CN102460224A - 光学制品及眼镜塑料镜片 - Google Patents

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Abstract

本发明提供光学制品及眼镜塑料镜片，所述光学制品及眼镜塑料镜片即使是具有静电的尘埃也难以附着、所附着的尘埃易于被除去。在光学制品基体上导入防污膜，以使得(1)静电电位的绝对值为2.00kV以下、(2)表面的剥离强度为0.10N/19mm以下。另外在光学制品基体与防污膜之间配置硬涂膜和光学多层膜。进一步地，将光学多层膜作为抗反射膜、将光学制品基体作为眼镜塑料镜片基体。

Description

光学制品及眼镜塑料镜片
技术领域
本发明涉及照相机镜头等光学制品以及眼镜塑料镜片。
背景技术
在塑料制造的光学制品中，容易由于静电而附着尘土或尘埃等污物，特别是对于眼镜镜片来说，擦拭频率会变高。另外，若在附着有尘埃的状态下进行擦拭等，则会带进尘埃，结果导致镜片表面产生划痕。在其它光学制品中，也认为尘埃的附着会对图像输出等产生影响。
因此，在现有技术中，尝试通过防止光学制品的带电来防止尘埃的附着。作为赋予抗静电性的方法，已知有如下述专利文献1、2中记载那样的设置具有导电性的涂层的方法。在专利文献1的方法中，在形成于基体上的硬涂层中含有具有导电性的氧化锡。并且，在专利文献2中，对于下述抗反射膜有所提及：该抗反射膜含有在氧化铟中添加5～10重量％(wt％)的氧化锡而形成的透明的导电性膜(Indium Tin Oxide膜，ITO膜)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开平5-104673号公报
专利文献2：日本特开平1-309003号公报
发明内容
发明所要解决的课题
若在光学制品中设置具有导电性的涂层，则即使进行擦拭等，表面电位也保持为零，与不带有这样的涂层而会带电的光学制品相比，不易吸引尘埃。但是，即使表面电位为零，相对于带电的尘埃也具有电位差，这样的尘埃可能会发生附着。
另外，尽管可通过设置具有导电性的涂层而使尘埃不易被吸引，但对暂且附着的尘埃来说，该涂层不能发挥出作用，并非为易于除去所附着的尘埃的见地。
因此，第1方面记载的发明的目的在于提供即使是具有静电的尘埃也难以附着、所附着的尘埃易于被除去的光学制品及眼镜塑料镜片。
用于解决课题的手段
为了达成上述目的，第1方面所记载的发明涉及光学制品，该光学制品的特征在于，其是通过在光学制品基体上形成防污膜而满足下述条件的光学制品：(1)静电电位的绝对值为2.00kV以下；(2)表面的剥离强度为0.10N/19mm以下。
第2方面所述的发明中，除了上述目的外，还要达成提供兼具强度、抗反射等光学特性和高水平防污性的光学制品的目的，因而其特征在于，对于上述发明，在所述光学制品基体上依次形成有硬涂膜和光学多层膜；在该光学多层膜上形成有上述防污膜。
第3方面所述的发明中，除了上述目的外，还要达成进一步赋予更高水平的防污性能的目的，因而其特征在于，对于上述发明，在上述光学制品基体与上述防污膜之间配置有导电性膜。
第4方面所述的发明中，除了上述目的外，还要达成提供下述光学制品的目的：该光学制品能够容易地形成防污膜、能够容易地调整剥离强度，因而其特征在于，对于上述发明，上述防污膜是通过涂布具有全氟聚醚基的硅烷化合物而形成的，所述硅烷化合物在以单体形成覆膜的情况下的剥离强度为0.10N/19mm以下。
第5方面所述的发明中，除了上述目的外，还要达成考虑到防污膜的形成的同时易于形成光学多层膜的目的，因而其特征在于，对于上述发明，上述光学多层膜为无机氧化物的多层膜。
第6方面所述的发明中，除上述目的外，还要达成提供与光学多层膜的匹配性良好、强度优异的光学制品的目的，因而其特征在于，对于上述发明，上述硬涂膜含有有机硅氧烷系树脂和无机氧化物微粒。
第7方面所述的发明中，为了达成提供属于上述光学性能乃至防污性能优异的光学制品的眼镜塑料镜片的目的，其涉及一种眼镜塑料镜片，该眼镜塑料镜片的特征在于，对于上述发明，上述光学制品基体为眼镜塑料镜片基体，上述光学多层膜为抗反射膜。
发明效果
本发明发挥出了下述的效果：通过按照(1)静电电位的绝对值为2.00kV以下、(2)表面的剥离强度为0.10N/19mm以下的方式导入防污膜，可以提供具有优异的防污性能的光学制品。
具体实施方式
下面对本发明的实施方式进行说明。另外，本发明的方式并不限于以下方式。
本发明中作为光学制品的一例的光学透镜在透镜基体的表面自透镜基体起依次具有硬涂膜、光学多层膜和防污膜。需要说明的是，可以在透镜基体表面与硬涂膜之间形成底涂层；或在透镜基体表面与硬涂膜之间、或硬涂膜与光学多层膜之间、或光学多层膜与防污膜之间等具备中间层等而将膜构成变更为其它构成。并且可以在透镜基体的背面或表背两面形成硬涂膜、光学多层膜等。
作为透镜基体的材质(基材)，可以举出例如聚氨酯树脂、环硫化物树脂、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、丙烯酸类树脂、聚醚砜树脂、聚4-甲基戊烯-1树脂、二甘醇双烯丙基碳酸酯树脂等。并且，作为折射率高的适当的材质，可以举出例如多异氰酸酯化合物与多硫醇和/或含硫多元醇加成聚合而得到的聚氨酯树脂；进一步地，作为折射率高的适当的材质，可以举出环硫化物基与多硫醇和/或含硫多元醇进行加成聚合而得到的环硫化物树脂。
并且，硬涂膜通过将硬涂液均匀施用至透镜基体而形成。作为硬涂膜的材质，例如可以使用含有无机氧化物微粒的有机硅氧烷系树脂；这种情况下的硬涂液是将有机硅氧烷系树脂和无机氧化物微粒溶胶作为主成分分散(混合)在水或者醇系溶剂中而进行调制的。
有机硅氧烷系树脂优选通过对烷氧基硅烷进行水解缩合来得到。作为烷氧基硅烷的具体例，可以举出γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、硅酸乙酯。这些烷氧基硅烷的水解缩合物通过利用盐酸等酸性水溶液对该烷氧基硅烷化合物或者它们的组合进行水解来制造。
另一方面，作为无机氧化物微粒的具体例，可以举出将氧化锌、二氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锆、氧化锡、氧化铍、氧化锑、氧化钨、氧化铈的各溶胶单独使用或2种以上进行混晶化而得到的微粒。对于无机氧化物微粒的尺寸，从确保硬涂膜的透明性的方面出发，优选为1～100纳米(nm)、更优选为1～50nm。另外，对于无机氧化物微粒的混合量，从确保硬涂膜中的硬度或强韧性的适当程度的方面考虑，优选在硬涂成分中占40～60wt％。
此外，在硬涂液中可以添加作为固化催化剂的乙酰丙酮金属盐、乙二胺四乙酸金属盐等，进一步地为了进行调整，也可以根据需要添加表面活性剂、着色剂、溶剂等。
硬涂膜的膜厚优选为0.5～4.0微米(μm)、更优选为1.0～3.0μm。关于该膜厚的下限，是由若比其薄则得不到充分的硬度来确定的。另一方面，关于上限，是如下确定的：若比其厚，则产生出现裂纹或易碎等与物性相关的问题的可能性会飞跃性地提高。
光学多层膜是通过真空蒸镀法或溅射法等使低折射率层与高折射率层交替层积而形成的，可以举出例如抗反射膜、镜、半透半反镜、ND过滤器、带通滤波片等。在各层中使用无机氧化物，作为无机氧化物可以举出例如氧化硅、或折射率高于氧化硅的氧化钛、氧化锆、氧化铝、氧化钇、氧化钽、氧化铪、氧化锡、氧化铌、氧化铈、氧化铟。并且可以使用亚化学计量氧化钛(TiOx，x＜2且接近于2)，也可以在至少1层中使用ITO膜。
防污膜为按照其表面的剥离强度为0.10牛顿(N)/19毫米(mm)的方式形成的膜。剥离强度为在将特定宽度的胶带充分进行压接后在180度方向以300mm/分钟(min)的速度进行剥离时的、每单位宽度的剥离所需要的平均负荷，其越小表示附着力越弱。
防污膜优选由具有全氟聚醚基的硅烷化合物形成，优选通过浸渍法涂布后进行固化来形成。该硅烷化合物是在以单体形成覆膜的情况下的剥离强度为0.10N/19mm以下的化合物。
实施例
按以下说明来制作实施例1～5作为属于本发明的光学制品的示例。并且，为了与实施例1～5进行对比，制作不属于本发明的比较例1～6。并且实施各种值的测定及尘埃附着试验等。在下述的[表1]中，示出了实施例1～5、比较例1～6的特性及试验结果等。
Figure BDA0000121172690000051
将实施例1～5和比较例1～6的透镜基体制成塑料制平面镜片；在实施例2、3和比较例2、3中使用折射率为1.70的环硫化物树脂，除这些以外使用折射率为1.60的聚氨酯树脂。
实施例2、3和比较例2、3中，在透镜基材的表面形成有底涂层。将封端型多异氰酸酯(日本聚氨酯工业株式会社制造的“CORONET 2529”)25重量份、聚酯多元醇(日本聚氨酯工业株式会社制造的“NIPPORAN 100”)18重量份、乙基溶纤剂100重量份进行混合，添加氧化锡与氧化钨的复合溶胶(甲醇分散溶胶，平均粒径10～15mm；对于氧化锡与氧化钨的比例，相对于前者为100重量份，后者为40重量份的比例；固体成分30％)140重量份、硅酮系表面活性剂0.15重量份，充分进行搅拌混合，调制底涂液。并且，在透镜基体上以100mm/min的提拉速度浸蘸该底涂液进行涂布。将涂布有该底涂液的透镜基体在120度加热30分钟来进行固化，形成膜厚为1.0μm的底涂膜。
接下来，在实施例1～5和比较例1～6中，形成硬涂膜。向反应容器中加入乙醇206克(g)、甲醇分散二氧化钛系溶胶300g(日挥触媒化成工业株式会社制造，固体成分30％)、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷60g、γ-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷30g、四乙氧基硅烷60g，向该混合液中滴加0.01N(当量浓度)的盐酸水溶液进行搅拌，进行水解。其后加入流动性调整剂0.5g(Dow Corning Toray株式会社制造的“L-7604”)和催化剂1.0g，在室温下搅拌3小时制备硬涂液。将该硬涂液利用浸蘸法进行涂布，在风干后以110度加热2小时来进行固化，形成膜厚2.0μm的硬涂膜。
接下来，形成各种抗反射膜。在实施例1、5和比较例1中，形成了5层的多层膜。将具有硬涂膜的透镜基体置于真空槽内，利用真空蒸镀法依次形成各层。对于层的材质，奇数层为二氧化硅，偶数层为氧化锆。对于各层的光学膜厚，自硬涂膜(透镜基材)侧起依次为0.214λ、0.080λ、0.071λ、0.389λ、0.236λ。此处，λ为设计中心波长，设定为λ＝500nm。
在实施例2和比较例2中，形成了7层的多层膜。与实施例1、5和比较例1同样地形成，对于各层的光学膜厚，自硬涂膜侧起依次为0.078λ、0.056λ、0.487λ、0.112λ、0.059λ、0.263λ、0.249λ。此处，设计中心波长设定为λ＝500nm。
在实施例3和比较例3中，形成了7层的多层膜。与实施例1、5和比较例1同样地形成，对于层的材质，奇数层为二氧化硅、偶数层为氧化钛；对于各层的光学膜厚，自硬涂膜侧起依次为0.074λ、0.061λ、0.113λ、0.180λ、0.061λ、0.168λ、0.273λ。此处，加入氧气进行压力调节以使氧化钛成膜时压力为0.010帕斯卡(Pa)。此处，设计中心波长设定为λ＝500nm。
在实施例4和比较例4中，形成了7层的多层膜。与实施例3和比较例3同样地形成，由硬涂膜侧数仅第4层为亚化学计量氧化钛，对于各层的光学膜厚，自硬涂膜侧起依次为0.074λ、0.061λ、0.113λ、0.185λ、0.061λ、0.168λ、0.273λ(设计中心波长设定为λ＝500nm)。此处，亚化学计量氧化钛通过在导入了真空度调节用氧气的真空腔室内进行亚化学计量氧化钛的蒸镀而形成，加入氧气进行压力调节以使成膜时压力为0.0050帕斯卡(Pa)。通过具备呈导电性的亚化学计量氧化钛层，可使其具备抗静电性。另外，作为导电性膜，可以采用ITO膜或ITO膜与亚化学计量氧化钛膜的组合等。
作为亚化学计量氧化钛的蒸镀材料，使用五氧化三钛(Canon Optron株式会社制造的“OS-50”)，通过如下所示的反应生成亚化学计量氧化钛的同时进行蒸镀，但也可以全部使用氧化钛。
Ti3O5+δO2→3TiOx
此处，TiOx的x的值(亚化学计量)可以通过导入至成膜时的真空腔室内(真空气氛)的氧气导入量来进行微调，并且成膜时的压力可以通过氧气导入量来确定。即，成膜时的压力越高，则氧气导入量越多，因而x接近于2；成膜时的压力越低，则氧气导入量越少，因而x小于2。
需要说明的是，真空腔室内的成膜时压力p(Pa)与亚化学计量氧化钛层的光学膜厚(折射率2.50、设计中心波长λ＝500nm)可以具有如下关系：(A)p≥0.005；(B)光学膜厚≤0.500λ；(C)光学膜厚≥(0.001exp(905.73p)-0.050)λ，exp为以自然对数底e为底的指数函数；若如此，则如下述[表2]所示，可使透过性(无着色性)优异、同时具备充分的抗静电性。并且，对于亚化学计量氧化钛层，可以通过利用氧离子和/或氩离子进行辅助的同时进行蒸镀来形成、或者可一边进行等离子体处理一边进行蒸镀来形成，这种情况下，可以形成品质更为优异的亚化学计量氧化钛层。进一步地，对于亚化学计量氧化钛层，可以作为抗反射膜(光学多层膜)中的其它位置的高折射率层来形成，也可以独立地作为亚化学计量氧化钛膜来形成。
Figure BDA0000121172690000081
即，对于[表2]中“光学膜厚”与“成膜时压力”交叉的栏中示为“-”以外的情况，以其光学膜厚和成膜时压力将单层的TiOx膜分别制作在带有硬涂膜的折射率为1.60的塑料制基体以及玻璃制基体的表面。此处，前者的塑料制基体上的TiOx膜是为了分析抗静电性能及有无外观着色而使用的。并且，后者的玻璃制基体上的TiOx膜是为了计算吸收率而使用的。
[表2]的“抗静电”一栏中示出了由静电电位测定和钢丝棉粉末附着状况而判断出的抗静电性能是否良好，良好的情况记为“○”、比较差的情况记为“×”；“着色”一栏中示出了由外观观察和吸收率计算结果判断出的透过性是否良好，良好的情况记为“○”、比较差的情况记为“×”。
上述(A)～(C)基于[表2]中抗静电性和透过性并存的范围来确定；特别是(A)如下确定：若光学膜厚超过0.500λ，则对TiOx膜中的光学特性(透过性等)带来影响；并且(C)是关于抗静电性和透过性并存的光学膜厚的下限值，(考虑到真空度的误差所致的折射率变化等所引起的误差±0.05λ)，是将以自然对数的底e为底的指数函数{光学膜厚＝(a·exp(b·p))λ}在误差最少的状态下(基于最小二乘法)进行拟合而确定的。并且，在满足(A)～(C)的情况下，即使在光学多层膜的至少1层中插入TiOx膜时，抗静电性和透过性也同样并存。需要说明的是，对于(C)，考虑到误差等，可以为光学膜厚≥(0.001exp(905.73p)-0.050)λ、或光学膜厚≥(0.001exp(905.73p)+0.050)λ等。另外，在成膜時压力为2.0×10-3Pa且光学膜厚为0.050λ时透过性和抗静电性并存，但在TiOx膜成膜时由光学式膜厚计确认到了光吸收，因而从该方面考虑，作为光学部件的性能差。
另外，在比较例5、6中，通过旋涂法形成了单层的有机抗反射膜。作为有机抗反射膜形成用的涂布液，使用以数种(组成)的含氟有机硅化合物为主成分的固体成分浓度为3％的溶液(信越化学工业株式会社制造的“X-12-2510A”)。从30mm的距离处对透镜基体凸面侧的硬涂膜表面进行20秒电晕处理后，将该涂布液以转速1300rpm(转/min)、旋转时间30秒进行旋涂处理来进行涂布，进一步在100度加热15分钟进行固化。加热固化后，对凹面侧进行与凸面侧同样的处理，在110度进行1小时固化，形成有机抗反射膜。
接下来形成3种防污膜。在比较例1～5中，形成如下说明的防污膜A。在实施例1～4和比较例6中，形成以下说明的防污膜B。在实施例5中，制作兼具以下说明的防污膜A、B双方的性质的防污膜。
防污膜A由下述防污处理液来形成，该防污处理液是将全氟聚醚型硅烷化合物(信越化学工业株式会社制造的“KY-8”)以氟系溶剂(住友3M株式会社制造的“NovecHFE-7200”)进行稀释，制成固体成分浓度为0.2％的防污处理液。将该处理液在形成有抗反射膜的透镜基体上以浸渍时间30秒、提拉速度180mm/min进行浸蘸来涂布，进一步在60度、湿度80％的恒温恒湿环境下进行固化，得到防污膜A。防污膜A的表面剥离强度为0.15N/19mm。此处，剥离强度是如下得到的：将胶带(日东电工株式会社制造的“No.31B”，宽度19mm)以20g/cm2压接24小时后，在180度方向以300mm/min进行剥离，对此时该胶带所附着的每单位宽度(19mm)的剥离所需要的负荷进行测定，求出其平均值，由此得到剥离强度。
对于防污膜B，是对全氟聚醚型硅烷化合物(信越化学工业株式会社制造的″X-71-166″)进行与防污膜A同样的处理而形成的。防污膜B的表面剥离强度为0.06N/19mm。
在实施例5中，将防污膜A、B的全氟聚醚型硅烷化合物依次以固体成分比例为7比3的比例(A/B＝7/3)进行混合，形成固体成分浓度为0.2％的处理液。然后进行与防污膜A同样的处理来形成。表面剥离强度为0.09N/19mm。
对于如此得到的各种光学制品进行静电电位的测定及尘埃附着试验。
静电电位的测定如下进行。即，使用无纺布(小津产业株式会社制造的“pure leaf”)，以1千克负荷对透镜凸面在10秒钟进行20次往复擦拭，然后立即对擦拭后的静电电位(千伏，kV)进行测定。测定使用静电测定器(Simco Japan株式会社制造“FMX-003”)进行。
对于静电电位的绝对值，在实施例1～4和比较例1～4的各示例中均未变化，在实施例1～4中稍低。另外，在实施例4、比较例4中，通过导入呈导电性的亚化学计量氧化钛层，静电电位为零、呈现出抗静电性。
尘埃附着试验如下进行。将各种光学制品顺次向加入有发泡苯乙烯珠(大致为球体，直径约为1.6mm)的聚丙烯制盘中仅加入1个，盖上盖后，摇10秒(往复约20次)。其后将光学制品轻轻地取出，确认发泡苯乙烯珠的附着情况。[表1]中的“○”表示几乎没有附着，“△”表示有一部分附着，“×”表示大致整个面有附着。并且，还求出了所附着的发泡苯乙烯珠所占的面积相对于光学制品整个表面的比例来作为发泡苯乙烯的附着率。
进一步地，作为尘埃附着试验，也进行了利用钢丝棉的试验。同样地使用无纺布对光学制品表面进行擦拭后，使该表面与粉碎得很细的钢丝棉接近，确认钢丝棉是否被透镜凸面所吸引。[表1]中的“○”表示没有附着，“△”表示有一部分附着，“×”表示大致整个面有附着。
并且，对各种光学制品，根据尘埃附着试验等进行综合评价。[表1]中的“○”表示发泡苯乙烯珠和钢丝棉这二者大致无附着、防止尘埃附着性(防污性)良好；“○-△”表示一者存在少许附着，防污性稍好；“△”表示一者确认附着，防污性比较差；“×”表示双方确认附着，防污性差。
需要说明的是，对各种光学制品确认了透过性，可见区域的反射率均在数％以下，并非为不透明的光学制品，在透过性方面没有问题。
根据以上所述，可知对于具有呈导电性的亚化学计量氧化钛层而静电电位低、且表面剥离强度充分低的实施例4来说，其在防污性方面最为优异。若静电电位只是低，则如比较例4所示，对于本身具有静电的发泡苯乙烯无法充分发挥出防污性。
另一方面，尽管静电电位稍高，但若如实施例1～3所示静电电位的绝对值为2.00kV以下，则钢丝棉只是稍稍被吸引，并且由于剥离强度低等，即使对于具有静电的发泡苯乙烯也能够发挥出防污性。进一步地，由于剥离强度低等，可以简单地除去所附着的钢丝棉或发泡苯乙烯，从这方面考虑防污性也优异。即，与仅配置高性能的抗静电膜(导电性膜)而使静电电位为零相比，使静电电位的绝对值为2.00kV以下的同时使剥离强度为0.10N/19mm以下的方式可以发挥出更高水平的防污性。
另外，即使剥离强度低，如比较例6所示若静电电位的绝对值大、超过2.00kV，则无法发挥出针对钢丝棉的防污性，即使对发泡苯乙烯也不那么能发挥出防污性。需要说明的是，对于所附着的钢丝棉或发泡苯乙烯，通过静电电位被吸引等而难以去除。
进一步地，如实施例5所示调整剥离强度为0.09N/19mm(静电电位的绝对值为2.00kV以下)，也能够对发泡苯乙烯和钢丝棉这二者发挥出防污性。需要说明的是，对于防污膜A、B的全氟聚醚型硅烷化合物，将固体成分比例依次替换为6/4等进行混合，分别制作表面剥离强度彼此不同的防污膜，同样地进行尘埃附着试验，结果可知，在静电电位的绝对值为2.00kV以下的情况下，若剥离强度为0.10N/19mm，则对双方均可充分发挥出防污性。
即，通过按照(1)静电电位的绝对值为2.00kV以下、(2)表面的剥离强度为0.10N/19mm以下的方式导入防污膜，可以赋予优异的防污性能。
并且，通过在基体和防污膜之间配置硬涂膜和光学多层膜，可以构成兼具强度、抗反射等光学特性和高水平防污性的光学制品。
进一步地，通过在基体和防污膜之间配置导电性膜，可以进一步赋予更高水平的防污性能。此处，若使导电性膜为光学多层膜的至少一层，则可使其进一步具备强度、抗反射等光学特性，在膜构成上也能够制成使光学多层膜兼具导电性膜的功能这样的高效的膜构成。并且，通过使导电性膜为亚化学计量氧化钛膜，可以简易地形成导电性膜，通过在上述(A)～(C)的条件下等来形成亚化学计量氧化钛膜，可以形成透过性优异且充分具备抗静电性的导电性膜。
并且，进一步地，通过由具有全氟聚醚基的硅烷化合物形成防污膜，可以容易地形成满足上述(1)、(2)的防污膜，还可以容易地调整剥离强度。
此外，由于上述光学多层膜为无机氧化物的多层膜，因而可以容易地形成光学多层膜，也可以提供与防污膜的匹配性良好、具备光学性能和防污性能双方的光学制品。
另外，由于硬涂膜由有机硅氧烷系树脂和无机氧化物微粒等形成，因而可以制成与光学多层膜的匹配性良好、强度优异的光学制品。
进一步地，通过将光学多层膜作为抗反射膜、将光学制品基体作为眼镜塑料镜片基体，可以提供具有抗反射性能且呈现优异的防污性能的眼镜塑料镜片。

Claims (7)

1.一种光学制品，其特征在于，其是通过在光学制品基体上形成防污膜而满足以下所示的条件的光学制品，
(1)静电电位的绝对值为2.00kV以下，
(2)表面的剥离强度为0.10N/19mm以下。
2.如权利要求1所述的光学制品，其特征在于，
在所述光学制品基体上依次形成有硬涂膜和光学多层膜，
在该光学多层膜上形成有所述防污膜。
3.如权利要求1或2所述的光学制品，其特征在于，
在所述光学制品基体与所述防污膜之间配置有导电性膜。
4.如权利要求1至3任意一项所述的光学制品，其特征在于，
所述防污膜是通过涂布具有全氟聚醚基的硅烷化合物而形成的，所述硅烷化合物是在以单体形成覆膜的情况下的剥离强度为0.10N/19mm以下的化合物。
5.如权利要求2至4任意一项所述的光学制品，其特征在于，
所述光学多层膜为无机氧化物的多层膜。
6.如权利要求2至5任意一项所述的光学制品，其特征在于，
所述硬涂膜含有有机硅氧烷系树脂和无机氧化物微粒。
7.一种眼镜塑料镜片，其特征在于，
其为权利要求2至6任一项所述的光学制品，所述光学制品基体为眼镜塑料镜片基体，所述光学多层膜为抗反射膜。
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