も好ましく使用される。
いてもよいし、加水分解を促進する目的で酸、アルカリ
などが添加されていても何ら問題はない。とくに安全性
、揮発性などの点からフッ素化合物で希釈したものが好
ましく用いられる。また、芳香を発せしめるためにアル
コール、ケトンなどの溶剤も好ましく使用される。
本発明における有機ポリシロ主1ノン系重合物による撥
水処理おJ:び有機ケイ素化合物によるn水処理は、目
的に応じて使いわけが可能である。
水処理おJ:び有機ケイ素化合物によるn水処理は、目
的に応じて使いわけが可能である。
ざらに本発明にあけるn水処理された反射防止効果を有
する帯電防止物品の表面反射率は、3パーセント以下、
かつ水に対する静止接触角が60度以上であることが実
用面から好ましい。ここで表面反則率とは被膜形成面で
の全光線における反射率のことであり、光学物品の両面
にそれぞれ反射防止Sおよび被膜が形成されている場合
には、その両面での反則率と定義されるものである。被
膜形成後の光学物品の表面反射率が3%を越える場合に
は、反射防止効果が十分ではない。光学物品が無色透明
な場合には100%から光学物品の全光線透過率を引い
た値の半分がその面の表面反射率とも言うことができる
。
する帯電防止物品の表面反射率は、3パーセント以下、
かつ水に対する静止接触角が60度以上であることが実
用面から好ましい。ここで表面反則率とは被膜形成面で
の全光線における反射率のことであり、光学物品の両面
にそれぞれ反射防止Sおよび被膜が形成されている場合
には、その両面での反則率と定義されるものである。被
膜形成後の光学物品の表面反射率が3%を越える場合に
は、反射防止効果が十分ではない。光学物品が無色透明
な場合には100%から光学物品の全光線透過率を引い
た値の半分がその面の表面反射率とも言うことができる
。
すなわら、表面反射率が3%を越える場合には、眼鏡用
レンズではゴースト、フレアなどと呼ばれる反射像を生
じて目に不快感を与える場合がある。
レンズではゴースト、フレアなどと呼ばれる反射像を生
じて目に不快感を与える場合がある。
また、ルッキンググラス、CRT用フィルターなどでは
、面上の反射した光のために内容物1表示文字などが判
然としないという問題が生ずる。
、面上の反射した光のために内容物1表示文字などが判
然としないという問題が生ずる。
また、前記反射防止物品においては水に対する静止接触
角が60度以上でおることが好ましいが、ここで水に対
する静止、接触角とは直径2ミリ以下の水滴を光学物品
上に形成させ、その時の接触角を測定するところの液滴
法である。静止接触角が、60度未満であると充分な撥
水性を有しないばかりか、汚れも除きにくい。
角が60度以上でおることが好ましいが、ここで水に対
する静止、接触角とは直径2ミリ以下の水滴を光学物品
上に形成させ、その時の接触角を測定するところの液滴
法である。静止接触角が、60度未満であると充分な撥
水性を有しないばかりか、汚れも除きにくい。
本発明によって得られる撥水性を右する帯電防止・物品
は、通常の反射防止物品よりも優れた帯電防止効果があ
り、湿度依存性もない。さらには、汚れが取り易り、P
!水性を有しているので水滴が落ら易い、水焼けがしな
いなどの長所を有し、かつこれらの性能に加えて摩擦に
関しても高耐久性があることから、眼鏡レンズ、カメラ
レンズ、双眼鏡用レンズなどの光学用レンズはもとより
、各種デイスプレィ、とくにCRT用デイスプレィ。
は、通常の反射防止物品よりも優れた帯電防止効果があ
り、湿度依存性もない。さらには、汚れが取り易り、P
!水性を有しているので水滴が落ら易い、水焼けがしな
いなどの長所を有し、かつこれらの性能に加えて摩擦に
関しても高耐久性があることから、眼鏡レンズ、カメラ
レンズ、双眼鏡用レンズなどの光学用レンズはもとより
、各種デイスプレィ、とくにCRT用デイスプレィ。
およびその前面板などに好ましく使用される。
[実施例]
更に詳細に説明するために、以下に実施例を挙げるが本
発明は、これらに限定されるものではない。
発明は、これらに限定されるものではない。
実施例1
<1) γ−グリシドキシプロビルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン
共加水分解物の調整 回転子を描えた反応器中に、γ−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン35.3部とγ−グリシドキシプロ
ビルメチルジェトキシシラン106.8部を仕込み、マ
グネテイツクスターラーを用いて撹拌しながら、0.0
5規定塩酸水溶液23.6部を液温を10°Cに保ちな
がら、滴下し、滴下終了後30分間攪拌を続けて、加水
分解物を得た。
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン
共加水分解物の調整 回転子を描えた反応器中に、γ−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン35.3部とγ−グリシドキシプロ
ビルメチルジェトキシシラン106.8部を仕込み、マ
グネテイツクスターラーを用いて撹拌しながら、0.0
5規定塩酸水溶液23.6部を液温を10°Cに保ちな
がら、滴下し、滴下終了後30分間攪拌を続けて、加水
分解物を得た。
(2〉 コーティング組成物の調整
前記(1)共加水分解物にメタノール185部、アセチ
ルアセトン11.1部、シリコーン系界面活性剤2.5
部を添加混合し、さらにメタノール分散コロイド状シリ
カ(平均粒子径12±1mμ、固形分30%)333.
3部、アルミニウムアセチルアセ1−ナート6.0部を
添加し、充分攪拌した後、コーティング組成物を得た。
ルアセトン11.1部、シリコーン系界面活性剤2.5
部を添加混合し、さらにメタノール分散コロイド状シリ
カ(平均粒子径12±1mμ、固形分30%)333.
3部、アルミニウムアセチルアセ1−ナート6.0部を
添加し、充分攪拌した後、コーティング組成物を得た。
(3) プラスチック基体としてCR−39(ジエヂ
レングリコールごスアリルカーボネート東合体)のプラ
ルンズを使用し、前記(2)で調整した、コーティング
組成物を引き上げ速度10CmZ分の速度で浸漬塗布し
、次いで、82℃/12分の予備硬化を行い、さらに1
00℃/4時間加熱した後、硬化被膜を有するプラスチ
ック基体が得られた。
レングリコールごスアリルカーボネート東合体)のプラ
ルンズを使用し、前記(2)で調整した、コーティング
組成物を引き上げ速度10CmZ分の速度で浸漬塗布し
、次いで、82℃/12分の予備硬化を行い、さらに1
00℃/4時間加熱した後、硬化被膜を有するプラスチ
ック基体が得られた。
(4)前記(3)によって得られた硬化被膜を有するプ
ラスチック基体の上に無1M化物質のSnO2/サブス
タンス1(メルク社製)/5i02を真空蒸着法でこの
順序にそれぞれ光学膜厚をλ/4.λ/4.λ/4(λ
=521nm)に設定して多層被覆させた。
ラスチック基体の上に無1M化物質のSnO2/サブス
タンス1(メルク社製)/5i02を真空蒸着法でこの
順序にそれぞれ光学膜厚をλ/4.λ/4.λ/4(λ
=521nm)に設定して多層被覆させた。
1ηられた反射防止効果を有する帯電防止物品の反射干
渉色は緑色を呈し、表面反射率は1パーセントであった
。
渉色は緑色を呈し、表面反射率は1パーセントであった
。
(5) コーティング組成物の調整
両末端にシラノール塁を有するジメチルポリシロキサン
(数平均分子ff126.000>10部に炭化水素系
溶媒であるアイソパーEを10部加えて溶解し、これに
エチルトリアセトキシシラン1部、ジブチルスズアセテ
ート0.05部をそれぞれ添加混合し、−昼夜空温放置
した。その後ざらにメチルイソブチルケトン648部、
シクロへキサノン432部を加えてコーティング組成物
を得た。
(数平均分子ff126.000>10部に炭化水素系
溶媒であるアイソパーEを10部加えて溶解し、これに
エチルトリアセトキシシラン1部、ジブチルスズアセテ
ート0.05部をそれぞれ添加混合し、−昼夜空温放置
した。その後ざらにメチルイソブチルケトン648部、
シクロへキサノン432部を加えてコーティング組成物
を得た。
(6)撥水性を有する帯電防止物品の作製前記(4)に
よって得られた反射防止効果を有する帯電防止物品に前
記(5)で作製したコーティング組成物を引き上げ速度
20cut/分で浸漬コーテイング後、−昼夜室温乾燥
を行い、目的とする撥水性を有する帯電防止物品を得た
。得られた撥水性を有する帯電防止物品の反射干渉色は
緑色を呈し、表面反射率は1パーセントであった。
よって得られた反射防止効果を有する帯電防止物品に前
記(5)で作製したコーティング組成物を引き上げ速度
20cut/分で浸漬コーテイング後、−昼夜室温乾燥
を行い、目的とする撥水性を有する帯電防止物品を得た
。得られた撥水性を有する帯電防止物品の反射干渉色は
緑色を呈し、表面反射率は1パーセントであった。
(7) 試論結果
得られた撥水性を有する帯電防止物品の性能は、下記の
方法に従って試験を行った。結果は、第1表に示す。
方法に従って試験を行った。結果は、第1表に示す。
(イ)硬度
#0O00のスチールウールを用い、1.51(gの荷
重下で反射防止被膜表面を50回こすり、傷付き具合を
判定する。判定基準は、 A・・・傷がつかない。
重下で反射防止被膜表面を50回こすり、傷付き具合を
判定する。判定基準は、 A・・・傷がつかない。
B・・・多く傷が発生する。
(ロ)密着性
塗膜面に1履の基体に達するゴバン目を塗膜の上から鋼
ナイフで100個入れて、セロハン粘着テープ(商品名
゛セロテープ″ニチバン(即製)を貼りイ1け、90度
方向に急速にはがし、塗膜剥離の有無を調べた。
ナイフで100個入れて、セロハン粘着テープ(商品名
゛セロテープ″ニチバン(即製)を貼りイ1け、90度
方向に急速にはがし、塗膜剥離の有無を調べた。
(ハ)外観
肉眼にて反則干渉色およびその均一性、濁りなどを観察
した。
した。
(ニ)帯電防止性
20℃、30パーセンl−RHの温調室でレンズ表面を
鹿皮でこすり乾燥した灰の付着具合を判定した。
鹿皮でこすり乾燥した灰の付着具合を判定した。
A:灰が付着しない。
B:灰が付着する。
(ホ)水に対する静止接触角
接触角計(協和界面H学(即製、CA−D型)を使用し
、室温下で直径1.5#の水滴を針先に作り、これをレ
ンズの凸面の最上部に触れさせて、液滴を作った。この
時に生ずる液滴と而との角度を測定し、静止接触角とし
た。
、室温下で直径1.5#の水滴を針先に作り、これをレ
ンズの凸面の最上部に触れさせて、液滴を作った。この
時に生ずる液滴と而との角度を測定し、静止接触角とし
た。
(へ)耐汚染性テスト
水通水5威をレンズ凹面にしたたらI! N 空温雰囲
気下で48時間放置後、15で拭いた時の水垢が除去で
きた時を良好とし、除去できなかった時を不良とした。
気下で48時間放置後、15で拭いた時の水垢が除去で
きた時を良好とし、除去できなかった時を不良とした。
実施例2
実施例1において(5)のコーディング組成物および(
6〉の作製を下記の方法に変える以外はすべて同様に行
った。
6〉の作製を下記の方法に変える以外はすべて同様に行
った。
ヘキサメチルジシラザン10部、メチルイソブチルケト
ン10部からなる液を底部に入れた容器の中に実施例1
の(4)で19だ反射防止効果を有する帯電防止物品を
吊り下げ、メチルイソブチルケトン、ヘキサメチルジシ
ラザンの蒸気に30分間暴露し右はケイ素化合物処理を
行なった。
ン10部からなる液を底部に入れた容器の中に実施例1
の(4)で19だ反射防止効果を有する帯電防止物品を
吊り下げ、メチルイソブチルケトン、ヘキサメチルジシ
ラザンの蒸気に30分間暴露し右はケイ素化合物処理を
行なった。
比較例1
実施例2において反則防止膜の5na2をS i 02
/2rOpの混合物に変える以外はすべて同様に行っ
た。
/2rOpの混合物に変える以外はすべて同様に行っ
た。
比較例2
実施例1にa3いて、(1)〜(3)の操作による硬化
被膜を設けない以外はすべて同様に行った。
被膜を設けない以外はすべて同様に行った。
[発明の効果]
本発明によって得られる1發水性をOvる帯電防止物品
には、以下のような効果がある。
には、以下のような効果がある。
(1)撥水性があるために、雨滴が付いても容易に撮り
落とすことができ、また水垢などが付看した後、乾燥さ
れても容易に除去することができる。
落とすことができ、また水垢などが付看した後、乾燥さ
れても容易に除去することができる。
(2)反射防止性に優れている。
(3)湿度依存性がなく帯電防止性に優れている。
(4) 高い表面硬度を有する。
Claims (1)
- 透明基体の表面に硬化被膜を設け、さらに該被膜上にS
nO_2を主成分としてなる透明導電膜を少なくとも1
層含む、2層以上の反射防止被膜を設け、さらに該被膜
上に500Å以下の厚みを有する撥水性有機物を被覆さ
せてなることを特徴とする撥水性を有する帯電防止物品
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63140082A JPH01309003A (ja) | 1988-06-07 | 1988-06-07 | 撥水性を有する帯電防止物品 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63140082A JPH01309003A (ja) | 1988-06-07 | 1988-06-07 | 撥水性を有する帯電防止物品 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01309003A true JPH01309003A (ja) | 1989-12-13 |
JPH0461326B2 JPH0461326B2 (ja) | 1992-09-30 |
Family
ID=15260541
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63140082A Granted JPH01309003A (ja) | 1988-06-07 | 1988-06-07 | 撥水性を有する帯電防止物品 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01309003A (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07159602A (ja) * | 1993-12-02 | 1995-06-23 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルム及びその製造方法 |
US5622784A (en) * | 1986-01-21 | 1997-04-22 | Seiko Epson Corporation | Synthetic resin ophthalmic lens having an inorganic coating |
WO1997026566A1 (fr) * | 1996-01-18 | 1997-07-24 | Toyo Metallizing Co., Ltd. | Article optique en plastique a film anti-reflet multicouches |
US5759643A (en) * | 1987-01-16 | 1998-06-02 | Seiko Epson Corporation | Polarizing plate and method of production |
US5783299A (en) * | 1986-01-21 | 1998-07-21 | Seiko Epson Corporation | Polarizer plate with anti-stain layer |
JP2001021701A (ja) * | 1999-07-09 | 2001-01-26 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 帯電防止・反射防止膜付き透明フィルム |
US6942924B2 (en) | 2001-10-31 | 2005-09-13 | Chemat Technology, Inc. | Radiation-curable anti-reflective coating system |
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