JPS63280790A - 帯電防止物品 - Google Patents
帯電防止物品Info
- Publication number
- JPS63280790A JPS63280790A JP62114828A JP11482887A JPS63280790A JP S63280790 A JPS63280790 A JP S63280790A JP 62114828 A JP62114828 A JP 62114828A JP 11482887 A JP11482887 A JP 11482887A JP S63280790 A JPS63280790 A JP S63280790A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- antireflection
- antireflection effect
- antistatic
- cured film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 43
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 30
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims abstract description 9
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 8
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims abstract description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 36
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 26
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 claims 1
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 abstract description 12
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 7
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 abstract description 2
- 230000003405 preventing effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 43
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000013522 chelant Chemical class 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 3
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 2
- NFPBWZOKGZKYRE-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylperoxypropane Chemical compound CC(C)OOC(C)C NFPBWZOKGZKYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 3,3',5,5'-tetrabromobisphenol A Chemical compound C=1C(Br)=C(O)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,5-dimethylphenyl)-1,3-thiazol-2-amine Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C=2N=C(N)SC=2)=C1 MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910009973 Ti2O3 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005083 alkoxyalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910001632 barium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCO.C=CCOC(=O)OCC=C SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004841 bisphenol A epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002090 carbon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000000986 disperse dye Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000013035 low temperature curing Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N nitrogen dioxide Inorganic materials O=[N]=O JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000013020 steam cleaning Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- GQUJEMVIKWQAEH-UHFFFAOYSA-N titanium(III) oxide Chemical compound O=[Ti]O[Ti]=O GQUJEMVIKWQAEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
- FIXNOXLJNSSSLJ-UHFFFAOYSA-N ytterbium(III) oxide Inorganic materials O=[Yb]O[Yb]=O FIXNOXLJNSSSLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野]
本発明は、眼鏡用レンズ、カメラ用レンズ、CRT用フ
ィルター、計器皿などの光学用に適した反射防止効果を
有する帯電防止物品に関する。
ィルター、計器皿などの光学用に適した反射防止効果を
有する帯電防止物品に関する。
[従来の技術]
プラスチック成形品は、その透明性、軽量性、易加工性
、耐Era性、染色が容易であるなどの特徴を生かして
多用途に使用され近年大幅に需要が増えている。
、耐Era性、染色が容易であるなどの特徴を生かして
多用途に使用され近年大幅に需要が増えている。
しかし、その反面表面硬度、反射防止性、帯電防止性が
不充分であった。これらの欠点の改良手段として数多く
の提案がなされている。
不充分であった。これらの欠点の改良手段として数多く
の提案がなされている。
その中で、透明な導電性を有する反射防止膜として特公
昭53−28214号公報に、真空蒸着により、Inま
たはその酸化物を含む反射防止膜をコートする方法が開
示されている。
昭53−28214号公報に、真空蒸着により、Inま
たはその酸化物を含む反射防止膜をコートする方法が開
示されている。
「発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、この技術は、充分な密着力が得られない
ために被膜の剥離、表面硬度の低下さらには、Inまた
はその酸化物を使用しているため屋外暴露などにより自
然剥離が生じるなどの実用耐久性に乏しいという問題点
がある。
ために被膜の剥離、表面硬度の低下さらには、Inまた
はその酸化物を使用しているため屋外暴露などにより自
然剥離が生じるなどの実用耐久性に乏しいという問題点
がある。
本発明は、密着性、耐久性に優れた、良好な反射防止効
果を有する帯電防止物品を提供することを目的とする。
果を有する帯電防止物品を提供することを目的とする。
E問題点を解決するための手段]
本発明は、上記目的を達成するために、下記の構成を有
する。
する。
「 透明基体の表面に硬化被膜を設け、さらに該被膜上
にSnO2を主成分としてなる層を少なくとも1層有す
る、2層以上の反射防止被膜を設けたことを特徴とする
反射防止効果を有する帯電防止物品。」 本発明における透明基体としては、例えば、無機ガラス
、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ジエチレングリコ
ールとスアリルカーボネートポリマー、(ハロゲン化)
ビスフェノールAのジ(メタ)アクリレートポリマーお
よびその共重合体、(ハロゲン化)ビスフェノールAの
ウレタン変性ジ(メタ)アクリレートポリマーおよびそ
の共重合体、ポリスチレンおよびその共重合体などの成
形物、例えば、レンズ、シート、フィルム、コンパクト
ディスクなどが挙げられる。とくに、基体上に硬化被膜
を設けるという点からプラスチックが好ましく適用され
る。
にSnO2を主成分としてなる層を少なくとも1層有す
る、2層以上の反射防止被膜を設けたことを特徴とする
反射防止効果を有する帯電防止物品。」 本発明における透明基体としては、例えば、無機ガラス
、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ジエチレングリコ
ールとスアリルカーボネートポリマー、(ハロゲン化)
ビスフェノールAのジ(メタ)アクリレートポリマーお
よびその共重合体、(ハロゲン化)ビスフェノールAの
ウレタン変性ジ(メタ)アクリレートポリマーおよびそ
の共重合体、ポリスチレンおよびその共重合体などの成
形物、例えば、レンズ、シート、フィルム、コンパクト
ディスクなどが挙げられる。とくに、基体上に硬化被膜
を設けるという点からプラスチックが好ましく適用され
る。
ここで透明基体とは下式により求められる曇価が80%
以下の透明性を有する透明基体であって、必要に応じ、
染料などで着色されているもの、模様状に彩色されてい
るものもこれに含めることができる。
以下の透明性を有する透明基体であって、必要に応じ、
染料などで着色されているもの、模様状に彩色されてい
るものもこれに含めることができる。
拡散光線透過率
曇価(パーセント)= X100全光
線透過率 本発明の意図するところの光線反射率の低下および光線
透過率の向上効果をより有効に発揮させるためにはでき
るだけ透明性のあるものが好ましい。さらに本発明にお
ける光線反射率の低下を基体の一方の面のみで充分であ
る場合には、その反対面が不透明なもので覆われた基体
であっても、本発明で言うところの透明基体として使用
できる。
線透過率 本発明の意図するところの光線反射率の低下および光線
透過率の向上効果をより有効に発揮させるためにはでき
るだけ透明性のあるものが好ましい。さらに本発明にお
ける光線反射率の低下を基体の一方の面のみで充分であ
る場合には、その反対面が不透明なもので覆われた基体
であっても、本発明で言うところの透明基体として使用
できる。
この場合には、曇価としては反対面における不透明物質
を除去したもので定義されなければならない。
を除去したもので定義されなければならない。
本発明はこれらの透明基体上にまず硬化被膜を設けてな
るものであるが、使用可能な被膜の例としては、ポリビ
ニルアルコール、セルロース類、メラミン樹脂、エポキ
シ樹脂、ポリシロキサン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン
樹脂などが挙げられる。中でも表面硬度、耐熱性、耐熱
水性、耐薬品性などの点から熱硬化性樹脂が好ましく用
いられるが、とくに表面硬度向上の点からポリシロキサ
ン樹脂が好ましく用いられる。
るものであるが、使用可能な被膜の例としては、ポリビ
ニルアルコール、セルロース類、メラミン樹脂、エポキ
シ樹脂、ポリシロキサン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン
樹脂などが挙げられる。中でも表面硬度、耐熱性、耐熱
水性、耐薬品性などの点から熱硬化性樹脂が好ましく用
いられるが、とくに表面硬度向上の点からポリシロキサ
ン樹脂が好ましく用いられる。
オルガノポリシロキサンを形成せしめる組成物の代表的
な例を挙げると次の一般式(A>で表わされる有機ケイ
素化合物および/またはその加水分解物が挙げられる。
な例を挙げると次の一般式(A>で表わされる有機ケイ
素化合物および/またはその加水分解物が挙げられる。
Ra R’ bS iX 4−a−b (A >
(ここで、R,R1は、炭素数1〜10の有機基であり
、Xは加水分解性基である。aおよびbは0または1で
ある。) ここでR,R1は各々アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、またはハロゲン基、エポキシ基、グリシドキシ
基、アミン基、メルカプト基、メタクリルオキシ基ない
しシアノ基を有する炭化水素基であり、同種であっても
、異種であってもよい。
(ここで、R,R1は、炭素数1〜10の有機基であり
、Xは加水分解性基である。aおよびbは0または1で
ある。) ここでR,R1は各々アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、またはハロゲン基、エポキシ基、グリシドキシ
基、アミン基、メルカプト基、メタクリルオキシ基ない
しシアノ基を有する炭化水素基であり、同種であっても
、異種であってもよい。
Xはハロゲン、アルコキシ、アルコキシアルコキシ、フ
ェノキシないしアセトキシ基などから選ばれる加水分解
可能な置換基であれば、いかなるものであってもよい。
ェノキシないしアセトキシ基などから選ばれる加水分解
可能な置換基であれば、いかなるものであってもよい。
a、bは各々0または1である。
これらの有機ケイ素化合物は1種または2種以上添加す
ることも可能である。とくに染色性付与の目的にはエポ
キシ基、グリシドキシ基を含む有機ケイ素化合物の使用
が好適であり、高付加価値なものとなる。
ることも可能である。とくに染色性付与の目的にはエポ
キシ基、グリシドキシ基を含む有機ケイ素化合物の使用
が好適であり、高付加価値なものとなる。
上記の組成物は通常揮発性溶媒に希釈して液状組成物と
して塗布される。溶媒として用いられるものは、特に限
定されないが、使用にあたっては被塗布物の表面性状を
損わぬことが要求され、さらには組成物の安定性、基体
に対するぬれ性、揮発性などをも考慮して決められるべ
きである。また溶媒は1種のみならず2種以上の混合物
として用いることも可能である。
して塗布される。溶媒として用いられるものは、特に限
定されないが、使用にあたっては被塗布物の表面性状を
損わぬことが要求され、さらには組成物の安定性、基体
に対するぬれ性、揮発性などをも考慮して決められるべ
きである。また溶媒は1種のみならず2種以上の混合物
として用いることも可能である。
さらに、硬化被膜の硬度向上、反射防止被膜との密着性
向上などの目的に好ましく使用される構成成分として微
粒子状無機酸化物がある。かかる微粒子状無機酸化物と
は塗膜状態で透明性を損わないものであり、その目的を
達成するものであればとくに限定されないが、作業性、
透明性付与の点から特に好ましい例としてはコロイド状
に分散したゾルが挙げられる。さらに具体的な例として
は、シリカゾル、チタニアゾル、ジルコニアゾル、酸化
アンチモンゾル、アルミナゾルなどが挙げられる。微粒
子状無機酸化物の添加量は、特に限定されないが、効果
をより顕著に表わすためには、硬化被膜中に5重量%以
上、80重量%以以下上れることが好ましい。すなわち
、5重量%未満では、明らかな添加の効果が認められず
、80重量%を越えると透明基体との密着性不良、被膜
自体にクラック発生、耐@撃性低下などの問題がある。
向上などの目的に好ましく使用される構成成分として微
粒子状無機酸化物がある。かかる微粒子状無機酸化物と
は塗膜状態で透明性を損わないものであり、その目的を
達成するものであればとくに限定されないが、作業性、
透明性付与の点から特に好ましい例としてはコロイド状
に分散したゾルが挙げられる。さらに具体的な例として
は、シリカゾル、チタニアゾル、ジルコニアゾル、酸化
アンチモンゾル、アルミナゾルなどが挙げられる。微粒
子状無機酸化物の添加量は、特に限定されないが、効果
をより顕著に表わすためには、硬化被膜中に5重量%以
上、80重量%以以下上れることが好ましい。すなわち
、5重量%未満では、明らかな添加の効果が認められず
、80重量%を越えると透明基体との密着性不良、被膜
自体にクラック発生、耐@撃性低下などの問題がある。
微粒子状無機酸化物としては、平均粒子径1〜200m
μのものが通常は使用されるが、好ましくは5〜100
mμの粒子径のものが使用される。
μのものが通常は使用されるが、好ましくは5〜100
mμの粒子径のものが使用される。
平均粒子径が200mμを越えるものは、生成被膜の透
明性を低下させ、濁りの大きなものとなり、厚膜化が困
難となる。また、1mμ未満のものは安定性が悪く、再
現性が乏しいものとなる。
明性を低下させ、濁りの大きなものとなり、厚膜化が困
難となる。また、1mμ未満のものは安定性が悪く、再
現性が乏しいものとなる。
また微粒子の分散性を改良するために各種の界面活性剤
やアミンを添加しても何ら問題はない。さらには2種以
上の微粒子状無機酸化物を併用して使用することも何ら
問題はない。
やアミンを添加しても何ら問題はない。さらには2種以
上の微粒子状無機酸化物を併用して使用することも何ら
問題はない。
さらには、これらの硬化被膜を形成せしめるためのコー
ティング組成物中には、塗布時におけるフローを向上さ
せる目的で各種の界面活性剤を使用することも可能であ
り、とくにジメチルポリシロキサンとアルキレンオキシ
ドとのブロックまたはグラフト共重合体、さらにはフッ
素系界面活性剤などが有効である。
ティング組成物中には、塗布時におけるフローを向上さ
せる目的で各種の界面活性剤を使用することも可能であ
り、とくにジメチルポリシロキサンとアルキレンオキシ
ドとのブロックまたはグラフト共重合体、さらにはフッ
素系界面活性剤などが有効である。
さらに耐候性を向上させる目的で紫外線吸収剤、また耐
熱劣化向上法として酸化防止剤を添加することも可能で
ある。
熱劣化向上法として酸化防止剤を添加することも可能で
ある。
さらに、これらのコーティング組成物中には、被膜性能
、透明性などを大幅に低下させない範囲で各社の無機化
合物なども添加することができる。
、透明性などを大幅に低下させない範囲で各社の無機化
合物なども添加することができる。
これらの添加物の併用によって基体との密着性、耐薬品
性、表面硬度、耐久性、染色性などの諸物性を向上させ
ることができる。前記の添加可能な無機材料としては以
下の一般式[I]で表わされる金属アルコキシド、キレ
ート化合物および/またはその加水分解物が挙げられる
。
性、表面硬度、耐久性、染色性などの諸物性を向上させ
ることができる。前記の添加可能な無機材料としては以
下の一般式[I]で表わされる金属アルコキシド、キレ
ート化合物および/またはその加水分解物が挙げられる
。
M(OR)m [I](ここでRはア
ルキル基、アシル基、アルコキシアルキル基であり、m
は金属Mの電荷数と同じ値である。Mとしてはケイ素、
チタン、ジルコン、アンチモン、タンタル、ゲルマニウ
ム、アルミニウムなどである。) 本発明における硬化被膜を形成せしめる場合には、硬化
促進、低温硬化などを可能とする目的で各種の硬化剤が
使用可能である。硬化剤としては各種エポキシ樹脂硬化
剤、あるいは各種有機ケイ素樹脂硬化剤などが適用され
る。
ルキル基、アシル基、アルコキシアルキル基であり、m
は金属Mの電荷数と同じ値である。Mとしてはケイ素、
チタン、ジルコン、アンチモン、タンタル、ゲルマニウ
ム、アルミニウムなどである。) 本発明における硬化被膜を形成せしめる場合には、硬化
促進、低温硬化などを可能とする目的で各種の硬化剤が
使用可能である。硬化剤としては各種エポキシ樹脂硬化
剤、あるいは各種有機ケイ素樹脂硬化剤などが適用され
る。
これらの硬化剤の具体的な例としては、各種の有機酸お
よびそれらの酸無水物、窒素含有有機化合物、各社金属
錯化合物あるいは金属アルコキシド、さらにはアルカリ
金属の有機カルボン酸塩、炭酸塩などの各種塩、さらに
は、過酸化物、アゾビスイソブチロニトリルなどのラジ
カル重合開始剤などが挙げられる。これらの硬化剤は2
種以上混合して使用することも可能である。これらの硬
化剤の中でも本発明の目的には、塗料の安定性、コーテ
イング後の塗膜の着色防止などの点から、特に下記に示
すアルミニムラキレート化合物が有用である。
よびそれらの酸無水物、窒素含有有機化合物、各社金属
錯化合物あるいは金属アルコキシド、さらにはアルカリ
金属の有機カルボン酸塩、炭酸塩などの各種塩、さらに
は、過酸化物、アゾビスイソブチロニトリルなどのラジ
カル重合開始剤などが挙げられる。これらの硬化剤は2
種以上混合して使用することも可能である。これらの硬
化剤の中でも本発明の目的には、塗料の安定性、コーテ
イング後の塗膜の着色防止などの点から、特に下記に示
すアルミニムラキレート化合物が有用である。
ここでいうアルミニウムキレート化合物とは、一般式A
rLY nZ 3−、で示されるアルミニウムキレー
ト化合物である。
rLY nZ 3−、で示されるアルミニウムキレー
ト化合物である。
(但し式中、YはOL (Lは低級アルキル基)、Zは
一最大M’ COC0CH2C0M2(、M2はいずれ
も低級アルキル基)で示される化合物に由来する配位子
、および一般式M 3 COCH2CO0M4 (M3
.M4はいずれも低級アルキル基)で示される化合物に
由来する配位子から運ばれる少なくとも1つであり、n
は0.1または2である。
一最大M’ COC0CH2C0M2(、M2はいずれ
も低級アルキル基)で示される化合物に由来する配位子
、および一般式M 3 COCH2CO0M4 (M3
.M4はいずれも低級アルキル基)で示される化合物に
由来する配位子から運ばれる少なくとも1つであり、n
は0.1または2である。
) A (L y oz 3−oで示されるアルミニウ
ムキレート化合物のうちで、組成物への溶解性、安定性
、硬化触媒としての効果などの観点からして、アルミニ
ウムアセチルアセトネート、アルミニウムビスエチルア
セトアセテートモノアセチルアセトネート、アルミニウ
ムージ−n−ブトキシド−モノエチルアセトアセテート
、アルミニウムージー1SO−プロポキシド−モノメチ
ルアセトアセテートなどが好ましい。これらは2種以上
を混合して使用することも可能である。
ムキレート化合物のうちで、組成物への溶解性、安定性
、硬化触媒としての効果などの観点からして、アルミニ
ウムアセチルアセトネート、アルミニウムビスエチルア
セトアセテートモノアセチルアセトネート、アルミニウ
ムージ−n−ブトキシド−モノエチルアセトアセテート
、アルミニウムージー1SO−プロポキシド−モノメチ
ルアセトアセテートなどが好ましい。これらは2種以上
を混合して使用することも可能である。
塗布方法としては通常のコーティング作業で用いられる
方法が適用可能であるが、たとえば浸漬塗装、流し塗り
法、スピンコード法などが好ましい。このようにして塗
布されたコーティング組成物は一最には加熱乾殻によっ
て硬化される。
方法が適用可能であるが、たとえば浸漬塗装、流し塗り
法、スピンコード法などが好ましい。このようにして塗
布されたコーティング組成物は一最には加熱乾殻によっ
て硬化される。
加熱方法としては熱風、赤外線などで行なうことが可能
である。また加熱温度は適用される基体および使用され
るコーティング組成物によって決定されるべきであるが
、通常は室温から250°C1より好ましくは35〜2
00℃が使用される。これより低温では硬化または乾燥
が不充分になりやすく、またこれより高温になると熱分
解、亀裂発生などが起り、さらには黄変などの問題を生
じやすくなる。
である。また加熱温度は適用される基体および使用され
るコーティング組成物によって決定されるべきであるが
、通常は室温から250°C1より好ましくは35〜2
00℃が使用される。これより低温では硬化または乾燥
が不充分になりやすく、またこれより高温になると熱分
解、亀裂発生などが起り、さらには黄変などの問題を生
じやすくなる。
本発明におけるコーティング組成物の塗布にあたっては
、塗布されるべき表面は清浄化されていることが好まし
く、清浄化に際しては界面活性剤による汚れ除去、さら
には有機溶剤による脱脂、フレオンによる蒸気洗浄など
が適用される。また密着性、耐久性の向上を目的として
各種の前処理を施すことも有効な手段である。特に好ま
しく用いられる方法としては、後述の活性化ガス処理、
濃度にもよるが酸、アルカリなどによる薬品処理である
。
、塗布されるべき表面は清浄化されていることが好まし
く、清浄化に際しては界面活性剤による汚れ除去、さら
には有機溶剤による脱脂、フレオンによる蒸気洗浄など
が適用される。また密着性、耐久性の向上を目的として
各種の前処理を施すことも有効な手段である。特に好ま
しく用いられる方法としては、後述の活性化ガス処理、
濃度にもよるが酸、アルカリなどによる薬品処理である
。
本発明における硬化被膜の膜厚は、特に限定されるもの
ではない。しかし、密着強度の保持、硬度などの点から
0.1ミクロン〜20ミクロンの間で好ましく用いられ
る。
ではない。しかし、密着強度の保持、硬度などの点から
0.1ミクロン〜20ミクロンの間で好ましく用いられ
る。
特に好ましくは、0.4ミクロン〜10ミクロンである
。
。
本発明は、これらの硬化被膜上にSnO2を主成分とし
てなる透明導電膜を少なくとも1層含む反射防止被膜を
設けてなるものであるが、形成に際しては、被膜の前処
理として活性化ガス処理、薬品処理などを施してもよい
。かかる活性化ガス処理とは、常圧、もしくは減圧下に
おいて、生成するイオン、電子あるいは、励起された気
体による処理である。これらの活性化ガスを生成させる
方法としては、例えば、コロナ放電、減圧下での直流、
低周波、高周波あるいはマイクロ波による高電圧放電な
どによるものである。特に減圧下で高周波放電によって
得られる低温プラズマによる処理が、再現性、生産性な
どの観点から、好ましく使用される。ここで使用される
ガスは、特に限定されるものでないが、具体例としては
酸素、窒素、水素、炭酸ガス、二酸化硫黄、ヘリウム、
ネオン、アルゴン、フレオン、水蒸気、アンモニア、−
酸化炭素、塩素、−酸化窒素、二酸化窒素などが挙げら
れる。これらは、−Sのみならず、二社以上混合しても
使用可能である。
てなる透明導電膜を少なくとも1層含む反射防止被膜を
設けてなるものであるが、形成に際しては、被膜の前処
理として活性化ガス処理、薬品処理などを施してもよい
。かかる活性化ガス処理とは、常圧、もしくは減圧下に
おいて、生成するイオン、電子あるいは、励起された気
体による処理である。これらの活性化ガスを生成させる
方法としては、例えば、コロナ放電、減圧下での直流、
低周波、高周波あるいはマイクロ波による高電圧放電な
どによるものである。特に減圧下で高周波放電によって
得られる低温プラズマによる処理が、再現性、生産性な
どの観点から、好ましく使用される。ここで使用される
ガスは、特に限定されるものでないが、具体例としては
酸素、窒素、水素、炭酸ガス、二酸化硫黄、ヘリウム、
ネオン、アルゴン、フレオン、水蒸気、アンモニア、−
酸化炭素、塩素、−酸化窒素、二酸化窒素などが挙げら
れる。これらは、−Sのみならず、二社以上混合しても
使用可能である。
前記の中で好ましいガスとしては、酸素が挙げられ、空
気などの自然界に存在するものであってもよい。特に好
ましくは、純粋な酸素ガスが密着性向上に有効である。
気などの自然界に存在するものであってもよい。特に好
ましくは、純粋な酸素ガスが密着性向上に有効である。
さらには、同様の目的で前記使用に際しては、処理基体
の温度を上げることも可能である。
の温度を上げることも可能である。
つぎに本発明における、SnO2を主成分としてなる透
明導電膜を少なくとも1層有する、2層以上の反射防止
被膜とは、5na2を60重量%以上含有してなる層を
少なくとも1層有し、さらに5na2を主成分としてな
る層以外に、1層以上の被膜を有する多層被膜である。
明導電膜を少なくとも1層有する、2層以上の反射防止
被膜とは、5na2を60重量%以上含有してなる層を
少なくとも1層有し、さらに5na2を主成分としてな
る層以外に、1層以上の被膜を有する多層被膜である。
ここで、透明導電膜を形成する成分において、5002
以外の添加可能な成分としては、Sb、 Inなどの金
属酸化物が導電性向上の点から好ましい。5na2を主
成分としてなる被膜は、従来のITO膜に比べて被膜の
吸収が少ないばかりか、耐候性が良好なことから屋外用
途に有用である。被膜の厚さは、導電性および透明性の
観点から5〜5001mであることが好ましく、さらに
は20〜300 nmが好ましい。
以外の添加可能な成分としては、Sb、 Inなどの金
属酸化物が導電性向上の点から好ましい。5na2を主
成分としてなる被膜は、従来のITO膜に比べて被膜の
吸収が少ないばかりか、耐候性が良好なことから屋外用
途に有用である。被膜の厚さは、導電性および透明性の
観点から5〜5001mであることが好ましく、さらに
は20〜300 nmが好ましい。
本発明における5002を主成分とする透明導電膜を形
成する手段としては、液状コーティングあるいは真空蒸
着、スパッタリングなどのドライコーティングが適用可
能である。特に被膜の緻密性、導電性などの観点からド
ライコーティングが好ましく使用される。また、ドライ
コーティングの中でも被膜形成時間の短縮のためには真
空蒸着、とくに1大/sec〜5大/secの速度で蒸
着することが透明性、導電性向上により好ましい。さら
に、真空蒸着による被膜形成に際しては、酸素ガス雰囲
気下での高周波放電中、好ましくはI X 10 ’T
orr以下のガス導入下での蒸着、さらに高周波放電出
力を高めること、例えば50ワット以上が透明性、導電
性などの観点から好ましく使用される。さらに、導電性
を向上させる目的から被コーディング基体を加熱するこ
とも有効な手段である。
成する手段としては、液状コーティングあるいは真空蒸
着、スパッタリングなどのドライコーティングが適用可
能である。特に被膜の緻密性、導電性などの観点からド
ライコーティングが好ましく使用される。また、ドライ
コーティングの中でも被膜形成時間の短縮のためには真
空蒸着、とくに1大/sec〜5大/secの速度で蒸
着することが透明性、導電性向上により好ましい。さら
に、真空蒸着による被膜形成に際しては、酸素ガス雰囲
気下での高周波放電中、好ましくはI X 10 ’T
orr以下のガス導入下での蒸着、さらに高周波放電出
力を高めること、例えば50ワット以上が透明性、導電
性などの観点から好ましく使用される。さらに、導電性
を向上させる目的から被コーディング基体を加熱するこ
とも有効な手段である。
かかる5napを主成分としてなる透明導電膜そのもの
の透明性としては、全光!!透過率で言うところの60
%以上、とくに光学用途についてはさらに75%以上を
有することが好ましい。また、導電性としては、本発明
が帯電防止物品であるとの怠味からも、1×1013Ω
/口以下、とくに厳しい帯電防止性を要求される用途に
関しては、1×1011Ω/口以下であることが好まし
い。
の透明性としては、全光!!透過率で言うところの60
%以上、とくに光学用途についてはさらに75%以上を
有することが好ましい。また、導電性としては、本発明
が帯電防止物品であるとの怠味からも、1×1013Ω
/口以下、とくに厳しい帯電防止性を要求される用途に
関しては、1×1011Ω/口以下であることが好まし
い。
本発明における5na2を主成分としてなる透明導電膜
以外の反射防止膜構成成分としては特に限定されないが
、例えばS i 02、Sin、 ZrO2、A Q2
03、Ti01T i 02、Ti2O3、Y2O3、
Yb2O3、MgO1Ta20s、COO2、旧02な
どの酸化物、H(JF2、A I F3、BaF2、L
if、CaF2、Na5AdF6、Na s A 03
F 14などのフッ化物、Si3N4などの窒化物が
挙げられる。
以外の反射防止膜構成成分としては特に限定されないが
、例えばS i 02、Sin、 ZrO2、A Q2
03、Ti01T i 02、Ti2O3、Y2O3、
Yb2O3、MgO1Ta20s、COO2、旧02な
どの酸化物、H(JF2、A I F3、BaF2、L
if、CaF2、Na5AdF6、Na s A 03
F 14などのフッ化物、Si3N4などの窒化物が
挙げられる。
金属としてはCr、 Ta、 Ti、 wなどが挙げら
れる。
れる。
これらの物質は、一種のみならず二桂以上を混合して使
用することも可能である。
用することも可能である。
また、各層間の密着性向上手段として前述の高周波放電
処理、イオンビーム処理などが有効である。さらに、反
射防止被膜の最上層に用いられる低屈折率物質としては
、前述のS i 02、A 0203などの酸化物、H
(llF2、A、QF3、Bar 2 、 Iif 、
CaF2、Na5AQ3F 6 、Na5 A03F
14などのフッ化物などが挙げられるが、硬度、密着
性、耐水性、耐熱性の点からSiO2を主成分としてな
る被膜が好ましい。
処理、イオンビーム処理などが有効である。さらに、反
射防止被膜の最上層に用いられる低屈折率物質としては
、前述のS i 02、A 0203などの酸化物、H
(llF2、A、QF3、Bar 2 、 Iif 、
CaF2、Na5AQ3F 6 、Na5 A03F
14などのフッ化物などが挙げられるが、硬度、密着
性、耐水性、耐熱性の点からSiO2を主成分としてな
る被膜が好ましい。
ここで5iOzを主成分としてなる低屈折率物質とは、
5i02が被膜中に50重工%以上含有するものであり
、その以外の添加可能な成分としては、特に限定される
ものではない。
5i02が被膜中に50重工%以上含有するものであり
、その以外の添加可能な成分としては、特に限定される
ものではない。
本発明は、前記のとおり、5nap主成分とする層を少
なくとも一層有し、さらに他成分からなる層を一層以上
有する多層膜からなる反射防止膜であるが、ここで多層
膜の膜構成の組合せとしては、透明基体の屈折率、さら
には硬化被膜の膜厚および屈折率などによって、その最
適な組合せは異なる。また、要求される反射防止特性、
あるいはその他の物理特性、さらには耐久特性などによ
っても、その最適な組合せは異なる。とくに反射防止特
性に関してはすでに多くの組合せが提案されており(光
学技術]ンタクト Vol 9.No、8.17〜23
、 (1971)、 ’“0PTTC3OF THIN
FILH3”159〜283゜八、VASICEK(
NORT11−1+0LLAND PUBLISII
ING C0t4P八NY)八H3TERDA)l(
1960))、本発明においてもこれらの組合せを用い
ることには何らの問題もない。本発明を光学用途、とり
わけ光学用レンズに適用する場合にはS n 02を主
成分とする層を最下層(硬化被膜上の第1層目)、また
は中間層とし、最上層(反射防止被膜の最外層)にS
i 02を主成分としてなる被膜を有することが、表面
硬度、反射防止特性、耐薬品性、耐候性などの点からも
っとも好ましい。
なくとも一層有し、さらに他成分からなる層を一層以上
有する多層膜からなる反射防止膜であるが、ここで多層
膜の膜構成の組合せとしては、透明基体の屈折率、さら
には硬化被膜の膜厚および屈折率などによって、その最
適な組合せは異なる。また、要求される反射防止特性、
あるいはその他の物理特性、さらには耐久特性などによ
っても、その最適な組合せは異なる。とくに反射防止特
性に関してはすでに多くの組合せが提案されており(光
学技術]ンタクト Vol 9.No、8.17〜23
、 (1971)、 ’“0PTTC3OF THIN
FILH3”159〜283゜八、VASICEK(
NORT11−1+0LLAND PUBLISII
ING C0t4P八NY)八H3TERDA)l(
1960))、本発明においてもこれらの組合せを用い
ることには何らの問題もない。本発明を光学用途、とり
わけ光学用レンズに適用する場合にはS n 02を主
成分とする層を最下層(硬化被膜上の第1層目)、また
は中間層とし、最上層(反射防止被膜の最外層)にS
i 02を主成分としてなる被膜を有することが、表面
硬度、反射防止特性、耐薬品性、耐候性などの点からも
っとも好ましい。
一方、かかる2層以上からなる反射防止被膜は、その帯
電防止性と反射防止性を必要とする部分に少なくとも設
けられておれば充分であり、従って透明基体の表面全体
であっても、その一部分であっても何ら問題はない。
電防止性と反射防止性を必要とする部分に少なくとも設
けられておれば充分であり、従って透明基体の表面全体
であっても、その一部分であっても何ら問題はない。
本発明における反射防止効果としては、反射防止膜の片
面による反射が可視光における全光線反射率で3.5%
以下、とくに光学用レンズなどにおいては、2,5%以
下であることが好ましい。
面による反射が可視光における全光線反射率で3.5%
以下、とくに光学用レンズなどにおいては、2,5%以
下であることが好ましい。
また、本発明における反射防止被膜としての帯電防止性
としては、その反射防止被膜における導電性が1×10
14Ω/口以下、さらに好ましくはlXl0”97口以
下である。
としては、その反射防止被膜における導電性が1×10
14Ω/口以下、さらに好ましくはlXl0”97口以
下である。
本発明によって得られる反射防止効果を有する帯電防止
物品は、−最の反射防止物品よりも優れた帯電防止効果
があり、湿度依存性もなくさらには、高硬度、高耐久性
があることから、眼鏡用レンズ、カメラ用レンズ、CR
T用フィルター、計器盤などに好ましく使用できる。
物品は、−最の反射防止物品よりも優れた帯電防止効果
があり、湿度依存性もなくさらには、高硬度、高耐久性
があることから、眼鏡用レンズ、カメラ用レンズ、CR
T用フィルター、計器盤などに好ましく使用できる。
[実施例]
更に詳細に説明するなめに、以下に実施例を挙げるが本
発明は、これらに限定されるものではない。
発明は、これらに限定されるものではない。
実施例1
(1)γ−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン共加
水分解物の調製 回転子を備えた反応器中に、γ−グリシドキシプロビル
トリメトキシシラン35.3部とγ−グリシドキシブL
7ビルメチルジエトキシシラン106.8部を仕込み、
マグネティックスターラーを用いて撹拌しながら、0.
05規定塩酸水溶液23.6部を液温を10°Cに保ち
ながら、滴下し、滴下終了後30分間撹拌を続けて、加
水分解物を得た。
γ−グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン共加
水分解物の調製 回転子を備えた反応器中に、γ−グリシドキシプロビル
トリメトキシシラン35.3部とγ−グリシドキシブL
7ビルメチルジエトキシシラン106.8部を仕込み、
マグネティックスターラーを用いて撹拌しながら、0.
05規定塩酸水溶液23.6部を液温を10°Cに保ち
ながら、滴下し、滴下終了後30分間撹拌を続けて、加
水分解物を得た。
(2)コーティング組成物の調製
前記(1)共加水分解物にメタノール185部、アセチ
ルアセトン11.1部シリコーン系界面活性剤2.5部
を添加混合し、さらにメタノール分散コロイド状シリカ
(平均粒子径12±1mμ、固形分30%)333.3
部、アルミニウムアセチルアセトナート6.0部を添加
し、充分撹拌した後、コーティング組成物を得た。
ルアセトン11.1部シリコーン系界面活性剤2.5部
を添加混合し、さらにメタノール分散コロイド状シリカ
(平均粒子径12±1mμ、固形分30%)333.3
部、アルミニウムアセチルアセトナート6.0部を添加
し、充分撹拌した後、コーティング組成物を得た。
(3)プラスチック基体としてCR−39(ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネート重合体)のプランレ
ンズを使用し、前記(2)で調製した、コーティング組
成物を引き上げ速度10Cm/分の速度で浸漬塗布し、
次いで、82℃/12分の予備硬化を行ない、さらに1
00℃/4時間加熱した後、硬化波゛膜を有するプラス
チック基体が得られた。
グリコールビスアリルカーボネート重合体)のプランレ
ンズを使用し、前記(2)で調製した、コーティング組
成物を引き上げ速度10Cm/分の速度で浸漬塗布し、
次いで、82℃/12分の予備硬化を行ない、さらに1
00℃/4時間加熱した後、硬化波゛膜を有するプラス
チック基体が得られた。
(4)前記(3)によって得られた硬化被膜を有するプ
ラスチック基体の上に無機酸化物質のSiO2/Zr0
pの混合物、5na2.5iOpを真空蒸着法でこの順
序にそれぞれ光学膜厚をλ/4.λ/4.λ/4(λ=
521nm)に設定して多層被覆させた。得られた反射
防止効果を有する帯電防止物品の反射干渉色は緑色を呈
し、全光線透過率は98.0%であった。
ラスチック基体の上に無機酸化物質のSiO2/Zr0
pの混合物、5na2.5iOpを真空蒸着法でこの順
序にそれぞれ光学膜厚をλ/4.λ/4.λ/4(λ=
521nm)に設定して多層被覆させた。得られた反射
防止効果を有する帯電防止物品の反射干渉色は緑色を呈
し、全光線透過率は98.0%であった。
(5) 試験結果
得られた反射防止効果を有する帯電防止物品の性能は、
下記の方法に従って試験を行なった。結果は、第1表に
示す。
下記の方法に従って試験を行なった。結果は、第1表に
示す。
(イ)硬度
#0OOOのスチールウールを用い、1.5kgの荷重
下で反射防止被膜表面を50回こすり、傷付き具合を判
定する。判定基準は、 A・・・傷がつかない。
下で反射防止被膜表面を50回こすり、傷付き具合を判
定する。判定基準は、 A・・・傷がつかない。
B・・・多く傷が発生する。
(ロ)密着性
塗膜面に1mmの基板に達するゴバン目を塗膜の上から
鋼ナイフで100個入れて、セロハン粘着テープ(商品
名パセロテープパ ニチバン社製)を強く貼りつけ、9
0度方向に急速にはがし、塗膜剥離の有無を調べな。
鋼ナイフで100個入れて、セロハン粘着テープ(商品
名パセロテープパ ニチバン社製)を強く貼りつけ、9
0度方向に急速にはがし、塗膜剥離の有無を調べな。
(ハ〉外観
得られた、反射防止効果を有する帯電防止物品を肉眼に
てその透明性、着色性、クラックの有無を観察しな。
てその透明性、着色性、クラックの有無を観察しな。
く二)耐熱性
70℃に設定したオーブン中に入れて1時間後、取り出
しクラックの有無を観察した。
しクラックの有無を観察した。
(ホ)帯電防止性
20℃、30%RI−Iの温調室で反射防止被膜表面を
こすり乾燥した灰の付着具合を判定しな。
こすり乾燥した灰の付着具合を判定しな。
A:灰が付着しない。
B:灰が付着する。
く二)耐候性
南面45度で1力月問屋外暴露し外観を観察した。判定
基準は、 ○:変化がない。
基準は、 ○:変化がない。
△:少し膜剥離が発生する。
X:全面に膜剥離が発生する。
比較例1
実施例1において無機酸化物質のSnO2をITOに変
える以外は、すべて同様に行なった。試験結果は、第1
表に示す。
える以外は、すべて同様に行なった。試験結果は、第1
表に示す。
比較例2
実施例1において、硬化被膜を設けないで、その他はす
べて同様に行なった。試験結果は第1表に示す。
べて同様に行なった。試験結果は第1表に示す。
実施例2
(1)被コーテイング透明基体の調製
テトラブロムビスフェノールAのエチレンオキサイド2
モル付加体に1モルのアクリル酸をエステル化により結
合させた水酸基含有化合物1モルに対し、ヘキサメチレ
ンジイソシアネートを0゜9モル付加させた多官能アク
リレートモノマーを含むモノマー70部とスチレン30
部をイソプロピルパーオキサイドを重合開始剤としてキ
ャスト重合した基体を低温プラズマ処理を行ない、表面
処理された基体を得な。得られた樹脂の屈折率は1.6
であった。
モル付加体に1モルのアクリル酸をエステル化により結
合させた水酸基含有化合物1モルに対し、ヘキサメチレ
ンジイソシアネートを0゜9モル付加させた多官能アク
リレートモノマーを含むモノマー70部とスチレン30
部をイソプロピルパーオキサイドを重合開始剤としてキ
ャスト重合した基体を低温プラズマ処理を行ない、表面
処理された基体を得な。得られた樹脂の屈折率は1.6
であった。
(2)コーティング組成物の調製
(a)γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン加
水分解物の調製 回転子を備えた反応器中にγ−グリシドキシプロビルト
リメトキシシラン95.3部を仕込み、液温を10°C
に保ち、マグネチンクスクーラーで撹拌しながら0.0
1規定塩酸水溶液21.8部を徐々に滴下する。滴下終
了後冷却をやめて、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシランの加水分解物を得な。
水分解物の調製 回転子を備えた反応器中にγ−グリシドキシプロビルト
リメトキシシラン95.3部を仕込み、液温を10°C
に保ち、マグネチンクスクーラーで撹拌しながら0.0
1規定塩酸水溶液21.8部を徐々に滴下する。滴下終
了後冷却をやめて、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシランの加水分解物を得な。
(b)コーティング組成物の調製
前記シラン加水分解物に、メタノール216部、ジメチ
ルホルムアミド216部、フッ素系界面活性剤0.5部
、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(シェル化学社製
商品名 エピコー)827)67.5部を添加混合し、
さらにコロイド状五酸化アンチモンゾル(目迎化学社製
商品名 アンチモンゾルA−2550平均粒子径 60
mμ)270部、アルミニウムアセチルアセトネート1
3.5部を添加し、充分撹拌した後、コーティング組成
物とした。
ルホルムアミド216部、フッ素系界面活性剤0.5部
、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(シェル化学社製
商品名 エピコー)827)67.5部を添加混合し、
さらにコロイド状五酸化アンチモンゾル(目迎化学社製
商品名 アンチモンゾルA−2550平均粒子径 60
mμ)270部、アルミニウムアセチルアセトネート1
3.5部を添加し、充分撹拌した後、コーティング組成
物とした。
(3)前記(1)によって得られた被コーテイング基体
に前記(2)で調製した、コーティング組成物を引き上
げ速度10cm/分の条件で浸漬塗布し、加熱硬化は実
施例1と同様に行なった。
に前記(2)で調製した、コーティング組成物を引き上
げ速度10cm/分の条件で浸漬塗布し、加熱硬化は実
施例1と同様に行なった。
(4)前記(3)よって得られた硬化被膜を有するプラ
スチック基体を赤、青、黄からなる分散染料染浴を調製
し、液温を93°Cに保ち5分間束色をおこなった。得
られた染色品の減光率は、50%であった。
スチック基体を赤、青、黄からなる分散染料染浴を調製
し、液温を93°Cに保ち5分間束色をおこなった。得
られた染色品の減光率は、50%であった。
(5)前記(4)によって得ちれた染色硬化被膜を有す
るプラスチック基体の上に無機酸化物質のZrO2,5
nap、S i Opを真空蒸着法でこの順序にそれぞ
れ帯電防止膜厚をλ/4、λ/4、λ/4(λ=521
nm)に設定して、両面に多層被覆さぜな。得られた反
射防止効果を有する帯電防止物品の反射干渉色は、赤紫
色を呈していた。試験結果は、第1表に示す。
るプラスチック基体の上に無機酸化物質のZrO2,5
nap、S i Opを真空蒸着法でこの順序にそれぞ
れ帯電防止膜厚をλ/4、λ/4、λ/4(λ=521
nm)に設定して、両面に多層被覆さぜな。得られた反
射防止効果を有する帯電防止物品の反射干渉色は、赤紫
色を呈していた。試験結果は、第1表に示す。
比軸例3
実施例2において無機酸化物質のSnO+をITOに変
える以外はすべて同様に行なった。試験結果は、第1表
に示す。
える以外はすべて同様に行なった。試験結果は、第1表
に示す。
比軸例4
実施例2において、硬化被膜を設けないで、その他はす
べて同様に行なった。試験結果は第1表に示す。
べて同様に行なった。試験結果は第1表に示す。
[発明の効果]
本発明によって得られる反射防止効果を有する帯電防止
物品には、以下のような効果がある。
物品には、以下のような効果がある。
(1) スチールウールなどの多数回摩耗にも耐え得
る高硬度塗膜が得られる。
る高硬度塗膜が得られる。
(2)耐候密着性に優れている。
(3) 耐熱性、耐熱水性に優れている。
(4)湿度依存性がなく、帯電防止性に優れている。
(5)染色物品が容易に得られる。
(6)耐溶剤性に優れている。
Claims (9)
- (1)透明基体の表面に硬化被膜を設け、さらに該被膜
上にSnO_2を主成分としてなる層を少なくとも1層
有する、2層以上の反射防止被膜を設けたことを特徴と
する反射防止効果を有する帯電防止物品。 - (2)透明基体が、プラスチック成型品であることを特
徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の反射防止効果
を有する帯電防止物品。 - (3)硬化被膜が、熱硬化性であることを特徴とする特
許請求の範囲第(1)項記載の反射防止効果を有する帯
電防止物品。 - (4)硬化被膜の1構成成分が、オルガノポリシロキサ
ンであることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記
載の反射防止効果を有する帯電防止物品。 - (5)オルガノポリシロキサンが、下記一般式(A)で
示される有機ケイ素化合物から得られる硬化物であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第(4)項記載の反射防
止効果を有する帯電防止物品。 R_aR^1_bSiX_4_−_a_−_b(A)(
ここで、R、R^1は、炭素数1〜10の有機基であり
、Xは加水分解性基である。aおよびbは0または1で
ある。) - (6)オルガノポリシロキサンが、下記一般式(A)で
示される有機ケイ素化合物の加水分解物から得られる硬
化物であることを特徴とする特許請求の範囲第(4)項
記載の反射防止効果を有する帯電防止物品。 R_aR^1_bSiX_4_−_a_−_b(A)(
ここで、R、R^1は、炭素数1〜10の有機基であり
、Xは加水分解性基である。aおよびbは0または1で
ある。) - (7)硬化被膜の1構成成分が、微粒子状無機酸化物で
あることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の
反射防止効果を有する帯電防止物品。 - (8)微粒子状無機酸化物が、硬化被膜中に5重量%以
上、80重量%以下含有されることを特徴とする特許請
求の範囲第(7)項記載の反射防止効果を有する帯電防
止物品。 - (9)反射防止被膜が、最上層にSiO_2を主成分と
してなる被膜を有することを特徴とする特許請求の範囲
第(1)項記載の反射防止効果を有する帯電防止物品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62114828A JPS63280790A (ja) | 1987-05-13 | 1987-05-13 | 帯電防止物品 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62114828A JPS63280790A (ja) | 1987-05-13 | 1987-05-13 | 帯電防止物品 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7222689A Division JPH01287191A (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | 帯電防止物品 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63280790A true JPS63280790A (ja) | 1988-11-17 |
JPH0463117B2 JPH0463117B2 (ja) | 1992-10-08 |
Family
ID=14647705
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62114828A Granted JPS63280790A (ja) | 1987-05-13 | 1987-05-13 | 帯電防止物品 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63280790A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0798414A (ja) * | 1993-04-15 | 1995-04-11 | Seiko Epson Corp | 偏光板および偏光板の製造方法 |
JP2001021701A (ja) * | 1999-07-09 | 2001-01-26 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 帯電防止・反射防止膜付き透明フィルム |
JP2002205352A (ja) * | 2001-01-11 | 2002-07-23 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 透明導電性被膜付基材および表示装置 |
JP4750694B2 (ja) * | 2004-03-15 | 2011-08-17 | 株式会社トクヤマ | プラスチックレンズ |
JP2012522259A (ja) * | 2009-03-27 | 2012-09-20 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | 酸化スズに基づく導電膜を有する反射防止または反射コーティングを塗膜した光学物品、および製造方法 |
JP2013247232A (ja) * | 2012-05-25 | 2013-12-09 | Nakamura Denki Seisakusho:Kk | 防爆容器 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6061258A (ja) * | 1983-09-13 | 1985-04-09 | 積水化学工業株式会社 | 導電性プラスチックシ−ト |
JPS61245449A (ja) * | 1985-04-22 | 1986-10-31 | Toray Ind Inc | 電磁波シールド性を有する光学フィルター |
-
1987
- 1987-05-13 JP JP62114828A patent/JPS63280790A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6061258A (ja) * | 1983-09-13 | 1985-04-09 | 積水化学工業株式会社 | 導電性プラスチックシ−ト |
JPS61245449A (ja) * | 1985-04-22 | 1986-10-31 | Toray Ind Inc | 電磁波シールド性を有する光学フィルター |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0798414A (ja) * | 1993-04-15 | 1995-04-11 | Seiko Epson Corp | 偏光板および偏光板の製造方法 |
JP2001021701A (ja) * | 1999-07-09 | 2001-01-26 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 帯電防止・反射防止膜付き透明フィルム |
JP2002205352A (ja) * | 2001-01-11 | 2002-07-23 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 透明導電性被膜付基材および表示装置 |
JP4750694B2 (ja) * | 2004-03-15 | 2011-08-17 | 株式会社トクヤマ | プラスチックレンズ |
US9017758B2 (en) | 2004-03-15 | 2015-04-28 | Tokuyama Corporation | Coating agent composition |
JP2012522259A (ja) * | 2009-03-27 | 2012-09-20 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | 酸化スズに基づく導電膜を有する反射防止または反射コーティングを塗膜した光学物品、および製造方法 |
JP2016028279A (ja) * | 2009-03-27 | 2016-02-25 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティックEssilor International Compagnie Generale D’ Optique | 酸化スズに基づく導電膜を有する反射防止または反射コーティングを塗膜した光学物品、および製造方法 |
JP2017215591A (ja) * | 2009-03-27 | 2017-12-07 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティックEssilor International Compagnie Generale D’ Optique | 酸化スズに基づく導電膜を有する反射防止または反射コーティングを塗膜した光学物品、および製造方法 |
JP2020034924A (ja) * | 2009-03-27 | 2020-03-05 | エシロール アンテルナシオナル (コンパニー ジェネラル ドプティック) | 酸化スズに基づく導電膜を有する反射防止または反射コーティングを塗膜した光学物品、および製造方法 |
JP2013247232A (ja) * | 2012-05-25 | 2013-12-09 | Nakamura Denki Seisakusho:Kk | 防爆容器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0463117B2 (ja) | 1992-10-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA1324539C (en) | Anti-reflection optical article and process of producing the same | |
US5015523A (en) | Coated synthetic resin lens | |
US5096626A (en) | Process of molding a coated plastic lens | |
US6451420B1 (en) | Organic-inorganic hybrid polymer and method of making same | |
AU3627799A (en) | Coating composition and method for preparing the same, and scuff-resistant plastic lense | |
JPH0335236A (ja) | フォトクロミック性を有する物品 | |
JPH049281B2 (ja) | ||
JPS6289902A (ja) | 透明成形体 | |
JPS63280790A (ja) | 帯電防止物品 | |
JPS5949501A (ja) | 反射防止膜を有する透明材料 | |
JPS6321601A (ja) | 反射防止性物品およびその製造方法 | |
JPH011527A (ja) | 反射防止性物品およびその製造方法 | |
JP2594042B2 (ja) | 反射防止膜 | |
JP2002120311A (ja) | 構造体 | |
JPH0461326B2 (ja) | ||
JPH0455588B2 (ja) | ||
JPH01275130A (ja) | 低反射透明成形体 | |
JP2684364B2 (ja) | 高屈折率コーティング膜 | |
JPS63197635A (ja) | 反射防止効果を有するプラスチツク光学物品 | |
JP2696829B2 (ja) | 高屈折率コーテイング膜およびその製造方法 | |
JPH07119386B2 (ja) | コ−ティング用組成物 | |
JPS6385701A (ja) | 反射防止物品およびその製造方法 | |
JPS6193402A (ja) | 反射防止性を有する染色光学物品 | |
JPH01245062A (ja) | コーテイング組成物およびその被膜の設けられたプラスチツク成形品 | |
JPH0228267A (ja) | コーティング用組成物 |