JPS6385701A - 反射防止物品およびその製造方法 - Google Patents
反射防止物品およびその製造方法Info
- Publication number
- JPS6385701A JPS6385701A JP61232206A JP23220686A JPS6385701A JP S6385701 A JPS6385701 A JP S6385701A JP 61232206 A JP61232206 A JP 61232206A JP 23220686 A JP23220686 A JP 23220686A JP S6385701 A JPS6385701 A JP S6385701A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- film
- antireflection article
- base material
- fluorine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 30
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims abstract description 14
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 61
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 57
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 15
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 15
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims description 12
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 12
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- -1 fluorine inorganic compound Chemical class 0.000 claims description 11
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 7
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 7
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 4
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 4
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000007735 ion beam assisted deposition Methods 0.000 claims description 3
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 claims description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 abstract description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 8
- 239000004033 plastic Substances 0.000 abstract description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 4
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 2
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 abstract description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 29
- 239000002585 base Substances 0.000 description 16
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 6
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical group [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 239000000986 disperse dye Substances 0.000 description 2
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 2
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFPBWZOKGZKYRE-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylperoxypropane Chemical compound CC(C)OOC(C)C NFPBWZOKGZKYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005083 alkoxyalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- KEBBHXFLBGHGMA-UHFFFAOYSA-K aluminum;4-ethyl-3-oxohexanoate Chemical compound [Al+3].CCC(CC)C(=O)CC([O-])=O.CCC(CC)C(=O)CC([O-])=O.CCC(CC)C(=O)CC([O-])=O KEBBHXFLBGHGMA-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001632 barium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N butyronitrile Chemical compound CCCC#N KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 238000013035 low temperature curing Methods 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000013020 steam cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Chemical group 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 230000002747 voluntary effect Effects 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical group [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、耐すり偏性、耐摩耗性、耐衝撃性、耐薬品性
、可撓性、耐熱性、耐熱水性、耐光性、耐候性、染色性
、反射防止性などに優れ、眼鏡用レンズ、カメラ用レン
ズ、CRT用フィルターなどの光学用に適した反射防止
物品およびその製造方法に関するものである。
、可撓性、耐熱性、耐熱水性、耐光性、耐候性、染色性
、反射防止性などに優れ、眼鏡用レンズ、カメラ用レン
ズ、CRT用フィルターなどの光学用に適した反射防止
物品およびその製造方法に関するものである。
プラスチック成形品、とりわけプラスチックレンズに代
表される成形体は、極めて優れた耐衝撃性および透明性
を有し、かつ軽りであり、染色も容易であることから近
年大rjJに需要が増えている。
表される成形体は、極めて優れた耐衝撃性および透明性
を有し、かつ軽りであり、染色も容易であることから近
年大rjJに需要が増えている。
しかし、プラスチックは無機ガラスに比べて表面硬度が
低く傷が付き易いという欠点を有している。
低く傷が付き易いという欠点を有している。
また、無機ガラス物品や透明プラスチック成形品などの
透明基材を通して物を見る場合、反射光が強く、反射像
が明瞭であることはわずられしく、例えば眼鏡用レンズ
ではゴースト、フレアなどと呼ばれる反射像を生じて眼
に不快感を与えたりする。そこで従来より反射防止のた
めに、屈折率が基材と異なる物質を、真空蒸着法などに
より基材上に被膜形成させる方法が行なわれた。この場
合反射防止効果をもつとも高からしめるためには基材を
被覆する物質の厚みの選択が重要であることが知られて
いる(光学技術]ンタクトVo19. No、8.17
〜23. (1971))。例えば、単層被膜において
は、基材より低屈折率の物質を光学的膜厚が光波長の1
/4ないしはその奇数倍になるように選択すると極小の
反射率すなわち極大の透過率を与えることが知られてい
る。ここで光学的膜厚とは被膜形成材料の屈折率と該被
膜の膜厚の積で与えられるものである。
透明基材を通して物を見る場合、反射光が強く、反射像
が明瞭であることはわずられしく、例えば眼鏡用レンズ
ではゴースト、フレアなどと呼ばれる反射像を生じて眼
に不快感を与えたりする。そこで従来より反射防止のた
めに、屈折率が基材と異なる物質を、真空蒸着法などに
より基材上に被膜形成させる方法が行なわれた。この場
合反射防止効果をもつとも高からしめるためには基材を
被覆する物質の厚みの選択が重要であることが知られて
いる(光学技術]ンタクトVo19. No、8.17
〜23. (1971))。例えば、単層被膜において
は、基材より低屈折率の物質を光学的膜厚が光波長の1
/4ないしはその奇数倍になるように選択すると極小の
反射率すなわち極大の透過率を与えることが知られてい
る。ここで光学的膜厚とは被膜形成材料の屈折率と該被
膜の膜厚の積で与えられるものである。
さらに特開昭52−165862号公報には、プラスチ
ック成型品にオルガノポリシロキサン系樹脂層を設け、
その上に金属及び/または照鍬セラミック物層を設ける
ことが提案されている。
ック成型品にオルガノポリシロキサン系樹脂層を設け、
その上に金属及び/または照鍬セラミック物層を設ける
ことが提案されている。
しかしながら、オルガノポリシロキサン系樹脂からなる
被膜上への無機酸化物からなる被膜の被覆は、十分に強
固な密着力が得られないために被膜の剥離、表面硬度の
低下、ざらには発生した傷が太く、深いなどの多くの欠
点があり、実用耐久性に乏しいという問題点があった。
被膜上への無機酸化物からなる被膜の被覆は、十分に強
固な密着力が得られないために被膜の剥離、表面硬度の
低下、ざらには発生した傷が太く、深いなどの多くの欠
点があり、実用耐久性に乏しいという問題点があった。
本発明は、かかる従来技術の問題点を解消するために、
下記の構成を有する。
下記の構成を有する。
すなわち、本発明は、
「透明基材の表面に下記AおよびB被膜がこの順で積層
されてなる2層構造を有することを特徴とする反射防止
物品。
されてなる2層構造を有することを特徴とする反射防止
物品。
A、屈折率が1.43〜1.65であり、膜厚が100
〜20000nmであり、かつ被膜構成成分として無機
酸化物微粒子を5〜80徂但%を含む有機物ポリマーか
らなる被膜。
〜20000nmであり、かつ被膜構成成分として無機
酸化物微粒子を5〜80徂但%を含む有機物ポリマーか
らなる被膜。
B、フッ素化合物からなる被膜」
に関する。
ここで透明基材とは下式により求められる曇価が80%
以下の透明性を有する透明基材であって、必要に応じ、
染料などで着色されているもの、模様状に彩色されてい
るものもこれに含めることができる。また透明基材の上
に、たとえば耐擦傷性などを付与するために被覆材によ
って被覆されたものも下式により求められる曇価が80
%以下であれば本発明の透明基材に含めることができる
。
以下の透明性を有する透明基材であって、必要に応じ、
染料などで着色されているもの、模様状に彩色されてい
るものもこれに含めることができる。また透明基材の上
に、たとえば耐擦傷性などを付与するために被覆材によ
って被覆されたものも下式により求められる曇価が80
%以下であれば本発明の透明基材に含めることができる
。
拡散光線透過率
曇価(パーセント)= X100全光
線透過率 本発明の意図するところの光線反射率の低下および光線
透過率の向上効果をより有効に発揮させるためにはでき
るだけ透明性のあるものが好ましい。ざらに本発明にお
ける光線反射率の低下を木材の一方の面のみで十分でお
る場合には、その反対面が不透明なもので覆われた基材
であっても、本発明で言うところの透明基材として使用
できる。
線透過率 本発明の意図するところの光線反射率の低下および光線
透過率の向上効果をより有効に発揮させるためにはでき
るだけ透明性のあるものが好ましい。ざらに本発明にお
ける光線反射率の低下を木材の一方の面のみで十分でお
る場合には、その反対面が不透明なもので覆われた基材
であっても、本発明で言うところの透明基材として使用
できる。
この場合には、曇価としては反対面における不透明物質
を除去したもので定義されなければならない。
を除去したもので定義されなければならない。
このような透明基材としてはガラス、プラスチック物品
などの成型物、シート、フィルムなどが挙げられる。
などの成型物、シート、フィルムなどが挙げられる。
本発明はこれら透明基材の表面にまず前記のA被膜を設
けてなるものであるが、ここでA被膜としては屈折率が
1.43〜1.65であり、膜厚は100〜20000
nmであることが必要である。
けてなるものであるが、ここでA被膜としては屈折率が
1.43〜1.65であり、膜厚は100〜20000
nmであることが必要である。
すなわち、屈折率が1.43に満たない場合には反射防
止効果が乏しい。一方、屈折率が1.65を越えると透
明基材との屈折率差が生じやすく、反射干渉縞が認めら
れるようになり、商品価値の低いものとなる。また、膜
厚が100止に満たない場合にはA被膜を設ける目的で
ある表面硬度の向上、耐熱性、耐薬品性などの向上が期
待されない。また、20000nmを越えると耐衝撃性
などの低下が認められ、好ましくない。
止効果が乏しい。一方、屈折率が1.65を越えると透
明基材との屈折率差が生じやすく、反射干渉縞が認めら
れるようになり、商品価値の低いものとなる。また、膜
厚が100止に満たない場合にはA被膜を設ける目的で
ある表面硬度の向上、耐熱性、耐薬品性などの向上が期
待されない。また、20000nmを越えると耐衝撃性
などの低下が認められ、好ましくない。
これらの特性を有するA被膜を構成する成分としては無
機酸化物微粒子が被膜中に5〜80重最%含まれること
が必要である。すなわち、5重量%未満ではフッ素含有
無機化合物被膜との間で十分に強固な接着強度が゛得ら
れず、80重開%を越えると透明基材との接着性不良、
A被膜にクラック発生、耐衝撃性低下などの問題がある
。また、ここで使用される無は酸化物微粒子とは、塗膜
状態で透明性を損わないものであればとくに限定されな
いが、作業性、透明性付与の点から特に好ましい例とし
てはコロイド状に分散したゾルが挙げられる。さらに具
体的な例としてはシリカゾル、チタニアゾル、ジルコニ
アゾル、酸化アルミナゾル、アルミナゾルなどが挙げら
れる。中でもとくに表面硬度、汗に対する耐久性、光沢
向上の観点から、シリカゾル、酸化アンチモンゾル、チ
タニアゾルの使用が好ましい。
機酸化物微粒子が被膜中に5〜80重最%含まれること
が必要である。すなわち、5重量%未満ではフッ素含有
無機化合物被膜との間で十分に強固な接着強度が゛得ら
れず、80重開%を越えると透明基材との接着性不良、
A被膜にクラック発生、耐衝撃性低下などの問題がある
。また、ここで使用される無は酸化物微粒子とは、塗膜
状態で透明性を損わないものであればとくに限定されな
いが、作業性、透明性付与の点から特に好ましい例とし
てはコロイド状に分散したゾルが挙げられる。さらに具
体的な例としてはシリカゾル、チタニアゾル、ジルコニ
アゾル、酸化アルミナゾル、アルミナゾルなどが挙げら
れる。中でもとくに表面硬度、汗に対する耐久性、光沢
向上の観点から、シリカゾル、酸化アンチモンゾル、チ
タニアゾルの使用が好ましい。
無機酸化物微粒子としては、平均粒子径1〜200mμ
のものが通常は使用されるが、好ましくは5〜100m
μの粒子径のものが使用される。
のものが通常は使用されるが、好ましくは5〜100m
μの粒子径のものが使用される。
平均粒子径が200mμを越えるものは、生成被膜の透
明性を低下させ、濁りの大きなものとなり、厚膜化が困
難となる。また微粒子の分散性を改良するために各種の
界面活性剤やアミンを添加しても何ら問題はない。さら
には2種以上の無機酸化物微粒子を併用して使用するこ
とも何ら問題はない。
明性を低下させ、濁りの大きなものとなり、厚膜化が困
難となる。また微粒子の分散性を改良するために各種の
界面活性剤やアミンを添加しても何ら問題はない。さら
には2種以上の無機酸化物微粒子を併用して使用するこ
とも何ら問題はない。
本発明におけるA被膜中には前記の無機酸化物微粒子以
外に有機物からなるポリマーが含まれてなるものである
が、ここで有機物ポリマーとしては透明性を有し、無機
酸化物微粒子を均一に分散させて透明被膜を形成し得る
ものであれば特に限定されないが、被膜の硬度、耐薬品
性などの観点から熱硬化性樹脂が好ましく使用される。
外に有機物からなるポリマーが含まれてなるものである
が、ここで有機物ポリマーとしては透明性を有し、無機
酸化物微粒子を均一に分散させて透明被膜を形成し得る
ものであれば特に限定されないが、被膜の硬度、耐薬品
性などの観点から熱硬化性樹脂が好ましく使用される。
これらの熱硬化性樹脂の好ましい具体例としては、多官
能アクリル基を有する七ツマ−、オリゴマー、あるいは
プレポリマー、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレ
タン樹脂がおる。ポリウレタン樹脂には脂肪族、脂環式
ないしは芳香族イソシアネート、およびこれらとポリオ
ールからなるウレタン形成性組成物が合まれる。ざらに
、上記の化合物に2重粘合を導入することにより、ラジ
カル硬化を可能にした各種変性樹脂も含まれる。
能アクリル基を有する七ツマ−、オリゴマー、あるいは
プレポリマー、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレ
タン樹脂がおる。ポリウレタン樹脂には脂肪族、脂環式
ないしは芳香族イソシアネート、およびこれらとポリオ
ールからなるウレタン形成性組成物が合まれる。ざらに
、上記の化合物に2重粘合を導入することにより、ラジ
カル硬化を可能にした各種変性樹脂も含まれる。
さらには有11置換されたケイ素系化合物から得られる
オルガノポリシロキサン系化合物も好適に用いられる。
オルガノポリシロキサン系化合物も好適に用いられる。
上記のケイ素系化合物は、一般式
%式%()
であられされる化合物ないしはその加水分解生成物であ
る。ここでR1、R2は各々アルキル基、アルケニル基
、アリール基、またはハロゲン基、エポキシ基、グリシ
ドキシ基、アミノ基、メルカプト基、メタクリルオキシ
基ないしシアノ基を有する炭化水素基であり、同種であ
っても、異種であってもよい。Xはアルコキシ、アルコ
キシアルコキシ、フェノキシないしアセトキシ基から選
ばれた加水分解可能な置換基、a、bは各々0.1また
は2であり、かつa十すが1または2である。
る。ここでR1、R2は各々アルキル基、アルケニル基
、アリール基、またはハロゲン基、エポキシ基、グリシ
ドキシ基、アミノ基、メルカプト基、メタクリルオキシ
基ないしシアノ基を有する炭化水素基であり、同種であ
っても、異種であってもよい。Xはアルコキシ、アルコ
キシアルコキシ、フェノキシないしアセトキシ基から選
ばれた加水分解可能な置換基、a、bは各々0.1また
は2であり、かつa十すが1または2である。
上記においてエポキシ基、グリシドキシ基を含有する場
合は、被膜を分散染料などで染色、または着色すること
が容易に可能であり、高付加価値なものとなる。
合は、被膜を分散染料などで染色、または着色すること
が容易に可能であり、高付加価値なものとなる。
上記の組成物は通常揮発性溶媒に希釈して液状組成物と
して塗布される。溶媒として用いられるものは、特に限
定されないが、使用にあたっては被塗布物の表面性状を
損わぬことが要求され、さらには組成物の安定性、基材
に対するぬれ性、揮発性などをも考慮して決められるべ
きである。また溶媒は1種のみならず2種以上の混合物
として用いることも可能である。
して塗布される。溶媒として用いられるものは、特に限
定されないが、使用にあたっては被塗布物の表面性状を
損わぬことが要求され、さらには組成物の安定性、基材
に対するぬれ性、揮発性などをも考慮して決められるべ
きである。また溶媒は1種のみならず2種以上の混合物
として用いることも可能である。
ざらには、これらのコーティング組成物中には、塗布時
におけるフローを向上させる目的で各種の界面活性剤を
使用することも可能でおり、とくにジメチルポリシロキ
サンとアルキレンオキシドとのブロックまたはグラフト
共重合体、ざらにはフッ素系界面活性剤などが有効でお
る。
におけるフローを向上させる目的で各種の界面活性剤を
使用することも可能でおり、とくにジメチルポリシロキ
サンとアルキレンオキシドとのブロックまたはグラフト
共重合体、ざらにはフッ素系界面活性剤などが有効でお
る。
ざらに耐候性を向上させる目的で紫外線吸収剤、または
耐熱劣化向上法として酸化防止剤を添加することも可能
である。
耐熱劣化向上法として酸化防止剤を添加することも可能
である。
1m方法としては通常のコーティング作業で用いられる
方法が適用可能であるが、たとえば浸漬塗装、流し塗り
法、スピンコード法などが好ましい。このようにして塗
布されたコーディング組成物は加熱乾燥、または硬化さ
れる。
方法が適用可能であるが、たとえば浸漬塗装、流し塗り
法、スピンコード法などが好ましい。このようにして塗
布されたコーディング組成物は加熱乾燥、または硬化さ
れる。
加熱方法とし、・では熱風、赤外線などで行なうことが
可能である。また加熱温度は適用される基材および使用
されるコーティング組成物によって決定されるべきであ
るが、通常は室温から250’C1より好ましくは35
〜200℃が使用される。これより低温では硬化または
乾燥が不充分になりゃすく、またこれより高温になると
熱分解、亀裂発生などが起り、ざらには黄変などの問題
を生じゃすくなる。
可能である。また加熱温度は適用される基材および使用
されるコーティング組成物によって決定されるべきであ
るが、通常は室温から250’C1より好ましくは35
〜200℃が使用される。これより低温では硬化または
乾燥が不充分になりゃすく、またこれより高温になると
熱分解、亀裂発生などが起り、ざらには黄変などの問題
を生じゃすくなる。
本発明における液状コーティング組成物の塗布にあたっ
ては、塗布されるべき表面は清浄化されていることが好
ましく、清浄化に際しては界面活性剤による汚れ除去、
ざらには有機溶剤による脱脂、フレオンによる蒸気洗浄
などが適用される。
ては、塗布されるべき表面は清浄化されていることが好
ましく、清浄化に際しては界面活性剤による汚れ除去、
ざらには有機溶剤による脱脂、フレオンによる蒸気洗浄
などが適用される。
また密着性、耐久性の向上を目的として各種の前処理を
施すことも有効な手段である。特に好ましく用いられる
方法としては、濃度にもよるが酸、アルカリなどによる
薬品処理である。
施すことも有効な手段である。特に好ましく用いられる
方法としては、濃度にもよるが酸、アルカリなどによる
薬品処理である。
本発明における液状コーティング組成物中には、被膜性
能、透明性などを大幅に低下させない範囲で無機酸化物
微粒子以外の無機化合物などを添加することができる。
能、透明性などを大幅に低下させない範囲で無機酸化物
微粒子以外の無機化合物などを添加することができる。
これらの添加物の併用によって基材との接着性、耐薬品
性、表面硬度、耐久性、染色性などの諸物性を向上させ
ることができる。
性、表面硬度、耐久性、染色性などの諸物性を向上させ
ることができる。
前記の添加可能な無機材料としては以下の一般式[II
で表わされる金属アルコキシドおよび/またはその加水
分解物が挙げられる。
で表わされる金属アルコキシドおよび/またはその加水
分解物が挙げられる。
M(OR>II、 [1](ここで
Rはアルキル基、アシル基、アルコキシアルキル基であ
り、mは金属Mの電荷数と同じ値である。Mとしてはケ
イ素、チタン、ジルコン、アンチモン、タンタル、ゲル
マニウム、アルミニウムである。) 本発明のA被膜中に含まれる有機物ポリマーを熱硬化性
樹脂で形成せしめる場合には、硬化促進、低温硬化など
を可能とする目的で各種の硬化剤が使用可能でおる。硬
化剤としては各種エポキシ樹脂硬化剤、おるいは各種有
機ケイ素樹脂硬化剤などが適用される。
Rはアルキル基、アシル基、アルコキシアルキル基であ
り、mは金属Mの電荷数と同じ値である。Mとしてはケ
イ素、チタン、ジルコン、アンチモン、タンタル、ゲル
マニウム、アルミニウムである。) 本発明のA被膜中に含まれる有機物ポリマーを熱硬化性
樹脂で形成せしめる場合には、硬化促進、低温硬化など
を可能とする目的で各種の硬化剤が使用可能でおる。硬
化剤としては各種エポキシ樹脂硬化剤、おるいは各種有
機ケイ素樹脂硬化剤などが適用される。
これらの硬化剤の具体的な例としては、各種の有t!I
震およびそれらの酸無水物、窒素含有有機化合物、各種
金属錯化合物あるいは金属アルコキシド、ざらにはアル
カリ金属の有機カルボン酸塩、炭酸塩などの各種塩、ざ
らには、過酸化物、アゾビスイソブチロニトリルなどの
ラジカル重合開始剤などが挙げられる。これらの硬化剤
は2種以上混合して使用することも可能である。これら
の硬化剤の中でも本発明の目的には、塗料の安定性、コ
ーテイング後の塗膜の着色防止などの点から、特に下記
に示すアルミニムラキレート化合物が有用でおる。
震およびそれらの酸無水物、窒素含有有機化合物、各種
金属錯化合物あるいは金属アルコキシド、ざらにはアル
カリ金属の有機カルボン酸塩、炭酸塩などの各種塩、ざ
らには、過酸化物、アゾビスイソブチロニトリルなどの
ラジカル重合開始剤などが挙げられる。これらの硬化剤
は2種以上混合して使用することも可能である。これら
の硬化剤の中でも本発明の目的には、塗料の安定性、コ
ーテイング後の塗膜の着色防止などの点から、特に下記
に示すアルミニムラキレート化合物が有用でおる。
ここでいうアルミニウムキレート化合物とは、一般式A
aX、Y3−nで示されるアルミニウムキレート化合物
である。
aX、Y3−nで示されるアルミニウムキレート化合物
である。
(但し式中、XはOL (Lは低級アルキル基)、Yは
一般式M1COCH2COM2(Ml、M2はいずれも
低級アルキル基)で示される化合物に由来する配位子、
および一般式M3COC112COOM4(M3.M4
はいずれも低級アルキル基)で示される化合物に由来す
る配位子から選ばれる少なくとも1つであり、nは0.
1または2である。
一般式M1COCH2COM2(Ml、M2はいずれも
低級アルキル基)で示される化合物に由来する配位子、
および一般式M3COC112COOM4(M3.M4
はいずれも低級アルキル基)で示される化合物に由来す
る配位子から選ばれる少なくとも1つであり、nは0.
1または2である。
本発明の硬化剤として特に有用な一般式AαXn Y3
−nで示されるアルミニウムキレート化合物のうちでは
、組成物への溶解性、安定性、硬化触媒としての効果な
どの観点からして、アルミニウムアセチルアセトネート
、アルミニウムビスエチルアセトアセテート・モノアセ
デルアセトネート、アル゛ミニウムージーn−1トキシ
ドーモノエチルアセトアセテート、アルミニウムージー
1SO−プロボキシドーモノメヂルアセトアセテートな
どが好ましい。これらは2種以上を混合して使用するこ
とも可能である。
−nで示されるアルミニウムキレート化合物のうちでは
、組成物への溶解性、安定性、硬化触媒としての効果な
どの観点からして、アルミニウムアセチルアセトネート
、アルミニウムビスエチルアセトアセテート・モノアセ
デルアセトネート、アル゛ミニウムージーn−1トキシ
ドーモノエチルアセトアセテート、アルミニウムージー
1SO−プロボキシドーモノメヂルアセトアセテートな
どが好ましい。これらは2種以上を混合して使用するこ
とも可能である。
B被膜の形成に際しては前もって、活性化ガス処理、薬
品処理などを施してもよい。
品処理などを施してもよい。
また、B被膜であるフッ素含有無機化合物の形成方法と
してはA被膜との接着強i、膜密度向上の観点から真空
雰囲気下での形成手段が好ましく、真空蒸着法、イオン
ビームアシスト蒸着法、イオンプレーティング法などが
特に好ましく、硬度向上にはイオンビームアシスト蒸着
が有効である。
してはA被膜との接着強i、膜密度向上の観点から真空
雰囲気下での形成手段が好ましく、真空蒸着法、イオン
ビームアシスト蒸着法、イオンプレーティング法などが
特に好ましく、硬度向上にはイオンビームアシスト蒸着
が有効である。
また、本発明の8被膜に用いられるフッ素含有無殿化合
物は一般に屈折率が低く、反射防止効果の発現に好まし
いものであるが、かかる化合物の具体的な代表例として
はMgF2、AαF3、BaF2 、L2 F、CaF
2 、Na3 AD、FB、Na5 AD3 F14な
どが挙げられる。
物は一般に屈折率が低く、反射防止効果の発現に好まし
いものであるが、かかる化合物の具体的な代表例として
はMgF2、AαF3、BaF2 、L2 F、CaF
2 、Na3 AD、FB、Na5 AD3 F14な
どが挙げられる。
一方前記のA被膜の前処理である活性化ガスによる表面
処理は真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティン
グなどと分けて行なうことも可能であるが同一チャンバ
ー内で行なわれることが生産性向上ばかりでなく密着性
をより一段と向上させるのに有効である。かかる活性化
ガス処理を適用する場合には、処理条件としてはA被膜
の組成物、硬化条件、膜厚、染色の有無などによってそ
れぞれ最適化されるべきであり、実験的に定められるべ
きものである。
処理は真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティン
グなどと分けて行なうことも可能であるが同一チャンバ
ー内で行なわれることが生産性向上ばかりでなく密着性
をより一段と向上させるのに有効である。かかる活性化
ガス処理を適用する場合には、処理条件としてはA被膜
の組成物、硬化条件、膜厚、染色の有無などによってそ
れぞれ最適化されるべきであり、実験的に定められるべ
きものである。
フッ素無機化合物からなるB被膜の膜厚は目的とする反
射防止の要求性能、たとえば表面硬度、反射防止性、耐
薬品性などによって決定されるが、特に反射防止性を最
大限に付与するという観点からは適用波長λでの光学的
膜厚がλ/4に設定されることが望ましい。
射防止の要求性能、たとえば表面硬度、反射防止性、耐
薬品性などによって決定されるが、特に反射防止性を最
大限に付与するという観点からは適用波長λでの光学的
膜厚がλ/4に設定されることが望ましい。
また本発明の好ましい実施態様としては、A被膜を有す
る透明基材をあらかじめ分散染料などを用いて染色した
のち、前記の8被膜を設けて着色した反射防止物品が挙
げられる。
る透明基材をあらかじめ分散染料などを用いて染色した
のち、前記の8被膜を設けて着色した反射防止物品が挙
げられる。
以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限
定されるものではない。
定されるものではない。
実施例1.比較例1〜2
(1) 被コーテイング透明基材の調製テトラブロム
ごスフエノールAのエチレンオキサイド2モル付加体に
1モルのアクリル酸をエステル化により結合させた水M
W含有化合物1モルに対し、ヘキサメチレンジイソシア
ネートを0゜9モル付加させた多官能アクリレートモノ
マーを含むモノマー70部とスチレン30部をイソプロ
ピルパーオキサイドを重合開始剤としてキャスト重合し
た基材を低温プラズマ処理を行ない、表面処理された基
材を得た。得られた樹脂の屈折率は1.6であった。
ごスフエノールAのエチレンオキサイド2モル付加体に
1モルのアクリル酸をエステル化により結合させた水M
W含有化合物1モルに対し、ヘキサメチレンジイソシア
ネートを0゜9モル付加させた多官能アクリレートモノ
マーを含むモノマー70部とスチレン30部をイソプロ
ピルパーオキサイドを重合開始剤としてキャスト重合し
た基材を低温プラズマ処理を行ない、表面処理された基
材を得た。得られた樹脂の屈折率は1.6であった。
(2) コーティング組成物の調製
(a)γ−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン加
水分解物の調製 回転子を備えた反応器中にγ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン95.3CIを仕込み、液温を10℃
に保ち、マグネチックスターラーで攪拌しながら0.0
1規定塩酸水溶液21.8gを徐々に滴下する。滴下終
了後冷却をやめて、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシランの加水分解物を1qた。
水分解物の調製 回転子を備えた反応器中にγ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン95.3CIを仕込み、液温を10℃
に保ち、マグネチックスターラーで攪拌しながら0.0
1規定塩酸水溶液21.8gを徐々に滴下する。滴下終
了後冷却をやめて、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシランの加水分解物を1qた。
(b)塗料の調製
前記シラン加水分解物に、メタノール216g1ジメチ
ルホルムアミド216g、フッ素系界面活性剤0.5g
、ごスフエノールA型エポキシ樹脂(シェル化学社製
商品名 エピコート827)67.51を添加混合し、
さらにコロイド状五酸化アンチモンゾル(8産化学社製
商品名 アンチモンゾルA−2550平均粒子径 60
mμ)270g、アルミニウムアセデルアセトネート1
3.5C]を添加し、充分攪拌した後、コーティング組
成物とした。
ルホルムアミド216g、フッ素系界面活性剤0.5g
、ごスフエノールA型エポキシ樹脂(シェル化学社製
商品名 エピコート827)67.51を添加混合し、
さらにコロイド状五酸化アンチモンゾル(8産化学社製
商品名 アンチモンゾルA−2550平均粒子径 60
mμ)270g、アルミニウムアセデルアセトネート1
3.5C]を添加し、充分攪拌した後、コーティング組
成物とした。
(3〉A被膜を有するプラスチック成形体の作製前記<
1〉によって得られた被コーテイング樹脂に前記(2)
で調製したコーティング組成物を引き上げ速度10cm
/分の条件で被コーテイング樹脂に浸漬塗布し、次いで
82℃/12分の予備硬化を行ないさらに93°C/4
時間加熱してA被膜を有するプラスチック成形体を得た
。
1〉によって得られた被コーテイング樹脂に前記(2)
で調製したコーティング組成物を引き上げ速度10cm
/分の条件で被コーテイング樹脂に浸漬塗布し、次いで
82℃/12分の予備硬化を行ないさらに93°C/4
時間加熱してA被膜を有するプラスチック成形体を得た
。
△被膜の屈折率は1.58、膜厚は2300nmであっ
た。
た。
(4) 反射防止物品の作製
前記(3)によって1qられたA被膜を有する透明基材
の上にB被膜であるところのNa5Aα3F14を真空
蒸着法で光学的膜厚をλ/4(λは521nm)に設定
して、被覆させた。
の上にB被膜であるところのNa5Aα3F14を真空
蒸着法で光学的膜厚をλ/4(λは521nm)に設定
して、被覆させた。
なあ、比較例とて透明基材のみ(比較例1)、およびA
被膜のみ(比較例2)についても以下の性能評価を行な
った。
被膜のみ(比較例2)についても以下の性能評価を行な
った。
(5) 性能評価
1qられた反射防止物品の性能は下記の方法に従って試
験を行なった。結果は第1表に示す。
験を行なった。結果は第1表に示す。
(イ)スチールウール硬度
aooooのスチールウールで塗面をこすり、傷つき具
合を判定する。判定基準は、 A・・・強く摩擦しても傷がつかない。
合を判定する。判定基準は、 A・・・強く摩擦しても傷がつかない。
B・・・かなり強く摩擦すると少し傷がつく。
C・・・弱い摩擦でも傷がつく。
(ロ)密着性
塗膜面に11T1m間隔の基材に達するゴバン目を塗膜
の上から鋼ナイフで100個入れて、セロハン粘着テー
プ(商品名”セロテープパニチバン株式会社製)を強く
はりつけ、90度方向に急速にはがし、塗膜剥離の有無
を調べた。
の上から鋼ナイフで100個入れて、セロハン粘着テー
プ(商品名”セロテープパニチバン株式会社製)を強く
はりつけ、90度方向に急速にはがし、塗膜剥離の有無
を調べた。
(ハ)外観
得られた物品を肉眼にてその透明性、クラックの有無な
どを観察した。
どを観察した。
(ニ)全光線透過率
可視光域仝体での光線透過率を測定した。
実施例2〜3
実施例1においてNa5 Af13 F14をMQF2
に変え、B被膜の形成をそれぞれ、真空蒸着法、および
イオンビームアシスト蒸着を用いる以外は、すべて同様
にして行なった。試験結果を第1表に示す。
に変え、B被膜の形成をそれぞれ、真空蒸着法、および
イオンビームアシスト蒸着を用いる以外は、すべて同様
にして行なった。試験結果を第1表に示す。
(発明の効果〕
本発明によって得られる反射防止物品には以下のような
効果がある。
効果がある。
(1) 高い反射防止効果がある。
(2) 高い表面硬度を有する
(3)耐久性に優れた反射防止膜が得られる。。
特許出願人 東 し 株 式 会 社1、事件の表示
昭和61年特許願第232206号
2、発明の名称
反射防止物品およびその製造方法
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
住所 東京都中央区日本橋室町2丁目2番1号名称 (
315) 東し株式会社 代表取締役社長 前田勝之助<、、”’:’l)”、\
さ4、補正命令の日付 自発 \・□“
′’+、Hi+’? 5、補正により増加する発明の詳細な説明細書中 (1)「特許請求の範囲」を別紙のとおり補正します。
315) 東し株式会社 代表取締役社長 前田勝之助<、、”’:’l)”、\
さ4、補正命令の日付 自発 \・□“
′’+、Hi+’? 5、補正により増加する発明の詳細な説明細書中 (1)「特許請求の範囲」を別紙のとおり補正します。
(2) 第5頁第6行目「透明」を「(1) 透明
」と補正します。
」と補正します。
(3) 第5頁第13行目「フッ素化合物からなる被
膜」を「フッ素含有無機化合物からなる被膜(2)
透明基材の表面に加熱することによって屈折率が1.4
3〜1.65、膜厚が100〜20ooonmであり、
かつ被膜構成成分として無機酸化物微粒子を5〜80重
量%含む有機物ポリマーからなるA被膜を形成し得るコ
ーティング組成物を塗布し、さらにその上にフッ素含有
無機化合物からなるB被膜を真空雰囲気下で設けること
を特徴とする反射防止物品の製造方法。」と補正します
。
膜」を「フッ素含有無機化合物からなる被膜(2)
透明基材の表面に加熱することによって屈折率が1.4
3〜1.65、膜厚が100〜20ooonmであり、
かつ被膜構成成分として無機酸化物微粒子を5〜80重
量%含む有機物ポリマーからなるA被膜を形成し得るコ
ーティング組成物を塗布し、さらにその上にフッ素含有
無機化合物からなるB被膜を真空雰囲気下で設けること
を特徴とする反射防止物品の製造方法。」と補正します
。
(4)第16頁第17行目「フッ素無芸」を「フッ素含
有無機」と補正します。
有無機」と補正します。
別紙
特許請求の範囲
(1) 透明基材の表面に下記AおよびB被膜がこの
順で積層されてなる2層構造を有することを特徴とする
反射防止物品。
順で積層されてなる2層構造を有することを特徴とする
反射防止物品。
A、屈折率が1.43〜1.65であり、膜厚が100
〜20000止であり、かつ被膜構成成分として無機酸
化物微粒子を5〜80重量%を含む有機物ポリマーから
なる被膜。
〜20000止であり、かつ被膜構成成分として無機酸
化物微粒子を5〜80重量%を含む有機物ポリマーから
なる被膜。
B、フッ素含有無機化合物からなる被膜。
<2) A被膜の形成成分である有機物ポリマーが熱
硬化性樹脂であることを特徴とする特許請求の範囲第(
1)項記載の反射防止物品。
硬化性樹脂であることを特徴とする特許請求の範囲第(
1)項記載の反射防止物品。
(3)B被膜が真空蒸着膜であることを特徴とする特許
請求の範囲第(1)項記載の反射防止物品。
請求の範囲第(1)項記載の反射防止物品。
(4)A被膜中に含まれる無[11m化物微粒子が酸化
アンチモン、二酸化ケイ素、チタニア、ジルコニア、酸
化アルミニウムから選ばれる1種以上であることを特徴
とする特許請求の範囲第(1)項記載の反射防止物品。
アンチモン、二酸化ケイ素、チタニア、ジルコニア、酸
化アルミニウムから選ばれる1種以上であることを特徴
とする特許請求の範囲第(1)項記載の反射防止物品。
(5)透明基材の表面に加熱することによって屈折率が
1.43〜1.65、膜厚が100〜20o o o
nmであり、かつ被膜構成成分として無機酸化物微粒子
を5〜80重但%含む有機物ポリマーからなるA被膜を
形成し得るコーティング組成物を塗布し、さらにその上
にフッ素含有無機化合物からなるB被膜を真空雰囲気下
で設けることを特徴とする反射防止物品の製造方法。
1.43〜1.65、膜厚が100〜20o o o
nmであり、かつ被膜構成成分として無機酸化物微粒子
を5〜80重但%含む有機物ポリマーからなるA被膜を
形成し得るコーティング組成物を塗布し、さらにその上
にフッ素含有無機化合物からなるB被膜を真空雰囲気下
で設けることを特徴とする反射防止物品の製造方法。
(6)A被膜の形成成分である有機物ポリマーが熱硬化
性樹脂であることを特徴とする特許請求の範囲第(5)
項記載の反射防止物品の製造方法。
性樹脂であることを特徴とする特許請求の範囲第(5)
項記載の反射防止物品の製造方法。
(7)B被膜が真空蒸着法、イオンビームアシスト蒸着
、イオンプレーティング法のいずれかの方法で形成され
てなることを¥Iy1とする特許請求の範囲第(5)項
記載の反則防止物品の製造方法。
、イオンプレーティング法のいずれかの方法で形成され
てなることを¥Iy1とする特許請求の範囲第(5)項
記載の反則防止物品の製造方法。
Claims (7)
- (1)透明基材の表面に下記AおよびB被膜がこの順で
積層されてなる2層構造を有することを特徴とする反射
防止物品。 A、屈折率が1.43〜1.65であり、膜厚が100
〜20000nmであり、かつ被膜構成成分として無機
酸化物微粒子を5〜80重量%を含む有機物ポリマーか
らなる被膜。 B、フッ素含有無機化合物からなる被膜。 - (2)A被膜の形成成分である有機物ポリマーが熱硬化
性樹脂であることを特徴とする特許請求の範囲第(1)
項記載の反射防止物品。 - (3)B被膜が真空蒸着膜であることを特徴とする特許
請求の範囲第(1)項記載の反射防止物品。 - (4)A被膜中に含まれる無機酸化物微粒子が酸化アン
チモン、二酸化ケイ素、チタニア、ジルコニア、酸化ア
ルミニウムから選ばれる1種以上であることを特徴とす
る特許請求の範囲第(1)項記載の反射防止物品。 - (5)透明基材の表面に加熱することによつて屈折率が
1.43〜1.65、膜厚が100〜20000nmで
あり、かつ被膜構成成分として無機酸化物微粒子を5〜
80重量%含む有機物ポリマーからなるA被膜を形成し
得るコーティング組成物を塗布し、さらにその上にフッ
素無機化合物からなるB被膜を真空雰囲気下で設けるこ
とを特徴とする反射防止物品の製造方法。 - (6)A被膜の形成成分である有機物ポリマーが熱硬化
性樹脂であることを特徴とする特許請求の範囲第(5)
項記載の反射防止物品の製造方法。 - (7)B被膜が真空蒸着法、イオンビームアシスト蒸着
、イオンプレーティング法のいずれかの方法で形成され
てなることを特徴とする特許請求の範囲第(5)項記載
の反射防止物品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61232206A JPS6385701A (ja) | 1986-09-30 | 1986-09-30 | 反射防止物品およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61232206A JPS6385701A (ja) | 1986-09-30 | 1986-09-30 | 反射防止物品およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6385701A true JPS6385701A (ja) | 1988-04-16 |
Family
ID=16935648
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61232206A Pending JPS6385701A (ja) | 1986-09-30 | 1986-09-30 | 反射防止物品およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6385701A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0240601A (ja) * | 1988-08-01 | 1990-02-09 | Nitto Denko Corp | 反射防止シート |
JPH02158735A (ja) * | 1988-12-13 | 1990-06-19 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 高光線透過性防塵体 |
JP2001059902A (ja) * | 1999-08-23 | 2001-03-06 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止積層体およびその製造方法 |
AU2002301541B2 (en) * | 2001-10-25 | 2005-04-28 | Hoya Corporation | Optical element having antireflection film |
US9051490B2 (en) | 2006-03-02 | 2015-06-09 | Kaneka Corporation | Method for producing hollow silicone fine particles |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61114203A (ja) * | 1984-11-09 | 1986-05-31 | Toray Ind Inc | 反射防止性を有する複合膜の製造方法 |
-
1986
- 1986-09-30 JP JP61232206A patent/JPS6385701A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61114203A (ja) * | 1984-11-09 | 1986-05-31 | Toray Ind Inc | 反射防止性を有する複合膜の製造方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0240601A (ja) * | 1988-08-01 | 1990-02-09 | Nitto Denko Corp | 反射防止シート |
JPH02158735A (ja) * | 1988-12-13 | 1990-06-19 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 高光線透過性防塵体 |
JP2001059902A (ja) * | 1999-08-23 | 2001-03-06 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止積層体およびその製造方法 |
JP4649690B2 (ja) * | 1999-08-23 | 2011-03-16 | 凸版印刷株式会社 | 反射防止積層体およびその製造方法 |
AU2002301541B2 (en) * | 2001-10-25 | 2005-04-28 | Hoya Corporation | Optical element having antireflection film |
AU2002301541B8 (en) * | 2001-10-25 | 2005-07-14 | Hoya Corporation | Optical element having antireflection film |
US9051490B2 (en) | 2006-03-02 | 2015-06-09 | Kaneka Corporation | Method for producing hollow silicone fine particles |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN100476456C (zh) | 包含多层抗反射叠层的光学制品和其制造方法 | |
EP1090968B1 (en) | Coating composition and method for preparing the same, and scuff-resistant plastic lense | |
TWI678349B (zh) | 抗反射塗覆物件及其製造方法 | |
JPS60221702A (ja) | 透明被覆層を有する成形体 | |
JPS6280603A (ja) | 反射防止性を有する光学物品及びその製造方法 | |
JPH04338901A (ja) | Crt用フィルター | |
JPS6289902A (ja) | 透明成形体 | |
JPS63309901A (ja) | プラスチック製眼鏡レンズ | |
JPS6381033A (ja) | 反射防止物品およびその製造方法 | |
CA2097665C (en) | Coating composition and lens coated therewith | |
JPS6385701A (ja) | 反射防止物品およびその製造方法 | |
JPH10292135A (ja) | コーティング用組成物、その製造方法および積層体 | |
JPH0461326B2 (ja) | ||
JPH10120444A (ja) | 表面改質膜用組成物、表面改質膜、表示装置用フィルター及び表示装置 | |
JP2684364B2 (ja) | 高屈折率コーティング膜 | |
JPH0463117B2 (ja) | ||
JP2696829B2 (ja) | 高屈折率コーテイング膜およびその製造方法 | |
JPH01275130A (ja) | 低反射透明成形体 | |
JPS6118901A (ja) | 低反射加工剤 | |
JPS6193402A (ja) | 反射防止性を有する染色光学物品 | |
JP3712103B2 (ja) | プラスチックレンズの製造方法及びプラスチックレンズ | |
JP2000281970A (ja) | 耐候性ハードコート組成物 | |
JPS6191601A (ja) | 反射防止性透明材料の製造方法 | |
JPH07119386B2 (ja) | コ−ティング用組成物 | |
JP2003292896A (ja) | コーティング用組成物および積層体 |