CN102449507B - 涂有包含基于氧化锡的导电薄膜的抗反射或反射涂层的光学制品及其制造方法 - Google Patents

涂有包含基于氧化锡的导电薄膜的抗反射或反射涂层的光学制品及其制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种具有抗静电性能和抗反射或反射性能的光学制品，其包括具有至少一个主要表面的基材，所述主要表面涂覆有抗反射或反射涂层，所述涂层包括至少一个导电层，所述导电层含有至少30重量％氧化锡(SnO2)，基于导电层的总重量，所述导电层通过离子辅助进行沉积，并且所述基材吸水率等于或大于0.6重量％，基于基材的总重量，在预干燥所述基材、然后将其在50℃下100％相对湿度和大气压力的腔室中储存800小时后测定该吸水率。

Description

涂有包含基于氧化锡的导电薄膜的抗反射或反射涂层的光学制品及其制造方法
本发明一般地涉及光学制品，尤其是镜片，其具有抗静电和抗反射或反射性能，其有利地不会由于受到抗静电处理而随着时间产生表观缺陷，以及涉及制造所述光学制品的方法。
已知的是，通过硬质涂层(抗磨和/或抗划痕涂层)，其一般基于聚硅氧烷，来保护眼科镜片的表面，不论它们是矿物的或有机的。还已知的是，处理眼科镜片，使得防止任何杂乱的或者不需要的反射光出现，其会干扰镜片佩戴者，和他们正在对话的人们。然后给镜片提供单层或多层的抗反射涂层，其一般由矿物材料制成。
当镜片在其结构中包含硬质抗磨涂层时，抗反射涂层一般被沉积到该抗磨层表面之上。此类堆叠通过硬化该体系，然后变脆，减低了冲击强度。在用有机玻璃制成的眼科镜片工业领域，这问题为大家所熟知。
为了克服该缺点，已经建议在有机玻璃镜片和抗磨硬质涂层之间提供一抗冲击底层。
还熟知的是，基本上用绝缘材料制成的光学制品倾向于使得它们的表面容易带上静电荷(摩擦起电)，尤其是在干燥条件下用擦拭布，一片合成泡沫或者聚酯来摩擦它们的表面进行清洁的时候。在它们的表面存在的电荷会产生静电场，其能够吸引好保留附近(数个厘米外)极低重量的物体，一般地，很小尺度的颗粒，诸如粉尘，并且只要电荷保留在制品上就总是有效。
为了减少或者抑制对颗粒的吸引，有必要减低静电场强度，即，减少制品表面的静电荷数目。这可通过使得电荷具有迁移性，例如通过插入产生"电荷载体(charge carrier)"的强迁移性的层，来实现。产生最强迁移性的材料是所谓的导电材料。因此，具有高电导率的材料使得电荷的快速散逸成为可能。
现有技术中揭示了，光学制品可通过在功能涂层堆叠中，往它们的表面引入至少一个导电层(或者"抗静电层"，两种表述可以互换使用)，来赋予抗静电性能。
所述抗静电层可形成功能性涂层堆叠体的外层，或者中间层(内层)，或可直接沉积到光学制品基材之上。将所述层结合到堆叠中为制品提供了抗静电性能，即使抗静电涂层插入到两个非抗静电涂层或基材之间。
在此使用的，"抗静电"指的是不保留和/或产生值得注意的静电荷的能力。在其表面之一用适当擦拭布进行摩擦之后，其不会吸引或者固定粉尘或者小颗粒的时候，该制品一般被认为具有可接受的抗静电性能。它能够迅速地散逸掉积累的静电荷，使得所述制品在擦拭后似乎变得更干净。
可使用各种定量测定材料的抗静电性能的方法。
材料的抗静电性常常与其的静电位(static potential)有关系。当材料的静电位(当材料未带电荷时进行测量)是0KV+/-0.1KV(绝对值)时，该材料被认为是抗静电的，另一方面当它的静电位不同于0KV+/-0.1KV(绝对值)，该材料被认为是带静电的。
根据另一方法，玻璃疏散静电荷的能力，所述静电荷通过与布进行摩擦或者任何适合产生静电荷的手段(例如电晕充电)来获得，可以通过测量将所述电荷散逸所需的时间来定量。因此，在本申请中，玻璃被认为是抗静电的，如果它的放电时间等于或小于500毫秒。静电玻璃可具有数十秒的放电时间，刚刚进行摩擦的静电玻璃因此可吸附周围的粉尘，在其电荷渐渐枯竭所需要的时间里。
已知的抗静电涂料包括至少一种抗静电剂，其一般是金属氧化物(半)导体，任选掺杂的，诸如铟-锡氧化物(ITO)，氧化锌。
铟-锡氧化物(ITO)是最流行的材料。其可以是铟-掺杂的氧化锡或锡-掺杂的氧化铟。最常用的材料一般是锡-掺杂的氧化铟，锡的用量为5到17重量％。
申请或专利EP0834092，DE3942990，DE4117257，US6,852,406，US2008/028984和US2002/018887公开了光学制品，尤其是眼科镜片，其提供有抗反射堆叠体，其实质上是矿物，包括在真空下沉积的矿物，透明的导电层，其基于二氧化钛，铟-锡氧化物(ITO)，氧化锌，氧化锡，等等。该ITO层在专利US6,852,406有描述，其一般由包括90％氧化铟和10％氧化锡的来源来形成。
专利WO2009/004222，以本申请人的名义申请，公开了具有抗反射性能的光学制品，其包括具有涂覆有抗反射涂层的至少一个主要表面的基材，所述抗反射涂层可包括至少一个导电层。这层优选包含金属氧化物，其选自铟，锡，锌氧化物和它们的组合，优选的材料是铟-锡氧化物(ITO)。
然而，包含基于ITO的抗静电层的抗反射涂层无法完全令人满意。
基于ITO的抗静电层，其缺点是，在可见光范围的吸收无法忽略，因此它们的厚度必须相对低，以便不会损害光学制品的透明度性能。因此，ITO层具有轻微过度黄色，当沉积到一些基材，诸如基材之上时，其对肉眼是可感觉到的，如果ITO层厚度超过6.5nm。
但是使用所述导电性抗静电层，尤其ITO层的主要缺点，在于在给光学制品提供抗反射和抗静电性能之后相对短的时期后，在光学制品上缺陷的发生，其也被称为外观缺陷(cosmetic defect)。此类缺陷对所述光学制品的市场推广是一个阻碍。取决于基材，这些缺陷或者最初就出现，或者在眼科镜片使用中，有时在几天到数个月的时间之内或者之后，逐渐出现。此类缺陷以点或者线的形式出现在制品表面。
导电层一般通过离子辅助沉积来进行沉积。本发明人已经发现，所述离子辅助的沉积可显著地增加缺陷的发生率。
外观缺陷问题的发生并未在前述任一文献中有所讨论。
因此，本发明的一个目的是提供透明光学制品，尤其是镜片，其具有抗静电和抗反射或反射性能，任选抗磨和/或抗划痕和/或抗冲击性能，但是其不会随时间而产生外观缺陷，并且保持在涂层的各种层之间突出的粘附性能。
本发明的另一个目的是提供一光学制品，其具有随着时间稳定的抗静电性能。
本发明的进一步目的是提供一种制备上述定义的制品的方法，其可容易地与常规方法进行整合，来制备所述制品，同时避免任何基材加热步骤。
本发明人已经确定，解决该技术问题与形成抗静电层的材料性质和选择特定的材料有关。该问题不能通过改进堆叠体内部抗静电涂层的位置来解决。
本发明人还已经确定了一旦它们涂覆上抗静电抗反射(或反射)涂层后倾向于发展这类缺陷的基材的特性，以及哪种基材无论抗静电层的性质如何不会有这类缺陷。
本发明强调了这样的事实，即使用抗反射或反射涂层，一些基于SnO2的抗静电层，不会引起在基材上可见的外观缺陷，该基材吸水率大于0.6重量％，并因此保持了所述涂层的透明度，尤其是随着时间的透明度，因此阻止了其被损坏。
根据本发明设定目标的目的在于，一种具有抗静电性能和抗反射或反射性能的光学制品，其包括具有至少一个主要表面的基材，所述主要表面带有抗反射或反射涂层，所述涂层包括含有至少30重量％，优选至少40重量％和更优选至少50重量％氧化锡(SnO2)的至少一个导电层，基于导电层的总重量，所述导电层通过离子辅助沉积进行沉积，并且所述基材吸水率等于或大于0.6重量％，基于基材的总重量，在预干燥所述基材、然后将其在50℃下100％相对湿度和大气压力的腔室中储存800小时后，测定该吸水率。
本发明还涉及一种制造所述光学制品的方法，其至少包括：
-提供包含带有至少一主要表面的基材的光学制品，所述基材具有等于或大于0.6重量％的吸水率，基于基材总重量，吸水率按照上文所述进行测量；
-将抗反射或反射涂层沉积到所述基材的主要表面之上，所述涂层包括至少一个导电层，包括至少30重量％氧化锡(SnO2)，基于导电层的总重量，所述导电层通过离子辅助沉积来进行沉积，
-获得包含基材的光学制品，所述基材的主要表面已经涂覆有包含导电层的抗反射或反射涂层。
说明书的剩下部分基本上涉及抗反射涂层，也适用于反射涂层，细节上已作必要改动。本发明仍然优选适用于抗反射涂层。
本申请中，当光学制品在其表面包含一层或多层涂层时，所使用的短语"在制品上沉积层或涂层"指的是层或涂层沉积在制品外涂层的外(暴露)表面上，即，最远离基材的涂层。
在所述基材"上"或沉积在基材"上"的涂层，是指这样的涂层：(i)位于基材上方，(ii)不一定与基材接触，即在基材和所述涂层之间可能沉积有一层或多层中间涂层，和(iii)不必完全覆盖基材。当"层1位于层2下方"时，指的是层2比层1距离基材远。
根据本发明制备的光学制品包含基材，优选透明基材，具有主要正面和背面，其中所述主要面中的至少一个包含抗反射涂层，优选两个主面均包含。
在此使用的，基材的背面(一般是凹面)指的是当使用制品时，最接近佩戴者眼睛的面。相反地，基材的正面(一般是凸面)指的是当使用制品时，最远离佩戴者眼睛的面。
虽然本发明的制品可以是任何光学制品，诸如屏幕或镜子，这优选是光学镜片，更优选眼科镜片，或者光学镜片毛坯或眼科镜片毛坯。该镜片可以是偏振的，着色的或光致变色的镜片。优选地，本发明的眼科镜片具有高透射率。
本发明的抗反射涂层可以在裸露基材即非涂敷的基材的至少一个主要面上形成，或者在早已涂覆上一种或多种功能性涂层的基材的至少一个主要面之上形成。
用于本发明的光学制品的基材必须为有机玻璃，例如热塑性塑料或热固塑料材料。
它应具有等于或大于0.6重量％的吸水率，基于基材总重量，优选等于或大于0.7重量％，在预干燥所述基材并将其在50℃，100％相对湿度和大气压力下的腔室中进行储存800小时之后，测定该吸水率。本发明人确实已经观察到，在上文所述的测试条件下的吸水率低于0.6重量％的基材不导致外观缺陷的形成。
基材吸水率的测定需要本领域技术人员熟知的常规程序，并且可以容易地实施。它们在下文的实验部分中详细描述。
用于本发明的光学制品的基材可选自下列材料家族，只要它们满足上文提及的吸水率特性：(甲基)丙烯酸(共)聚合物，尤其聚(甲基丙烯酸甲酯)(PMMA)，硫基(甲基)丙烯酸(共)聚合物，聚乙烯醇缩丁醛(PVB)，聚氨酯(PU)，聚(硫代氨基甲酸酯)，多元醇烯丙基碳酸酯(共)聚合物，热塑性乙烯/乙酸乙烯酯共聚物，聚酯诸如聚(对苯二甲酸乙二醇酯)(PET)或聚(对苯二甲酸丁二醇酯)(PBT)，聚环氧化物，聚碳酸酯/聚酯共聚物，环烯烃共聚物诸如乙烯/降冰片烯或乙烯/环戊二烯共聚物，以及它们的组合。当然这些基材可通过单体混合物的聚合来获得，或者可包含所述聚合物或者共聚物的混合物。
特别优选的基材种类包括聚(硫代氨基甲酸酯)，聚环硫化物和由亚烷基二醇双烯丙基碳酸酯的聚合或者共聚合而得到的树脂，只要它们具有等于或大于0.6％的吸水率。
适用于本发明的基材实例包括得自和的树脂(热固性聚硫代氨基甲酸酯树脂)的那些。基于聚硫代氨基甲酸酯树脂的各种基材已经由Mitsui Toatsu Chemicals company销售，这些基材以及用于它们制备的单体在专利US4,689,387，US4,775,733，US5,059,673，US5,087,758和US5,191,055中有特别描述。
通过二乙二醇双烯丙基碳酸酯的(共)聚合而获得基材也同样适合(镜片ESSILOR)。作为合成基础的单体，例如，以PPG Industriescompany的商品名来进行销售。
不用于本发明的基材实例，因为它们的吸水率比0.重量6％低得多，是矿物基材(二氧化硅型玻璃)，基材，基于聚环硫化物树脂，和基于双酚A均聚碳酸酯树脂的基材，尤其是TEIJIN公司的商品名为的产品，GENERAL ELECTRIC COMPANY的商品名的产品，BAYER公司商品名的产品，MOBAY CHEMICHAL Corp.商品名的产品，和DOW CHEMICAL Co.公司的商品名的产品。
在沉积该抗静电涂料到基材上之前，常见的是，对所述基材表面进行化学或物理活化预处理，其用于增加抗反射涂层的粘附。这预处理一般在真空下进行，并由用能量物质和/或反应活性物质进行轰击组成，例如用离子束("离子预清洗"或"IPC")或用电子束，电晕放电处理，离子散裂，紫外线处理或在真空中等离子处理，典型地用氧或氩气类型的等离子处理。它可同时是酸或碱性处理和/或溶剂基表面处理(水或任何有机溶剂)。可以组合使用这些方法中的多种。所述清洗处理使得优化基材表面的清洁度和反应性成为可能。
如在此使用的，能量(和/或反应活性)物质尤其指的是具有能量范围为1到300eV的离子物质，优选从1到150eV，更优选从10到150eV，并且更优选从40到150eV。能量物质可以是化学物质，诸如离子，自由基或诸如光子或电子的物质。
对基材表面的最优选的预处理法为使用离子枪来进行离子轰击，离子是由抽走一个或者多个电子形成的气体原子构成的粒子。氩(Ar+离子)优选用作电离气体，但也可使用氧，或者它们的组合，加速电压范围典型地为50到200V，在活化表面上的电流密度范围典型地为从10到100μA/cm2，并且典型地在真空室内，残余压力为8.10-5毫巴到2.10-4毫巴。
本发明的光学制品包括抗反射(或反射)涂层，优选在抗磨涂层上形成。
除了其含有的一个或者多个基于氧化锡的层外，抗反射或反射涂层可以是任何常规用于光学器件领域的抗反射或反射涂层，尤其在眼科光学器件领域。
抗反射涂层定义为一种涂层，其沉积在光学制品表面，改进光学制品成品的抗反射性能。在可见光谱的相对大的范围内，它能够减低制品-空气界面的光反射。
反射涂层获得了相反的效果，即其提高了光线的反射。此类型涂层，例如，用于在太阳镜上获得镜子的效果。抗反射或反射涂层也可具有一个或多个在可见光谱进行吸收的层，其导致光学制品适用于墨镜。
众所周知，抗反射涂层传统上包括介电材料组成的单层或多层堆叠体。这些优选是多层涂层，包括高折射率(HI)的层和低折射率(LI)的层。
反射涂层由与抗反射涂层同类性质的层组成，但其折射率，数量和层厚度经过选择使得该涂层具有反射效果，这是本领域技术人员熟知的。
在本申请，在抗反射堆叠体中的层，当其折射率高于1.55时，被认为是高折射率层，优选高于或等于1.6，更优选高于或等于1.8，并且更优选高于或等于2.0。在抗反射堆叠体中的层，当其折射率低于或等于1.55时，被认为是低折射率层，优选低于或等于1.50，更优选低于或等于1.45。除另有说明，在此涉及的折射率在25℃，波长550nm下测定。
在本领域中熟知，HI层是传统的高折射率层。它们典型地包括一种或多种矿物氧化物诸如，非限定性地，二氧化锆(ZrO2)，二氧化钛(TiO2)，五氧化二钽(Ta2O5)，氧化钕(Nd2O5)，氧化镨(Pr2O3)，钛酸镨(PrTiO3)，La2O3，Dy2O5，Nb2O5，Y2O3。在本发明的一个实施方案中，本发明的基于SnO2的层在抗反射涂层中形成HI层。优选的材料是TiO2，PrTiO3，ZrO2，SnO2和它们的组合。
在本发明的一个特定实施方案中，抗反射涂层的至少一个HI层是基于TiO2的层，其高折射率特别重要。它优选通过离子辅助沉积(ion-assisteddeposition，IAD)来进行沉积，这增加了该层的压缩，并且由此增加了折射率。
在本发明的另一个特定实施方案中，抗反射涂层的至少一个HI层是基于PrTiO3的层，其高耐热性特别重要。
LI层也是众所周知的，其可包括，非限定性地，SiO2，氟化镁，ZrF4，氧化铝(Al2O3)，少量的，AlF3，锥冰晶石(Na3[Al3F14])，冰晶石(Na3[AlF6])，和它们的组合，优选SiO2或用氧化铝掺杂的SiO2，其促进了抗反射涂层的耐热性的提高。也可使用SiOF层(用氟掺杂的SiO2)。
当使用包括SiO2和Al2O3的混合物的LI层时，这优选包括从1到10重量％，更优选从1到8重量％，甚至更优选从1到5重量％的Al2O3，基于在该层中SiO2+Al2O3的总重量。过高量的氧化铝对AR涂层的粘附是有害的，并会过分提高该层的折射率。在一个优选的实施方案中，抗反射涂层的至少一个LI层包含SiO2和Al2O3的混合物，优选由SiO2和Al2O3的混合物组成。
本发明的一个优选实施方案在于，在本发明的抗反射涂层中使用一个或多个包含SiO2和Al2O3的混合物的LI层，其能够获得同时具有抗静电和改进的临界温度的抗反射涂层，即，当温度升高时，具有良好的抗碎裂性。
本发明人已经注意到，在本发明的堆叠体中，含有SiO2和Al2O3混合物的一个或多个LI层的存在能够有助于，甚至非常显著地促进外观缺陷的发生。本发明人发现，优选的是，在所述混合的SiO2/Al2O3层的沉积过程中，往沉积室中引入气体，优选稀有气体，诸如氩，氙，氪，氖或氧，或者它们两种或者多种的混合物，来将所述混合的SiO2/Al2O3层进行沉积。
因此，本发明提供了优选的抗反射涂层，其包括至少一个导电层和至少一个SiO2/Al2O3低折射率层，所述导电层包含至少30重量％的SnO2，所述SiO2/Al2O3低折射率层在所述沉积时在真空室中在气体供应下进行沉积。
在SiO2/Al2O3层的沉积过程中，此类气体的供应使得能够在沉积室内调整压力。在一种或多种气体的供应过程中，在室内推荐的压力范围典型地为5.10-5毫巴到3.10-4毫巴，优选1.10-4到3.10-4毫巴，更优选1.5.10-4到3.10-4毫巴。
此类气体供应不同于离子轰击诸如离子辅助沉积(IAD)，并且也不同于蒸发诸如SiO2和Al2O3的材料的步骤。
一般地，HI层的物理厚度为从10到120nm，LI层的物理厚度为10到100nm。
优选地，抗反射涂层总厚度低于1微米，更优选低于或等于800nm，甚至更优选低于或等于500nm。抗反射涂层总厚度典型地高于100nm，优选高于150nm。
还更优选的是，抗反射涂层包括至少两个低折射率层(LI)和至少二个的高折射率层(HI)。优选地，抗反射涂层中，层的总数低于或等于8，更优选低于或等于6。
HI层和BI层不需要在抗反射涂层内部交替排列，虽然根据本发明的一个实施方案它们也可以如此。两个HI层(或更多)可相互沉积在彼此上，而且两个LI层(或更多)可相互沉积在彼此上。
在本发明的一个实施方案中，该抗反射涂层包括下层。在那种情况下，它典型地形成在层沉积给定顺序中的抗反射涂层的第一层，也就是说，抗反射涂层的接触其下的涂层(典型地是抗磨和抗划痕涂层)或基材的层，当抗反射涂层直接沉积在基材上的时候，除了在本发明的基于氧化锡的层形成了抗反射涂层的第一层的特定情况下。
如在此使用的，抗反射(或反射)涂层的下层，或者粘附层，指的是，具有相对高的厚度的涂层，用于改进所述涂层的抗磨和/或抗划性，和/或促进它们对基材或者对其下的涂层的粘附。
考虑到它的比较高的厚度，该下层典型地不参与抗反射(或反射)光学活性，特别是当其具有接近裸露基材的折射率时，如果下层沉积在裸露基材之上，或者当其具有接近涂层的折射率时，如果下层沉积在涂覆的基材之上。在下面说明书中，为了区别下层和沉积在该下层上的抗反射涂层的层，将后者称为光学层，与不形成提供光学效应的层的下层相对。
该下层应具有足够的厚度来促进抗反射涂层的抗磨性，但优选不会高到引起光吸收的程度，光吸收取决于下层的性质，应该会显著地降低光透射率τv。
该下层优选包括基于SiO2的层，其厚度优选高于或等于75nm，更优选高于或等于80nm，更优选高于或等于100nm，甚至更优选高于或等于150nm。它的厚度一般低于250nm，更优选低于200nm。在一个特定实施方案中，该下层由SiO2层组成。
该基于SiO2的层可包括，除了二氧化硅之外，一种或多种传统上用于制造下层的其它材料，例如一种或多种选自本说明书前述的介电材料的材料。
优选地，使用单层型的下层。然而，该下层可以是层压材料的(多层的)。在本发明范围内，适用的下层在申请WO2008/107325和WO2009/004222中有更纤细的描述，在此引入作为参考。
抗反射涂层的各种层(其中包括抗静电层)优选通过真空下沉积来进行沉积，根据下列任一种方法：i)通过任选离子束辅助的蒸发；ii)通过离子束溅射；iii)通过阴极溅射；iv)通过等离子体辅助的化学蒸气沉积。这些各种方法分别在1978和1991的"Thin Film Processes"和"Thin Film ProcessesII"，Vossen & Kern，Ed.，Academic Press中有所描述。最推荐的方法是真空下蒸发。
优选地，抗反射涂层每一层的沉积在真空下通过蒸发进行。
有可能的是，用能量物质、诸如前述定义的来进行处理步骤，伴随着进行一种或者多种不同层的沉积来形成抗反射涂层。
离子辅助的沉积方法或"IAD"尤其在专利申请US2006/017011和在专利US5,268,781有所描述。它不需要任何对基材的加热，这对涂覆热敏感的基材诸如有机玻璃的基材是重要的。
离子辅助蒸发，由如下组成：将材料的层通过同时用离子枪产生的离子束轰击基材表面通过真空下的蒸发来沉积到基材之上，离子是由抽取一个或者多个电子的气体原子制成的颗粒。离子轰击导致在沉积过程中在层中的原子重排，其允许了在其形成过程中其自身的沉降。除了致密化之外，IAD允许改进沉积层的粘附并且增加了它们的折射率。
它优选由如下组成：用氧离子轰击被处理的表面，其在活化表面的电流密度典型地从10到200μA/cm2，优选从30到100μA/cm2，典型地在真空室内的剩余压力为6.10-5毫巴到2.10-4毫巴，优选8.10-5毫巴到2.10-4毫巴。其它电离气体可以与氧一起使用或者不与氧一起使用，例如氩气，氮气，尤其是O2和氩气的体积比2:1到1:2的混合物。
任选地，在沉积下一层之前，对一个或者多个抗反射涂层的表面进行化学或物理活化处理，尤其是当存在时，对该涂层的倒数第二层的表面和/或下层的表面进行处理。
化学或物理活化处理选自基材可以进行的并且其已经在上文提及的预处理。优选的预处理是离子轰击。通常在真空下，通过使用例如离子枪生成的氩离子束来进行，其典型地使得一方面改进抗反射涂层的抗磨性、另一方面增强它的粘附性能成为可能。
适用的抗反射涂层及它们的制备方法在专利WO2009/004222中有更详细的描述，其在此引入作为参考。
本发明的制品通过往抗反射涂层中引入至少一个导电层来给予抗静电性能，所述导电层包括至少30重量％，优选至少40重量％，更优选至少50重量％的氧化锡(SnO2)，基于该导电层的总重量。在本申请中，该层通常被称为"基于氧化锡的层"。
优选地，氧化锡相对于导电层的重量比高于或等于下列值之一：70％，75％，80％，90％，95％，97％，99％，99.5％，99.9％，99.95％。最优选地，该导电层由SnO2层组成。
本发明的所述基于氧化锡的层可包括其它组分，尤其是金属氧化物，尤其是导电性金属氧化物，其优选是高度透明的。它尤其可以包括二氧化钛和/或氧化锌。
优选地，本发明的导电层不包括铟，无论以何种形式，例如金属铟或氧化铟。
导电层可在抗反射涂层内部各种位置上提供，只要不影响其抗反射性能。它可例如沉积到下层(当存在时)之上，即，在下层和抗反射涂层的另一个层之间插入。它也可沉积到下层(当存在时)之下，即，在下层和基材之间插入，所述基材任选涂有功能性涂层。更一般地，它可以形成抗反射涂层的第一层(以沉积顺序)，就是说，直接沉积到基材上，所述基材任选涂有功能性涂层。它优选位于抗反射涂层的两个光学介电层之间，和/或在抗反射涂层的低折射率光学层之下。在本发明的最优选实施方案中，该基于SnO2的层为抗反射涂层在堆叠体顺序中的倒数第二层，所述抗反射涂层的最后一层优选是LI层。
在本发明的一特定实施方案中，所述基于SnO2的层不是抗反射涂层的最后一层(外层)。在本发明的另一个特定实施方案中，所述基于SnO2的层不是抗反射涂层的第一层。
该导电层应该足够薄，使得不会改变抗反射涂层的透明度。一般地，它的厚度为0.1到150nm，更优选从0.1到50nm。低于0.1nm的厚度典型地不允许获得足够的导电性，而高于150nm的厚度典型地不允许获得所需要的透明度和低吸收性能。一般地，它的厚度优选为0.1到30nm，更优选从1到20nm，甚至更优选从1到15nm。在本发明的一个实施方案中，所述导电层厚度高于或等于6nm。在本申请中的任何厚度指的是物理厚度。
一般地，基于SnO2的导电层有助于获得抗反射性能，尤其在不位于任选的下层之下，并在抗反射涂层中形成高折射率层(折射率约2)的时候。
根据本发明的一个基本特征，导电层的沉积在离子辅助下进行，该技术在前文已经描述为用来降低基于SnO2的层在可见光中的吸收和获得良好的粘附。
本发明人注意到，在沉积具有足够SnO2量的导电层时，可以增加离子轰击力，而不会显著提高随后产生的外观缺陷发展的出现次数，相反地，所述离子轰击力的增加典型地导致收到所述轰击的层的外观缺陷的强烈增加，特别是基于导电性金属氧化物的导电层。尤其有利地，该抗反射涂层包括，除至少一个、优选仅一个给制品提供抗静电性能的导电层之外，至少四个介电层(dielectric layers)，优选四个或五个。
在一个优选的实施方案中，本发明的抗反射涂层包括，以沉积到任选涂覆的基材表面的顺序表示，ZrO2层，厚度范围典型地从10到40nm，优选从15到35nm，SiO2层或SiO2/Al2O3层，厚度范围典型地从10到40nm，优选从15到35nm，ZrO2层或TiO2层，厚度范围典型地从40到150nm，优选从50到120nm，本发明的基于SnO2的层，优选SnO2层，厚度范围典型地从4到25nm，优选从5到20nm，以及SiO2层或SiO2/Al2O3层，厚度范围典型地从40到150nm，优选从50到100nm。
该抗反射涂层可以直接沉积到裸露基材之上。在一些应用场合中，优选的是，在沉积本发明抗反射涂层之前，在基材主要表面上涂覆一个或多个功能性涂层。这些功能性涂层传统地用于光学器件，其可以是，非限定性地，抗冲击底层，抗磨和/或抗划痕涂层，偏振涂层，光致变色涂层或着色涂层，尤其是涂有抗磨和/或抗划痕层的抗冲击底层。
该抗反射涂层优选沉积到抗磨和/或抗划痕涂层之上。该抗磨和/或抗划痕涂层可以是任何传统上用作眼科镜片的抗磨和/或抗划痕涂层的层。
抗磨和/或抗划痕涂层优选是硬质涂层，其基于聚(甲基)丙烯酸酯或硅烷，典型地包含一种或多种矿物填料来提高硬化后涂层的硬度和/或折射率。如在此使用的，术语"(甲基)丙烯酸酯"指的是甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯。
抗磨和/或抗划痕硬质涂层优选从这样的组合物制备，即其包含至少一种烷氧基硅烷和/或其水解产物，其例如这样地获得，即通过用盐酸溶液进行的水解，任选的缩合和/或固化催化剂和/或表面活性剂。
在本发明推荐涂层中，可以提到的是基于环氧基硅烷水解产物的涂层，诸如在专利EP0614957，US4,211,823和US5,015,523中提及的那些。
可使用的许多缩合和/或固化促进剂的实例在"Chemistry andTechnology of the Epoxy Resins"，B.Ellis(Ed.)Chapman Hall，New York，1993和"Epoxy Resins Chemistry and Technology"2d版，C.A.May(Ed.),Marcel Dekker，New York，1988中进行过描述。
优选的抗磨和/或抗划痕涂料组合物是在本申请人名下专利EP0614957公开的那个。在实验部分将对其进行描述。
该抗磨和/或抗划痕涂料组合物可以通过浸涂或者旋涂来沉积到基材的主要表面上。其后，以适当的方式进行固化(优选使用热处理或者UV处理)。
抗磨和/或抗划痕涂层的厚度典型地是2到10μm，优选从3到5μm。
在沉积该抗磨和/或抗划痕涂层之前，有可能的是，沉积一底涂层到基材之上，由此改进成品的此后的层的抗冲击性和/或粘附性。
该涂层可以是任何传统上用于透明聚合物材料的制品如眼科镜片上的抗冲击底层。
优选的底层组合物包括基于热塑性聚氨酯的组合物，诸如专利JP63-141001和JP63-87223描述的那些，聚(甲基)丙烯酸底层组合物，诸如专利US5,015,523描述的那些，基于热固性聚氨酯的组合物，诸如专利EP0404111描述的那些，和基于聚(甲基)丙烯酸胶乳或聚氨酯胶乳的组合物，诸如专利US5,316,791和EP0680492描述的那些。
优选的底层组合物是基于聚氨酯的组合物和基于胶乳的组合物，尤其是聚氨酯胶乳和聚(甲基)丙烯酸胶乳，以及它们的组合。
聚(甲基)丙烯酸胶乳是基于基本上由(甲基)丙烯酸酯，诸如例如乙基(甲基)丙烯酸酯，丁基(甲基)丙烯酸酯，甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯或乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯，与一般较低量的至少一种其它共聚单体，诸如例如苯乙烯制成的共聚物的胶乳。
适用于本发明的市购底层组合物包括232，234，240，242组合物(由BAXENDENCHEMICALS销售)，R-962，R-972，R-986和R-9603(由ZENECA RESINS销售)。
这些底层组合物可以通过浸涂或者旋涂来沉积到制品表面，然后在至少70℃和至多100℃下，优选约90℃下干燥2分钟到2小时，典型地约15分钟，来形成具有固化后厚度为从0.2到2.5μm，优选从0.5到1.5μm的底层。
本发明的光学制品也可包括在抗反射涂层上形成的涂层，其可改进其表面性能，诸如疏水性和/或疏油性涂层(防污外涂层)。这些涂层优选沉积到抗反射涂层的外层之上。它们的厚度一般低于或等于10nm，优选从1到10nm，更优选从1到5nm。
典型涂层是氟化硅烷或者氟化硅氮烷类型。它们可由沉积氟化硅烷或氟化硅氮烷前体，其每分子包括优选至少两个可水解的基团，来获得。氟化硅烷前体优选包括氟化聚醚基团，更优选全氟聚醚基团。这些氟化硅烷是熟知的，并且在US专利N°5,081,192，5,763,061，6,183,872，5,739,639，5,922,787，6,337,235，6,277,485和欧洲专利N°0933377中有所描述。
优选的疏水性和/或疏油性涂料组合物是Shin-Etsu Chemical销售的，商品名为另一优选的疏水性和/或疏油性的涂料组合物由Daikin Industries销售，商品名OPTOOL它是氟化树脂，其包括全氟化丙烯基团。
典型地，本发明的光学制品包含依次用抗冲击底层，抗磨和/或抗划痕涂层，本发明的抗反射(或反射)和抗静电涂层和疏水性和/或疏油性涂层进行涂覆的基材。
与包含基于诸如ITO，氧化铟或氧化锌的材料的抗静电层的具有抗反射性能的光学制品相比，在抗反射涂层中使用基于氧化锡的层具有许多优点。实际上，ITO层，氧化铟(In2O3)层，氧化锌层或掺杂的氧化锌层，当在抗反射涂层中存在时，全部都会引起外观缺陷，所述抗反射涂层沉积在本发明的基材上，其吸水率等于或者大于0.6重量％，而这不是适用于本发明的基于SnO2的层的情况。
另外，作为一个缺点，基于ITO的抗静电层在可见光谱上的吸收远远超过相同厚度的SnO2层，由于它较高的黄色指数。对于相对较小的厚度的层，此类缺陷可以强烈地感觉到，当基材在边缘进行肉眼观察时，厚度约为13nm的ITO层典型地感觉到黄色，尽管进行了离子辅助沉积，而50nm厚度的SnO2层仍然是透明的。
用非常透明的SnO2层替换传统的包含约5％SnO2的ITO层，导电性材料得到了相同抗静电性能，并且保持了光学性质，尤其是光学制品的透明度。
另外，本发明的涉及氧化锡的方法可以更容易地进行控制，相比涉及ITO的相应方法而言，由此改进了生产能力。
本发明的抗反射涂层的各层具有良好的粘附性能，尤其在基材界面。对抗反射涂层的基材的粘合性能，整体上已经通过通常称为"n×10计数"的测试进行校核，按照WO专利WO99/49097中所描述的程序进行。
优选地，本发明的光学制品在可见光谱不会吸收，或者极少吸收，这意味着，根据本发明，其可见光透射系数τV，也称为可见光透射率，大于90％，更优选大于95％，更优选大于96％和最优选大于97％。
系数τV对应于国际标准定义(ISO13666标准：1998)，并且根据ISO8980-3标准进行测定。其在从380到780nm波长范围内进行定义。
优选地，根据本发明进行涂覆的光学制品的光吸收率低于或等于1％。
更优选地，对于涂覆有本发明的抗反射涂层的制品，在可见光谱(400-700nm)的平均反射系数，标记为Rm，为制品每面低于2.5％，更优选制品每面低于2％，更优选制品每面低于1％。在一个特别优选实施方案中，包含基材的制品，其两个主要表面涂有本发明的抗反射涂层，具有Rm总值(两面的累积反射)低于1％，优选0.7到0.8％。对于本领域技术人员而言，实现所述Rm值的手段是熟知的。
本发明抗反射涂层的光折射系数Rv，制品每面低于2.5％，更优选每面低于2％，更优选每面低于1％，更优选≤0.75％，更优选≤0.5％，最优选≤0.4％。
在本申请中，"平均反射系数"Rm(在整个400-700nm可见光谱中的光谱反射率平均值)和光折射系数Rv，按照ISO13666:1998标准来定义，并且根据ISO8980-4标准来测定。
本发明的光学制品的放电时间(也就是，静电荷散逸所需时间)≤500毫秒。本发明光学制品甚至能够达到放电时间≤200毫秒，更优选≤100，甚至更优选≤75毫秒。有利地，它们的抗静电性能随着时间是稳定的，这意味着上述提及的与放电时间有关的特性，在光学制品生产之后至少6个月内是稳定的。
下列实施例用于更详细地说明本发明，但不是对其的限制。
实施例
1.一般程序
实施例中使用的光学制品包括ESSILOR镜片的基材，直径65nm，屈光度-2,00和厚度1.2mm，其涂覆有：i)基于聚氨酯胶乳的抗冲击底涂层，其含有聚酯单元，在90℃固化1小时(BAXENDEN CHEMICALS的234，以1500rpm旋涂10到15秒钟)；ii)抗磨和抗划痕涂层(硬膜)，公开在EP0614957的实施例3中(折射率1.50)，基于环氧三烷氧基硅烷水解产物(基于γ-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷，GLYMO)和二烷基二烷氧基硅烷(二甲基二乙氧基硅烷，DMDES)，胶态氧化硅和乙酰丙酮酸铝；iii)抗反射涂层；和i)防污涂层。
将包含224重量份的GLYMO，80.5重量份的HCl0.1N，120重量份的DMDES，718重量份的在甲醇中30重量％的胶态氧化硅，15重量份的乙酰丙酮酸铝(固化催化剂)和44重量份的乙基溶纤素的组合物进行沉积和固化，来获得所述的抗磨和抗划痕涂层。组合物另外包括0.1重量％的得自3M的表面活性剂FLUORADTM 基于组合物总重量。
抗反射涂层的层已经在不加热基材的情况下，通过在真空下蒸发并且任选地，当有说明时，在沉积过程中在氧离子束辅助下来进行沉积(蒸发源：电子枪)。
通过在真空下蒸发Daikin Industries公司的Optool化合物来获得防污涂层(厚度：1-5nm)。
该沉积框架是BAK760Physimeca机，其装有蒸发氧化物的电子枪(8kV)，通过焦耳效应来加热以沉积外涂层的坩锅，和装备有Veeco电源供应的Commonwealth Mark II离子枪，用于使用氩离子(IPC)的基材表面的制备初步阶段，以及用于对需要进行离子辅助沉积(IAD)的层。
根据本发明，从由Cerac公司提供的SnO2粒料(参照：T-1218，直径：3-12mm，制品n°：H618828，纯度：99,9％)形成抗静电层，并且在对比实施例中，从由Optron Inc.公司提供的ITO粒料(重量百分数，氧化锡(5)氧化铟(95))形成抗静电层。抗反射涂层的另一个层从ZrO2粒料(Umicore)或SiO2粒料(Optron Inc.)形成。
作为对比手段，还提供了对Cerac In2O3单层3-12mm(l-1071制品n°：H608830)，B2O3掺杂的ZnO单层Cerac3-12mm(Z-2070制品n°H614757-1)，Al掺杂的ZnO单层的分析。
使用石英微量天平来控制层的厚度。
使用Zeiss Company的分光光度计，在镜片准备之后一小时，进行对穿透玻璃的光透射率的测定。获得的τv的稳定性通过在一周后进行第二次测试来进行检验。
2.操作程序
制备光学制品的方法包括，将涂有底涂层和上文所述的抗磨涂层的基材放入真空沉积腔室，接着泵抽直到获得高度真空，用氩离子束来活化基材表面(IPC：1分钟，100V，1A)，中断离子辐射，通过蒸发来沉积：
-ZrO2层，沉积速率为0.3nm/s，
-SiO2层，速率为0.7nm/s，
-ZrO2层，速率为0.3nm/s，
-导电层，在氧离子辅助下(1.2A/100V)，沉积速率0.15nm/s(SnO2，或者对比实施例的ITO)，
-SiO2层，沉积速率为1nm/s，
-防污涂层(外涂层)(Daikin的Optool)，
-和最后的通风步骤。
上述提的沉积速率中的厚度是物理厚度。
3.表征
a.抗磨性的表征
抗磨性通过按照专利申请WO2008/001011描述的方法(ASTMF735.81标准)在涂覆有抗反射涂层的基材上测定BAYER ASTM值(Bayer砂)和Bayer ISTM值(Bayer氧化铝)来进行测定。BAYER测定值越高，抗磨性能越强。
因此，当R等于或大于3.4并且低于4.5时，Bayer ASTM值(Bayer砂)被认为是良好。当R等于或大于3并且低于4.5，Bayer ISTM值被认为是良好的。当数值达到4.5或更高，Bayer砂或者ISTM值被认为是优异的。
b.抗反射涂层对基材的粘附性能的表征(n×10计数测试)
该定性试验被称为"n×10计数"，其使得能够评价沉积到基材之上的层的粘附性能，尤其是用于眼科镜片的抗反射涂层对基材的粘附。按照专利WO99/49097所述的程序，对镜片的凸面进行。
一次施压(或循环)由将擦除器前后移动10次组成。操作者每3次施压到至多9次施压目测控制被检验镜片的情况。评估值由直到出现缺陷时镜片可以承受的施压次数组成。在本专利申请范围中，当该镜片在9次施压以后无变化时，该镜片被认为成功地通过测试。
c)放电时间的评价
光学制品的放电时间通过放电时间测量装置JCI155(John ChubbInstrumentation)，按照制造商说明，在将所述光学制品暴露在-9000伏特电晕放电下30ms后，在室温(25℃)下进行测定。
在对受到电晕放电的玻璃表面的这些充电和放电测量实验中，分析下列两个参数：玻璃表面的最大测量电压，记作Umax，和达到1/e＝36.7％的最大电压的时间，其对应于放电时间。
使用的镜片屈光度应该严格一致，以便使得对各种镜片的性能比较成为可能，因为设备记录的数值取决于镜片的几何结构。
d)可能发生的外观缺陷的评价
存在局部的光学缺陷。
虽然所述缺陷凭肉眼是可感觉到，但为了让它们更显著，用使用弧光灯的带有倾角的反射使得对它们的检查更加容易。
在制品储存之后，在制品刚制备后之后(参比时间t)，在受控环境(温度40℃，相对湿度80％，大气压力)的"气候"腔室中，以及受限时间段内，在光学制品上可能存在的外观缺陷(本发明的制品，或者对比例的制品)在弧光灯(高强度灯)进行视觉评价。
这些储藏条件使得光学制品的过早老化成为可能，并且加速了可能发生的外观缺陷。可以在弧光灯下观察的缺陷显示为点或者小线条。
在此使用的，大气压指的是1.01325巴的压力。
e)基材吸水率的表征
该测试在光学制品裸露基材上进行，并允许来测定一旦涂覆有含有传统的抗静电层的抗反射涂层，即，没有包含本发明数量的氧化锡的层，哪个基材将随着时间倾向于发生外观缺陷。本发明人发展了该测试，其提供了裸露基材的吸水率和在接受抗反射和抗静电处理之后发展外观缺陷的倾向之间的良好对应关系。
在放入储存室中来测定其吸水率之前，在烘箱或者45℃的腔室中，在大气压中将裸露基材干燥(脱水)48h，不使用任何附加的脱水手段。对于这样的脱水，烘箱中的水分含量接近0％。
然后将该基材储藏在用水饱和(即在大气压下相对湿度(RH)为100％)的50℃腔室中800小时。使用天平AT261(Mettler Toledo)，通过称重脱水的基材、然后在湿储存腔室中保持之后大约30秒钟，测定裸露基材的吸水率，基于如下公式：
吸水率(％)＝("基材重量(t＝800H)"-"脱水基材的初始重量")/("脱水基材的初始重量")
测试具有相同几何结构的各种基材(双平面，65mm直径，2mm厚度)。它们在下文中描述，并且在表1中给出测试结果。
使用的腔室都是Type UT6060腔室，HERAEUS Instruments D-6450HANAU。
表1
基材是，Mitsui Toatsu Chemicals Inc.销售的树脂，和是硫代氨基甲酸酯树脂(用于制造热固性聚硫代氨基甲酸酯)。得自的基材的折射率为1.59，Abbe值为36。得自的那些的折射率为1.66，Abbe值为32。树脂是聚环硫化物树脂，折射率为1.74。使用的聚碳酸酯基材是双酚A均聚碳酸酯树脂，折射率为1.59，由TEIJIN公司以商品名来销售。
使用的矿物玻璃基材(基于二氧化硅)是Essilor玻璃，折射率为1.523。
基材和得自树脂的那些是根据本发明的基材，因为它们的吸水率等于或大于0.6重量％，相比于上文描述的测试条件下基材的总重量而言。
基材聚碳酸酯(PC)和矿物玻璃基材不是根据本发明的基材，因为它们的吸水率低于0.6重量％，相比于上文描述测试条件下基材的总重量而言。对于这些基材，无法观察到有问题的外观缺陷的发生。它们没有显示出任何外观缺陷，无论它们的抗静电层是基于SnO2或是基于ITO(参见表3)。
4.结果
a)基材
在实施例1，2和对比实施例C1和C2中获得的光学制品的结构详细地列在下面(表2)。也列出了它们的性能，关于粘附，抗磨性，抗静电性能，可能存在的外观缺陷以及下列光学参数：可见光谱中的平均反射系数Rm，目测的平均反射系数(光反射系数)Rv，可见光透射率τv，色调相角h和在标准色度系统CIE L*a*b*中的色饱和度C*。下文给出的结果对应于在相同条件下制备的一系列相似的制品的平均值。
表2
对本发明的制品进行的物理化学耐久性测试，得到了与对基于ITO的堆叠体上获得的那些相似的结果(n×10计数，Bayer)。下列参数也是可比较的：Rm，Rv，C*，h，τV，放电时间。
获得的全部光学制品均为高度透明的，并且同时均受益于抗静电性能(放电时间低于500ms)，抗反射性能，良好的抗磨性，良好的耐热性和良好的粘附性能。可以观察到，制备的光学制品的放电时间随着时间是稳定的(在其制备之后控制的六个月后没有变化)。
本发明的镜片在外观方面完全令人满意，因为它们没有任何可见的表面缺陷，尤其是使用弧光灯的时候。
但是对于引入了ITO层的对比镜片而言，并不是这样。
通过重复实施例1和2，但是将导电性材料SnO2用ITO(在上文的通用程序1所述的材料)替代，来获得对比实施例C1和C2，。对比实施例C2的镜片全部具有外观缺陷，包括最初(t+24h)和2月之后(t+2月)，而对比实施例C1的一些镜片中可在2个月之后观察到外观缺陷。
这不是包含相同条件下沉积的ITO单层的基材的情况，所述条件在上文的2中描述(在氧离子辅助(1.2A/100V下)，速率为0.15nm/s，的In2O3，的B2O3掺杂的ZnO，的Al掺杂的ZnO，而不是SnO2(在上文的一般程序1中描述的材料)。
b)其它基材的评价
使用非基材的其他基材(实施例3和4和对比实施例C3到C10)来重复实施例2和对比实施例C2。在表3中给出结果，相比于实施例2和对比实施例C2的结果进行总结。
表3
可以观察到，在抗反射涂层中包括SnO2层并且具有与上文所述测试条件下基材总重量相比吸水率等于或者大于0.6重量％的基材的本发明的镜片不会有任何外观缺陷(实施例2-4)。在相同条件下，在抗反射涂层中包含ITO层并且与上文所述测试条件下基材总重量相比吸水率等于或者大于的0.6重量％的基材的对比镜片具有外观缺陷(对比实施例C2到C5)。
最后，正如前面提到的那样，基于聚碳酸酯(PC)和矿物玻璃的基材在两个月后没有显示出任何外观缺陷，不论抗静电层是基于SnO2还是ITO。
c)SnO2层的厚度的影响
通过改变基材性质(代替)，然后改变SnO2抗静电层的厚度从3到75nm，来重复实施例2。可以观察到外观缺陷的发生，结果列在表4中。
表4
可以注意到，甚至对具有高厚度的SnO2导电层，也没有观察到外观缺陷。
d)重复实施例4，除了用下列混合物来替换99.9％纯度的SnO2层：SnO225％In2O375％SnO250％In2O350％SnO275％In2O325％结果在下表中给出：
表5
实施例 SnO2-In2O3比例 一周后的外观缺陷
C11 25-75 有
13 50-50 无
14 75-25 无

Claims (24)

1.一种具有抗静电性能和抗反射或反射性能的光学制品，其包括具有至少一个主要表面的基材，所述主要表面涂覆有抗反射或反射涂层，所述涂层包括至少一个导电层，其中：
-所述导电层含有至少30重量%的氧化锡(SnO2)，基于导电层的总重量，
-所述导电层在离子辅助下进行沉积，并且
-所述基材吸水率等于或大于0.6重量%，基于基材的总重量，在预干燥所述基材、然后将其在50°C下在100%相对湿度和大气压力下的腔室中储存800小时后，测定该吸水率。
2.权利要求1的光学制品，其中所述导电层含有至少40重量%的氧化锡(SnO2)，基于导电层的总重量。
3.权利要求1的光学制品，其中所述导电层含有至少50重量%的氧化锡(SnO2)，基于导电层的总重量。
4.权利要求1的光学制品，其中导电层的厚度为0.1到150nm。
5.权利要求1的光学制品，其中导电层的厚度为0.1到50nm。
6.权利要求1的光学制品，其中导电层的厚度为1到20nm。
7.权利要求1-6任一项的光学制品，其中导电层不含有铟。
8.权利要求1-6任一项的光学制品，其中所述导电层含有至少90重量%的氧化锡(SnO2)，基于导电层的总重量。
9.权利要求1-6任一项的光学制品，其中所述导电层由SnO2层组成。
10.权利要求1-6任一项的光学制品，其中所述导电层在堆叠体顺序中不形成抗反射或者反射涂层的外层。
11.权利要求1-6任一项的光学制品，其中所述导电层在堆叠体顺序中形成抗反射或者反射涂层的倒数第二层。
12.权利要求1-6任一项的光学制品，其中基材是聚(硫代氨基甲酸酯)，或者由亚烷基二醇双烯丙基碳酸酯的聚合或者共聚合来生成。
13.权利要求1-6任一项的光学制品，其中抗反射或反射涂层是多层涂层，其包括交替的高折射率层和低折射率层。
14.权利要求1-6任一项的制品，其进一步定义为光学镜片。
15.权利要求14的制品，其中光学镜片是眼科镜片。
16.权利要求1-6任一项的制品，其中抗反射或反射涂层包括含有SiO2和Al2O3的混合物的至少一层，并且在真空室内、在沉积过程中往该室内供应气体的情况下进行该层的沉积。
17.权利要求16的制品，其中在气体供应过程中，真空室内的压力为5.10-5到3.10-4毫巴。
18.权利要求1-6任一项的制品，其中所述导电层的沉积已经在离子辅助下通过用离子束轰击基材表面进行。
19.一种制造前述任一项权利要求所述的光学制品的方法，其包括：
-提供包含具有至少一主要表面的基材的光学制品，所述基材具有等于或大于0.6重量%的吸水率，基于基材总重量，吸水率按照权利要求1所述进行测量；
-将抗反射或反射涂层沉积到所述基材的主要表面之上，所述涂层包括至少一个导电层，其包括至少30重量%的氧化锡(SnO2)，基于导电层的总重量，所述导电层通过离子辅助沉积来进行沉积，
-获得包含基材的光学制品，所述基材的主要表面已经涂覆有包含所述导电层的所述抗反射或反射涂层。
20.权利要求19的方法，其中导电层包括至少40重量%的氧化锡(SnO2)，基于导电层的总重量。
21.权利要求19的方法，其中导电层包括至少50重量%的氧化锡(SnO2)，基于导电层的总重量。
22.权利要求19-21任一项的方法，其中抗反射或反射涂层的每一层的沉积在真空下通过蒸发进行。
23.包含至少30重量%SnO2的层在沉积在光学制品基材之上的抗反射或反射抗静电涂层中的应用，所述基材具有至少0.6重量%的吸水率，用于保持所述涂层的透明度。
24.包含至少30重量%SnO2的层在沉积在光学制品基材之上的抗反射或反射抗静电涂层中的应用，所述基材具有至少0.6重量%的吸水率，用于防止在光学制品中外观缺陷的发生。
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